JPH11102954A - パターン形成装置 - Google Patents
パターン形成装置Info
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- JPH11102954A JPH11102954A JP9281447A JP28144797A JPH11102954A JP H11102954 A JPH11102954 A JP H11102954A JP 9281447 A JP9281447 A JP 9281447A JP 28144797 A JP28144797 A JP 28144797A JP H11102954 A JPH11102954 A JP H11102954A
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- Japan
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- pattern
- pattern forming
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 個々のパターン形成装置でのテーブルの回動
角度基準データ及び角度位置ずれ基準データを前以って
実測し、この実測データに基づいて被パターン形成体の
角度位置ずれ補正を行うパターン形成装置を提供する。 【解決手段】 パターン形成装置は回転自在なテーブル
１６上に被パターン形成体４６を搭載して所定のパター
ンを形成する。テーブルの回動角度基準データと所定の
基準方向に対する該テーブルの角度位置ずれ基準データ
とが実測された後に互いに対応させられてデータ格納手
段４４に格納される。テーブル上の適当な位置に搭載さ
れた被パターン形成体の角度位置ずれデータが角度位置
ずれデータ検出手段３０Ａ、３０Ｂによって検出され
る。角度位置ずれデータに基づいて、データ格納手段か
らそれに対応した回動角度補正データが読み出され、そ
れに基づくテーブルの回動により被パターン形成体の角
度位置ずれを解消する。
角度基準データ及び角度位置ずれ基準データを前以って
実測し、この実測データに基づいて被パターン形成体の
角度位置ずれ補正を行うパターン形成装置を提供する。 【解決手段】 パターン形成装置は回転自在なテーブル
１６上に被パターン形成体４６を搭載して所定のパター
ンを形成する。テーブルの回動角度基準データと所定の
基準方向に対する該テーブルの角度位置ずれ基準データ
とが実測された後に互いに対応させられてデータ格納手
段４４に格納される。テーブル上の適当な位置に搭載さ
れた被パターン形成体の角度位置ずれデータが角度位置
ずれデータ検出手段３０Ａ、３０Ｂによって検出され
る。角度位置ずれデータに基づいて、データ格納手段か
らそれに対応した回動角度補正データが読み出され、そ
れに基づくテーブルの回動により被パターン形成体の角
度位置ずれを解消する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、被描画体
を光ビームや電子ビームでもって主走査方向に走査させ
つつ該被描画体を副走査方向に移動させて所定のパター
ンを記録する描画装置や基板の感光層にフォトマスクを
介して所定のパターンを露光して焼き付ける露光装置等
のパターン形成装置に関し、一層詳しくは被描画体や基
板等即ち被パターン形成体を搭載するための回動自在と
なったテーブルを具備するパターン形成装置に関する。
を光ビームや電子ビームでもって主走査方向に走査させ
つつ該被描画体を副走査方向に移動させて所定のパター
ンを記録する描画装置や基板の感光層にフォトマスクを
介して所定のパターンを露光して焼き付ける露光装置等
のパターン形成装置に関し、一層詳しくは被描画体や基
板等即ち被パターン形成体を搭載するための回動自在と
なったテーブルを具備するパターン形成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】上述したようなパターン形成装置のうち
の描画装置は、一般的には、適当な被パターン形成体即
ち被描画体の表面に微細なパターンを光ビームでもって
描画するために使用されるものであり、代表的な使用例
としては、フォトリソグラフの手法を用いてプリント回
路基板の製造過程での回路パターンやプラズマ表示パネ
ル（ＰＤＰ）の透明電極パターン等の描画が挙げられ
る。この場合、被描画体としては、例えばフォトマスク
用感光フィルムあるいは基板上のフォトレジスト層等が
挙げられる。また、かかる描画装置には、光ビームを生
じさせる光源としてレーザ発生器を用いるタイプのもの
や発光ダイオード（ＬＥＤ）を用いるタイプのものが知
られ、更に電子ビーム等を用いる描画装置も知られてい
る。
の描画装置は、一般的には、適当な被パターン形成体即
ち被描画体の表面に微細なパターンを光ビームでもって
描画するために使用されるものであり、代表的な使用例
としては、フォトリソグラフの手法を用いてプリント回
路基板の製造過程での回路パターンやプラズマ表示パネ
ル（ＰＤＰ）の透明電極パターン等の描画が挙げられ
る。この場合、被描画体としては、例えばフォトマスク
用感光フィルムあるいは基板上のフォトレジスト層等が
挙げられる。また、かかる描画装置には、光ビームを生
じさせる光源としてレーザ発生器を用いるタイプのもの
や発光ダイオード（ＬＥＤ）を用いるタイプのものが知
られ、更に電子ビーム等を用いる描画装置も知られてい
る。
【０００３】通常、描画装置では、同一規格の複数の被
描画体の各々には同じパターンが描画され、このとき複
数の被描画体に対して該パターンを常に同じ位置で記録
することが要求される。このような要求に応える方策と
して、描画装置の描画テーブルに対して個々の被描画体
を常に適正な所定位置に高精度で位置決めすることが考
えられるが、しかし実際には製造工程における誤差があ
り、その誤差が累積されるために被描画体を描画テーブ
ルに対して単に機械的に位置決めすることはできない。
描画体の各々には同じパターンが描画され、このとき複
数の被描画体に対して該パターンを常に同じ位置で記録
することが要求される。このような要求に応える方策と
して、描画装置の描画テーブルに対して個々の被描画体
を常に適正な所定位置に高精度で位置決めすることが考
えられるが、しかし実際には製造工程における誤差があ
り、その誤差が累積されるために被描画体を描画テーブ
ルに対して単に機械的に位置決めすることはできない。
【０００４】そこで、従来では、複数の被描画体に対し
て同じパターンを常に同じ描画し得るようにするため
に、描画装置にはそのフレーム枠に固定支持された一対
のＣＣＤカメラが設けられ、一方被描画体にはその一辺
の両コーナ部に位置決めマークが施される。被描画体が
描画装置の描画テーブル上の適当な位置に搭載される
と、一対のＣＣＤカメラにより、描画装置のフレーム枠
に対して設定された例えばＸＹ座標系に基づいて該被描
画体の位置決めマークの座標データが読み取られ、この
座標データを基に被描画体の傾きが演算される。
て同じパターンを常に同じ描画し得るようにするため
に、描画装置にはそのフレーム枠に固定支持された一対
のＣＣＤカメラが設けられ、一方被描画体にはその一辺
の両コーナ部に位置決めマークが施される。被描画体が
描画装置の描画テーブル上の適当な位置に搭載される
と、一対のＣＣＤカメラにより、描画装置のフレーム枠
に対して設定された例えばＸＹ座標系に基づいて該被描
画体の位置決めマークの座標データが読み取られ、この
座標データを基に被描画体の傾きが演算される。
【０００５】一方、描画テーブルはＸＹ座標系の座標面
に垂直となった回転軸線の回りで回動自在であり、かつ
ＸＹ座標系にＸ軸に沿って移動自在とされる。従って、
上述の座標データを基に被描画体の傾きが演算されたと
き、その傾きを解消するように描画テーブルをその回転
軸線の回りで回動させることにより、被描画体を適正な
位置に位置決めすることができる。
に垂直となった回転軸線の回りで回動自在であり、かつ
ＸＹ座標系にＸ軸に沿って移動自在とされる。従って、
上述の座標データを基に被描画体の傾きが演算されたと
き、その傾きを解消するように描画テーブルをその回転
軸線の回りで回動させることにより、被描画体を適正な
位置に位置決めすることができる。
【０００６】詳述すると、図８に示すように、描画テー
ブルに対して被描画体を適当な位置に搭載した際のその
位置決めマークのＸＹ座標をＰ1 （Ｘ1 ：Ｙ1 ）とし、
このとき被描画体の傾きθをとする。また、被描画体の
傾きθを解消するように描画テーブルを回動させた際の
位置決めマークのＸＹ座標をＰ2 （Ｘ2 ：Ｙ2 ）とする
と、以下の関係式が成立する。 Ｘ2 ＝Ｘ1 ＊ｃｏｓθ−Ｙ1 ＊ｓｉｎθ Ｙ2 ＝Ｙ1 ＊ｓｉｎθ−Ｙ1 ＊ｃｏｓθ なお、図８において、ｒはＸＹ座標の原点と座標Ｐ
1 （Ｘ1 ：Ｙ1 ）との間の距離である。
ブルに対して被描画体を適当な位置に搭載した際のその
位置決めマークのＸＹ座標をＰ1 （Ｘ1 ：Ｙ1 ）とし、
このとき被描画体の傾きθをとする。また、被描画体の
傾きθを解消するように描画テーブルを回動させた際の
位置決めマークのＸＹ座標をＰ2 （Ｘ2 ：Ｙ2 ）とする
と、以下の関係式が成立する。 Ｘ2 ＝Ｘ1 ＊ｃｏｓθ−Ｙ1 ＊ｓｉｎθ Ｙ2 ＝Ｙ1 ＊ｓｉｎθ−Ｙ1 ＊ｃｏｓθ なお、図８において、ｒはＸＹ座標の原点と座標Ｐ
1 （Ｘ1 ：Ｙ1 ）との間の距離である。
【０００７】勿論、描画テーブルに対して被描画体を搭
載する場合には、被描画体の傾きθができるだけ小さく
なるような態様で配置されるので、傾きθ自体は微小角
度であり、このため上記２つの三角関数を冪級数展開を
用いて近似すると、 ｓｉｎθ≒θ ｃｏｓθ≒１−１／２θ2 また、θが微小角度であることから、θ≒ｓ／ｒ
載する場合には、被描画体の傾きθができるだけ小さく
なるような態様で配置されるので、傾きθ自体は微小角
度であり、このため上記２つの三角関数を冪級数展開を
用いて近似すると、 ｓｉｎθ≒θ ｃｏｓθ≒１−１／２θ2 また、θが微小角度であることから、θ≒ｓ／ｒ
【０００８】従って、上記２つの式は以下の式に書き直
すことができる。 Ｘ2 ≒Ｘ1 −Ｙ1 ＊（ｓ／ｒ）−１／２Ｘ1 ＊（ｓ／ｒ）…(1) Ｙ2 ≒Ｙ1 −Ｘ1 ＊（ｓ／ｒ）−１／２Ｙ1 ＊（ｓ／ｒ）…(2)
すことができる。 Ｘ2 ≒Ｘ1 −Ｙ1 ＊（ｓ／ｒ）−１／２Ｘ1 ＊（ｓ／ｒ）…(1) Ｙ2 ≒Ｙ1 −Ｘ1 ＊（ｓ／ｒ）−１／２Ｙ1 ＊（ｓ／ｒ）…(2)
【０００９】例えば、描画装置の描画制御単位が１μm
であり、また描画装置の制御回路のＣＰＵが16ビット構
成である場合、ＸＹ座標データを２分割して32ビットと
して取り扱うことにより、ＸＹ座標データは±２31通り
の値を取り得ることになる。また、各変数の取り得る範
囲は以下の通りである。 −350 ≦Ｘ1 ≦＋350 −275 ≦Ｙ1 ≦＋275 −６≦ｓ≦＋６ ｒ＝450 ［単位: mm］
であり、また描画装置の制御回路のＣＰＵが16ビット構
成である場合、ＸＹ座標データを２分割して32ビットと
して取り扱うことにより、ＸＹ座標データは±２31通り
の値を取り得ることになる。また、各変数の取り得る範
囲は以下の通りである。 −350 ≦Ｘ1 ≦＋350 −275 ≦Ｙ1 ≦＋275 −６≦ｓ≦＋６ ｒ＝450 ［単位: mm］
【００１０】通常、乗算と除算が混在した式をマイクロ
コンピュータで演算を行うとき、演算の精度を得るため
に乗算から行われる。上述の２つの式(1) 及び(2) の第
２項目に含まれる乗算Ｙ1 ＊ｓあるいはＸ1 ＊ｓの演算
単位については、以下の関係を満たすためには１μm と
される。 Ｙ1 ＊ｓ＜２31 Ｘ1 ＊ｓ＜２31 なお、演算単位0.1 μm とした場合には、乗算Ｙ1 ＊ｓ
あるいはＸ1 ＊ｓの取り得る値は２31通り以上となる。
コンピュータで演算を行うとき、演算の精度を得るため
に乗算から行われる。上述の２つの式(1) 及び(2) の第
２項目に含まれる乗算Ｙ1 ＊ｓあるいはＸ1 ＊ｓの演算
単位については、以下の関係を満たすためには１μm と
される。 Ｙ1 ＊ｓ＜２31 Ｘ1 ＊ｓ＜２31 なお、演算単位0.1 μm とした場合には、乗算Ｙ1 ＊ｓ
あるいはＸ1 ＊ｓの取り得る値は２31通り以上となる。
【００１１】要するに、演算単位が１μm であるという
ことは、その段階でミクロンオーダーの演算誤差が発生
し、このため被描画体の高精度位置決めが得られないと
いう結果になる。仮に被描画体の位置決めマークのＸＹ
座標データのビット数を増大させることにより、被描画
体の高精度位置決めが得られるとしても、その場合には
演算時間も増大し、迅速な高精度位置決めが行えないと
いうことになる。
ことは、その段階でミクロンオーダーの演算誤差が発生
し、このため被描画体の高精度位置決めが得られないと
いう結果になる。仮に被描画体の位置決めマークのＸＹ
座標データのビット数を増大させることにより、被描画
体の高精度位置決めが得られるとしても、その場合には
演算時間も増大し、迅速な高精度位置決めが行えないと
いうことになる。
【００１２】更に、従来の被描画体の角度位置決めにつ
いては、描画テーブル上に任意の基準線を設定した場合
に該描画テーブルの回動による基準線の傾き角度と該描
画テーブルの回動角度とは互いに比例関係にあるという
仮定に基づいているが、しかし実際には正確な比例関係
が得られるわけでなく多少の誤差が含まれているので、
たとえ位置決めマークのＸＹ座標データのビット数を上
述したように増大させたとしても、必ずしも被描画体の
高精度位置決めが保証される訳ではない。
いては、描画テーブル上に任意の基準線を設定した場合
に該描画テーブルの回動による基準線の傾き角度と該描
画テーブルの回動角度とは互いに比例関係にあるという
仮定に基づいているが、しかし実際には正確な比例関係
が得られるわけでなく多少の誤差が含まれているので、
たとえ位置決めマークのＸＹ座標データのビット数を上
述したように増大させたとしても、必ずしも被描画体の
高精度位置決めが保証される訳ではない。
【００１３】なお、同様なことは、基板の感光層にフォ
トマスクを介して所定のパターンを露光して焼き付ける
露光装置等のパターン形成装置についても言える。
トマスクを介して所定のパターンを露光して焼き付ける
露光装置等のパターン形成装置についても言える。
【００１４】
【発明が解決しようとす課題】従って、本発明の目的
は、個々のパターン形成装置でのテーブルの回動角度デ
ータ及び角度位置ずれデータを前以って実測し、これら
実測データを互いに対応させてデータ格納手段に格納
し、テーブル上への被パターン形成体の搭載時にその角
度位置ずれデータを検出し、この角度位置ずれデータに
基づいて該実測データから該当回動角度データを読み出
し、その該当回動角度データに基づいてテーブルを回動
させて被パターン形成体の角度位置ずれを補正するよう
に構成されたパターン形成装置を提供することである。
は、個々のパターン形成装置でのテーブルの回動角度デ
ータ及び角度位置ずれデータを前以って実測し、これら
実測データを互いに対応させてデータ格納手段に格納
し、テーブル上への被パターン形成体の搭載時にその角
度位置ずれデータを検出し、この角度位置ずれデータに
基づいて該実測データから該当回動角度データを読み出
し、その該当回動角度データに基づいてテーブルを回動
させて被パターン形成体の角度位置ずれを補正するよう
に構成されたパターン形成装置を提供することである。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明によるパターン形
成装置は回動自在となったテーブル上に被パターン形成
体を搭載して所定のパターンを形成するものであって、
テーブルの回動角度基準データと所定の基準方向に対す
る該テーブルの角度位置ずれ基準データとを実測してそ
れら実測データを互いに対応させて格納するデータ格納
手段と、テーブル上の適当な位置に搭載された被パター
ン形成体の角度位置ずれデータを検出する角度位置ずれ
データ検出手段と、この角度位置ずれデータ検出手段で
検出された角度位置ずれデータに基づいて、データ格納
手段からそれに対応した回動角度補正データを読み出す
データ読出し手段と、このデータ読出し手段によって読
み出された回動角度データに基づいて、テーブルを回動
させて被パターン形成体の角度位置ずれを解消させる角
度位置ずれ補正手段とを具備して成る。
成装置は回動自在となったテーブル上に被パターン形成
体を搭載して所定のパターンを形成するものであって、
テーブルの回動角度基準データと所定の基準方向に対す
る該テーブルの角度位置ずれ基準データとを実測してそ
れら実測データを互いに対応させて格納するデータ格納
手段と、テーブル上の適当な位置に搭載された被パター
ン形成体の角度位置ずれデータを検出する角度位置ずれ
データ検出手段と、この角度位置ずれデータ検出手段で
検出された角度位置ずれデータに基づいて、データ格納
手段からそれに対応した回動角度補正データを読み出す
データ読出し手段と、このデータ読出し手段によって読
み出された回動角度データに基づいて、テーブルを回動
させて被パターン形成体の角度位置ずれを解消させる角
度位置ずれ補正手段とを具備して成る。
【００１６】本発明によるパターン形成装置にあって
は、データ格納手段はルックアップテーブルであっても
よいし、あるいは一次元マップメモリであってもよい。
は、データ格納手段はルックアップテーブルであっても
よいし、あるいは一次元マップメモリであってもよい。
【００１７】
【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して、本発
明によるパターン形成装置の一実施形態について説明す
る。なお、この実施形態は被パターン形成体としての被
描画体を光ビームや電子ビームでもって主走査方向に走
査させつつ該被描画体を副走査方向に移動させて所定の
パターンを記録する描画装置に向けられているものであ
る。
明によるパターン形成装置の一実施形態について説明す
る。なお、この実施形態は被パターン形成体としての被
描画体を光ビームや電子ビームでもって主走査方向に走
査させつつ該被描画体を副走査方向に移動させて所定の
パターンを記録する描画装置に向けられているものであ
る。
【００１８】図１及び図２を参照すると、本発明による
描画装置の外観が部分的に図示され、同図から明らかな
ように、描画装置は基台１０を具備し、この基台１０上
には一対のガイドレール１２が副走査方向に沿って敷設
される。一対のガイドレール１２上にはＸテーブル１４
が搭載され、このＸテーブル１４は一対のガイドレール
１２に沿って副走査方向に案内移動させられるようにな
っている。
描画装置の外観が部分的に図示され、同図から明らかな
ように、描画装置は基台１０を具備し、この基台１０上
には一対のガイドレール１２が副走査方向に沿って敷設
される。一対のガイドレール１２上にはＸテーブル１４
が搭載され、このＸテーブル１４は一対のガイドレール
１２に沿って副走査方向に案内移動させられるようにな
っている。
【００１９】Ｘテーブル１４上には描画テーブル１６が
回動自在に設けられる。即ち、描画テーブル１６の下面
の中心からは回動軸１８が延び、この回動軸１８はＸテ
ーブル１４に形成したボア内に適当な軸受（図示されな
い）を介して回動自在に収容される。また、Ｘテーブル
１４と描画テーブル１６との間には一対の円弧状ベアリ
ング部材２０が介在させられ、円弧状ベアリング部材２
０の各々はＸテーブル１４及び描画テーブル１６のそれ
ぞれに固着された半部分２０Ａ及び２０Ｂから成る。各
円弧状ベアリング部材２０の半部分２０Ａ及び２０Ｂは
互いに摺動係合しつつ描画テーブル１６を水平位置に支
えている。
回動自在に設けられる。即ち、描画テーブル１６の下面
の中心からは回動軸１８が延び、この回動軸１８はＸテ
ーブル１４に形成したボア内に適当な軸受（図示されな
い）を介して回動自在に収容される。また、Ｘテーブル
１４と描画テーブル１６との間には一対の円弧状ベアリ
ング部材２０が介在させられ、円弧状ベアリング部材２
０の各々はＸテーブル１４及び描画テーブル１６のそれ
ぞれに固着された半部分２０Ａ及び２０Ｂから成る。各
円弧状ベアリング部材２０の半部分２０Ａ及び２０Ｂは
互いに摺動係合しつつ描画テーブル１６を水平位置に支
えている。
【００２０】図１及び図２に示すように、Ｘテーブル１
４の一側辺からは支持ブラケット２２が固着され、この
支持ブラケット２２にはθ軸モータ２４が搭載支持され
る。θ軸モータ２４のモータ本体からは出力シャフト２
４Ａが突出し、θ軸モータ２４の駆動時、出力シャフト
２４Ａは回転しつつそのモータ本体に対して伸縮するよ
うになっている。即ち、θ軸モータ２４が一方向に駆動
されると、出力シャフト２４Ａはモータ本体から引き出
されるように回転させられ、θ軸モータ２４が反対方向
に駆動されると、出力シャフト２４Ａはモータ本体内に
引き込まれるように回転させられる。
４の一側辺からは支持ブラケット２２が固着され、この
支持ブラケット２２にはθ軸モータ２４が搭載支持され
る。θ軸モータ２４のモータ本体からは出力シャフト２
４Ａが突出し、θ軸モータ２４の駆動時、出力シャフト
２４Ａは回転しつつそのモータ本体に対して伸縮するよ
うになっている。即ち、θ軸モータ２４が一方向に駆動
されると、出力シャフト２４Ａはモータ本体から引き出
されるように回転させられ、θ軸モータ２４が反対方向
に駆動されると、出力シャフト２４Ａはモータ本体内に
引き込まれるように回転させられる。
【００２１】θ軸モータ２４の出力シャフト２４Ａの先
端面は球面として形成され、その先端面は描画テーブル
１６から突出支持された衝合板２６に衝合させられる。
描画テーブル１６は適当な弾性偏倚手段（図示されな
い）によって常に反時計方向（図２）に弾性的に回動偏
倚させられるが、しかし描画テーブル１６はθ軸モータ
２４の出力シャフト２４Ａの先端面に対する衝合板２６
の衝合のために所定位置に保持される。なお、弾性偏倚
手段は描画テーブル１６の回動軸１８を収容すべくＸテ
ーブル１４に形成されたボア内に収納されてもよいし、
それらテーブル１４及び１６間で回動軸１８の回りに設
けてもよい。
端面は球面として形成され、その先端面は描画テーブル
１６から突出支持された衝合板２６に衝合させられる。
描画テーブル１６は適当な弾性偏倚手段（図示されな
い）によって常に反時計方向（図２）に弾性的に回動偏
倚させられるが、しかし描画テーブル１６はθ軸モータ
２４の出力シャフト２４Ａの先端面に対する衝合板２６
の衝合のために所定位置に保持される。なお、弾性偏倚
手段は描画テーブル１６の回動軸１８を収容すべくＸテ
ーブル１４に形成されたボア内に収納されてもよいし、
それらテーブル１４及び１６間で回動軸１８の回りに設
けてもよい。
【００２２】要するに、出力シャフト２４Ａがモータ本
体から引き出されるように回転させられると、描画テー
ブル１６は上述の弾性偏倚手段の弾性力に抗して時計方
向（図２）に回動させられ、θ軸モータ２４の駆動停止
により、描画テーブル１６はその回動位置に保持され
る。また、出力シャフト２４Ａがモータ本体内に引き込
まれるように回転させられると、描画テーブル１６は上
述の弾性偏倚手段の弾性力によって反時計方向（図２）
に回動させられ、θ軸モータ２４の駆動停止により、描
画テーブル１６はその回動位置に保持される。
体から引き出されるように回転させられると、描画テー
ブル１６は上述の弾性偏倚手段の弾性力に抗して時計方
向（図２）に回動させられ、θ軸モータ２４の駆動停止
により、描画テーブル１６はその回動位置に保持され
る。また、出力シャフト２４Ａがモータ本体内に引き込
まれるように回転させられると、描画テーブル１６は上
述の弾性偏倚手段の弾性力によって反時計方向（図２）
に回動させられ、θ軸モータ２４の駆動停止により、描
画テーブル１６はその回動位置に保持される。
【００２３】基台１０上には描画装置のフレーム枠２８
が設置され、本実施形態では、フレーム枠２８にはレー
ザビーム走査光学系（図示されない）が搭載され、この
レーザビーム走査光学系により、図１に示すように、レ
ーザビームＬＢが主走査方向（即ち、一対のガイドレー
ル１２に対して直角な方向）に沿って偏向させられる。
また、フレーム枠２８には図１及び図２に示すように一
対のＣＣＤカメラ３０Ａ及び３０Ｂが支持され、この一
対のＣＣＤカメラ３０Ａ及び３０Ｂは描画テーブル１６
上の適当な位置に搭載された被描画体の位置決めマーク
の位置を検出するために使用される。
が設置され、本実施形態では、フレーム枠２８にはレー
ザビーム走査光学系（図示されない）が搭載され、この
レーザビーム走査光学系により、図１に示すように、レ
ーザビームＬＢが主走査方向（即ち、一対のガイドレー
ル１２に対して直角な方向）に沿って偏向させられる。
また、フレーム枠２８には図１及び図２に示すように一
対のＣＣＤカメラ３０Ａ及び３０Ｂが支持され、この一
対のＣＣＤカメラ３０Ａ及び３０Ｂは描画テーブル１６
上の適当な位置に搭載された被描画体の位置決めマーク
の位置を検出するために使用される。
【００２４】図３を参照すると、図１及び図２に示した
描画装置がブロック図として示され、同図から明らかな
ように、描画装置にはシステムコントロール回路３２が
設けられ、このシステムコントロール回路３２はマイク
ロコンピュータから構成される。即ち、システムコント
ロール回路３２は中央処理ユニット（ＣＰＵ）から成
り、このＣＰＵには、種々のルーチンを実行するための
プログラム、換算テーブル及び常数等を格納する読出し
専用メモリ（ＲＯＭ）３２Ａと、データ等を一時的に格
納する書込み／読出し自在なメモリ（ＲＡＭ）３２Ｂ
と、電気的に消去可能なメモリ（ＥＥＰＲＯＭ）３２Ｃ
と、ＬＡＮ(Local Aerea Network) インターフェース回
路（Ｉ／Ｆ）３２Ｄとがバスを介して接続される。
描画装置がブロック図として示され、同図から明らかな
ように、描画装置にはシステムコントロール回路３２が
設けられ、このシステムコントロール回路３２はマイク
ロコンピュータから構成される。即ち、システムコント
ロール回路３２は中央処理ユニット（ＣＰＵ）から成
り、このＣＰＵには、種々のルーチンを実行するための
プログラム、換算テーブル及び常数等を格納する読出し
専用メモリ（ＲＯＭ）３２Ａと、データ等を一時的に格
納する書込み／読出し自在なメモリ（ＲＡＭ）３２Ｂ
と、電気的に消去可能なメモリ（ＥＥＰＲＯＭ）３２Ｃ
と、ＬＡＮ(Local Aerea Network) インターフェース回
路（Ｉ／Ｆ）３２Ｄとがバスを介して接続される。
【００２５】ＥＥＰＲＯＭ３２Ｃのメモリ領域の一部は
ルックアップテーブル（ＬＵＴ）４４として使用され、
このＬＵＴ４４には描画作動開始前に描画テーブル１６
上の被描画体を主走査方向に対して適正に角度位置決め
するのに必要とされる角度補正データが格納される。ま
た、描画装置はＩ／Ｆ３２Ｄを介してエンジニアリング
ワークステーション（ＥＷＳ）に接続され、そこから描
画ベクタデータ及び描画作動指令を受けるようになって
いる。
ルックアップテーブル（ＬＵＴ）４４として使用され、
このＬＵＴ４４には描画作動開始前に描画テーブル１６
上の被描画体を主走査方向に対して適正に角度位置決め
するのに必要とされる角度補正データが格納される。ま
た、描画装置はＩ／Ｆ３２Ｄを介してエンジニアリング
ワークステーション（ＥＷＳ）に接続され、そこから描
画ベクタデータ及び描画作動指令を受けるようになって
いる。
【００２６】図３に示すように、一対のＣＣＤカメラ３
０Ａ及び３０Ｂは画像処理回路３４を介してシステムコ
ントロール回路３２に接続される。一対のＣＣＤカメラ
３０Ａ及び３０Ｂがその視野内に被描画体の位置決めマ
ークを捉えたとき、そのビデオデータが画像処理回路３
４で処理された後にシステムコントロール回路３２に取
り込まれ、そこで位置決めマークの位置が後述するよう
な座標系の座標データとして演算される。
０Ａ及び３０Ｂは画像処理回路３４を介してシステムコ
ントロール回路３２に接続される。一対のＣＣＤカメラ
３０Ａ及び３０Ｂがその視野内に被描画体の位置決めマ
ークを捉えたとき、そのビデオデータが画像処理回路３
４で処理された後にシステムコントロール回路３２に取
り込まれ、そこで位置決めマークの位置が後述するよう
な座標系の座標データとして演算される。
【００２７】また、図３に示すように、θ軸モータ２４
はθ軸モータ駆動回路３６を介してシステムコントロー
ル回路３２に接続される。θ軸モータ駆動回路３６から
はθ軸モータ２４に対して駆動パルスが出力され、この
駆動パルスに基づいてθ軸モータ２４が駆動させられ
て、その出力シャフト２４Ａが適宜伸縮させられる。θ
軸モータ駆動回路３６からθ軸モータ２４への駆動パル
スの出力についてはシステムコントロール回路３２によ
って適宜制御される。
はθ軸モータ駆動回路３６を介してシステムコントロー
ル回路３２に接続される。θ軸モータ駆動回路３６から
はθ軸モータ２４に対して駆動パルスが出力され、この
駆動パルスに基づいてθ軸モータ２４が駆動させられ
て、その出力シャフト２４Ａが適宜伸縮させられる。θ
軸モータ駆動回路３６からθ軸モータ２４への駆動パル
スの出力についてはシステムコントロール回路３２によ
って適宜制御される。
【００２８】図１及び図２には図示されていないが、描
画装置にはＸ軸モータ３８が設けられ、このＸ軸モータ
３８はＸテーブル１４を副走査方向に沿って駆動するた
めに用いられるものである。Ｘ軸モータ３８は例えばス
テッピングモータあるいはサーボモータから成り、Ｘ軸
モータ駆動回路４０を介してシステムコントロール回路
３２に接続される。Ｘ軸モータ駆動回路４０からはＸ軸
モータ３８に対して駆動パルスが出力され、この駆動パ
ルスに基づいてＸ軸モータ３８が駆動させられて、Ｘテ
ーブル１４が一対のガイドレール１２に沿って移動させ
られる。Ｘ軸モータ駆動回路４０からＸ軸モータ３８へ
の駆動パルスの出力についてはシステムコントロール回
路３２によって適宜制御される。
画装置にはＸ軸モータ３８が設けられ、このＸ軸モータ
３８はＸテーブル１４を副走査方向に沿って駆動するた
めに用いられるものである。Ｘ軸モータ３８は例えばス
テッピングモータあるいはサーボモータから成り、Ｘ軸
モータ駆動回路４０を介してシステムコントロール回路
３２に接続される。Ｘ軸モータ駆動回路４０からはＸ軸
モータ３８に対して駆動パルスが出力され、この駆動パ
ルスに基づいてＸ軸モータ３８が駆動させられて、Ｘテ
ーブル１４が一対のガイドレール１２に沿って移動させ
られる。Ｘ軸モータ駆動回路４０からＸ軸モータ３８へ
の駆動パルスの出力についてはシステムコントロール回
路３２によって適宜制御される。
【００２９】図３に示すように、描画装置には描画制御
回路４２が設けられ、この描画制御回路４２はシステム
コントロール回路３２によって制御される。描画制御回
路４４には上述のＥＷＳから送られてきた描画ベクタデ
ータを描画ラスタデータに変換するラスタ変換回路が含
まれる。描画作動時、システムコントロール回路３２か
ら描画制御回路４２に対して所定周波数のクロックパル
スが出力され、走査レーザビームＬＢ（図１）はそのク
ロックパルスに従って描画ラスタデータに基づいて変調
させられ、これにより描画テーブル１６上の被描画体に
は該ラスタデータに基づく所定のパターンが記録される
ことになる。
回路４２が設けられ、この描画制御回路４２はシステム
コントロール回路３２によって制御される。描画制御回
路４４には上述のＥＷＳから送られてきた描画ベクタデ
ータを描画ラスタデータに変換するラスタ変換回路が含
まれる。描画作動時、システムコントロール回路３２か
ら描画制御回路４２に対して所定周波数のクロックパル
スが出力され、走査レーザビームＬＢ（図１）はそのク
ロックパルスに従って描画ラスタデータに基づいて変調
させられ、これにより描画テーブル１６上の被描画体に
は該ラスタデータに基づく所定のパターンが記録される
ことになる。
【００３０】本実施形態にあっては、後で詳しく説明す
るように、被描画体が描画テーブル１６上の適当な位置
に搭載された後、一対のＣＣＤカメラ３０Ａ及び３０Ｂ
によって得られた被描画体の位置決めマークの座標デー
タに基づいて、主走査方向に対する該被描画体の角度位
置ずれデータが求められ、その角度位置ずれデータをＬ
ＵＴ４４に入力することにより、そのＬＵＴ４４から被
描画体の角度位置ずれを補正するための角度補正データ
が求められ、その角度補正データに基づいて描画テーブ
ル１６を回動させ、これにより該被描画体が主走査方向
に対して適正に角度位置決めされることになる。
るように、被描画体が描画テーブル１６上の適当な位置
に搭載された後、一対のＣＣＤカメラ３０Ａ及び３０Ｂ
によって得られた被描画体の位置決めマークの座標デー
タに基づいて、主走査方向に対する該被描画体の角度位
置ずれデータが求められ、その角度位置ずれデータをＬ
ＵＴ４４に入力することにより、そのＬＵＴ４４から被
描画体の角度位置ずれを補正するための角度補正データ
が求められ、その角度補正データに基づいて描画テーブ
ル１６を回動させ、これにより該被描画体が主走査方向
に対して適正に角度位置決めされることになる。
【００３１】次に、図４を参照して、ＬＵＴ４４に格納
されるべき角度位置ずれデータ及び角度補正データの作
成について説明する。
されるべき角度位置ずれデータ及び角度補正データの作
成について説明する。
【００３２】図４には描画テーブル１６が回動軸１８の
回動軸線（θ軸）に対する回動原点位置で示され、この
描画テーブル１６上には一対の位置決めマークＭＰ及び
ＭＱが仮に付される。描画テーブル１６が図４に示すよ
うな回動原点位置にあるとき、一対の位置決めマークＭ
Ｐ及びＭＱ間の線分は主走査方向に対して平行となって
いる。
回動軸線（θ軸）に対する回動原点位置で示され、この
描画テーブル１６上には一対の位置決めマークＭＰ及び
ＭＱが仮に付される。描画テーブル１６が図４に示すよ
うな回動原点位置にあるとき、一対の位置決めマークＭ
Ｐ及びＭＱ間の線分は主走査方向に対して平行となって
いる。
【００３３】また、図４に示すように、ＸＹ座標系が一
対のＣＣＤカメラ３０Ａ及び３０Ｂを固定支持するフレ
ーム枠２８に対して設定され、描画テーブル１６が上述
の回動原点位置にあるとき、一対のＣＣＤカメラ３０Ａ
及び３０Ｂによって得られる一対の位置決めマークＭＰ
及びＭＱのビデオデータに基づいて、該一対の位置決め
マークＭＰ及びＭＱのそれぞれのＸＹ座標データを求め
る。このとき位置決めマークＭＰの座標データについて
はＰ0 （ＰＸ0 ：ＰＹ0 ）、位置決めマークＭＱの座標
データについてはＱ0 （ＱＸ0 ：ＱＹ0 ）とし、以下の
演算を行う。 ΔＸ0 ＝ＱＸ0 −ＰＸ0 ΔＹ0 ＝ＱＹ0 −ＰＹ0 一方、描画テーブル１６が上述の回動原点位置にあると
き、描画テーブル１６の回動角度についてはθ0 （＝
０）とする。
対のＣＣＤカメラ３０Ａ及び３０Ｂを固定支持するフレ
ーム枠２８に対して設定され、描画テーブル１６が上述
の回動原点位置にあるとき、一対のＣＣＤカメラ３０Ａ
及び３０Ｂによって得られる一対の位置決めマークＭＰ
及びＭＱのビデオデータに基づいて、該一対の位置決め
マークＭＰ及びＭＱのそれぞれのＸＹ座標データを求め
る。このとき位置決めマークＭＰの座標データについて
はＰ0 （ＰＸ0 ：ＰＹ0 ）、位置決めマークＭＱの座標
データについてはＱ0 （ＱＸ0 ：ＱＹ0 ）とし、以下の
演算を行う。 ΔＸ0 ＝ＱＸ0 −ＰＸ0 ΔＹ0 ＝ＱＹ0 −ＰＹ0 一方、描画テーブル１６が上述の回動原点位置にあると
き、描画テーブル１６の回動角度についてはθ0 （＝
０）とする。
【００３４】次いで、θ軸モータ２４を駆動して描画テ
ーブル１６を回動原点位置から角度＋θ+1まで回動させ
た後、一対の位置決めマークＭＰ及びＭＱのそれぞれの
ＸＹ座標データを上述の場合と同様な態様で求める。こ
のとき位置決めマークＭＰの座標データについてはＰ+1
（ＰＸ+1：ＰＹ+1）、位置決めマークＭＱの座標データ
についてはＱ+1（ＱＸ+1：ＱＹ+1）とし、以下の演算を
行う。 ΔＸ+1＝ＱＸ+1−ＰＸ+1 ΔＹ+1＝ＱＹ+1−ＰＹ+1
ーブル１６を回動原点位置から角度＋θ+1まで回動させ
た後、一対の位置決めマークＭＰ及びＭＱのそれぞれの
ＸＹ座標データを上述の場合と同様な態様で求める。こ
のとき位置決めマークＭＰの座標データについてはＰ+1
（ＰＸ+1：ＰＹ+1）、位置決めマークＭＱの座標データ
についてはＱ+1（ＱＸ+1：ＱＹ+1）とし、以下の演算を
行う。 ΔＸ+1＝ＱＸ+1−ＰＸ+1 ΔＹ+1＝ＱＹ+1−ＰＹ+1
【００３５】続いて、θ軸モータ２４を駆動して描画テ
ーブル１６を回動原点位置から更に角度＋θ+2まで回動
させた後、一対の位置決めマークＭＰ及びＭＱのそれぞ
れのＸＹ座標データを上述の場合と同様な態様で求め
る。このとき位置決めマークＭＰの座標データについて
はＰ+2（ＰＸ+2：ＰＹ+2）、位置決めマークＭＱの座標
データについてはＱ+2（ＱＸ+2：ＱＹ+2）とし、以下の
演算を行う。 ΔＸ+2＝ＱＸ+2−ＰＸ+2 ΔＹ+2＝ＱＹ+2−ＰＹ+2
ーブル１６を回動原点位置から更に角度＋θ+2まで回動
させた後、一対の位置決めマークＭＰ及びＭＱのそれぞ
れのＸＹ座標データを上述の場合と同様な態様で求め
る。このとき位置決めマークＭＰの座標データについて
はＰ+2（ＰＸ+2：ＰＹ+2）、位置決めマークＭＱの座標
データについてはＱ+2（ＱＸ+2：ＱＹ+2）とし、以下の
演算を行う。 ΔＸ+2＝ＱＸ+2−ＰＸ+2 ΔＹ+2＝ＱＹ+2−ＰＹ+2
【００３６】同様な作業を順次繰り返し、θ軸モータ２
４を駆動して描画テーブル１６を回動原点位置から角度
＋θ+nまで回動させて以下の演算結果を得る。 ΔＸ+n＝ＱＸ+n−ＰＸ+n ΔＹ+n＝ＱＹ+n−ＰＹ+n
４を駆動して描画テーブル１６を回動原点位置から角度
＋θ+nまで回動させて以下の演算結果を得る。 ΔＸ+n＝ＱＸ+n−ＰＸ+n ΔＹ+n＝ＱＹ+n−ＰＹ+n
【００３７】次に、θ軸モータ２４を反対方向に駆動し
て描画テーブル１６を回動原点位置から角度−θ-1まで
回動させた後、一対の位置決めマークＭＰ及びＭＱのそ
れぞれのＸＹ座標データを上述の場合と同様な態様で求
める。このとき位置決めマークＭＰの座標データについ
てはＰ-1（ＰＸ-1：ＰＹ-1）、位置決めマークＭＱの座
標データについてはＱ-1（ＱＸ-1：ＱＹ-1）とし、以下
の演算を行う。 ΔＸ-1＝ＱＸ-1−ＰＸ-1 ΔＹ-1＝ＱＹ-1−ＰＹ-1
て描画テーブル１６を回動原点位置から角度−θ-1まで
回動させた後、一対の位置決めマークＭＰ及びＭＱのそ
れぞれのＸＹ座標データを上述の場合と同様な態様で求
める。このとき位置決めマークＭＰの座標データについ
てはＰ-1（ＰＸ-1：ＰＹ-1）、位置決めマークＭＱの座
標データについてはＱ-1（ＱＸ-1：ＱＹ-1）とし、以下
の演算を行う。 ΔＸ-1＝ＱＸ-1−ＰＸ-1 ΔＹ-1＝ＱＹ-1−ＰＹ-1
【００３８】続いて、θ軸モータ２４を駆動して描画テ
ーブル１６を回動原点位置から更に角度−θ-2まで回動
させた後、一対の位置決めマークＭＰ及びＭＱのそれぞ
れのＸＹ座標データを上述の場合と同様な態様で求め
る。このとき位置決めマークＭＰの座標データについて
はＰ-2（ＰＸ-2：ＰＹ-2）、位置決めマークＭＱの座標
データについてはＱ-2（ＱＸ-2：ＱＹ-2）とし、以下の
演算を行う。 ΔＸ-2＝ＱＸ-2−ＰＸ-2 ΔＹ-2＝ＱＹ-2−ＰＹ-2
ーブル１６を回動原点位置から更に角度−θ-2まで回動
させた後、一対の位置決めマークＭＰ及びＭＱのそれぞ
れのＸＹ座標データを上述の場合と同様な態様で求め
る。このとき位置決めマークＭＰの座標データについて
はＰ-2（ＰＸ-2：ＰＹ-2）、位置決めマークＭＱの座標
データについてはＱ-2（ＱＸ-2：ＱＹ-2）とし、以下の
演算を行う。 ΔＸ-2＝ＱＸ-2−ＰＸ-2 ΔＹ-2＝ＱＹ-2−ＰＹ-2
【００３９】同様な作業を繰り返し、θ軸モータ２４を
駆動して描画テーブル１６を回動原点位置から更に角度
−θ-nまで回動させて以下の演算結果を得る。 ΔＸ-n＝ＱＸ-n−ＰＸ-n ΔＹ-n＝ＱＹ-n−ＰＹ-n
駆動して描画テーブル１６を回動原点位置から更に角度
−θ-nまで回動させて以下の演算結果を得る。 ΔＸ-n＝ＱＸ-n−ＰＸ-n ΔＹ-n＝ＱＹ-n−ＰＹ-n
【００４０】ここで、上述したような演算結果から得ら
れる実測データΔＸn 及びΔＹn に基づいて角度位置ず
れデータＥn を以下の態様で作成する。
れる実測データΔＸn 及びΔＹn に基づいて角度位置ず
れデータＥn を以下の態様で作成する。
【００４１】即ち、先ず、図５に示すように、描画テー
ブル１６が回動原点位置にあるときの一対の位置決めマ
ークＭＰ及びＭＱの間の距離、即ちＰ0 （ＰＸ0 ：ＰＹ
0 ）とＱ0 （ＱＸ0 ：ＱＹ0 ）との間の距離をＬ0 と
し、次いで描画テーブル１６を角度θn だけ回動させ
る。このときのＰ0 及びＱ0 間の距離をＸ成分（Ｅ
Ｘn ）及びＹ成分（ＥＹn ）に分けると、以下のような
式が得られる。 ＥＸn ＝ΔＸn −ΔＸ0 ＥＹn ＝Ｌ0 ＋ΔＹn −ΔＹ0 以上の角度位置ずれ基準データＥn は以下のように定義
される。 Ｅn ＝ＥＸn ／ＥＹn ＝（ΔＸn −ΔＸ0 ）／（Ｌ0 ＋ΔＹn −ΔＹ0 ）
ブル１６が回動原点位置にあるときの一対の位置決めマ
ークＭＰ及びＭＱの間の距離、即ちＰ0 （ＰＸ0 ：ＰＹ
0 ）とＱ0 （ＱＸ0 ：ＱＹ0 ）との間の距離をＬ0 と
し、次いで描画テーブル１６を角度θn だけ回動させ
る。このときのＰ0 及びＱ0 間の距離をＸ成分（Ｅ
Ｘn ）及びＹ成分（ＥＹn ）に分けると、以下のような
式が得られる。 ＥＸn ＝ΔＸn −ΔＸ0 ＥＹn ＝Ｌ0 ＋ΔＹn −ΔＹ0 以上の角度位置ずれ基準データＥn は以下のように定義
される。 Ｅn ＝ＥＸn ／ＥＹn ＝（ΔＸn −ΔＸ0 ）／（Ｌ0 ＋ΔＹn −ΔＹ0 ）
【００４２】描画テーブル１６の回動原点位置に対する
個々の回動位置について角度位置ずれ基準データＥn の
演算をすべて行う。これら角度位置ずれ基準データＥn
に対応した回動角度データθn が角度補正基準データと
なる。角度位置ずれ基準データＥn と角度補正基準デー
タθn との間には以下の表１に示すような関係が得られ
る。
個々の回動位置について角度位置ずれ基準データＥn の
演算をすべて行う。これら角度位置ずれ基準データＥn
に対応した回動角度データθn が角度補正基準データと
なる。角度位置ずれ基準データＥn と角度補正基準デー
タθn との間には以下の表１に示すような関係が得られ
る。
【００４３】
【表１】
【００４４】要するに、ＬＵＴ４４には角度補正基準デ
ータθn が角度位置ずれ基準データＥn と共に表１に示
すような対応関係で格納される。
ータθn が角度位置ずれ基準データＥn と共に表１に示
すような対応関係で格納される。
【００４５】図６を参照すると、システムコントロール
回路３２で実行される角度位置ずれ補正ルーチンのフロ
ーチャートが示されている。なお、角度位置ずれ補正ル
ーチンは描画装置の描画作動メインルーチンのサブルー
チンとして実行されるものである。また、図７を参照す
ると、被描画体４６が描画テーブル１６上の適当な位置
に搭載された被描画体が参照符号４６で示され、この被
描画体４６には上述した一対の位置決めマークＭＰ及び
ＭＱに対応した一対の位置決めマークｍｐ及びｍｑが付
されている。被描画体４６は描画テーブル１６上の適当
な位置に搭載されて位置決めされるが、しかしその位置
決め精度はサブミクロンオーダの描画精度に比べれば粗
いものとなっている。従って、一対の位置決めマークｍ
ｐ及びｍｑ間の線分は主走査方向に対して必ずしも平行
とはならない。
回路３２で実行される角度位置ずれ補正ルーチンのフロ
ーチャートが示されている。なお、角度位置ずれ補正ル
ーチンは描画装置の描画作動メインルーチンのサブルー
チンとして実行されるものである。また、図７を参照す
ると、被描画体４６が描画テーブル１６上の適当な位置
に搭載された被描画体が参照符号４６で示され、この被
描画体４６には上述した一対の位置決めマークＭＰ及び
ＭＱに対応した一対の位置決めマークｍｐ及びｍｑが付
されている。被描画体４６は描画テーブル１６上の適当
な位置に搭載されて位置決めされるが、しかしその位置
決め精度はサブミクロンオーダの描画精度に比べれば粗
いものとなっている。従って、一対の位置決めマークｍ
ｐ及びｍｑ間の線分は主走査方向に対して必ずしも平行
とはならない。
【００４６】ステップ６０１では、一対のＣＣＤカメラ
３０Ａ及び３０Ｂによって得られる一対の位置決めマー
クｍｐ及びｍｑのビデオデータが取り込まれる。次い
で、ステップ６０２では、かかるビデオデータに基づい
て、一対の位置決めマークｍｐ及びｍｑのそれぞれのＸ
Ｙ座標データｐa （ｐｘa ：ｐｙa ）及びＸＹ座標デー
タｑa （ｑｘa ：ｑｙa ）が求められる。
３０Ａ及び３０Ｂによって得られる一対の位置決めマー
クｍｐ及びｍｑのビデオデータが取り込まれる。次い
で、ステップ６０２では、かかるビデオデータに基づい
て、一対の位置決めマークｍｐ及びｍｑのそれぞれのＸ
Ｙ座標データｐa （ｐｘa ：ｐｙa ）及びＸＹ座標デー
タｑa （ｑｘa ：ｑｙa ）が求められる。
【００４７】ステップ６０３では、ＸＹ座標データｐa
（ｐｘa ：ｐｙa ）及びＸＹ座標データｑa （ｑｘa ：
ｑｙa ）に基づいて、以下の演算を行って角度位置ずれ
データΔｘa 及びΔｙa を求める。 Δｘa ←ｑｘa −ｐｘa Δｙa ←ｑｙa −ｐｙa
（ｐｘa ：ｐｙa ）及びＸＹ座標データｑa （ｑｘa ：
ｑｙa ）に基づいて、以下の演算を行って角度位置ずれ
データΔｘa 及びΔｙa を求める。 Δｘa ←ｑｘa −ｐｘa Δｙa ←ｑｙa −ｐｙa
【００４８】続いて、ステップ６０４では、実測データ
Δｘa 及びΔｙa に基づいて、上述の角度位置ずれ基準
データ（Ｅn ）と同様な態様で角度位置ずれデータｅn
を以下の演算で求める。 ｅn ←（Δｘa −（ΔＸ0 ）／（Ｌ0 ＋Δｙa −Δ
Ｙ0 ）
Δｘa 及びΔｙa に基づいて、上述の角度位置ずれ基準
データ（Ｅn ）と同様な態様で角度位置ずれデータｅn
を以下の演算で求める。 ｅn ←（Δｘa −（ΔＸ0 ）／（Ｌ0 ＋Δｙa −Δ
Ｙ0 ）
【００４９】ステップ６０５では、ＬＵＴ４４から角度
位置ずれ基準データＥn を順次読み出して、Ｅn-1 ≦ｅ
a ≦Ｅn を満足するｎが求められる。即ち、角度位置ず
れデータｅa に対する直前の角度位置ずれ基準データ
（Ｅn-1 ）及びその直後の角度位置ずれ基準データ（Ｅ
n ）が求められる。次いで、ステップ６０６では、２つ
の角度位置ずれ基準データＥn-1 及びＥn に基づいて、
角度補正データθa が以下の一次関数補間演算によって
求められる。 θa ←（θn −θn-1 ）＊（ｅa −Ｅn-1 ）／（Ｅn −
Ｅn-1 ）＋θn-1
位置ずれ基準データＥn を順次読み出して、Ｅn-1 ≦ｅ
a ≦Ｅn を満足するｎが求められる。即ち、角度位置ず
れデータｅa に対する直前の角度位置ずれ基準データ
（Ｅn-1 ）及びその直後の角度位置ずれ基準データ（Ｅ
n ）が求められる。次いで、ステップ６０６では、２つ
の角度位置ずれ基準データＥn-1 及びＥn に基づいて、
角度補正データθa が以下の一次関数補間演算によって
求められる。 θa ←（θn −θn-1 ）＊（ｅa −Ｅn-1 ）／（Ｅn −
Ｅn-1 ）＋θn-1
【００５０】ステップ６０７では、角度補正データθa
に基づいて、θ軸モータ２４が駆動されて描画テーブル
１６が回動させられ、これにより主走査方向に対する被
描画体４６の角度位置ずれが解消され、一対の位置決め
マークｍｐ及びｍｑ間の線分が主走査方向に対して平行
とされる。
に基づいて、θ軸モータ２４が駆動されて描画テーブル
１６が回動させられ、これにより主走査方向に対する被
描画体４６の角度位置ずれが解消され、一対の位置決め
マークｍｐ及びｍｑ間の線分が主走査方向に対して平行
とされる。
【００５１】ステップ６０８では、ＸＹ座標データｐa
（ｐｘa ：ｐｙa ）及びＸＹ座標データｑa （ｑｘa ：
ｑｙa ）に基づいて、描画開始位置データが算出され
る。次いで、描画開始位置データに基づいて、Ｘ軸モー
タ駆動回路４０からＸ軸モータに駆動パルスが出力さ
れ、これにより描画テーブル１６（即ち、被描画体４
６）が副走査方向に移動させられて描画開始位置に位置
決めされる。
（ｐｘa ：ｐｙa ）及びＸＹ座標データｑa （ｑｘa ：
ｑｙa ）に基づいて、描画開始位置データが算出され
る。次いで、描画開始位置データに基づいて、Ｘ軸モー
タ駆動回路４０からＸ軸モータに駆動パルスが出力さ
れ、これにより描画テーブル１６（即ち、被描画体４
６）が副走査方向に移動させられて描画開始位置に位置
決めされる。
【００５２】描画テーブル１６が描画開始位置に位置決
めされると、描画装置の描画作動メインルーチンに戻
り、そこで描画制御回路４２が作動させられ、これによ
り被描画体４６にはその適正な位置に所定のパターンの
描画記録が行われる。かくして、複数の同一規格の被描
画体の各々に対して常に同じ位置に所定のパターンを描
画記録することが可能となる。
めされると、描画装置の描画作動メインルーチンに戻
り、そこで描画制御回路４２が作動させられ、これによ
り被描画体４６にはその適正な位置に所定のパターンの
描画記録が行われる。かくして、複数の同一規格の被描
画体の各々に対して常に同じ位置に所定のパターンを描
画記録することが可能となる。
【００５３】上述の実施形態では、角度位置ずれ基準デ
ータ及び角度補正基準データを互いに対応させて格納す
るデータ格納手段としてルックアップテーブル４４が用
いられているが、その他の格納手段例えば一次元マップ
メモリ等をルックアップテーブル４４の代わりに用いる
こともできる。
ータ及び角度補正基準データを互いに対応させて格納す
るデータ格納手段としてルックアップテーブル４４が用
いられているが、その他の格納手段例えば一次元マップ
メモリ等をルックアップテーブル４４の代わりに用いる
こともできる。
【００５４】
【発明の効果】以上の記載から明らかように、本発明に
よるパターン形成装置にあっては、角度補正データθn
と角度位置ずれデータＥn とについては描画装置の描画
テーブル１６を実際に回動させることによって得られる
実測データであるので、被描画体に対して高精度の角度
補正を行うことができる。また、実測データが前以って
用意されているので、被描画体の角度位置ずれデータが
得られれば、その角度位置データに対応した角度補正デ
ータを速やかに得ることが可能である。
よるパターン形成装置にあっては、角度補正データθn
と角度位置ずれデータＥn とについては描画装置の描画
テーブル１６を実際に回動させることによって得られる
実測データであるので、被描画体に対して高精度の角度
補正を行うことができる。また、実測データが前以って
用意されているので、被描画体の角度位置ずれデータが
得られれば、その角度位置データに対応した角度補正デ
ータを速やかに得ることが可能である。
【図１】本発明による描画装置の部分立面図である。
【図２】図１の平面図である。
【図３】本発明による描画装置の概略ブロック図であ
る。
る。
【図４】被描画体の角度位置ずれ基準データ及び角度補
正基準データの作成手順を説明するための模式図であ
る。
正基準データの作成手順を説明するための模式図であ
る。
【図５】被描画体の角度位置ずれ基準データ及び角度補
正基準データの作成手順を説明する別の模式図である。
正基準データの作成手順を説明する別の模式図である。
【図６】本発明による描画装置で実行される角度位置ず
れ補正ルーチンを示すフローチャートである。
れ補正ルーチンを示すフローチャートである。
【図７】描画装置の描画テーブル上に搭載された被描画
体を示す模式図である。
体を示す模式図である。
【図８】被描画体を描画テーブル上に適正な位置に位置
決めするための従来の演算方法を模式的に示す模式図で
ある。
決めするための従来の演算方法を模式的に示す模式図で
ある。
１０ 基台 １２ ガイドレール １４ Ｘテーブル １６ 描画テーブル １８ 回動軸 ２０ 円弧状ベアリング ２２ ブラケット ２４ θ軸モータ ２６ 衝合板 ２８ フレーム枠 ３０Ａ ＣＣＤカメラ ３０Ｂ ＣＣＤカメラ ３２ システムコントロール回路 ３２Ａ 読出し専用メモリ（ＲＯＭ） ３２Ｂ 書込み／読出し自在なメモリ（ＲＡＭ） ３２Ｃ 電気的に消去可能なメモリ（ＥＥＰＲＯＭ） ３２Ｄ ＬＡＮインターフェース回路 ３４ 画像処理回路 ３６ θ軸モータ駆動回路 ３８ Ｘ軸モータ ４０ Ｘ軸モータ駆動回路 ４２ 描画制御回路 ４４ ルックアップテーブル（ＬＵＴ） ４６ 被描画体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 前田 龍治 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番 １号 富士通株式会社内 (72)発明者 上村 貢 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番 １号 富士通株式会社内 (72)発明者 浦口 雅弘 神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番 １号 富士通株式会社内
Claims (3)
- 【請求項１】 回動自在となったテーブル上に被パター
ン形成体を搭載して所定のパターンを形成するパターン
形成装置であって、 前記テーブルの回動角度基準データと所定の基準方向に
対する該テーブルの角度位置ずれ基準データとを実測し
てそれら実測データを互いに対応させて格納するデータ
格納手段と、 前記テーブル上の適当な位置に搭載された被パターン形
成体の角度位置ずれデータを検出する角度位置ずれデー
タ検出手段と、 前記角度位置ずれ検出手段で検出された角度位置ずれデ
ータに基づいて、前記データ格納手段からそれに対応し
た回動角度補正データを読み出すデータ読出し手段と、 前記データ読出し手段によって読み出された回動角度デ
ータに基づいて、前記テーブルを回動させて被パターン
形成体の角度位置ずれを解消させる角度位置ずれ補正手
段とを具備して成るパターン形成装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載のパターン形成装置にお
いて、前記データ格納手段がルックアップテーブルから
成ることを特徴とするパターン形成装置。 - 【請求項３】 請求項１に記載のパターン形成装置にお
いて、前記データ格納手段が一次元マップメモリから成
ることを特徴とするパターン形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9281447A JPH11102954A (ja) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | パターン形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9281447A JPH11102954A (ja) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | パターン形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11102954A true JPH11102954A (ja) | 1999-04-13 |
Family
ID=17639310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9281447A Withdrawn JPH11102954A (ja) | 1997-09-29 | 1997-09-29 | パターン形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11102954A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005005153A1 (en) * | 2003-07-10 | 2005-01-20 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method and device for accurately positioning a pattern on a substrate |
-
1997
- 1997-09-29 JP JP9281447A patent/JPH11102954A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005005153A1 (en) * | 2003-07-10 | 2005-01-20 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method and device for accurately positioning a pattern on a substrate |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20041207 |