JP4952203B2 - 銅電解精製における浮遊スライムの生成防止方法 - Google Patents
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Description
アンチモンを含有する電解液を、カソードの電流密度を2.8〜5.0A/dm2に上昇させて高電流密度電解処理に付し、処理後の電解液中の溶存酸素濃度を0.2mg/L以下にまで低下させることを特徴とする浮遊スライムの生成防止方法が提供される。
本発明の銅電解精製における浮遊スライムの生成防止方法は、アノードとして粗銅を用いる銅電解精製において、アンチモンを主成分として含む浮遊スライムの生成を防止する方法であって、アンチモンを含有する電解液を、カソードの電流密度を2.8〜5.0A/dm2に上昇させて高電流密度電解処理に付し、処理後の電解液中の溶存酸素濃度を0.2mg/L以下にまで低下させることを特徴とする。
すなわち、銅精鉱等の工業的に一般的に使用される銅原料には、アンチモンが微量ながら含有されている。そのため、一般的な銅製錬操業により得られる粗銅を用いるアノード中には、アンチモンが砒素、ビスマス、鉛、貴金属等とともに含有され、前述のように、電解液中にその一部が溶出される。したがって、上記方法に用いるアンチモンを含有する電解液は、アノードとして粗銅を用いる銅電解精製において一般的なものである。
一方、通常の銅電解精製において、電解液中の溶存酸素濃度は、前述の電解液の循環使用等により酸素が溶存するため上昇する。この酸素の溶存を完全に防止することは、実操業規模の設備及び操業においては実質的に困難である。
すなわち、カソードの電流密度が2.8A/dm2未満では、水素ガスの発生が弱く、電解液中の溶存酸素の消費が遅いので効率的でない。一方、カソードの電流密度が5.0A/dm2を超えると、短時間でもアノードの不働態化が発生しやすく電解が不安定になる。
(1)金属の分析:ICP発光分析法で行った。
(2)溶存酸素濃度の分析:隔膜電極法で行った。
アノード(面積:1dm2)5枚とカソード用種板(面積:1dm2)4枚を交互に極間距離100mmで設置した小型の銅電解槽(長さ:500mm、幅:150mmm、深さ:150mm、容積11.25L)により、溶存酸素濃度が2.0mg/Lに上昇した電解液(組成;Cu:50g/L、H2SO4:190g/L、As:3.0g/L、Sb:0.3g/L、Bi:0.3g/L、Cl:0.04g/L)を用いて、カソードの電流密度を変えて電解精製を行なった。なお、電解液温度は、62℃であり、また、循環液量は100mL/分であった。ここで用いたアノード、及びカソード用銅種板の組成を表1に示す。
なお、カソードの電流密度が、2.0A/dm2(比較例1)、2.5A/dm2(比較例2)、3.0A/dm2(実施例1)、4.0A/dm2(実施例2)、5.0A/dm2(実施例3)の場合には、アノードの不働態化が発生しなかった。一方、6.0A/dm2(比較例3)の場合には、アノードの不働態化が発生し電解が不安定になった。
Claims (4)
- アノードとして粗銅を用い、循環使用する電解液の流量が100mL/分以下である銅電解精製において、アンチモンを主成分として含む浮遊スライムの生成を防止する方法であって、
アンチモンを含有する電解液を、カソードの電流密度を2.8〜5.0A/dm2に上昇させて高電流密度電解処理に付し、処理後の電解液中の溶存酸素濃度を0.2mg/L以下にまで低下させることを特徴とする浮遊スライムの生成防止方法。 - 前記電解液の溶存酸素濃度は、1.0〜2.0mg/Lであることを特徴とする請求項1に記載の浮遊スライムの生成防止方法。
- 前記高電流密度電解処理の時間は、電流密度に応じてアノードの不働態化が起きない範囲とすることを特徴とする請求項1又は2に記載の浮遊スライムの生成防止方法。
- 前記電解液の組成は、銅:45〜55g/L、硫酸:170〜200g/L、及びアンチモン:0.1〜0.6g/Lであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の浮遊スライムの生成防止方法。
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