JPH11105339A - 画像形成装置及び画像形成方法 - Google Patents

画像形成装置及び画像形成方法

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JPH11105339A
JPH11105339A JP9272823A JP27282397A JPH11105339A JP H11105339 A JPH11105339 A JP H11105339A JP 9272823 A JP9272823 A JP 9272823A JP 27282397 A JP27282397 A JP 27282397A JP H11105339 A JPH11105339 A JP H11105339A
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Japan
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image
gradation
scanning direction
laser
exposure
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Application number
JP9272823A
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English (en)
Inventor
Takao Kumasaka
隆夫 熊坂
Tatsuo Ikawa
辰夫 伊川
Nobuyoshi Hoshi
信義 保志
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koki Holdings Co Ltd
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Koki Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】原画に対する階調再現性が忠実であり、かつ環
境条件や印刷頁数が変化しても階調再現が安定している
画像形成装置及び形成方法を提供する。 【解決手段】帯電した感光体1にレ−ザ光3を照射して
電荷潜像を形成する露光装置4のレ−ザ光3の光源とし
て、ビ−ム径が変化可能なビ−ム形状可変半導体レ−ザ
7を用い、露光装置4を制御する制御部8で、階調画像
信号の階調段数に基づいて、照射されるレーザ光3の記
録スポット径を変化させるようにした。また、制御部8
のビ−ム径制御部9で副走査方向又は主走査方向の記録
スポット径のばらつきを、各走査位置毎に補正するよう
にした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、複写機、プリンタ、フ
ァクシミリ等の電子写真装置に用いられる画像形成装置
及び形成方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】階調画像とは、網点画像において所定の
階調段数に対し印字率の小さい(黒比率の小さい)画像
から順次、所定の比率で印字率を大きくした1連の網点
画像のことを云うのである。
【0003】近年、ネットワ−クやデジタル画像機器の
普及に伴い、プリンタの解像度を向上させ文字や図形と
共に写真画像出力に対する要望が高くなっている。階調
画像を利用する例として、ワ−クステ−ションとその入
出力システムを取り上げて、説明する。
【0004】文書に写真画像を挿入する場合、写真画像
をスキャナ−等でワ−クステ−ションに取り込み、ワ−
クステ−ションでの作業により所定文書に写真画像を挿
入する。その後、文書は、必要部数、レ−ザプリンタに
て出力される。
【0005】このようなシステムにおいては、写真画像
をスキャナ−等でワ−クステ−ションに取り込む際、及
び、レ−ザプリンタにて出力する際に、写真画像の濃淡
を画像濃度に応じて所定段数(例えば、16段、64
段、256段など)の網点画像(階調画像)に区分し、
画像表示やレ−ザプリンタによる出力を行っていた。
【0006】また、レ−ザプリンタにおいては、感光体
を一様帯電させた後、階調画像信号に基づいて一定のス
ポット形状にてレ−ザ露光を行い階調画像に対応する電
荷潜像を感光体上に形成し、現像工程にてトナ−画像を
形成していた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の階調画像形
成を行う電子写真装置においては、露光により感光体上
の電荷が消失した部分にトナ−を付着させる反転現像を
用いてトナ−画像を形成する場合、図7に示すように、
解像度が高くなるにつれ印字率の高い網点画像(シャド
ウ部)の再現性が悪くなり画像濃度が高くなるため、階
調曲線が上に凸になる傾向があった。
【0008】すなわち、図8の(c)に示すように、シ
ャドウ部の網点画像がつぶれ気味となる傾向があり、ま
た、印字率の低い網点画像(ハイライト部)に対して
は、解像度が高くなるにつれ、図8の(a)に示すよう
に、トナ−画像の1ドットの大きさが設計値よりも小さ
くなる傾向があり、このため、濃淡が出にくくなるとい
う問題があった。
【0009】このような問題に対し、日本特許第256
8713号公報では、露光の強度分布がガウス分布であ
ることを利用し露光量を変え、1ドットの電荷潜像の大
きさを変化させる方法が開示されている。
【0010】しかし、露光量を変化させる方法では、ビ
−ム径の大きさにより光強度のピ−クが変化するため画
像濃度が変化したり、感光体の光感度が環境条件(温
度、湿度)や印刷動作に伴う感光体表面劣化状態に依存
して変化するため、所望する1ドットの電荷潜像の大き
さが得にくくなり、その結果、網点画像の再現性が不安
定になるという問題が生じた。
【0011】また、特開平6−297757号公報で
は、焦点調整手段としてコリメ−タレンズを移動する方
法を提案しているが、光学ユニット(露光装置)が大型
化したり、高速での制御性が悪くなるという問題があっ
た。
【0012】本発明の目的は、原画に対する階調再現性
が忠実であり、かつ環境条件や印刷頁数が変化しても階
調再現が安定している画像形成装置及び形成方法を提供
することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、感光体と、該感光体を帯電させる帯電器
と、前記帯電した感光体にレ−ザ光を照射して電荷潜像
を形成する露光装置と、該露光装置を制御する制御部
と、前記電荷潜像を現像してトナ−画像を形成する現像
器とを有する画像形成装置において、前記露光装置は、
前記レ−ザ光の光源として、ビ−ム径が変化可能な半導
体レ−ザを有し、前記制御部は、階調画像信号の階調段
数に基づいて前記照射されるレーザ光の記録スポット径
を変化させることを特徴とする。
【0014】また、本発明の他の特徴として、前記制御
部は、前記階調画像信号の階調段数が大きくなるにつ
れ、前記レ−ザ光の副走査方向の記録スポット径を小さ
くするように制御するビ−ム径制御部と、前記階調画像
信号の階調段数が大きくなるにつれ、1ドット当たりの
前記レ−ザ光の発光駆動のパルス幅を小さくするように
制御する露光パルス幅制御部とを有することにある。
【0015】また、本発明の他の特徴は、感光体と、該
感光体を帯電させる帯電器と、前記帯電した感光体にレ
−ザ光を照射して電荷潜像を形成する露光装置と、該露
光装置を制御する制御部と、前記電荷潜像を現像してト
ナ−画像を形成する現像器とを有する画像形成装置にお
いて、前記露光装置は、前記レ−ザ光の光源として主走
査方向のビ−ム径が変化可能な半導体レ−ザと、該半導
体レ−ザのビ−ム径変化方向と直交する副走査方向のビ
−ム径が変化可能な半導体レ−ザ増幅器とを有し、前記
制御部は、前記階調画像信号の階調段数に基づいて、前
記レ−ザ光の前記副走査方向及び前記主走査方向の記録
スポット径を変化させるビ−ム径制御部を有することに
ある。
【0016】また、本発明の他の特徴として、前記ビ−
ム径制御部は、前記副走査方向又は前記主走査方向の記
録スポット径のばらつきを、各走査位置毎に補正する補
正手段を有することにある。
【0017】また、本発明の他の特徴は、感光体を一様
に帯電させた後、階調画像信号に基づいてレ−ザ露光を
行う露光工程により電荷潜像を前記感光体上に形成し、
現像工程にてトナ−画像を形成する画像形成方法におい
て、前記レ−ザ露光の光源としてビ−ム径が変化可能な
半導体レ−ザを用い、前記階調画像信号の階調段数に基
づいて前記レ−ザ光の記録スポット径を変化させること
にある。
【0018】また、本発明の他の特徴は、感光体を一様
に帯電させた後、階調画像信号に基づいてレ−ザ露光を
行う露光工程により電荷潜像を前記感光体上に形成し、
現像工程にてトナ−画像を形成する画像形成方法におい
て、前記レ−ザ露光の光源として主走査方向のビ−ム径
が変化可能な半導体レ−ザと、該半導体レ−ザのビ−ム
径変化方向と直交する副走査方向のビ−ム径が変化可能
な半導体レ−ザ増幅器とを用い、前記階調画像信号の階
調段数に基づいて前記副走査方向及び前記主走査方向の
記録スポット径を変化させることにある。
【0019】本発明によれば、露光装置は、レ−ザ光の
光源として設けられたビ−ム径が変化可能な半導体レ−
ザからレ−ザ光を感光体に照射して電荷潜像を形成す
る。制御部のビ−ム径制御部は、階調画像信号の階調段
数に基づいて、照射されるレーザ光の記録スポット径を
変化させる。
【0020】また、ビ−ム径制御部の補正手段は、副走
査方向又は主走査方向の記録スポット径のばらつきを、
各走査位置毎に補正する。
【0021】このように、階調画像信号の階調段数に基
づいて照射されるレーザ光の記録スポット径を変化させ
ることにより、原画に対する階調再現性が忠実に実行さ
れ、かつ環境条件や印刷頁数が変化しても階調再現を安
定させることができる。
【0022】また、スポット径のばらつきを補正するこ
とにより、光学系の各要素の加工精度や組立て精度が緩
和されても、所定の印字品質を維持することができる。
【0023】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
を用いて説明する。
【0024】(1)第1の実施例 本発明の画像形成装置の第1の実施例は、副走査方向の
記録スポット径を変化をさせるものであり、図1から図
5を用いて説明する。
【0025】なお、以下の説明において、光走査手段
(回転ミラ−やfθレンズ)に入射する前のレ−ザ光3
の径をビ−ム径、感光体1を照射するレ−ザ光3の径を
記録スポット径またはスポット径と略称する。
【0026】図1は、本発明の第1の実施例に係る画像
形成装置を備えた電子写真装置の概略構成図である。画
像形成装置50は、感光体1と、感光体1を一様に帯電
させる帯電器2と、帯電した感光体1にレ−ザ光3を照
射して電荷潜像を形成する露光装置4と、露光装置4を
制御する制御部8と、電荷潜像を現像してトナ−画像2
8を形成する現像器12と、トナ−画像28を用紙13
上に転写する転写器14とで構成されている。
【0027】感光体1として有機感光体(Organi
c Photo Conductor、以下、OPCと略
す)を用い、その周囲に帯電器2と画像信号40に基づ
いて感光体1にレ−ザ光3を照射する露光装置4を配置
し、帯電、露光工程により、電荷潜像を形成する。
【0028】一様帯電後の感光体1の表面電位V0は−
600〜−700v、ベタ黒画像に対応する露光部の電
位(残留電位)Vrは−30〜−70vである。
【0029】露光装置4は、fθレンズ、ミラ−から成
る光学系5、光走査を行なう回転ミラ−6、ビ−ム形状
可変半導体レ−ザ7等から構成され、ビ−ム形状可変半
導体レ−ザ7の動作を制御する制御部8は、ビ−ム径制
御部9、露光パルス幅制御部10、画像判定部11から
構成されている。
【0030】ビ−ム形状可変半導体レ−ザ7は、特開平
7−89131号公報、特開平9−74251号公報に
記載されているものが使用できる。概略の構成は、図5
に示すように、半導体レ−ザの発光を制御するための発
光制御電極31とビ−ム径を可変するためのビ−ム径制
御電極17を配置して構成され、該ビ−ム径制御電極1
7の電流に応じて副走査方向のビ−ム径(図5のY方
向)を可変するようにしたものである。
【0031】図5において、18は縦長のビ−ム、19
は小径のビ−ムを示し、縦長のビ−ム18及び小径のビ
−ム19が発生している状況を模式的に示したものであ
る。また、このようなビ−ム形状可変半導体レ−ザ7を
用い1ドット当りのON時間が一定の条件で露光する場
合、1ドット当りの露光量がほぼ一定の条件で露光でき
る利点がある。
【0032】画像判定部11に送られた画像信号40
は、ベタ画像、文字画像、細線画像、階調画像等に区分
され、ベタ黒および白紙を除く階調画像においては、さ
らに対応する階調段数又は印字率が設定され印字領域の
情報に付与され、階調画像信号としてビ−ム径制御部9
及び露光パルス幅制御部10に伝達される。
【0033】ビ−ム径制御部9は、レ−ザ光の副走査方
向の記録スポット径の変化を制御するものであり、図2
に示すように、階調段数(または、印字率)が大きくな
るにつれ副走査方向のスポット径を除々に小さくするよ
うに設定される。
【0034】副走査方向のスポット径の変化は、基準値
をl0とすると、最小値は0.6l0乃至0.8l0、最大
値は1.2l0乃至1.4lであるが、特に、低印字率画
像と高印字率画像の再現性が悪い場合は、図2に示すよ
うに、スポット径lは0.6l0≦l≦1.4l0の範囲に
設定する。
【0035】なお、基準値l0は、ベタ黒画像でのオ−
バ−ラップを考慮し副走査方向の走査ピッチpの約1.
2倍ないし約2.0倍、望ましくは約1.4倍ないし約
1.7倍に設定する。
【0036】また、ビ−ム径制御部9においては、上記
した制御に加えて、走査方向の各位置毎のスポット径の
ばらつきを補正する補正手段、特に主走査方向の各位置
毎にスポット径のばらつきを補正する補正手段を有する
ことが望ましい。
【0037】例えば、一定のレ−ザビ−ムに対し、fθ
レンズ、ミラ−から成る光学系5の形状誤差、配置のズ
レなどの製作上の不具合により、基準スポット径l0
走査方向の各位置で変化しl0+△l0となることが測定
されたとする。この場合は、ビ−ム径制御部9において
走査位置とその変化分△l0を対応付けるメモリー回路
を配置し、各走査位置毎にスポット径に補正を加えるよ
うにする。
【0038】すなわち、スポット径の実測値がl0より
大きい場合は、スポット径が△l0だけ小さくなるよう
な補正を加えれば良い。これにより、光学系5の各要素
の加工精度や組立て精度を緩和し、所定の印字品質を維
持できる効果が得られる。なお、スポット径測定手段を
画像形成装置内に配置しておけば、スポット径が経時的
に変化する場合にもスポット径の補正が可能となる効果
がある。
【0039】露光パルス幅制御部10は、1ドット当た
りのレ−ザ光のON時間、すなわち、1ドット当たりの
発光駆動のパルス幅を制御するものであり、前記した副
走査方向のビ−ム径と同様に、階調段数が大きくなるに
つれを除々に小さくするように設定される。パルス幅t
は、基準値をt0とすると、0.3t0≦t≦1.0t0
範囲である。
【0040】上記したように、階調画像を含む画像信号
40に基づいて制御されるビ−ム形状可変半導体レ−ザ
7を用いて感光体1を照射するレ−ザ光3の径(記録ス
ポット径)を変化させ、階調画像に対する電荷潜像を形
成する。次いで、感光体1の周囲に配置した現像器12
により、感光体1の帯電極性と同極性の負帯電トナ−で
反転現像し、感光体1上にトナ−画像28を形成する。
【0041】さらに、転写器14としてバイアスロ−ル
を用いて、負帯電のトナ−画像を用紙13に転写し、定
着器15にて用紙13上のトナ−画像を熱融解させ用紙
に固着させ、印刷を行うようにする。
【0042】また、転写工程後の感光体1上に残留した
トナ−はクリ−ナ−16で清掃される。
【0043】露光装置4以外の各部の構成を、以下に説
明する。感光体1として用いるOPCは、上記したよう
に、負帯電OPC等を用いることができるが、帯電に伴
うオゾン発生を抑制する点からは、正帯電OPCがより
望ましい。
【0044】感光層が2層型(電荷発生層CGL、電荷
移動層CTLから成る)のOPCを用いても良いが、電
荷潜像のシャ−プな解像性を得るには単層型OPCがよ
り望ましい。正帯電OPCとしては、1例として、三田
工業(株)製OPC(商品名:MARINE OPCド
ラム)がある。
【0045】現像器12の現像剤としては、画像濃度の
確保やフリンジの抑制の面で低抵抗現像剤を用いること
が望ましいが、安定性の面で良好な高抵抗現像剤を現像
間隙を狭くして(現像電界を強くして)用いることもで
きる。
【0046】なお、低抵抗現像剤を用いる場合は、現像
器12の現像ロ−ル表面とバイアス電源との間に抵抗1
0〜1000MΩを介在させ、感光体に過電流が流れな
いようにする。
【0047】現像ロ−ルと感光体1との間隙は0.5乃
至2.0mm、現像ロ−ルと規制板との間隙は、現像ロ
−ルと感光体との間隙よりも0.05乃至0.3mm狭く
設定する。
【0048】低抵抗現像剤としては、キャリアの抵抗が
106〜109Ωcm、電圧50〜100vを印加した場
合の電流値が1〜1000μA、高抵抗現像剤として
は、キャリアの抵抗が1010〜1016Ωcm、電圧50
〜100vを印加した場合の電流値が0.1〜0.01μ
Aを用いる。第1色キャリアとしては平均粒径60〜1
20μm、嵩比重2.2乃至2.8g/cm3、飽和磁化
60乃至100emu/gのフェライト、又は、マグネ
タイトキャリアを用いる。
【0049】キャリアの表面はシリコン系または、アク
リル系樹脂でコ−ティングし帯電性、安定性を良好にす
ると共に、コ−ティング樹脂中にカ−ボンを添加するこ
とにより抵抗値を調整して用いる。
【0050】トナ−は、平均粒径が6〜11μmで、表
面にシリカや導電性粒子(酸化チタン)を外添し抵抗
値、流動性、帯電性を調整し、キャリアとの混合比2乃
至6Wt%において帯電量が−7乃至−20μc/gの
ものを用いる。
【0051】転写器14としては、バイアスロ−ル例を
示したが、ベルト転写器、コロナ帯電器等を使用しても
良い。
【0052】このような構成において階調画像を形成す
る場合、ビ−ム形状可変半導体レ−ザ7を配置し、さら
に、階調画像の情報(印字領域、印字率、階調段数)を
判断し伝達する画像判定部11と、伝達された階調画像
信号に基づいてビ−ム径制御するビ−ム径制御部9と、
伝達された階調画像信号に基づいて1ドット当たりの発
光駆動のパルス幅を制御するパルス幅制御部10を設け
ることにより、階調段数が大きくなるにつれ、副走査方
向のビ−ム径を除々に小さくするように制御でき、さら
に、階調段数が大きくなるにつれ1ドット当たりの発光
駆動のパルス幅を除々に小さくするように制御できる。
【0053】したがって、従来の高解像度印刷におい
て、印字率の高い網点画像(シャドウ部)がつぶれ気味
となり、印字率の低い網点画像(ハイライト部)が設計
値よりも小さくなる傾向があったが、本実施例において
は、印字率に応じて、記録スポット径を変え1ドットの
露光領域を変化できるようにしたので、従来は凸になる
傾向があった階調曲線を、図3に示すように直線状にで
き、図3の低印字率から高低印字率に至るA、B、C部
におけるドット再現性は、図4の(a)、(b)、
(c)に示すように、良好になり、設計値のドットサイ
ズとほぼ等しいトナ−画像を得ることができるので、濃
淡がはっきりと出る効果がある。
【0054】(2)第2の実施例 本発明の第2の実施例を、図6を用いて説明する。第2
の実施例が第1の実施例と異なる点は、図6に示すよう
な、主走査方向(X方向)と副走査方向(Y方向)に対
応するビ−ム径を変化させることができるビ−ム形状可
変半導体レ−ザデバイスを用い、階調画像信号に対し、
階調段数が大きくなるにつれ主走査方向と副走査方向の
記録スポット径を除々に小さくするように構成した点で
ある。
【0055】ビ−ム形状可変半導体レ−ザデバイスは、
所定の方向のビ−ム径を変化できるビ−ム形状可変半導
体レ−ザ20と、該ビ−ム形状可変半導体レ−ザ20の
ビ−ム径変化方向と直交する方向のビ−ム径を変化でき
るビ−ム形状可変レ−ザ増幅器23とで構成されてい
る。
【0056】これらビ−ム径を変化可能にするビ−ム形
状可変半導体レ−ザ20とビ−ム形状可変レ−ザ増幅器
23とは、光軸の調整を不要にし光学ユニットの組立て
工数を低減する観点から、一体で構成することがより望
ましい。
【0057】ビ−ム形状可変半導体レ−ザ20は、主走
査方向(X方向)に対応する方向のビ−ム径を変化させ
るもので、ビ−ム径制御電極21へ供給する電流を制御
することにより、小径ビ−ムや横長ビ−ム22を発生さ
せることができる。
【0058】また、ビ−ム形状可変レ−ザ増幅器23は
副走査方向(Y方向)のビ−ム径を変化させるもので、
ビ−ム径制御電極24へ供給する電流を制御することに
より、入射する小径ビ−ムや横長ビ−ム22に対し、副
走査方向(Y方向)に対応するビ−ム径を変化させるこ
とができ、縦長ビ−ム25、横長ビ−ム26、小径ビ−
ム27を発生させることができ、その結果、1ドット当
りの露光量がほぼ一定の条件で、主走査方向および副走
査方向の記録スポット径を変化させることができる。
【0059】本例の場合、第1の実施例の場合と比較し
て、主走査方向と副走査方向に対応する2方向のビ−ム
径を変化できるビ−ム形状可変半導体レ−ザデバイスを
用いるので、階調画像形成に対し露光パルス制御が不要
となり、露光パルス幅制御回路が削除できる。
【0060】そして、ビ−ム径制御部9においては、階
調段数が大きくなるにつれ主走査方向と副走査方向のビ
−ム径を同時に除々に小さくするように設定すれば良い
ので、主走査方向と副走査方向のビ−ム径制御回路を共
通化できる。従って、制御回路構成が全体として簡略に
できる効果が付随する。
【0061】また、主走査方向および副走査方向の記録
スポット径を変化する際、第1の実施例では、主走査方
向において1ドットの露光時間を変化させ露光している
のでその分だけ1ドット当りの露光量が変化するが、本
例の場合、1ドット当りの露光量がほぼ一定の条件で露
光できるので階調画像を構成する各ドットの画像濃度を
ほぼ一定にでき、階調画像をより鮮明に印字できる効果
がある。
【0062】(3)第3の実施例 本発明の第3の実施例は、第1の実施例において、露光
パルス幅制御部10を削除した構成とし、スポット形状
可変半導体レ−ザ7を用いて副走査方向(Y方向)のビ
−ム径の制御のみ行ない、パルス幅制御を行なわず駆動
パルス幅を一定の値に設定したものである。
【0063】本例の場合、階調画像の再現性を第1、第
2の実施例と同等にするには、階調段数に応じて変化さ
せる副走査方向のビ−ム径の変化幅を第1、第2の実施
例よりも大き目にする必要があるが、第1の実施例と比
較して制御回路構成を簡略にでき、第2の実施例と比較
して半導体レ−ザデバイスを小型にすることができる効
果がある。
【0064】さらに、従来より提案されてきた露光量を
変化させることによりスポット径を変化させる方法と比
較して、本例では1ドット当りの露光量がほぼ一定の条
件で露光できる利点があるので階調画像をより鮮明に印
字できる効果がある。
【0065】なお、上述した実施例では、露光により感
光体上の電荷が消失した部分にトナ−を付着させる反転
現像を例に本発明を説明したが、露光後に感光体上の電
荷により高電位を保持した部分にトナ−を付着させる正
規現像の場合にも本発明は適用できる。正規現像の場合
も、階調段数が大きくなるにつれ副走査方向のビ−ム径
を除々に小さくするように設定すれば良い。
【0066】また、1ドット当たりの発光駆動のパルス
幅制御を併用する際は、階調段数が大きくなるにつれ1
ドット当たりの発光駆動のパルス幅を除々に小さくする
ように設定すれば良い。
【0067】
【発明の効果】本発明によれば、高速、高解像度であっ
ても、原画に対する階調再現性が忠実に実行され、かつ
環境条件や印刷頁数が変化しても階調再現が安定してい
るので、常に鮮明な画像を形成することができる。
【0068】また、光学系の各要素の加工精度や組立て
精度を緩和しても、スポット径のばらつきを補正するこ
とにより、所定の印字品質を維持することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例に係る画像形成装置を備
えた電子写真装置の概略構成図である。
【図2】第1の実施例におけるスポット径の制御法に関
する説明図である。
【図3】第1の実施例における階調曲線の説明図であ
る。
【図4】第1の実施例における階調トナ−画像の模式図
である。
【図5】第1の実施例に用いるビ−ム径形状可変半導体
レ−ザの概略構成図である。
【図6】第2の実施例に用いるビ−ム径形状可変半導体
レ−ザデバイスの概略構成図である。
【図7】従来の階調曲線の特性説明図である。
【図8】従来の階調トナ−画像の模式図である。
【符号の説明】
1…感光体、2…帯電器、3…レ−ザ光、4…露光装
置、5…光学系、6…回転ミラ−、7,20…ビ−ム形
状可変半導体レ−ザ、8…制御部、9…ビ−ム径制御
部、10…露光パルス幅制御部、11…階調画像判定
部、12…現像器、13…用紙、14…転写器、15…
定着器、16…クリ−ナ−、17…ビ−ム径制御電極、
18,25…縦長ビ−ム、19,27…小径ビ−ム、21
…ビ−ム径制御電極、22,26…横長ビ−ム、23…
ビ−ム形状可変レ−ザ増幅器、24…ビ−ム径制御電
極、28,29,30…トナ−画像、31,32…発光制
御電極、33…発光制御電極、40…画像信号、50…
画像形成装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 保志 信義 茨城県ひたちなか市武田1060番地 日立工 機株式会社内

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】感光体と、該感光体を帯電させる帯電器
    と、前記帯電した感光体にレ−ザ光を照射して電荷潜像
    を形成する露光装置と、該露光装置を制御する制御部
    と、前記電荷潜像を現像してトナ−画像を形成する現像
    器とを有する画像形成装置において、 前記露光装置は、前記レ−ザ光の光源として、ビ−ム径
    が変化可能な半導体レ−ザを有し、前記制御部は、階調
    画像信号の階調段数に基づいて前記照射されるレーザ光
    の記録スポット径を変化させることを特徴とする画像形
    成装置。
  2. 【請求項2】請求項1において、前記制御部は、前記階
    調画像信号の階調段数が大きくなるにつれ、前記レ−ザ
    光の副走査方向の記録スポット径を小さくするように制
    御するビ−ム径制御部と、前記階調画像信号の階調段数
    が大きくなるにつれ、1ドット当たりの前記レ−ザ光の
    発光駆動のパルス幅を小さくするように制御する露光パ
    ルス幅制御部とを有することを特徴とする画像形成装
    置。
  3. 【請求項3】感光体と、該感光体を帯電させる帯電器
    と、前記帯電した感光体にレ−ザ光を照射して電荷潜像
    を形成する露光装置と、該露光装置を制御する制御部
    と、前記電荷潜像を現像してトナ−画像を形成する現像
    器とを有する画像形成装置において、 前記露光装置は、前記レ−ザ光の光源として主走査方向
    のビ−ム径が変化可能な半導体レ−ザと、該半導体レ−
    ザのビ−ム径変化方向と直交する副走査方向のビ−ム径
    が変化可能な半導体レ−ザ増幅器とを有し、前記制御部
    は、前記階調画像信号の階調段数に基づいて、前記レ−
    ザ光の前記副走査方向及び前記主走査方向の記録スポッ
    ト径を変化させるビ−ム径制御部を有することを特徴と
    する画像形成装置。
  4. 【請求項4】請求項2または請求項3において、前記ビ
    −ム径制御部は、前記副走査方向又は前記主走査方向の
    記録スポット径のばらつきを、各走査位置毎に補正する
    補正手段を有することを特徴とする画像形成装置。
  5. 【請求項5】感光体を一様に帯電させた後、階調画像信
    号に基づいてレ−ザ露光を行う露光工程により電荷潜像
    を前記感光体上に形成し、現像工程にてトナ−画像を形
    成する画像形成方法において、 前記レ−ザ露光の光源としてビ−ム径が変化可能な半導
    体レ−ザを用い、前記階調画像信号の階調段数に基づい
    て前記レ−ザ光の記録スポット径を変化させることを特
    徴とする画像形成方法。
  6. 【請求項6】請求項5において、前記階調画像信号の階
    調段数が大きくなるにつれ、前記レ−ザ光の副走査方向
    の記録スポット径を小さくするように制御する共に、前
    記レ−ザ光の1ドット当たりの露光時間を短くするよう
    に制御することを特徴とする画像形成方法。
  7. 【請求項7】感光体を一様に帯電させた後、階調画像信
    号に基づいてレ−ザ露光を行う露光工程により電荷潜像
    を前記感光体上に形成し、現像工程にてトナ−画像を形
    成する画像形成方法において、 前記レ−ザ露光の光源として主走査方向のビ−ム径が変
    化可能な半導体レ−ザと、該半導体レ−ザのビ−ム径変
    化方向と直交する副走査方向のビ−ム径が変化可能な半
    導体レ−ザ増幅器とを用い、前記階調画像信号の階調段
    数に基づいて前記副走査方向及び前記主走査方向の記録
    スポット径を変化させることを特徴とする画像形成方
    法。
  8. 【請求項8】請求項6または請求項7において、前記露
    光工程の前記副走査方向又は前記主走査方向の記録スポ
    ット径のばらつきを、各走査位置毎に補正することを特
    徴とする画像形成方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6690486B1 (en) * 1998-07-29 2004-02-10 Minolta Co., Ltd. Image forming apparatus with excellent gradation reproduction

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US6690486B1 (en) * 1998-07-29 2004-02-10 Minolta Co., Ltd. Image forming apparatus with excellent gradation reproduction

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