JPH11154666A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板の表面処理に使用されている薬液の濃度
や混合比率を正確に管理して薬液の交換が適正な時期に
行われるようにし、薬液使用量の低減化を図れる装置を
提供する。 【解決手段】 薬液送り配管２０および薬液戻り配管４
０を通して計量槽１８と処理槽１０との間を薬液が循環
させられ、計量槽へ薬液供給配管４４、４６を通して薬
液が供給される装置において、計量槽から処理槽へ薬液
を送る薬液送り配管に薬液濃度モニタ８２を介挿した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハ、
液晶表示装置用ガラス基板、電子部品などの基板を薬液
中や純水中に浸漬させて基板の洗浄等の表面処理を行う
のに使用される基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】処理槽へ薬液を循環させながら供給し、
処理槽内に収容された薬液中に、例えば半導体ウエハを
浸漬させて、基板の表面処理、例えば洗浄を行い、ま
た、処理槽内から薬液を排出させた後、処理槽内へ純水
を連続して供給しながら、純水によって半導体ウエハを
洗浄する基板処理装置は、従来、例えば図２に模式図を
示すような概略構成を有している。この基板処理装置
は、底部に液導入口１０２および液流出口１０４がそれ
ぞれ形設され溢流液受け部１０６が付設された処理槽１
００、および、薬液、例えば硫酸と過酸化水素水との混
合薬液１０８を貯留する計量槽１１０を有している。

【０００３】処理槽１００の液導入口１０２には、薬液
送り配管１１２の一端が連通接続されており、薬液送り
配管１１２の他端は、計量槽１１０の内部へ差し入れら
れている。薬液送り配管１１２には、ポンプ１１４、ヒ
ータ１１６およびフィルタ１１８がそれぞれ介設されて
いる。また、薬液送り配管１１２の、ヒータ１１６の下
流側に温度検出器１２０が介挿されており、温度検出器
１２０から出力される検出信号に基づいてヒータ１１６
を制御して薬液送り配管１１２内を流れる薬液の温度を
所定温度に保つ温度調節器３２が設けられている。薬液
送り配管１１２には、フィルタ１１８より下流側の位置
に純水供給配管１２４が連通接続されている。また、薬
液送り配管１１２は、純水供給配管１２４との連通位置
とフィルタ１１８との間で分岐しており、薬液送り配管
１１２から分岐した薬液短絡配管１２６の先端が計量槽
１１０の内部に連通している。薬液送り配管１１２、純
水供給配管１２４および薬液短絡配管１２６には、それ
ぞれ開閉制御弁１２８、１３０、１３２が介挿されてい
る。

【０００４】処理槽１００の液流出口１０４および溢流
液受け部１０６には、それぞれ薬液流出管１３４、１３
６の一端が連通接続されており、両薬液流出管１３４、
１３６は合流し、それら合流した薬液流出管１３４、１
３６に薬液戻り配管１３８の一端および排液管１４０の
一端がそれぞれ接続されている。そして、薬液戻り配管
１３８の他端が計量槽１１０の内部に連通している。薬
液流出管１３４、薬液戻り配管１３８および排液管１４
０には、それぞれ開閉制御弁１４２、１４４、１４６が
介挿されている。また、計量槽１１０の内部には、薬液
１、例えば硫酸を供給するための薬液供給配管１４８の
先端、および、薬液２、例えば過酸化水素水を供給する
ための薬液供給配管１５０の先端がそれぞれ連通してい
る。薬液供給配管１４８、１５０には、それぞれ開閉制
御弁１５２、１５４が介挿されている。

【０００５】図２に示した基板処理装置により半導体ウ
エハを洗浄処理するには、まず、計量槽１１０におい
て、薬液の初期定量を次のようにして行う。すなわち、
図示していないが計量槽１１０に備えられたレベル計に
より、最初に、薬液供給配管１４８を通し計量槽１１０
へ供給されて計量槽１１０内に貯留された硫酸（薬液
１）を計量し、次いで、薬液供給配管１５０を通し計量
槽１１０へ供給されて計量槽１１０内に貯留された過酸
化水素水（薬液２）を計量する。薬液の初期定量が済む
と、それぞれの薬液供給配管１４８、１５０に介挿され
た開閉制御弁１５２、１５４は閉じられる。硫酸と過酸
化水素水とが所定の比率で混合された混合薬液１０８が
計量槽１１０内に貯留されると、開閉制御弁１２８を閉
じるとともに開閉制御弁１３２を開いた状態でポンプ１
１４を駆動させることにより、計量槽１１０内から薬液
送り配管１１２へ送り出された混合薬液がヒータ１１６
およびフィルタ１１８を通過した後薬液送り配管１１２
の途中から薬液短絡配管１２６内へ入り薬液短絡配管１
２６を通って計量槽１１０内へ戻るように、混合薬液を
循環させる。この循環スタンバイの状態を続けている間
に、温度調節器１２２にヒータ１１６の出力が制御され
て、混合薬液の温度が所定温度に調節される。

【０００６】処理槽１００内へのロット（半導体ウエ
ハ）の投入の要求があると、開閉制御弁１３２を閉じる
とともに開閉制御弁１２８を開いて、計量槽１１０から
処理槽１００へ薬液送り配管１１２を通して混合薬液を
連続的に送り、処理槽１００内に混合薬液を１０８を充
満させる。この際、開閉制御弁１４４を開き開閉制御弁
１３０、１４２、１４６を閉じた状態にする。処理槽１
００内へ連続して混合薬液が送り込まれることにより処
理槽１００の上縁部から溢れ出た混合薬液は、溢流液受
け部１０６内へ流入し、溢流液受け部１０６内から薬液
流出管１３６および薬液戻り配管１３８を通って計量槽
１１０内へ戻される。このようにして、混合薬液１０８
は、薬液送り配管１１２および薬液戻り配管１３８を通
して計量槽１１０と処理槽１００との間を循環させられ
る。そして、混合薬液１０８が収容された処理槽１００
内へ、複数枚の半導体ウエハを保持したウエハホルダ
（図示せず）が挿入されて（あるいは、処理槽１００内
へウエハホルダを挿入した後処理槽１００内へ混合薬液
１０８が供給されて）、ウエハが混合薬液１０８中に浸
漬させられることにより、混合薬液によるウエハの洗浄
が行われる。

【０００７】次に、純水によるウエハの洗浄を行うとき
は、ポンプ１１４を停止させ開閉制御弁１３２、１４２
を開いて、処理槽１００内の混合薬液１０８を、薬液流
出管１３４、１３６および薬液戻り配管１３８ならびに
薬液送り配管１１２および薬液短絡配管１２６をそれぞ
れ通って計量槽１１０内へ戻す。その後に、開閉制御弁
１２８、１４２、１４４を閉じるとともに開閉制御弁１
３０、１４６を開き、純水供給配管１２４から薬液送り
配管１１２の一部を通って処理槽１００内へ純水を連続
的に供給して、処理槽１００内に純水を充満させ、ウエ
ハが純水中に浸漬させられるようにする。この際、処理
槽１００の上縁部から溢れ出た純水は、溢流液受け部１
０６内へ流入し、溢流液受け部１０６内から薬液流出管
１３６および排液管１４０を通って排出される。純水に
よるウエハの洗浄が終わると、開閉制御弁１３０を閉じ
るとともに開閉制御弁１４２を開いて、処理槽１００内
の純水を、薬液流出管１３４、１３６および排液管１４
０を通って排出する。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、薬液
の初期定量後から処理槽１００内へのロットの投入の要
求があるまでは、計量槽１１０内の混合薬液１０８を、
薬液送り配管１１２の一部および薬液短絡配管１２を通
して循環させ、その間、混合薬液１０８の温度が所定温
度に保持されるようにしていた。ところが、この循環ス
タンバイの期間内に、過酸化水素水が発泡によって消耗
され、混合薬液１０８中の過酸化水素水の濃度低下を生
じる。そこで、通常、ロット投入前に薬液供給配管１５
０を通して過酸化水素水を計量槽１１０内へ一定量だけ
供給し、計量槽１１０内の混合薬液１０８に過酸化水素
水を補充する、といったことが行われていた。この結
果、従来は、初期定量以後において薬液の濃度や混合比
率を全く管理することができなかった。すなわち、過酸
化水素水の濃度は、発泡による消耗と補充によって正確
な数値を把握することが困難であり、また、硫酸の濃度
も、過酸化水素水の補充によって低下する傾向にあるた
め、その正確な数値を把握することが困難であった。

【０００９】上述したように、薬液の濃度や混合比率を
管理することができない状況で、循環スタンバイ、過酸
化水素水の補充およびロットの投入（半導体ウエハの処
理）といった一連の単位操作を複数回繰り返し、薬液の
循環時間あるいはロットの処理回数が或る程度に達した
時に、処理槽１００内および計量槽１１０内から全部の
薬液を排出して、新しい薬液と交換するようにしてい
た。このように薬液の濃度や混合比率を管理することが
できていない状態で薬液の交換を行わなくてはならない
ため、薬液が使用の限界であるかどうかにかかわらず、
薬液の濃度や混合比率を所定値に保持して処理品質を保
つ上からは早目に薬液を交換する必要があった。この結
果、薬液使用量の増大を招いていた。

【００１０】この発明は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、基板の表面処理に使用されている薬
液の濃度や混合比率を正確に管理して、薬液の交換が適
正な時期に行われるようにし、もって、薬液使用量の低
減化を図ることができる基板処理装置を提供することを
目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
薬液の初期定量を行い薬液を貯留する計量槽と、薬液を
収容し、その薬液中に基板が浸漬させられて基板の表面
処理が行われる処理槽と、前記計量槽と前記処理槽とを
流路接続し、ポンプが介設されて、計量槽から処理槽へ
薬液を送る薬液送り経路と、前記処理槽と前記計量槽と
を流路接続し、処理槽から流出した薬液を計量槽へ戻す
薬液戻り経路と、前記計量槽へ薬液を供給する薬液供給
経路と、前記処理槽へ純水を供給する純水供給経路と、
前記処理槽から薬液および純水を排出させる排液経路
と、前記計量槽から前記処理槽へ前記薬液送り経路を通
して薬液が送られる状態と前記純水供給経路を通して前
記処理槽へ純水が供給される状態とを切り替える送り側
流路切替え手段と、前記処理槽から前記計量槽へ前記薬
液戻り経路を通して薬液が戻される状態と前記排液経路
を通して前記処理槽から薬液または純水が排出される状
態とを切り替える戻り側流路切替え手段とを備えた基板
処理装置において、前記薬液送り経路に、薬液の濃度を
検出する薬液濃度検出手段を介挿したことを特徴とす
る。

【００１２】請求項２に係る発明は、請求項１記載の基
板処理装置において、薬液濃度検出手段による検出結果
に基づいて、計量槽から薬液送り経路へ送り出される薬
液の濃度が所定濃度となるように、薬液供給経路を通し
て計量槽へ供給される薬液の量を制御する薬液濃度制御
手段を設けたことを特徴とする。

【００１３】請求項３に係る発明は、請求項１または請
求項２記載の基板処理装置において、薬液送り経路を分
岐させて、処理槽を経由せずに薬液を計量槽へ戻す薬液
短絡経路を設けるとともに、前記計量槽から前記処理槽
へ前記薬液送り経路を通して薬液が送られる状態と前記
薬液送り経路の途中から前記薬液短絡経路を通って前記
計量槽へ薬液が戻される状態とを切り替える送り・戻り
流路切替え手段を設け、前記薬液送り経路の、前記薬液
短絡経路への分岐位置より上流側に、ポンプおよび薬液
濃度検出手段が配置されるようにするとともに薬液を所
定温度に加熱するためのヒータを介挿したことを特徴と
する。

【００１４】請求項１に係る発明の基板処理装置を使用
して基板の表面処理を行うときは、薬液送り経路に介挿
された薬液濃度検出手段により、計量槽から薬液送り経
路を通して処理槽へ送られるべき薬液の濃度が検出され
る。したがって、薬液送り経路および薬液戻り経路を通
して計量槽と処理槽との間を循環させられ処理槽内に収
容されて基板の表面処理に使用される薬液の濃度および
混合比率を把握し、それに基づいて、薬液供給経路を通
して計量槽内へ供給される薬液の補充量を調節して、薬
液の濃度および混合比率を所定値に保つことが可能にな
る。このようにして薬液の濃度および混合比率を正確に
管理することができるので、薬液の交換時期は、主とし
てロット（複数枚の基板）の処理回数からみて薬液の使
用の限界と考えられる時点をもって決定すればよいこと
となる。

【００１５】請求項２に係る発明の基板処理装置では、
薬液濃度制御手段により、薬液供給経路を通して計量槽
へ供給される薬液の補充量が薬液濃度検出手段による検
出結果に基づいて自動的に調節され、計量槽から薬液送
り経路へ送り出される薬液の濃度が所定濃度に保たれ
る。

【００１６】請求項３に係る発明の基板処理装置では、
処理槽内の薬液中にロット（複数枚の基板）が投入され
ていない時には、計量槽から送り出された薬液が薬液送
り経路の途中から薬液短絡経路を通って計量槽へ戻され
る状態が続けられ、この循環スタンバイの状態を続けて
いる間に、ヒータによって薬液の温度が所定温度に調節
されるとともに、薬液濃度検出手段によって薬液の濃度
が検出され、その検出結果に基づいて薬液供給経路から
計量槽内の薬液に適当量の薬液が補充されて、薬液の濃
度および混合比率が所定値に調節される。そして、処理
槽内へのロットの投入の要求があると、送り・戻り流路
切替え手段によって流路が切り替えられ、計量槽から処
理槽へ薬液送り経路を通して薬液が送られる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
について図１を参照しながら説明する。

【００１８】図１は、この発明の１実施形態を示し、基
板処理装置の概略構成を示す模式図である。この基板処
理装置の基本構成自体は、図２に示した従来の基板処理
装置と変わらない。すなわち、この基板処理装置は、底
部に液導入口１２および液流出口１４がそれぞれ形設さ
れ溢流液受け部１６が付設された処理槽１０、ならび
に、薬液、例えば硫酸および過酸化水素水の初期定量を
行いそれらの混合薬液を貯留する計量槽１８を有してい
る。

【００１９】処理槽１０の液導入口１２には、配管部２
０ａ〜２０ｆからなる薬液送り配管２０の一端が連通接
続され、薬液送り配管２０の他端は、計量槽１８の内部
へ差し入れられている。薬液送り配管２０には、配管部
２０ｂにポンプ２２が、配管部２０ｃにヒータ２４およ
びフィルタ２６がそれぞれ介設されている。また、薬液
送り配管２０の配管部２０ｃの、ヒータ２４の下流側に
は温度検出器が介挿され、その温度検出器から出力され
る検出信号に基づいてヒータ２４を制御して薬液送り配
管２０内を流れる薬液の温度を所定温度に保つ温度調節
器が設けられているが、図１ではそれらの図示を省略し
ている。さらに、薬液送り配管２０には、配管部２０
ｅ、２０ｆの連接位置に純水供給配管２８が連通接続さ
れており、純水供給配管２８に流量計３０および流量調
整弁３２がそれぞれ介挿されている。また、薬液送り配
管２０は、配管部２０ｃ、２０ｄの連接位置で分岐して
おり、薬液送り配管２０から分岐して配管部３４ａ、３
４ｂからなる薬液短絡配管３４の先端が計量槽１８の内
部に連通している。

【００２０】処理槽１０の液流出口１４および溢流液受
け部１６には、それぞれ薬液流出管３６、３８の一端が
連通接続されており、両薬液流出管３６、３８は合流
し、それら合流した薬液流出管３６、３８に薬液戻り配
管４０の一端および排液管４２の一端がそれぞれ接続さ
れている。そして、薬液戻り配管４０の他端が計量槽１
８の内部に連通している。また、計量槽１８の内部に
は、薬液１、例えば硫酸を供給するための薬液供給配管
４４の先端、および、薬液２、例えば過酸化水素水を供
給するための薬液供給配管４６の先端がそれぞれ連通し
ている。

【００２１】さらに、この基板処理装置には、図２では
図示を省略していたが、薬液短絡配管３４から配管部３
４ａ、３４ｂの連接位置で分岐した薬液排出配管４８が
設けられている。また、薬液送り配管２０から配管部２
０ａ、２０ｂの連接位置で分岐して再び薬液送り配管２
０に配管部２０ｄ、２０ｅの連接位置で連通した薬液回
収用管５０、および、薬液送り配管２０から配管部２０
ｂ、２０ｃの連接位置で分岐して薬液短絡配管３４の配
管部３４ｂに連通した薬液回収用管５２がそれぞれ設け
られている。さらに、排液管４２から排出されるドレン
を回収する回収バット５４、および、回収バット５４内
に流入したドレンをドレン配管５６が設けられており、
ドレン配管５６に開閉弁５８が介挿されている。そし
て、薬液送り配管２０の配管部２０ａ、２０ｄ、２０
ｅ、純水供給配管２８および薬液短絡配管３４の配管部
３４ｂ、薬液流出管３６、薬液戻り配管４０および排液
管４２、薬液排出配管４８ならびに薬液回収用管５０、
５２に、それぞれ開閉制御弁６０〜８０が介挿されてい
る。

【００２２】以上の構成は、従来の基板処理装置と特に
変わりが無いが、この基板処理装置には、薬液送り配管
２０の配管部２０ｂに薬液濃度モニタ８２が介設されて
いる。また、薬液濃度制御器８４が設けられており、こ
の薬液濃度制御器８４に薬液濃度モニタ８２が接続され
ている。さらに、各薬液供給配管４４、４６に流量制御
弁８６、８８がそれぞれ介挿されており、薬液濃度制御
器８４がそれぞれの流量制御弁８６、８８に接続されて
いる。そして、薬液濃度モニタ８２により、計量槽１８
から送り出されて薬液送り配管２０内を流れる混合薬液
中の薬液濃度、例えば過酸化水素水の濃度が検出され、
薬液濃度モニタ８２から検出信号が薬液濃度制御器８４
へ送られる。薬液濃度モニタ８２からの検出信号が薬液
濃度制御器８４に入力されると、薬液濃度制御器８４に
おいて、薬液濃度モニタ８２による検出結果から混合薬
液中の過酸化水素水の濃度を所定濃度に戻すのに必要な
過酸化水素水の補充量が算出されるとともに、過酸化水
素水の補充に伴って生じる硫酸濃度の低下を補償するの
に必要な、過酸化水素水の補充量に見合う硫酸の補充量
が算出される。そして、薬液濃度制御器８４から各流量
制御弁８６、８８へそれぞれ制御信号が送られ、それぞ
れの流量制御弁８６、８８が調節されて、それぞれの薬
液供給配管４４、４６を通して必要流量の硫酸および過
酸化水素水が計量槽１８へ供給される。このようにし
て、計量槽１８内の混合薬液に必要量の硫酸および過酸
化水素水がそれぞれ補充されることにより、計量槽１８
から送り出されて薬液送り配管２０内を流れる混合薬液
中の硫酸および過酸化水素水の各濃度がそれぞれ所定濃
度に保持されるようになっている。

【００２３】図１に示した基板処理装置による半導体ウ
エハの洗浄処理は、図２に示した従来の基板処理装置に
よる場合と同様にして行われる。すなわち、まず、計量
槽１８において、硫酸（薬液１）および過酸化水素水
（薬液２）の初期定量を行う。初期定量が済むと、薬液
送り配管２０の配管部２０ａおよび薬液短絡配管３４の
配管部３４ｂにそれぞれ介挿された開閉制御弁６０、６
８を開くとともに、薬液送り配管２０の配管部２０ｄ、
薬液排出配管４８および薬液回収用管５０、５２にそれ
ぞれ介挿された開閉制御弁６２、７６、７８、８０を閉
じた状態で、ポンプ２２を駆動させることにより、計量
槽１８内から薬液送り配管２０へ送り出された混合薬液
が薬液濃度モニタ８２、ヒータ２４およびフィルタ２６
を通過した後薬液送り配管２０の配管部２０ｃから薬液
短絡配管３４の配管部３４ａ内へ入り薬液短絡配管３４
を通って計量槽１８内へ戻るように、混合薬液を循環さ
せる。この循環スタンバイの状態を続けている間に、温
度調節器によりヒータ２４の出力が制御されて混合薬液
の温度が所定温度に調節される。また、この循環スタン
バイの期間中に、過酸化水素水が発泡によって消耗さ
れ、混合薬液中の過酸化水素水の濃度低下を生じるが、
上記したように、薬液濃度モニタ８２の検出結果に基づ
いて薬液濃度制御器８４により各流量制御弁８６、８８
が制御され、それぞれの薬液供給配管４４、４６を通し
て硫酸および過酸化水素水が計量槽１８へ供給されて、
計量槽１８内の混合薬液に必要量の硫酸および過酸化水
素水がそれぞれ補充されることにより、混合薬液中の硫
酸および過酸化水素水の各濃度はそれぞれ所定濃度に保
持されることになる。

【００２４】処理槽１０内へのロット（半導体ウエハ）
の投入の要求があると、薬液短絡配管３４の配管部３４
ｂに介挿された開閉制御弁６８を閉じるとともに、薬液
送り配管２０の配管部２０ｄ、２０に介挿された開閉制
御弁６２、６４を開いて、計量槽１８から処理槽１０へ
薬液送り配管２０を通して混合薬液を連続的に送り、処
理槽１０内に混合薬液を充満させる。この際、薬液戻り
配管４０に介挿された開閉制御弁７２を開き純水供給配
管２８、薬液流出管３６および排液管４２にそれぞれ介
挿された開閉制御弁６６、７０、７４を閉じた状態にす
る。これにより、処理槽１０の上縁部から溢れ出て溢流
液受け部１６内へ流入した混合薬液は、溢流液受け部１
６内から薬液流出管３８および薬液戻り配管４０を通っ
て計量槽１８内へ戻され、混合薬液は、薬液送り配管２
０および薬液戻り配管４０を通して計量槽１８と処理槽
１０との間を循環させられる。この状態で、混合薬液に
よるウエハの洗浄が行われる。

【００２５】次に、純水によるウエハの洗浄を行うとき
は、ポンプ２２を停止させ、薬液短絡配管３４の配管部
３４ｂ、薬液流出管３６および薬液回収用管５０、５２
にそれぞれ介挿された開閉制御弁６８、７０、７８、８
０を開いて、処理槽１０内から混合薬液を流出させて計
量槽１８内へ戻す。その後に、薬液送り配管２０の配管
部２０ｅ、薬液流出管３６および薬液戻り配管４０にそ
れぞれ介挿された開閉制御弁６４、７０、７２を閉じる
とともに純水供給配管２８および排液管４２にそれぞれ
介挿された開閉制御弁６６、７４を開き、純水供給配管
２８から薬液送り配管２０の配管部２０ｆを通って処理
槽１０内へ純水を連続的に供給して、処理槽１０内に純
水を充満させる。そして、処理槽１０の上縁部から溢れ
出て溢流液受け部１６内へ流入した純水が、薬液流出管
３８および排液管４２を通って回収バット５４内へ流下
し、回収バット５４内からドレン配管５６を通って排出
されるようにする。この状態で、純水によるウエハの洗
浄が行われる。純水によるウエハの洗浄が終わると、純
水供給配管２８に介挿された開閉制御弁６６を閉じると
ともに薬液流出管３６に介挿された開閉制御弁７０を開
いて、処理槽１０内から純水を、薬液流出管３６および
排液管４２を通って回収バット５４内へ流下させ、回収
バット５４内からドレン配管５６を通って排出させる。

【００２６】また、混合薬液がウエハの洗浄に繰返し使
用されて使用限界となったために薬液の交換を行うとき
は、薬液送り配管２０の配管部２０ａおよび薬液排出配
管４８にそれぞれ介挿された開閉制御弁６０、７６を開
き、薬液送り配管２０の配管部２０ｄ、薬液短絡配管３
４の配管部３４ｂおよび薬液回収用管５０、５２にそれ
ぞれ介挿された開閉制御弁６８、７８、８０を閉じて、
ポンプ２２を駆動させる。これにより、計量槽１８内の
混合薬液は、薬液送り配管２０の配管部２０ａ、２０
ｂ、２０ｃ、薬液短絡配管３４の配管部３４ａおよび薬
液排出配管４８を通って排出される。この後、薬液供給
配管４４、４６を通して新しい薬液を計量槽１８へ供給
し、上記したようにして薬液の初期定量が行われる。

【００２７】なお、上記した実施形態では、薬液濃度制
御器８４を設け、薬液濃度モニタ８２による検出結果に
基づいて各流量制御弁８６、８８を制御して、薬液供給
配管４４、４６を通して計量槽１８へ供給される薬液の
量を自動的に調節するようにしたが、薬液濃度制御器８
４を設けないで、薬液濃度モニタ８２によって測定され
る薬液の濃度を作業者が監視し、必要に応じて計量槽１
８へ必要量の薬液を供給して、薬液の濃度を所定濃度に
保持するようにしてもよい。また、薬液濃度モニタ２０
の介挿位置は、薬液送り配管２０のどこでもよく、例え
ば配管部２０ｆに薬液濃度モニタを介挿したときは、純
水供給配管２８から配管部２０ｆへ純水を流すことによ
り、薬液濃度モニタの０点更正を行うことができる。

【００２８】

【発明の効果】請求項１に係る発明の基板処理装置を使
用すると、基板の表面処理に使用されている薬液の濃度
や混合比率を正確に管理して、薬液の交換が適正な時期
に行われるようにすることができ、この結果、薬液使用
量を最小限に抑えることが可能になる。

【００２９】請求項２に係る発明の基板処理装置では、
薬液供給経路を通して計量槽へ供給される薬液の補充量
が自動的に調節され、計量槽から薬液送り経路へ送り出
される薬液の濃度が所定濃度に保たれる。

【００３０】請求項３に係る発明の基板処理装置では、
処理槽内の薬液中にロット（複数枚の基板）が投入され
ていない時に、計量槽から送り出された薬液が薬液送り
経路の途中から薬液短絡経路を通って計量槽へ戻される
状態が続けられ、この循環スタンバイの状態を続けてい
る間に、薬液の温度が所定温度に調節されるとともに、
薬液の濃度および混合比率が所定値に調節される。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の１実施形態を示し、基板処理装置の
概略構成を示す模式図である。

【図２】従来の基板処理装置の概略構成の１例を示す模
式図である。

【符号の説明】

１０ 処理槽 １２ 処理槽の液導入口 １４ 処理槽の液流出口 １６ 溢流液受け部 １８ 計量槽 ２０ 薬液送り配管 ２２ ポンプ ２４ ヒータ ２６ フィルタ ２８ 純水供給配管 ３４ 薬液短絡配管 ３６ 薬液流出管 ４０ 薬液戻り配管 ４２ 排液管 ４４、４６ 薬液供給配管 ４８ 薬液排出配管 ５０、５２ 薬液回収用管 ５４ 回収バット ５６ ドレン配管 ６０〜８０ 開閉制御弁 ８２ 薬液濃度モニタ ８４ 薬液濃度制御器 ８６、８８ 流量制御弁

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 薬液の初期定量を行い薬液を貯留する計
   量槽と、 薬液を収容し、その薬液中に基板が浸漬させられて基板
   の表面処理が行われる処理槽と、 前記計量槽と前記処理槽とを流路接続し、ポンプが介設
   されて、計量槽から処理槽へ薬液を送る薬液送り経路
   と、 前記処理槽と前記計量槽とを流路接続し、処理槽から流
   出した薬液を計量槽へ戻す薬液戻り経路と、 前記計量槽へ薬液を供給する薬液供給経路と、 前記処理槽へ純水を供給する純水供給経路と、 前記処理槽から薬液および純水を排出させる排液経路
   と、 前記計量槽から前記処理槽へ前記薬液送り経路を通して
   薬液が送られる状態と前記純水供給経路を通して前記処
   理槽へ純水が供給される状態とを切り替える送り側流路
   切替え手段と、 前記処理槽から前記計量槽へ前記薬液戻り経路を通して
   薬液が戻される状態と前記排液経路を通して前記処理槽
   から薬液または純水が排出される状態とを切り替える戻
   り側流路切替え手段とを備えた基板処理装置において、 前記薬液送り経路に、薬液の濃度を検出する薬液濃度検
   出手段を介挿したことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 薬液濃度検出手段による検出結果に基づ
   いて、計量槽から薬液送り経路へ送り出される薬液の濃
   度が所定濃度となるように、薬液供給経路を通して計量
   槽へ供給される薬液の量を制御する薬液濃度制御手段が
   設けられた請求項１記載の基板処理装置。
3. 【請求項３】 薬液送り経路を分岐させて、処理槽を経
   由せずに薬液を計量槽へ戻す薬液短絡経路が設けられる
   とともに、前記計量槽から前記処理槽へ前記薬液送り経
   路を通して薬液が送られる状態と前記薬液送り経路の途
   中から前記薬液短絡経路を通って前記計量槽へ薬液が戻
   される状態とを切り替える送り・戻り流路切替え手段が
   設けられ、前記薬液送り経路の、前記薬液短絡経路への
   分岐位置より上流側に、ポンプおよび薬液濃度検出手段
   が配置されるとともに薬液を所定温度に加熱するための
   ヒータが介挿された請求項１または請求項２記載の基板
   処理装置。