JPH11154357A - 音証用光ディスク及びマスターディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光ディスクのマスタリング処理に用いるデ
ータが記録され、マスタリング前に音質評価に用いる音
証用光ディスク、およびマスタリングに用いるマスター
ディスクを提供すること。 【解決手段】 光ディスクを製造するためのマスタリ
ング用のマスターディスクあるいはマスタリング前に音
質評価に付される音証用光ディスクであって、該ディス
クの基板が熱可塑性ノルボルネン系樹脂である光ディス
ク。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光ディスクのマスタ
リング処理に用いるデータが記録され、マスタリング前
に音質評価に用いる音証用光ディスク、およびマスタリ
ングに用いるマスターディスクに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、ＣＤ等の光ディスクのマスタ
リングには磁気テープにデータが記録されたマスターテ
ープが用いられているが、マスターテープは取り扱いが
不便であり、またマスターテープの音質と実際にマスタ
リングされたＣＤの音質にはフォーマットの違いにより
かなりの違いがみられる。このため、マスターテープの
音をＣＤ−Ｒ、ＭＯ等の記録可能なディスクに記録した
ものを音証用光ディスクとして音質評価に付し、さらに
このディスクをマスターディスクとしてＣＤ等を製造す
るためのマスタリングに用いられることがある。したが
ってこのような音証用光ディスク及びマスターディスク
には、マスターテープの音の再現性が極めて高いことが
求められている。一方、従来より音証用光ディスクとし
て用いられるディスクの基板の材質としては従来よりポ
リカーボネート樹脂（ＰＣ）が主に用いられているが、
ＰＣは光弾性係数が大きいため得られるディスクの複屈
折が大きくなりやすく、読みとりエラーが多数発生する
ため、マスターテープの音を忠実に再現することが困難
であり音証用ディスクに用いた場合、正確な音質評価が
できない問題があった。また、ＰＣからなる光ディスク
をマスターディスクとしてＣＤ等のマスタリングに用い
ると、マスタリング情報の再現性が悪いため、マスタリ
ングされたＣＤの音質がマスターテープの音質と異なっ
てしまう問題があった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来技
術の課題を背景になされたもので、マスターテープの音
を忠実に再現し、正確な音質評価を与える音証用光ディ
スク、またＣＤのマスタリングに使用した場合、マスタ
ーテープからの音の再現性に優れたＣＤ等を与えるマス
ターディスクを提供することを目的とするものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、光デ
ィスクを製造するためのマスタリング前に音質評価に付
される音証用光ディスクであって、該ディスクの基板が
熱可塑性ノルボルネン系樹脂である音証用光ディスクを
提供するものである。また、本発明は、光ディスクを製
造するためのマスターディスクであって、該ディスクの
基板が熱可塑性ノルボルネン系樹脂であるマスターディ
スクを提供するものである。

【０００５】本発明の音証用光ディスク、およびマスタ
ーディスクは、該ディスクの基板に熱可塑性ノルボルネ
ン系樹脂を用いるものである。本発明に用いられる熱可
塑性ノルボルネン系樹脂は、その繰り返し単位中にノル
ボルナン骨格を有するものである。例えば、この熱可塑
性樹脂としては、一般式（１）〜（４）で表されるノル
ボルナン骨格を含むものである。

【０００６】

【化１】

【０００７】

【化２】

【０００８】

【化３】

【０００９】

【化４】 （式中、Ａ、Ｂ、ＣおよびＤは、水素原子または１価の
有機基を示す。）

【００１０】本発明において使用することのできるノル
ボルナン骨格を有する熱可塑性樹脂としては、例えば特
開昭６０−１６８７０８号公報、特開昭６２−２５２４
０６号公報、特開昭６２−２５２４０７号公報、特開平
２−１３３４１３号公報、特開昭６３−１４５３２４号
公報、特開昭６３−２６４６２６号公報、特開平１−２
４０５１７号公報、特公昭５７−８８１５号公報などに
記載されている樹脂などを挙げることができる。この熱
可塑性樹脂の具体例としては、下記一般式（５）で表さ
れる少なくとも１種のテトラシクロドデセン誘導体また
は該テトラシクロドデセンと共重合可能な不飽和環状化
合物とをメタセシス重合して得られる重合体を水素添加
して得られる水添重合体を挙げることができる。

【００１１】

【化５】 （式中Ａ〜Ｄは、前記に同じ。）

【００１２】前記一般式（５）で表されるテトラシクロ
ドデセン誘導体において、Ａ、Ｂ、ＣおよびＤのうちに
極性基を含むことが、記録膜を形成させる際、膜の密着
性が優れたものとなる点から好ましい。さらに、この極
性基が−（ＣＨ₂）_nＣＯＯＲ₁ （ここで、Ｒ₁は炭素数
１〜２０の炭化水素基、ｎは０〜１０の整数を示す）で
表される基であることが、得られる水添重合体が高いガ
ラス転移温度を有するものとなるので好ましい。特に、
この−（ＣＨ₂）_nＣＯＯＲ₁で表される基は、一般式
（５）のテトラシクロドデセン誘導体の１分子あたりに
１個含有されることが好ましい。前記一般式において、
Ｒ₁は炭素数１〜２０の炭化水素基であるが、炭素数が
多くなるほど得られる水添重合体の吸湿性が小さくなる
点では好ましいが、得られる水添重合体のガラス転移温
度とのバランスの点から、炭素数１〜４の鎖状アルキル
基または炭素数５以上の（多）環状アルキル基であるこ
とが好ましく、特にメチル基、エチル基、シクロヘキシ
ル基であることが好ましい 。

【００１３】さらに、−（ＣＨ₂）_nＣＯＯＲ₁で表され
る基が結合した炭素原子に、同時に炭素数１〜１０の炭
化水素基が置換基として結合されている一般式（５）の
テトラシクロドデセン誘導体は、吸湿性を低下させるの
で好ましい。特に、この置換基がメチル基またはエチル
基である一般式（５）のテトラシクロドデセン誘導体
は、その合成が容易な点で好ましい。具体的には、８−
メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．
４．０．１２，５ １７，１０］ドデカ−８−エンが好
ましい。

【００１４】これらのテトラシクロドデセン誘導体、あ
るいはこれと共重合可能な不飽和環状化合物の混合物
は、例えば特開平４−７７５２０号公報第４頁右上欄第
１２行〜第６頁右下欄第６行に記載された方法によっ
て、メタセシス重合、水素添加され、本発明に使用され
る熱可塑性樹脂とすることができる。本発明において、
上記水添重合体は、クロロホルム中、３０℃で測定され
る固有粘度（［η］inh）が０．３〜１．５ｄｌ／ｇの
範囲であることが望ましい。［η］inhが上記範囲にあ
ることによって、得られる樹脂の成形加工性、耐熱性、
機械的特性のバランスが良好となる。

【００１５】また、前記水添重合体のガラス転移温度
（Ｔｇ）は１００℃〜２５０℃の範囲であることが好ま
しく、特に１２０〜２００℃の範囲であることが好まし
い。１００℃未満では該樹脂からなる成形品の耐熱性が
劣る。また、Ｔｇが２５０℃を超えるものは、成形温度
が高くなり樹脂が焼けて着色するなど良質な成形品を得
ることが難しくなる。また、水添重合体の水素添加率
は、６０ＭＨｚ、¹Ｈ−ＮＭＲで測定した値が５０％以
上、好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９８％以
上である。水素添加率が高いほど、熱や光に対する安定
性が優れる。なお、本発明において、ノルボルナン骨格
を有する熱可塑性樹脂として使用される水添重合体は、
該水添重合体中に含まれるゲル含有量が５重量％以下で
あることが好ましく、さらに１重量％であることが好ま
しい。

【００１６】本発明において、上記熱可塑性ノルボルネ
ン系樹脂には、必要に応じて公知の酸化防止剤、例えば
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，
２’−ジオキシ−３，３’−ジ−ｔ−ブチル−５，５’
−ジメチルフェニルメタン、テトラキス［メチレン−３
−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート］メタン、１，１，３−トリス（２
−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）
ブタン、１，３，５ートリメチル−２，４，６−トリス
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル−
ベンゼン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，２’
−ジオキシ−３，３’−ジ−ｔ−ブチル−５，５’−ジ
エチルフェニルメタン、３，９−ビス［１，１−ジメチ
ル−２−［β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］、
２，４，８，１０−テトラオキスピロ［５，５］ウンデ
カン、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホス
ファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、サ
イクリックネオペンタンテトライルビス（２，６−ジ−
ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ホスファイト、２，
２−メチレンビス （４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）オクチルホスファイトを添加することができる。

【００１７】また、上記の熱可塑性樹脂組成物には、上
記のような酸化防止剤の他に、必要に応じて紫外線吸収
剤、例えばｐ―ｔ―ブチルフェニルサリシレート、２，
２'−ジヒドロキシー４―メトキシベンゾフェノン、
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
ー４−メトキシベンゾフェノン、２−（２'−ジヒドロ
キシ−４'−ｍ―オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾ
ール；安定剤、帯電防止剤、難燃剤、耐衝撃性改良用エ
ラストマーなどを添加することができる。また、成形
性、加工性を向上させる目的で可塑剤、軟化剤などの添
加剤を添加することもできる。このような軟化剤の例と
してはＣ₅系樹脂、Ｃ₉系樹脂、Ｃ₅系／Ｃ₉系混合樹脂、
シクロペンタジエン系樹脂、ビニル置換芳香族系化合物
の重合体系樹脂、オレフィン／ビニル置換芳香族系化合
物の共重合体系樹脂、シクロペンタジエン系化合物／ビ
ニル置換芳香族系化合物の共重合体系樹脂、あるいは前
記樹脂の水素添加物などの炭化水素樹脂などを挙げるこ
とができる。

【００１８】本発明の音証用ディスクおよびマスターデ
ィスクは、上記熱可塑性ノルボルネン系樹脂および必要
に応じて他の安定剤、帯電防止剤などの添加剤と共に、
リボンブレンダー、タンブラーブレンダー、ヘンシェル
ミキサーなどで混合あるいは混合後、押出機、バンバリ
ーミキサー、二本ロールなどで溶融混合するか、炭化水
素や芳香族溶媒に溶解してポリマー溶液の状態で混合
し、その後、単軸押出機、ベント付き押出機、二本スク
リュー押出機、三本スクリュー押出機、円錐型二本スク
リュー押出機、コニーダー、プラティフィケーター、ミ
クストケーター、二軸コニカルスクリュー押出機、遊星
ねじ押出機、歯車型押出機、スクリューレス押出機など
を用いて、射出成形を行い、スタンパーをセットしたデ
ィスク成形用の金型によって成形する。すなわち、これ
らの押出機の加熱シリンダー内でスクリューより均一に
溶融可塑化された適量の樹脂を、高速で金型内に射出保
持し、冷却固化させることにより製造できる。射出成形
によって得られた音証用光ディスク基板およびマスター
ディスクは、その後、無機または有機層からなる記録
層、さらに必要に応じて保護層を設けて完成される。

【００１９】本発明の音証用光ディスクおよびマスター
ディスクが１回だけ書き込みができる追記型（ＷＯ）デ
ィスクである場合、熱可塑性樹脂を射出成形して得られ
た基板に形成することのできる記録膜としては無機物、
例えばＡｓ、Ａｕ、Ｓｅ、Ｓｎ、Ｔｅ、Ｔｉなどの金属
やこれらの金属を含む合金；もしくは有機物、例えば各
種シアニン色素などのような分子構造中にポリメチン鎖
を含む色素；ポルフィンなどのようなポルフィン環を有
する色素；各種金属フタロシアニン、ナフタロシアニ
ン、ポルフィリン錯体のような中心に金属または半金属
もしくはこれらの酸化物、塩化物、硫化物を有する大環
状錯体からなる色素；希土類元素ジナフタロシアニン、
トリフタロシアニンなどのような希土類元素をはさんで
２もしくはそれ以上の環が積層した分子構造を有する色
素；分子構造中にナフタレン環を有する色素；分子構造
中にアントラセン環を有する色素；分子構造中にペリレ
ン環を有する色素；ナフトキノン、アントラキノンなど
のような分子構造中にキノン構造を有する色素；などを
用いることができる。

【００２０】本発明の音証用光ディスクおよびマスター
ディスクが書き換え型ディスクの場合、記録膜として、
Ａｓ−Ｔｅ−Ｇｅ系、Ｔｅ―Ｏ系、Ｓｂ−Ｓｅ系、Ｓｂ
−Ｔｅ系、Ｉｎ−Ｓｅ系、Ｇａ−Ｔｅ系、Ｇｅ−Ｔｅ
系、Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系、Ｉｎ−Ｓｂ−Ｔｅ系などの相
変化型記録膜やＴｂ−Ｆｅ−Ｃｏ、Ｇｄ―Ｔｂ―Ｆｅ、
Ｔｂ−Ｃｏ、Ｔｂ−Ｆｅなどのアモルファス希土類・遷
移金属合金などに代表される光磁気記録膜を用いること
ができる。これら記録膜の基板上への形成方法は、蒸着
法、スパッタ法などを用いることができる。反射膜や記
録膜をスパッタリングによって形成させる場合、通常行
われるスパッタリングによって形成させる場合、通常行
われるスパッタリング条件で行えばよい。特に、密着性
に優れた膜を形成するためには、基板温度としては、常
温から用いた熱可塑性の樹脂のガラス転移温度より１０
℃以上低い範囲で選ばれ、高いほど好ましい。真空度
（スパッタ圧力）としては、１〜５０Ｔｏｒｒが好まし
い。記録膜の膜厚は２００〜５，０００オングストロー
ムの範囲が好ましい。

【００２１】上記記録膜が有機物の場合は該有機物を適
当な溶媒、たとえばアルコール類、ケトン類、アミド
類、スルホキシド類、エーテル類、エステル類などの有
機溶媒に溶解したものをスピンコート法、ディップ法、
スプレー法などの方法により基板上に塗布・乾燥させる
ことによって記録膜を形成することができる。本発明の
音証用光ディスクは、マスタリング前の音質評価に用い
るほか、マスターディスクとしてＣＤ、ＤＶＤ、ＭＤな
どのマスタリング処理に用いることができる。

【００２２】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるもの
ではない。なお、実施例中、部および％は、特に断らな
い限り重量基準である。 参考例（熱可塑性ノルボルネン系樹脂の調製） ８―メチルー８―メトキシカルボニルテトラシクロ
［４．４．０．１^2,5．１^{7 ,10}］−３−ドデセン２５０
部と１−ヘキセン４１部とトルエン７５０部を、窒素置
換した反応容器に仕込み、６０℃に加熱した。これに、
トリエチルアルミニウム（１．５モル／ｌ）のトルエン
溶液０．６２部、ｔＢｕＯＨ／ＭｅＯＨで変性（ｔＢｕ
ＯＨ／ＭｅＯＨ／Ｗ＝０．３５／０．３／１；モル比）
したＷＣｌ₆溶液（濃度０．０５モル／ｌ）３．７部を
加え、８０℃で３時間加熱撹拌して、開環重合体溶液
（ａ）を得た。この重合反応における重合転化率は９７
％であり、重合体の固有粘度（ηinh）は０．４５であ
った。

【００２３】この重合体溶液（ａ）４０００部をオート
クレーブに入れ、これにＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ₆
Ｈ₅）₃］₃を０．４８部加え、水素ガス圧を１００Ｋｇ
／ｃｍ²、反応温度１６５℃の条件で３時間加熱撹拌し
た。得られた反応溶液を冷却した後、水素ガス圧を放圧
し、水素添加重合体溶液（ｂ）を得た。こうして得られ
た水素添加重合体を大量のメタノールに注いで、重合体
を凝固させて水素化率９９．５％、ガラス転移温度１６
８℃の非晶性の熱可塑性ノルボルネン系樹脂Ａを得た。

【００２４】実施例１ 参考例で得られた熱可塑性ノルボルネン系樹脂Ａのペレ
ットを、射出成形機「Ｄｉｓｋ ５ＭIII型機」（住友
重機械工業（株）製）を用い、樹脂温度３４０℃、金型
温度１２０℃、射出温度１００ｍｍ／秒で射出成形し厚
み１．２ｍｍの１２０ｍｍφ光ディスク基板を得た。こ
の基板の上に、１，１，３，３，３−ヘキサメチルイン
ドリノトリカルボシアニンアイオダインを１，２−ジク
ロロエタンに３０ｇ／リットルの濃度で溶解した塗布液
を０．２μｍのメンブレンフィルターで介して、スピン
コート法によって回転数１５００ｒｐｍで塗布し、均一
な記録膜を形成後、紫外線硬化型のアクリレート樹脂を
塗布、硬化し、１０μｍ厚の硬化膜を形成して、追記型
の光ディスクを作成した。このディスクに追記型光ディ
スク装置を用いてマスターテープからのデジタルオーデ
ィオ信号の記録を行なった。

【００２５】この光ディスクの音質とマスターテープと
の音質を視覚的に表現できるように、聴取者の音響心理
を評価することのできる解析装置を用いてグラフ化した
ところ、マスターテープの音質解析グラフと上記光ディ
スクの音質解析グラフがほぼ同一形状を示し、該光ディ
スクがマスターテープに近い音質を有することがわかっ
た。この結果から、得られた光ディスクは音証用ディス
クとしても、またマスターディスクとしても十分使用で
き、極めて有用なものであることがわかった。

【００２６】比較例１ 帝人化成（株）製ポリカーボネート樹脂「パンライト」
を原料とし、樹脂温度３３０℃、金型温度１１０℃とし
て実施例と同様にディスク成形を行い、得られた光ディ
スク基板上に実施例と同様に記録膜、硬化膜を形成して
追記型ディスクを得た。この追記型ディスクに実施例と
同様の条件でマスターテープからのデジタルオーディオ
信号の記録を行なった。この光ディスクの音質とマスタ
ーテープとの音質を、聴取者の音響心理を評価すること
のできる解析装置を用いてグラフ化したところ、光ディ
スクの音質解析グラフがマスターディスクの音質解析グ
ラフから大きくずれており、該光ディスクの音質がマス
ターテープの音質とは異なっていることがわかった。

【００２７】

【発明の効果】本発明の音証用ディスクおよびマスター
ディスクは、マスターテープの音を忠実に再現できるた
め、ディスクのフォーマットにした時の音質評価を正確
に行うことができ、また、ＣＤ、ＤＶＤ、ＭＤ等のマス
タリングに用いた場合、マスターテープからの音の再現
性が高いディスクを得ることができる。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光ディスクを製造するためのマスタリン
   グ前に音質評価に付される音証用光ディスクであって、
   該ディスクの基板が熱可塑性ノルボルネン系樹脂である
   音証用光ディスク。
2. 【請求項２】 光ディスクを製造するためのマスターデ
   ィスクであって、該ディスクの基板が熱可塑性ノルボル
   ネン系樹脂であるマスターディスク。