JPH1112777A - 銅電解精製法 - Google Patents
銅電解精製法Info
- Publication number
- JPH1112777A JPH1112777A JP9173308A JP17330897A JPH1112777A JP H1112777 A JPH1112777 A JP H1112777A JP 9173308 A JP9173308 A JP 9173308A JP 17330897 A JP17330897 A JP 17330897A JP H1112777 A JPH1112777 A JP H1112777A
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- JP
- Japan
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- thiourea
- copper
- electro
- chlorine ion
- refining
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明はより粒発生率を低下しうる銅電
解精製法の提供を課題とする。 【解決手段】 少なくとも塩素イオンとチオ尿素とを添
加剤として用いる銅電解精製において、塩素イオン濃度
を４５〜６０ｍｇ／ｌとし、チオ尿素濃度を４．０〜
５．５ｍｇ／ｌとする。
解精製法の提供を課題とする。 【解決手段】 少なくとも塩素イオンとチオ尿素とを添
加剤として用いる銅電解精製において、塩素イオン濃度
を４５〜６０ｍｇ／ｌとし、チオ尿素濃度を４．０〜
５．５ｍｇ／ｌとする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、銅の電解精製の操
業に関し、具体的には良好な表面の電着銅を得るための
添加剤量に関する。
業に関し、具体的には良好な表面の電着銅を得るための
添加剤量に関する。
【０００２】
【従来の技術】銅電解精製において、平滑な電着銅を得
るために電解液にチオ尿素、にかわ、塩素イオンなどの
添加剤を加えることが一般に行われている。これらの添
加剤は、カソード表面に吸着することによって特定部分
の電着の進行を抑え電着物表面全体を平滑にする作用が
あるとされている。したがって、前記した添加剤の添加
量が少な過ぎると粒や瘤の発生などが発生し、電気銅の
外観を悪化する。逆に、添加剤の総量が過剰であっても
粒などを発生することが知られていて、添加量の総量を
適量に保っことが重要である。また、チオ尿繁、にか
わ、塩素イオンなどの個々の添加剤の添加量もどの程度
の範囲にすべきかは、経験的に知られている。
るために電解液にチオ尿素、にかわ、塩素イオンなどの
添加剤を加えることが一般に行われている。これらの添
加剤は、カソード表面に吸着することによって特定部分
の電着の進行を抑え電着物表面全体を平滑にする作用が
あるとされている。したがって、前記した添加剤の添加
量が少な過ぎると粒や瘤の発生などが発生し、電気銅の
外観を悪化する。逆に、添加剤の総量が過剰であっても
粒などを発生することが知られていて、添加量の総量を
適量に保っことが重要である。また、チオ尿繁、にか
わ、塩素イオンなどの個々の添加剤の添加量もどの程度
の範囲にすべきかは、経験的に知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、これらの添
加剤の中で塩素イオンはチオ尿素を分解するとされ、塩
素イオンの添加量を高くすると良好な表面状態が得られ
ないとされている。加えて、塩素イオン添加量を高くす
るとステンレスに孔食が発生する可能性があるという点
より塩素イオン添加量は０．０２５〜０．０３５ｇ／ｌ
とされるのが常であった。このように添加剤添加量を調
整することにより、粒状物が形成された電着銅の割合
（以下「粒発生率」という。）は１０％を切るまでに至
っている。
加剤の中で塩素イオンはチオ尿素を分解するとされ、塩
素イオンの添加量を高くすると良好な表面状態が得られ
ないとされている。加えて、塩素イオン添加量を高くす
るとステンレスに孔食が発生する可能性があるという点
より塩素イオン添加量は０．０２５〜０．０３５ｇ／ｌ
とされるのが常であった。このように添加剤添加量を調
整することにより、粒状物が形成された電着銅の割合
（以下「粒発生率」という。）は１０％を切るまでに至
っている。
【０００４】しかし、近年の高生産性の要求はさらなる
粒発生率の低下を要求してきている。本発明はこのよう
な環境でなされたものであり、より粒発生率を低下しう
る銅電解精製法の提供を課題とする。
粒発生率の低下を要求してきている。本発明はこのよう
な環境でなされたものであり、より粒発生率を低下しう
る銅電解精製法の提供を課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく種々の検討を行った結果、塩素イオン添加
量とチオ尿素添加量とを共に高くすれば良好な表面の電
着銅が得られることを見いだし、本発明にいたった。
を解決すべく種々の検討を行った結果、塩素イオン添加
量とチオ尿素添加量とを共に高くすれば良好な表面の電
着銅が得られることを見いだし、本発明にいたった。
【０００６】すなわち、上記課題を解決する本発明の方
法は、少なくとも塩素イオンとチオ尿素とを添加剤とし
て用いる銅電解精製において、塩素イオン濃度を４５〜
６０ｍｇ／ｌとし、チオ尿素濃度を４．０〜５．５ｍｇ
／ｌとするものである。
法は、少なくとも塩素イオンとチオ尿素とを添加剤とし
て用いる銅電解精製において、塩素イオン濃度を４５〜
６０ｍｇ／ｌとし、チオ尿素濃度を４．０〜５．５ｍｇ
／ｌとするものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の方法において銅電解液中
の塩素イオン濃度とチオ尿素濃度とを共に高くするの
は、いずれか一方のみを高くすると粒発生率を低下させ
ることができないからである。
の塩素イオン濃度とチオ尿素濃度とを共に高くするの
は、いずれか一方のみを高くすると粒発生率を低下させ
ることができないからである。
【０００８】以下検討例を用いて本発明を説明する。
【０００９】電解槽（長さ３０００×幅１２６０×深さ
１３９０ｍｍ）に、銅精製アノード（幅１０３０×長さ
１０５０×厚さ３８ｍｍ）２６枚とカソード（幅１０７
０×長さ１０５０×厚さ０．７ｍｍ）２７枚をアノード
・アノード間隔が１０５ｍｍになるように装入した。電
流密度は、２５０Ａ／ｍ2とした。
１３９０ｍｍ）に、銅精製アノード（幅１０３０×長さ
１０５０×厚さ３８ｍｍ）２６枚とカソード（幅１０７
０×長さ１０５０×厚さ０．７ｍｍ）２７枚をアノード
・アノード間隔が１０５ｍｍになるように装入した。電
流密度は、２５０Ａ／ｍ2とした。
【００１０】そして、Ｃｕ濃度５０ｇ／ｌ、硫酸１９０
ｇ／ｌ、温度６０℃の電解液を１５ｌ／ｍｉｎの流量で
給液した。通電開始時のにかわ濃度を１．４７ｍｇ／
ｌ、塩素イオン濃度を２９ｍｇ／ｌ、チオ尿素濃度を
２．８ｍｇ／ｌとした。その後膠濃度は一定に維持した
まま塩素イオン濃度とチオ尿素濃度とを図１に示したよ
うに変化させ３６ケ月間の試験操業をおこなった。
ｇ／ｌ、温度６０℃の電解液を１５ｌ／ｍｉｎの流量で
給液した。通電開始時のにかわ濃度を１．４７ｍｇ／
ｌ、塩素イオン濃度を２９ｍｇ／ｌ、チオ尿素濃度を
２．８ｍｇ／ｌとした。その後膠濃度は一定に維持した
まま塩素イオン濃度とチオ尿素濃度とを図１に示したよ
うに変化させ３６ケ月間の試験操業をおこなった。
【００１１】得られた電着銅の表面を観察し、得られた
粒発生率と塩素イオン濃度との関係を図２に示した。図
２より本発明の塩素イオン濃度とチオ尿素濃度とで操業
すれば、粒発生率が０．５％以下に押さえることが可能
であることがわかる。
粒発生率と塩素イオン濃度との関係を図２に示した。図
２より本発明の塩素イオン濃度とチオ尿素濃度とで操業
すれば、粒発生率が０．５％以下に押さえることが可能
であることがわかる。
【００１２】なお、粒発生率とは粒・条痕などにより著
しく凹凸のある部分の面積が３％以上５％以下の電気銅
の発生率であり、５％を越えるものはＣ級電気銅と評価
し、３０％を越えるものは不良品として乾式工程に繰り
返される。
しく凹凸のある部分の面積が３％以上５％以下の電気銅
の発生率であり、５％を越えるものはＣ級電気銅と評価
し、３０％を越えるものは不良品として乾式工程に繰り
返される。
【００１３】また、塩素イオン濃度を４５ｍｇ／ｌ以上
とした上記６０℃の電解液中にＳＵＳ３１６製の短冊状
切片を２ケ月間浸漬し、孔食状態を観察した。その結
果、特に異常は認められず、ＳＵＳ３１６を装置材料と
して用いれば支障はないことがわかった。
とした上記６０℃の電解液中にＳＵＳ３１６製の短冊状
切片を２ケ月間浸漬し、孔食状態を観察した。その結
果、特に異常は認められず、ＳＵＳ３１６を装置材料と
して用いれば支障はないことがわかった。
【００１４】
【発明の効果】本発明により、従来経験に従い不可能と
されていた高塩素イオン濃度での電解を行い、粒発生率
を大幅に低下させることができた。本発明の方法は不良
率の低下、これによるコストダウンに大きく貢献でき
る。
されていた高塩素イオン濃度での電解を行い、粒発生率
を大幅に低下させることができた。本発明の方法は不良
率の低下、これによるコストダウンに大きく貢献でき
る。
【図１】試験操業期間中の電解液中塩素イオン濃度とチ
オ尿素濃度とを示した図である。
オ尿素濃度とを示した図である。
【図２】試験操業期間中の電解液中塩素イオン濃度と得
られた電着銅の粒発生率との関係を示した図である。
られた電着銅の粒発生率との関係を示した図である。
Claims (1)
- 【請求項１】 少なくとも塩素イオンとチオ尿素とを
添加剤として用いる銅電解精製において、塩素イオン濃
度を４５〜６０ｍｇ／ｌとし、チオ尿素濃度を４．０〜
５．５ｍｇ／ｌとすることを特徴とする銅電解精製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9173308A JPH1112777A (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | 銅電解精製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9173308A JPH1112777A (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | 銅電解精製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1112777A true JPH1112777A (ja) | 1999-01-19 |
Family
ID=15958050
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9173308A Pending JPH1112777A (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | 銅電解精製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1112777A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010065263A (ja) * | 2008-09-09 | 2010-03-25 | Pan Pacific Copper Co Ltd | 銅の電解精製方法 |
| JP2014084496A (ja) * | 2012-10-23 | 2014-05-12 | Pan Pacific Copper Co Ltd | 電気銅の製造方法 |
-
1997
- 1997-06-30 JP JP9173308A patent/JPH1112777A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010065263A (ja) * | 2008-09-09 | 2010-03-25 | Pan Pacific Copper Co Ltd | 銅の電解精製方法 |
| JP2014084496A (ja) * | 2012-10-23 | 2014-05-12 | Pan Pacific Copper Co Ltd | 電気銅の製造方法 |
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