JPH11145378A - 複合電子回路装置 - Google Patents

複合電子回路装置

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JPH11145378A JP30760997A JP30760997A JPH11145378A JP H11145378 A JPH11145378 A JP H11145378A JP 30760997 A JP30760997 A JP 30760997A JP 30760997 A JP30760997 A JP 30760997A JP H11145378 A JPH11145378 A JP H11145378A
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insulator
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 複合電子回路装置により電子部品の高密度実
装化を図る。 【解決手段】 回路基板(11)に固着される一方の主
面(30a)を有し且つ第1の電子回路(28)を封止
する第1の半導体装置(12)の第1の絶縁物封止体
(30)の他方の主面(30b)上に第2の半導体装置
(13)の第2の電子回路(41)を封止する第2の絶
縁物封止体(43)を固着して、回路基板(11)の単
位面積当たりの実装密度を増加する。第1の絶縁物封止
体(30)から導出された第1のリード(25)は回路
基板(11)の配線導体(15)に電気的に接続され、
第2の絶縁物封止体(43)から導出された第2のリー
ド(39、40、56)は回路基板(11)の異なる配
線導体(18、19)に電気的に接続される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子回路装置、特
に、複数の電子部品を回路基板上に積層して固着した複
合電子回路装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図7に示すように、従来の電子回路装置
では、樹脂封止体(パッケージ)(1)から複数の金属
製リード(2)を導出させた複数の電子部品(3)を回
路基板(4)上に個別に搭載していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、この種の電
子回路装置にも、高集積化(高密度実装化)の要求が高
まっている。従来の電子回路装置では、複数の電子部品
を直立して搭載(配置)するため、回路基板(4)の有
効実装面積が制限され、このため高密度実装化に限界が
あった。
【0004】本発明は、電子部品の高密度実装化が可能
な複合電子回路装置を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明による複合電子回
路装置は、回路基板(11)に固着される一方の主面
(30a)を有し且つ第1の電子回路(28)を封止す
る第1の絶縁物封止体(30)を備えた第1の半導体装
置(12)と、第1の絶縁物封止体(30)の他方の主
面(30b)上に固着され且つ第2の電子回路(41)
を封止する第2の絶縁物封止体(43)を備えた第2の
半導体装置(13)とを備えている。第1の絶縁物封止
体(30)から導出された第1のリード(25)は回路
基板(11)の配線導体(15)に電気的に接続され
る。第2の絶縁物封止体(43)から導出された第2の
リード(39、40、56)は回路基板(11)の異な
る配線導体(18、19)に電気的に接続される。
【0006】回路基板(11)に固着した第1の半導体
装置(12)の第1の絶縁物封止体(30)の上に第2
の半導体装置(13)の第2の絶縁物封止体(43)を
積層して固着するので、回路基板(11)の単位面積当
たりの実装密度を増加することができる。
【0007】本発明の実施の形態では、第2のリード
(39、40)は、ろう材(46)により第2のリード
(39、40)を電気的に接着し且つ第1の絶縁物封止
体(30)に固定された接着層(34、35)及び接続
部(36、37)及び接着層(32、33)を介して配
線導体(18、19)に電気的に接続される。第1の絶
縁物封止体(30)の第1の主面(30a)には接続部
(36、37)に接続された接着層(32、33)が形
成される。第1の絶縁物封止体(30)から導出された
第1のリード(25)は略90度の角度で折曲げられて
回路基板(11)の配線導体(15)に接続されたスル
ーホール(44)に電気的に接続される。第2のリード
(39、40)により第1の絶縁物封止体(30)と第
2の絶縁物封止体(43)との間に間隙(26)が形成
される。
【0008】本発明の他の実施の形態では、第2の絶縁
物封止体(43)の一方の主面(43b)は第1の絶縁
物封止体(30)の他方の主面(30b)に接着され、
第2のリード(56)は第2の絶縁物封止体(43)か
ら略90度の角度で折曲げられて回路基板(11)の配
線導体(15)に接続されたスルーホール(44)に電
気的に接続される。
【0009】
【発明の実施の形態】本発明による複合電子回路装置の
第1の実施の形態を図1〜図5について説明する。第1
の実施の形態による複合電子回路装置は、図1に示すよ
うに回路基板(11)と、複数の半導体装置(12)
(13)とから構成される。
【0010】例えばエポキシ樹脂等から成る板材により
形成された回路基板(11)の一方の主面には、図2に
示すように、相互に電気的に分離して銅等の導電性金属
から形成された3個の配線導体(15)と、対向して形
成された一対の配線導体(18)(19)と、一対の配
線導体(18)(19)の間にH形平面形状に形成され
た第1の電極(20)とが印刷等によって設けられる。
第1の電極(20)は、配線導体(15)(18)(1
9)から離間した位置に島状に形成される。配線導体
(18)(19)にはそれぞれ第2の電極(21)及び
第3の電極(22)が設けられる。3個の配線導体(1
5)の各一端に形成されたランド(15a)にはスルー
ホール(44)が形成される。3個のスルーホール(4
4)の各内壁に銅メッキにより形成された接続部(15
b)を介してランド(15a)は回路基板(11)の他
方の主面に形成された電極(23)に電気的に接続され
る。
【0011】第1の電子部品としての半導体装置(1
2)は、一方の主面(30a)及び他方の主面(30
b)を有する樹脂封止体等の絶縁物封止体(30)と、
絶縁物封止体(30)から導出された3個の第1のリー
ド(25)とを備えている。
【0012】図1に示すように、半導体装置(12)の
絶縁物封止体(30)内には、支持板(24)と、支持
板(24)の一方の端部側に並置された3個の第1のリ
ード(25)の各一端と、支持板(24)に載置された
第1の回路を構成する半導体素子(28)と、半導体素
子(28)と第1のリード(25)のいずれかとを電気
的に接続する金属細線(29)とが設けられる。3個の
第1のリード(25)の各々は回路基板(11)に向か
って折り曲げられ、3個の第1のリード(25)の各他
端は、回路基板(11)の対応するスルーホール(4
4)に挿入され、配線導体(15)のランド(15a)
及び電極(21)に半田(60)によってろう付けされ
る。絶縁物封止体(30)は、支持板(24)の全面、
第1のリード(25)の一端、半導体素子(28)及び
金属細線(29)を封止する。図3に示すように、半導
体装置(12)の絶縁物封止体(30)の一方の主面
(30a)には、第1の接着層(31)、第2の接着層
(32)及び第3の接着層(33)が形成される。第1
の接着層(31)は、絶縁物封止体(30)の一対の長
辺に隣接する一対の切欠部(31a)(31b)と共に
H形平面形状に形成される。第2の接着層(32)及び
第3の接着層(33)は、第1の接着層(31)から電
気的に離間して切欠部(31a)(31b)内に形成さ
れる。半導体装置(12)の絶縁物封止体(30)の一
方の主面(30a)に形成された第1の接着層(3
1)、第2の接着層(32)、第3の接着層(33)
は、それぞれ回路基板(11)の一方の主面に形成され
た第1の電極(20)、第2の電極(21)、第3の電
極(22)にろう材(半田)(45)によって接着され
る。また、図4に示すように、絶縁物封止体(30)の
他方の主面(30b)に第4の接着層(34)及び第5
の接着層(35)が形成され、絶縁物封止体(30)の
側面(30c)(30d)には第1の接続部(36)及
び第2の接続部(37)が形成される。第1の接着層
(31)、第2の接着層(32)、第3の接着層(3
3)、第4の接着層(34)、第5の接着層(35)、
第1の接続部(36)及び第2の接続部(37)は導電
性材料、例えば銅等の無電解メッキ法によって形成する
ことができる。絶縁物封止体(30)の一方の主面(3
0a)に形成された第2の接着層(32)は第1の接続
部(36)を介して絶縁物封止体(30)の他方の主面
(30b)に形成された第4の接着層(34)に電気的
に接続される。同様に、絶縁物封止体(30)の一方の
主面(30a)に形成された第3の接着層(33)は第
2の接続部(37)を介して絶縁物封止体(30)の他
方の主面(30b)に形成された第5の接着層(35)
に電気的に接続される。
【0013】半導体装置(12)の絶縁物封止体(3
0)の他方の主面(30b)に配置された第2の電子部
品としての半導体装置(13)は、図5に示すように、
樹脂封止体等の絶縁物封止体(43)と、絶縁物封止体
(43)の対向する側面(43a)から導出された一対
の第2のリード(39)(40)とを有する。第2のリ
ード(39)(40)は、間隙(26)を形成して絶縁
物封止体(43)の下面に折り曲げられ、第2のリード
(39)(40)の折り曲げ端部は、それぞれ半導体装
置(12)の第4の接着層(34)と第5の接着層(3
5)にろう材(半田)(46)によって接着される。半
導体装置(13)の絶縁物封止体(43)内には、支持
板(38)と、支持板(38)の一方の端部に連結され
た第2のリード(39)の一端と、支持板(38)の他
方の端部側に離間して配置された第2のリード(40)
の一端と、支持板(38)に載置された第2の電子回路
を構成する半導体素子(41)と、半導体素子(41)
とリード(40)とを電気的に接続する金属細線(4
2)とが設けられる。絶縁物封止体(43)は、支持板
(38)の全面と、第2のリード(39)(40)の一
端と、半導体素子(41)と、金属細線(42)とを封
止する。
【0014】本実施の形態では、以下の作用・効果が得
られる。 (1) 2つの半導体装置(12)(13)を垂直に重
ねて配置できるので、電子部品の高密度実装が可能であ
る。 (2) 半導体装置(12)の第2の接着層(32)、
第3の接着層(33)、第4の接着層(34)、第5の
接着層(35)及び第1の接続部(36)、第2の接続
部(37)が半導体装置(13)の配線導体を兼ねるの
で、複雑な電気的配線に省スペースで対応できる。 (3) 半導体装置(12)の他方の主面(30b)と
半導体装置(13)の下面との間に形成される間隙(2
6)により放熱性が向上する。
【0015】図6は、本発明による複合電子回路装置の
第2の実施の形態を示す。図6に示すように、第1の電
子部品としての半導体装置(12)と第2の電子部品と
しての半導体装置(13)とが回路基板(11)上に垂
直に積層して配置される。
【0016】半導体装置(12)は、絶縁物封止体(3
0)と、絶縁物封止体(30)の一方の側面から導出さ
れた複数の第1のリード(25)とを有し、各リード
(25)の先端は回路基板(11)に形成されたスルー
ホール(44)に半田(60)によってろう付けされて
いる。また、半導体装置(12)の絶縁物封止体(3
0)の一方の主面(30a)に形成された金属製の接着
層(31)は、回路基板(11)の電極(20)にろう
材(45)よって接着される。また、半導体装置(1
2)の絶縁物封止体(30)の他方の主面(30b)に
形成された金属製の接着層(54)には、半導体装置
(13)の絶縁物封止体(55)の下面(43b)に形
成された金属製接着層(59)がろう材(46)によっ
て接着される。半導体装置(13)は、絶縁物封止体
(55)と、絶縁物封止体(55)の一方の側面から導
出された複数のリード(56)を有し、各リード(5
6)は回路基板(11)に形成された他のスルーホール
(44)に半田(58)によって接着される。本実施形
態の電子回路装置でも、電子部品の高密度実装が可能で
ある。ろう材(45、46)に代えて樹脂製の接着剤を
使用してもよい。
【0017】本発明の実施の形態では、更に変更が可能
である。例えば、第2の半導体装置(13)の上に第3
以上の半導体装置を更に積層し固着することができる。
【0018】
【発明の効果】本発明による複合電子回路装置では、複
数の半導体装置を垂直に重ねて配置できるので、電子部
品の高密度実装が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明による複合電子回路装置の側面図
【図2】 図1に示す回路基板の平面図
【図3】 第1の半導体装置の底面図
【図4】 第1の半導体装置の平面図
【図5】 図1のV−V線に沿う断面図
【図6】 本発明の他の実施の形態を示す複合電子回路
装置の側面図
【図7】 従来の電子回路装置の側面図
【符号の説明】
(11)・・回路基板、 (12)・・第1の半導体装
置、 (13)・・第2の半導体装置、 (15)・・
配線導体、 (18、19)・・配線導体、(21、2
2)・・電極、 (25)・・第1のリード、 (2
6)・・間隙、(28)・・第1の電子回路、 (3
0)・・第1の絶縁物封止体、 (30a)・・一方の
主面、 (30b)・・他方の主面、 (32、33)
・・接着層、 (36、37)・・接続部、 (39、
40、56)・・第2のリード、(41)・・第2の電
子回路、 (43)・・第2の絶縁物封止体、 (43
a)・・一方の主面、 (44)・・スルーホール、
(46)・・ろう材、

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回路基板(11)に固着される一方の主
    面(30a)を有し且つ第1の電子回路(28)を封止
    する第1の絶縁物封止体(30)を備えた第1の半導体
    装置(12)と、前記第1の絶縁物封止体(30)の他
    方の主面(30b)上に固着され且つ第2の電子回路
    (41)を封止する第2の絶縁物封止体(43)を備え
    た第2の半導体装置(13)とを備え、 前記第1の絶縁物封止体(30)から導出された第1の
    リード(25)は前記回路基板(11)の配線導体(1
    5)に電気的に接続され、 前記第2の絶縁物封止体(43)から導出された第2の
    リード(39、40、56)は前記回路基板(11)の
    異なる配線導体(18、19)に電気的に接続されたこ
    とを特徴とする複合電子回路装置。
  2. 【請求項2】 前記第2のリード(39、40)は、ろ
    う材(46)により前記第2のリード(39、40)を
    電気的に接着し且つ前記第1の絶縁物封止体(30)に
    固定された接着層(34、35)及び接続部(36、3
    7)及び接着層(32、33)を介して前記配線導体
    (18、19)に電気的に接続された請求項1に記載の
    複合電子回路装置。
  3. 【請求項3】 前記第1の絶縁物封止体(30)の第1
    の主面(30a)には前記接続部(36、37)に接続
    された接着層(32、33)が形成された請求項1に記
    載の複合電子回路装置。
  4. 【請求項4】 前記第1の絶縁物封止体(30)から導
    出された第1のリード(25)は略90度の角度で折曲
    げられて前記回路基板(11)の配線導体(15)に接
    続されたスルーホール(44)に電気的に接続された請
    求項1に記載の複合電子回路装置。
  5. 【請求項5】 前記第2のリード(39、40)により
    前記第1の絶縁物封止体(30)と第2の絶縁物封止体
    (43)との間に間隙(26)が形成された請求項1に
    記載の複合電子回路装置。
  6. 【請求項6】 前記第2の絶縁物封止体(43)の一方
    の主面(43b)は前記第1の絶縁物封止体(30)の
    他方の主面(30b)に接着され、前記第2のリード
    (56)は前記第2の絶縁物封止体(43)から略90
    度の角度で折曲げられて前記回路基板(11)の配線導
    体(15)に接続されたスルーホール(44)に電気的
    に接続された請求項1に記載の複合電子回路装置。
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