JPH1099846A - 高純度水製造装置 - Google Patents

高純度水製造装置

Info

Publication number
JPH1099846A
JPH1099846A JP25866496A JP25866496A JPH1099846A JP H1099846 A JPH1099846 A JP H1099846A JP 25866496 A JP25866496 A JP 25866496A JP 25866496 A JP25866496 A JP 25866496A JP H1099846 A JPH1099846 A JP H1099846A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
water
steam
heating
organic substances
purity
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP25866496A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3198945B2 (ja
Inventor
Mitsukazu Masuto
光和 益戸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kurita Water Industries Ltd
Original Assignee
Kurita Water Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kurita Water Industries Ltd filed Critical Kurita Water Industries Ltd
Priority to JP25866496A priority Critical patent/JP3198945B2/ja
Publication of JPH1099846A publication Critical patent/JPH1099846A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3198945B2 publication Critical patent/JP3198945B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Heat Treatment Of Water, Waste Water Or Sewage (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 TOC0.3ppb以下の、実質的に有機物
を含有しない高純度水を製造する。 【解決手段】 原料水を加熱して水蒸気を発生させる水
蒸気発生手段2と、発生した水蒸気を加熱して水蒸気中
の微量有機物を熱分解する水蒸気加熱手段3と、この水
蒸気を冷却して凝縮水を得る冷却凝縮手段4、5と、得
られた凝縮水が導入される処理水貯留容器6を備えてな
る高純度水製造装置。 【効果】 水蒸気中の有機物を高温加熱して熱分解する
ため、酸素や酸化触媒を必要としない。このため、酸素
供給物質中の不純物の混入や酸化触媒を通過することに
よる汚染の問題がなく、TOC0.3ppb以下の高純
度水を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は高純度水製造装置に
係り、特に、有機物を実質的に含有しない高純度水を製
造するための装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体製造分野、生化学分野或い
は医薬分野で使用される超純水の純度向上が重要な課題
となっている。
【0003】超純水の製造に際しては、製造された超純
水の有機物濃度を測定して、これを管理する必要があ
る。この有機物濃度の測定には、一般に、有機物濃度を
有機物中の炭素量で求めるTOC(全有機炭素)計が用
いられ、このTOC計についても、より高感度であるこ
とが求められている。
【0004】ところで、TOC計による超純水のTOC
濃度の測定に当っては、零校正液と称される有機物を実
質的に含まない水と有機物濃度既知の水とを用いて、T
OC計の校正を行う必要がある。
【0005】従来、TOC計の校正に使用される零校正
液の製造装置として、蒸留法と高温燃焼法とを組み合せ
たもの、即ち、水蒸気を酸素と共に高温の触媒層中に通
過させることで、水蒸気中の有機物を燃焼させて除去す
る装置が提案されている(特開昭63−287590号
公報)。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】特開昭63−2875
90号公報記載の装置であれば、有機物濃度をTOC2
ppb程度にまで低減することができるが、零校正液と
しての使用目的のためには、より一層のTOCの低減が
必要とされる。特に、TOC計にて1ppb以下のTO
Cを精度良く測定するためには、零校正液としては、少
なくともTOC1ppb以下、好ましくはTOC0.3
ppb以下のものが必要となる。
【0007】しかしながら、従来の蒸留法と高温燃焼法
とを併用した装置では、有機物の燃焼用の酸素ガス又は
過酸化剤に含まれる不純物の混入や、酸化触媒層を通過
することによる汚染が避けられず、このため、有機物を
極低濃度にまで低減することができなかった。
【0008】本発明は上記従来の問題点を解決し、TO
C1ppb以下の測定に使用する、TOC0.3ppb
程度以下の、実質的に有機物を含有しない高純度水を製
造することができる高純度水製造装置を提供することを
目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の高純度水製造装
置は、原料水を加熱して水蒸気を発生させる水蒸気発生
手段と、該水蒸気発生手段で発生した水蒸気を加熱して
該水蒸気中の微量有機物を熱分解する水蒸気加熱手段
と、該水蒸気加熱手段からの水蒸気を冷却して凝縮水を
得る冷却凝縮手段と、得られた凝縮水が導入される処理
水貯留容器とを備えてなることを特徴とする。
【0010】かかる本発明の高純度水製造装置では、水
蒸気中の有機物を高温加熱して熱分解するため、酸素や
酸化触媒を必要としない。従って、酸素供給物質中の不
純物の混入や酸化触媒を通過することによる汚染がな
く、TOC0.3ppb以下の高純度水を得ることがで
きる。
【0011】本発明において、水蒸気発生手段、水蒸気
加熱手段及び冷却凝縮手段は、少なくとも水蒸気との接
触面を白金で構成することにより、装置構成部材からの
有機物汚染が防止されるようになり、より一層極低TO
C濃度の高純度水を得ることが可能となる。
【0012】また、処理水貯留容器に、貯留された処理
水に紫外線(UV)を照射するUV照射手段を設けるこ
とにより、貯留中においても処理水中の極微量の有機物
を分解してTOCの低減を図ることができる。更に、処
理水貯留容器に空気中の汚染物の混入を防止する汚染防
止手段を設けることにより、貯留中の汚染を防止し、純
度を維持することができる。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。
【0014】図1は本発明の高純度水製造装置の実施の
形態を示す模式的な断面図である。1は純水タンクであ
り、水蒸気発生の原料水としての純水が貯留されてい
る。
【0015】本発明においては、極低TOC濃度の高純
度水を製造することから、原料水としてもTOCの低い
ものが好ましい。原料水としてはTOC2〜3ppbの
低TOC濃度の純水を用いるのが好ましい。
【0016】2は原料水を加熱して水蒸気を発生させる
ための、加熱容器部分が白金製の水蒸気発生器であり、
マントルヒータとカートリッジヒータを装備する。
【0017】3は水蒸気を高温加熱して有機物を熱分解
させる加熱炉である。この加熱炉3は、白金製の炉本体
に直接通電して炉本体を発熱体とするものであり、これ
により炉内部を900℃以上、好ましくは1000℃以
上に保持して水蒸気を加熱し、有機物を熱分解させる。
【0018】4,5は、それぞれ水蒸気を冷却凝縮する
ための空冷フィン付き空冷管、リービーヒ型の水冷ジャ
ケット付き水冷管であり、いずれも白金製とされてい
る。
【0019】6は処理水貯留タンクであり、内部にUV
ランプ7が設けられている。また、外気からの汚染防止
のためにトラップ8が設けられている。
【0020】本実施例の装置においては、水蒸気発生器
2の加熱容器、加熱炉3の炉本体、空冷管4及び水冷管
5をいずれも白金製として、加熱された水蒸気が凝縮さ
れるまでの間に、水蒸気は白金とのみ接触するように構
成されている。
【0021】なお、水蒸気の加熱から凝縮に到るまでの
間で水蒸気が有機性材料と接触すると、有機性材料から
の汚染が生起するが、水蒸気発生器2、加熱炉3、空冷
管4及び水冷管5の少なくとも水蒸気と接触する面を白
金とすることにより、かかる汚染が防止される。また、
加熱炉3は、炉本体自体を発熱体とした構成が好まし
く、この場合、通電による加熱が可能であり、また10
00℃以上の耐熱性を有する材料として、白金が好適で
ある。
【0022】この高純度水製造装置により極低TOC濃
度の高純度水を製造するには、まず、バルブV1 を開け
て純水タンク1内の純水を水蒸気発生器2に入れ、水蒸
気発生器2のヒータに通電してこの純水を加熱して水蒸
気を発生させる。
【0023】発生した水蒸気を加熱炉3に送給し、水蒸
気を900℃以上、好ましくは1000〜1500℃に
加熱する。
【0024】なお、水蒸気の加熱炉3の滞留時間は、加
熱温度や原料水として用いた純水のTOC濃度によって
も異なるが、通常の場合、0.1秒〜数秒程度とするの
が好ましい。
【0025】この水蒸気が900℃以上に加熱されるこ
とにより、含有される有機物が水(水蒸気)と炭酸ガス
とに熱分解する。
【0026】加熱炉3で有機物が分解された水蒸気は、
空冷管4で冷却された後、水冷管5で更に冷却されて凝
縮し、凝縮水(処理水)は処理水貯留タンク6に貯留さ
れる。
【0027】この処理水貯留タンク6にはUVランプ7
が設けられている。処理水にUV照射することにより、
極微量残留する有機物が分解される。
【0028】この処理水貯留タンク6には、有機物の熱
分解で発生した炭酸ガス等のガスを排出するためにトラ
ップ8を設けている。このトラップ8を設けたことによ
り、タンク6内への大気(汚染物質を含んだ空気)の流
入が防止され、貯留中の処理水の水質低下が防止され
た。
【0029】本発明の高純度水製造装置によれば、水蒸
気の高温加熱系内から酸化触媒や酸化剤などの汚染物混
入の要因となるものを完全に排除し、高清浄に維持され
た系内で水蒸気を加熱して有機物を熱分解除去するた
め、極めて低TOC濃度の高純度水を得ることができ
る。
【0030】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に
説明する。
【0031】実施例1 図1に示す高純度水製造装置により高純度水の製造を行
った。
【0032】原料水としては、通常の純水製造装置(イ
オン交換+限外濾過膜処理+UV照射)で製造されたT
OC2〜3ppbの純水を用いた。この純水を50ml
/minで供給し、水蒸気発生器2で発生した水蒸気
(110℃)を1050℃の加熱炉3で加熱し、空冷管
4及び水冷管5で冷却して処理水として5℃の凝縮水を
得た。
【0033】この処理水のTOCをTOC計(栗田工業
(株)製高感度型TOC計「クリマトック(KURIM
ATOC)」(湿式酸化方式))を用いて測定した。
【0034】その結果、TOCは0.3ppb以下と著
しく低いことが確認された。
【0035】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の高純度水製
造装置によれば、TOC0.3ppb以下という極低有
機物濃度の高純度水を製造することができる。本発明の
高純度水製造装置により製造された高純度水は、実質的
に有機物を含有しない極めて高純度のものであり、零校
正液としてTOC計を高精度に校正することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の高純度水製造装置の実施の形態を示す
模式的な断面図である。
【符号の説明】
1 純水タンク 2 水蒸気発生器 3 加熱炉 4 空冷管 5 水冷管 6 処理水貯留タンク 7 UVランプ 8 トラップ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 原料水を加熱して水蒸気を発生させる水
    蒸気発生手段と、該水蒸気発生手段で発生した水蒸気を
    加熱して該水蒸気中の微量有機物を熱分解する水蒸気加
    熱手段と、該水蒸気加熱手段からの水蒸気を冷却して凝
    縮水を得る冷却凝縮手段と、得られた凝縮水が導入され
    る処理水貯留容器とを備えてなる高純度水製造装置。
  2. 【請求項2】 請求項1の装置において、水蒸気発生手
    段、水蒸気加熱手段及び冷却凝縮手段は、少なくとも水
    蒸気との接触面が白金で構成されていることを特徴とす
    る高純度水製造装置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2の装置において、処理水
    貯留容器は、貯留された処理水に紫外線を照射する紫外
    線照射手段と、空気中の汚染物の混入を防止する汚染防
    止手段とを備えることを特徴とする高純度水製造装置。
JP25866496A 1996-09-30 1996-09-30 高純度水製造装置 Expired - Fee Related JP3198945B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25866496A JP3198945B2 (ja) 1996-09-30 1996-09-30 高純度水製造装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25866496A JP3198945B2 (ja) 1996-09-30 1996-09-30 高純度水製造装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH1099846A true JPH1099846A (ja) 1998-04-21
JP3198945B2 JP3198945B2 (ja) 2001-08-13

Family

ID=17323393

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP25866496A Expired - Fee Related JP3198945B2 (ja) 1996-09-30 1996-09-30 高純度水製造装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3198945B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104390474A (zh) * 2014-11-12 2015-03-04 耒阳市焱鑫有色金属有限公司 鼓风炉水套自然循环热水蒸汽回收水箱
JP2018001061A (ja) * 2016-06-28 2018-01-11 合同会社トレスバイオ技研 有機物を分解又は炭化する方法及びその方法で使用する装置
CN107673530A (zh) * 2017-10-17 2018-02-09 广州雅津水处理设备有限公司 一种针对高纯水的杀菌系统

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101899117B1 (ko) * 2017-02-15 2018-09-14 울산과학기술원 수중 현장 베타선 모니터링 통합 시스템 및 그 방법

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104390474A (zh) * 2014-11-12 2015-03-04 耒阳市焱鑫有色金属有限公司 鼓风炉水套自然循环热水蒸汽回收水箱
JP2018001061A (ja) * 2016-06-28 2018-01-11 合同会社トレスバイオ技研 有機物を分解又は炭化する方法及びその方法で使用する装置
CN107673530A (zh) * 2017-10-17 2018-02-09 广州雅津水处理设备有限公司 一种针对高纯水的杀菌系统

Also Published As

Publication number Publication date
JP3198945B2 (ja) 2001-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Esplugas et al. Degradation of 4-chlorophenol by photolytic oxidation
EP0433499B1 (en) Apparatus for monitoring the quality of water
JP3198945B2 (ja) 高純度水製造装置
JP3954647B2 (ja) 気体と液体の浄化方法および装置
Montgomery et al. High‐laser‐damage‐threshold potassium dihydrogen phosphate crystals
JP4514267B2 (ja) 半導体基板の不純物抽出方法および不純物抽出装置
WO1995001307A1 (en) Treatment of fluids
JPH07768A (ja) 膜蒸留装置
JP2000065699A (ja) 分析用試料燃焼装置及び分析用試料燃焼装置における不活性ガス,酸素含有ガス供給制御方法並びに試料燃焼装置を有する分析システム
JP2001083136A (ja) 全リン、全窒素の測定方法及び測定装置
JP3595461B2 (ja) 水質分析計
JP3507744B2 (ja) 全有機炭素測定システム用の酸化装置組立体
JP3606689B2 (ja) 高純度水貯留容器
JP4447126B2 (ja) 超純水製造装置
JPH09127005A (ja) 水中化合物の分析方法
JP2000065696A (ja) フィルタ装置及びフィルタ装置を有する硫黄分析システム
JP2005227161A (ja) 水中炭素成分の測定装置
JP2001041950A (ja) 水質分析計
JPH1137990A (ja) 水中のリン化合物の濃度測定方法、及びその装置
JPS60206479A (ja) 超純水製造装置
JP2588392Y2 (ja) 廃液中の全シアン検知装置
JP3065824B2 (ja) 微量物質抽出方法および抽出装置
JPH10170494A (ja) 水中の窒素化合物濃度測定方法およびその装置
JPH1048196A (ja) 全有機炭素計
ES2619054T3 (es) Procedimiento y dispositivo para determinar el potencial de eliminación de radicales

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 8

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090615

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090615

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100615

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 10

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110615

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120615

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130615

Year of fee payment: 12

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees