JPH1097974A - 半導体露光方法および半導体露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 アライメントギャップと露光ギャップが異な
っていても、高精度な露光が実現可能な半導体露光装置
あるいは半導体露光方法を提供する。 【解決手段】 地面を基準にＳＲ光１３の光軸の角度を
検出するＳＲ光軸モニタ１８と、地面を基準に装置本体
の角度を検出する本体姿勢監視ユニット２０を用い、こ
れらからの出力結果よりＳＲ光１３の光軸と装置本体の
相対角度を検出し、この相対角度に基づいて、ウエハ５
の、アライメントギャップから露光ギャップへの移動の
際のＳＲ光軸と直交する方向への位置ずれを補正する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、マスク上に描画さ
れた半導体集積回路の微細パターンを、ウエハ上に露
光、転写形成する半導体露光方法および半導体露光装置
に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体露光装置の代表的な例として、Ｘ
線露光装置がある。例えばＳＲ光源を利用したＸ線露光
装置が特開平２−１００３１１号公報に示されている。

【０００３】図７はＸ線露光装置の一般的な構成を示す
模式的断面図である。この図において、符号１０１はマ
スク、符号１０２はマスクを保持するマスクチャック、
符号１０３はマスクメンブレン、符号１０４はマスクチ
ャックベース、符号１０５はウエハ、符号１０６はウエ
ハを保持するウエハチャックを指し示している。符号１
０７はマスクとウエハの位置合わせに用いられる微動ス
テージ、符号１０８は各ショット間の移動に用いられる
粗動ステージを、符号１０９は粗動ステージの案内が固
定されるステージベースを指し示している。ウエハ１０
５およびウエハチャック１０６は微動ステージ１０７上
に搭載されている。

【０００４】符号１１０はステージＹ方向計測用干渉計
ユニットを、符号１１１はレーザー反射ミラーを指し示
している。図７ではＹ方向以外の他の軸については図示
していないが、Ｚ方向以外の５自由度、すなわち位置
Ｘ、Ｙと姿勢（角度成分）ωｘ、ωｙ、θはレーザー測
長系で計測される。一方位置Ｚについては微動ステージ
１０７上に固定されたＺ・チルト制御用変位センサ（不
図示）により計測される。また、符号１１２はアライメ
ント計測ユニットを指し示している。

【０００５】Ｘ線露光装置においては一般的に、マスク
とウエハを微小間隔に接近させて露光するプロキシミテ
ィ露光を行ない、またマスクのパターンをウエハ上に複
数回繰り返し露光を行なういわゆるステップ・アンド・
リピート方式で露光を行なう。

【０００６】このような従来のＸ線露光装置において、
ダイ・バイ・ダイ方式にて露光を行なう手順を図７を参
照して説明する。 ウエハ１０５の第ｎショット目を露光する部分がマス
クメンブレン１０３と対向するように、粗動ステージ１
０８が駆動される。 微動ステージ１０７によってウエハ１０５が、露光を
行うギャップになるように駆動される。 微動ステージ１０７にてマスク１０１とウエハ１０５
の位置合わせが行われた後、その状態が保持されて露光
が行われる。 微動ステージ１０７にてウエハ１０５がステップ時の
ギャップに退避する。以下、上記の〜の操作が繰り
返される。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】近年半導体デバイスに
微細化の要求が増すにつれ、露光ギャップは従来の３０
μｍ程度から２０μｍあるいはそれ以下の狭ギャップが
求められてきている。しかしながら従来のＸ線露光装置
においては、アライメントギャップと露光ギャップが同
じであったため、狭ギャップ露光に対応するため、アラ
イメントシステムあるいはアライメントマークの設計変
更などが生じたり、またアライメント計測時にマスクメ
ンブレンの変形の影響を受けるなど、不都合が発生する
場合があった。

【０００８】これに対処するためアライメントギャップ
と露光ギャップを変えた場合、図８に示すように露光光
軸とウエハステージに位置する反射ミラーとに相対角度
が生じていると、干渉計ユニットを用いてサーボ制御
（負帰還制御）しながらアライメントギャップから露光
ギャップへウエハをＺ方向駆動（近接駆動）したとき
に、露光光軸に直交する方向へウエハの位置ずれが発生
し、露光精度の劣化を招くことになる。尚、図８ではＸ
方向の位置ずれが示されているが、Ｙ方向の位置ずれが
生じる場合もある。この露光光軸と干渉計反射ミラーに
相対角度が発生する要因としては、組付け誤差、装置本
体（ステッパー）と露光光軸の姿勢変化、あるいはウエ
ハのクサビなどの補正によるステージの傾きなどが考え
られる。

【０００９】そこで本発明は、上述した従来技術の実情
に鑑み、アライメントギャップと露光ギャップが異なっ
ていても、高精度な露光が実現可能な半導体露光方法あ
るいは半導体露光装置を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に第１の発明は、マスクとウエハのアライメントを行っ
た後、干渉計ユニットとウエハステージ側に配置された
反射ミラーとを用いて該ウエハステージの面内方向の位
置を負帰還制御しながらマスクに対しウエハをアライメ
ント時と異なるギャップに移動させ、露光を行う方法で
あって、前記反射ミラーと露光光軸との相対角度を検出
し、この検出した相対角度に基づき、前記ウエハの近接
移動の際の前記露光光軸と直交する方向への位置ずれを
補正することを特徴とする。

【００１１】また、上記目的を達成するために第２の発
明は、ウエハステージ側に設置された反射ミラーと、露
光に先だってマスクに対してウエハをアライメント時と
異なるギャップに移動させる際に前記反射ミラーと協働
して前記ウエハの面内方向の位置を負帰還制御する干渉
計ユニットとを含む装置であって、前記反射ミラーと露
光光軸との相対角度を検出する検出手段と、前記検出手
段で検出した相対角度に基づき、前記ウエハの近接移動
の際の前記露光光軸と直交する方向への位置ずれを補正
する補正手段と、を有することを特徴とする。

【００１２】このような半導体露光装置においては、前
記検出手段は、基準状態で予め計測された前記反射ミラ
ーと露光光軸との相対角度を記憶する記憶部と、アライ
メントギャップから露光ギャップへウエハを移動する際
の前記反射ミラーと露光光軸との相対角度の基準状態か
らの変化を検出する相対角度変化検出手段と、から構成
されている。

【００１３】好ましくは、前記相対角度変化検出手段
は、ウエハステージの角度を検出するステージ姿勢検出
部と、装置本体と露光光軸との相対角度を検出する相対
姿勢検出部と、から構成されている。

【００１４】さらに好ましくは、前記相対姿勢検出手段
は、地面を基準に露光光軸の角度を検出する光軸検出手
段と、地面を基準に装置本体の角度を検出する本体姿勢
検出手段と、から構成されている。

【００１５】また前記補正手段はステージ駆動を補正す
る手段や、アライメント計測値を補正する手段であるこ
とが考えられる。

【００１６】上記のとおりの発明では、マスクとウエハ
のアライメントを行った後、干渉計ユニットとウエハス
テージ側に配置された反射ミラーとを用いて該ウエハス
テージの面内方向の位置を負帰還制御しながらマスクに
対しウエハをアライメント時と異なるギャップに移動さ
せ、露光を行う場合において、組付け誤差、装置本体
（ステッパー）と露光光軸の姿勢変化、あるいはウエハ
のクサビなどの補正によるステージの傾きなどで露光光
軸と干渉計反射ミラーとにある相対角度が発生しても、
前記のような移動の際にウエハの位置ずれを生じさせる
ことがないので、狭ギャップ露光に対応した高精度の露
光が実現可能となる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。

【００１８】（第１の実施形態）本実施形態の特徴は、
ステージ干渉計反射ミラーとＳＲ（Synchrotron Radiat
ion）光軸との相対姿勢を計測し、アライメントギャッ
プから露光ギャップへのウエハの移動の際に、ＳＲ光軸
と直交する方向への位置ずれが発生しないようにステー
ジ駆動を補正することにある。

【００１９】図１は、本発明の第１の実施形態であるＸ
線露光装置の構成および説明に使用する座標系を示す図
である。

【００２０】本実施形態のＸ線露光装置は図１に示すよ
うにマスク１を平面保持するマスクチャック２を有し、
マスクチャック２はマスクチャックベース４に固定され
ている。マスクチャックベース４の、マスク１を保持す
る側の部位には一対のステージベース９が固定されてお
り、これら一対のステージベース９は、粗動ステージ８
を案内する為の例えばガイド軸などの案内手段（不図
示）を固定保持している。粗動ステージ８上にはウエハ
５を保持するウエハチャック６を微動駆動するための微
動ステージ７が、ウエハ５とマスク１とが対向するよう
に搭載されている。前記の微動ステージ７は例えばピエ
ゾ素子を駆動手段としてマスク１とウエハ５の位置合わ
せに用いられ、粗動ステージ８は各ショット間の移動に
用いられる。尚、図１では便宜上、Ｙ方向に駆動・案内
される粗動ステージ８のみを示したが、粗動ステージ８
はＸ方向にも粗動可能である。

【００２１】マスクチャックベース４の、マスク１を保
持しない側の部位には、ファインアライメント、即ちウ
エハ５のマスク１側の面とマスクメンブレン（Mask Mem
brane）３との間隔（以下、「ギャップ」と称す）並び
に両者の面内のずれ量（Ｘ、Ｙ、θ方向）を計測するた
めのアライメントスコープ１１が配置されている。アラ
イメントスコープ１１は、マスク１上のアライメントマ
ーク（不図示）の位置が移動しても計測可能となるよう
に、マスク面と略平行に２つの駆動軸が互いに直交して
成る２軸ステージ上に搭載されている。また、アライメ
ントスコープ１１は面情報を計測可能にするために最低
３個配置されている。

【００２２】また、ステージの位置及び姿勢を計測する
レーザー測長系については、微動ステージ７上のＹ方向
の端部にはレーザ反射ミラー１６が配置され、レーザ反
射ミラー１６が配置された側に位置するステージベース
９にステージＹ方向計測用干渉計ユニット１７が配置さ
れている。図１ではその他の測定系は図示していない
が、Ｚ方向以外の５自由度、すなわち位置Ｘ、Ｙと姿勢
（角度成分）ωｘ、ωｙ、θは前記のようなレーザー測
長系で計測している。一方、Ｚ方向の駆動量は、微動ス
テージ７上に固定されたＺ・チルト制御用変位センサ１
０で計測する。

【００２３】ファインアライメントのシステムの詳細は
特開平２−１００３１１号公報に記載のものと同様であ
る。また、ωｘはＸ軸周りの変位量、ωｙはＹ軸周りの
変位量、θはＺ軸周りの変位量を意味している。

【００２４】さらに前記の構成からなる装置全体はチャ
ンバー１２内に設置されていて、露光時は減圧ヘリウム
雰囲気の下に置かれる様になっている。チャンバー１２
のマスクメンブレン３と対向する部分は、不図示の光源
で発生したＳＲ光１３を通過させてチャンバー１２内の
マスクメンブレン３に導くための遮断窓１４（通常、ベ
リリウム窓が使用される）となっている。

【００２５】本形態の装置は、露光光軸（ＳＲ光軸）と
装置本体の姿勢を測定し、露光光軸と装置本体の相対角
度を検出する相対姿勢検出部（図２の符号２２に示す）
をさらに備えている。この相対姿勢検出部は以下の、地
面を基準に露光光軸の角度を検出する光軸検出手段であ
るＳＲ光軸モニタと、地面を基準に装置本体の角度を検
出する本体姿勢検出手段である本体姿勢監視ユニットと
を含み、これらからの出力結果より露光光軸と装置本体
の相対角度を検出する。

【００２６】(1)ＳＲ光軸モニタ 図１に示されるＳＲ光軸モニタ１８は、露光光軸上の離
れた少なくとも２地点でＳＲ光１３の光軸をモニタする
ことにより、ＳＲ光軸の位置および角度を検出するもの
である。具体的には図１において、ＳＲ光１３の周囲に
はＳＲ光１３が通過するビームポート１９が配置され
る。そしてＳＲ光軸モニタ１８は、ビームポート１９の
光源側と反光源側の内側面にそれぞれＳＲ光１３を挟み
込むように３個以上のＳＲ光強度センサからなる２つの
センサ群を固定して構成され、各センサ群で強度プロフ
ァイルを測定することにより、ＳＲ光軸（ＸＹ、Ｔｉｌ
ｔ方向）の監視を可能にしている。なお、図１では光源
側のセンサ群は図示していない。

【００２７】(2)本体姿勢監視ユニット 図１に示される本体姿勢監視ユニット２０は少なくとも
３個の変位センサからなり、地面から装置本体の姿勢を
監視しているものである。

【００２８】また、本形態のＸ線露光装置は、上述した
相対姿勢検出部を用い、アライメントギャップから露光
ギャップへのウエハの移動の際に、露光光軸と直交する
方向への位置ずれが発生しないようにステージ駆動を補
正する補正手段をさらに備えている。以下、この補正手
段および補正方法について述べる。

【００２９】図２は本発明の第１の実施形態であるＸ線
露光装置に備わる補正手段の構成を示すブロック図であ
る。この図に示される本形態の補正手段２６は、ステー
ジ姿勢検出部２１、相対姿勢検出部２２、補正基準値記
憶部２５によりステージ駆動を補正するものである。

【００３０】ステージ姿勢検出部２１はレーザ測長系１
７からの出力を処理し、ステージ姿勢ωｘ、ωｙを求め
るものである。

【００３１】相対姿勢検出部２２は、ＳＲ光軸モニタ１
８からの出力を処理するＳＲ光軸検出部２３と、本体姿
勢監視ユニット２０からの出力を処理する本体姿勢検出
部２４からの情報により、ＳＲ光軸と装置本体の相対関
係を求めるものである。

【００３２】補正基準値記憶部２５は、詳細は後述する
が、基準状態で予め計測された前記反射ミラーと露光光
軸との相対角度を補正基準値として記憶するものであ
る。

【００３３】尚、前記ステージ姿勢検出部２１と相対姿
勢検出部２２とで、アライメントギャップから露光ギャ
ップへウエハを移動する際の反射ミラーとＳＲ光軸との
相対角度の基準状態からの変化を検出する相対角度変化
検出手段が構成される。さらに、この相対角度変化検出
手段と補正基準値記憶部２５とで、ステージ干渉計反射
ミラーとＳＲ光軸との相対角度を検出する検出手段が構
成されている。

【００３４】次に、図１、図２及び図４を参照し、以上
の補正手段２６による補正手順について説明する。この
補正手段２６は予め決定された補正基準値を使って露光
時の補正を行う。

【００３５】(1)補正基準値の決定 補正基準値は組付け誤差を補正するために用いるもの
で、基準状態（例えばステージωｘ、ωｙは原点にす
る）でギャップを変えてウエハに２重露光を行いその時
の位置ずれを他の計測装置で計測することにより求めら
れる。補正基準値のＸ成分を求める場合について図３に
示す。ＳＲ光は発散角をもっているので、二つのパター
ンの位置ずれからランナウト成分を除く。この補正基準
値は、評価したときのステージ姿勢検出部２１の出力お
よび相対姿勢検出部２２の出力と一緒に基準値記憶部２
５に記憶される。

【００３６】(2)露光時の補正 ここでは、ダイ・バイ・ダイ方式にて露光を行う手順を
例に採って説明する。また、本例では、アライメントギ
ャップ＝５０μｍ、露光ギャップ＝３０μｍとする。図
４に第１の実施形態における露光手順の概略がフローチ
ャートで示してある。 ウエハ５の第ｎショット目を露光する部分がマスクメ
ンブレン３と対向するように、粗動ステージ８がステッ
プ駆動される（ステップＳ１）。この時、ウエハ５とマ
スク１の干渉を避けるため、ステップ時のウエハ５とマ
スク１のギャップは両者の平面度、クサビなどを考慮し
て十分大きな値に決定される。本例では１００μｍ以上
とする。 次に、アライメントスコープ１１で３箇所のギャップ
が計測され、アライメントギャップ（５０μｍ）になる
ように微動ステージ７の駆動によってマスクメンブレン
３とウエハ５のギャップ設定および平行出しが行われる
（ステップＳ２）。 次に、アライメントスコープ１１の計測結果を用い
て、微動ステージ７にてマスク１とウエハ５の位置合わ
せが行われる（ステップＳ３）。 次に、微動ステージ７によってウエハ５が、露光を行
うギャップ（３０μｍ）になるように駆動される。この
とき、補正手段２６により、ＳＲ光軸と直交する方向
（Ｘ、Ｙ、θ方向）への位置ずれが生じないように補正
しながらステージ駆動される。補正量は、ステージ姿勢
検出部２１の出力および相対姿勢検出部２４の出力よ
り、基準状態との差を考慮して補正基準値を修正し、さ
らにＺ駆動量（５０−３０＝２０μｍ）との積を計算し
て求める。 露光が行われる（ステップＳ５）。 露光完了後、微動ステージ７にてウエハ５がステップ
時のギャップ（１００μｍ）に退避する（ステップＳ
５）。 以下、上記の〜の操作が繰り返される。

【００３７】以上の実施形態の説明では、露光ギャップ
＝３０μｍ、アライメントギャップ退避＝１００μｍの
シーケンスについて述べたが、この値が変わっても適用
できる。その場合はアライメントギャップから露光ギャ
ップへ移動する際のＺ駆動量に応じて補正量を修正すれ
ばよい。

【００３８】さらに本実施形態においてはダイ・バイ・
ダイ方式の露光シーケンスで説明したが、グローバル露
光シーケンスにおいても有効であり、この場合は各ショ
ットの露光時に補正手段により補正を行うようにする。

【００３９】また、ステージ姿勢検出部、相対姿勢検出
部は本実施形態で述べた構成に限定されない。

【００４０】（第２の実施形態）本実施形態の特徴は、
アライメント計測の際、ステージ干渉計の反射ミラーと
ＳＲ光軸との相対姿勢を計測し、アライメントギャップ
から露光ギャップへのウエハを移動する際のＸ、Ｙ方向
の位置ずれを考慮してアライメント計測結果を補正する
ことにある。

【００４１】ここでは装置の構成は第１の実施形態と同
様であるのでその説明は省略し、第１の実施形態と異な
る補正手段および補正手順について述べる。

【００４２】図５は本発明の第２の実施形態であるＸ線
露光装置に備わる補正手段の構成を示すブロック図であ
る。この図において第１の実施形態と同一の構成部分に
は同一符号を付してある。

【００４３】図５に示した本形態の補正手段２６は、ス
テージ姿勢検出部２１、相対姿勢検出部２２、補正基準
値記憶部２５により、ウエハのＸ、Ｙ方向の位置を検出
するアライメント検出部３１のアライメント計測値を補
正するものである。

【００４４】次に、図１、図５及び図６を参照し、以上
の補正手段２６による補正手順について説明する。ここ
でも第１の実施形態と同様に補正手段２６は補正基準値
を使って露光時の補正を行うが、補正基準値の決定は第
１の実施形態と同様であるので省略し、以下では露光時
の補正についてのみ、ダイ・バイ・ダイ方式にて露光を
行う手順を例に採って説明する。図６に第２の実施形態
における露光手順の概略がフローチャートで示してあ
る。 ウエハ５の第ｎショット目を露光する部分がマスクメ
ンブレン３と対向するように、粗動ステージ８がステッ
プ駆動される（ステップＳ１）。この時、ウエハ５とマ
スク１の干渉を避けるため、ステップ時のウエハ５とマ
スク１のギャップは両者の平面度、クサビなどを考慮し
て十分大きな値に決定される。本例では１００μｍ以上
とする。 次に、アライメントスコープ１１で３箇所のギャップ
が計測され、アライメントギャップ（５０μｍ）になる
ように微動ステージ７の駆動によってマスクメンブレン
３とウエハ５のギャップ設定および平行出しが行われる
（ステップＳ２）。 次に、アライメントスコープ１１の計測結果を用い
て、微動ステージ１０７にてマスク１とウエハ５の位置
合わせが行われる（ステップＳ３）。このとき、補正手
段２６により、露光ギャップへウエハを移動した際の、
ＳＲ光軸と直交する方向（Ｘ、Ｙ方向）への位置ずれを
考慮してアライメント計測値を補正しておく。したがっ
て、位置ずれと逆方向にずれた位置でマスク１とウエハ
５の位置合わせが完了する。補正量の求め方は第１の実
施形態と同様である。 次に、微動ステージ７によってウエハ５が、露光を行
うギャップ（本例では３０μｍとする）になるように駆
動される（ステップＳ４）。 露光が行われる（ステップＳ５）。 露光完了後、微動ステージ７にてウエハ５がステップ
時のギャップ（１００μｍ）に退避する（ステップＳ
５）。 以下、上記の〜の操作が繰り返される。

【００４５】このように形態によれば第１の実施形態と
同様、アライメントギャップと露光ギャップが異なって
いても高精度の露光が可能である。

【００４６】

【発明の効果】本発明は、アライメントギャップと露光
ギャップとを変えて近年の狭ギャップ露光に対応させる
ために、マスクとウエハのアライメントを行った後、干
渉計ユニットとウエハステージ側に配置された反射ミラ
ーとを用いて該ウエハステージの面内方向の位置を負帰
還制御しながらマスクに対しウエハをアライメント時よ
りも狭いギャップに近接移動させ、Ｘ線露光を行う方法
および装置を採用し、かつ、前記反射ミラーと露光光軸
との相対角度を検出する検出手段と、前記検出手段で検
出した相対角度に基づき、前記ウエハの近接移動の際の
前記露光光軸と直交する方向への位置ずれを補正する補
正手段と、を有する事により、前記のような近接移動の
際にウエハの位置ずれが生じず、高精度の露光が実現で
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態であるＸ線露光装置の
構成および説明に使用する座標系を示す図である。

【図２】本発明の第１の実施形態であるＸ線露光装置に
備わる補正手段の構成を示すブロック図である。

【図３】補正基準値のＸ成分を求める場合について概念
図である。

【図４】本発明の第１の実施形態であるＸ線露光装置に
よる露光手順の概略を示すフローチャートである。

【図５】本発明の第２の実施形態であるＸ線露光装置に
備わる補正手段の構成を示すブロック図である。

【図６】本発明の第２の実施形態であるＸ線露光装置に
よる露光手順の概略を示すフローチャートである。

【図７】従来の半導体露光装置の一例であるＸ線露光装
置の構成を示す模式的断面図である。

【図８】従来の半導体露光装置にて生じていたウエハの
位置ずれを説明するための図である。

【符号の説明】

１ マスク ２ マスクチャック ３ マスクメンブレン ４ マスクチャックベース ５ ウエハ ６ ウエハチャック ７ 微動ステージ ８ 粗動ステージ ９ ステージベース １０ Ｚ・チルト制御用変位センサ １１ アライメントスコープ １２ チャンバー １３ ＳＲ光 １４ 遮断窓 １６ レーザ反射ミラー １７ ステージＹ方向計測用干渉計ユニット １８ ＳＲ光軸モニタ １９ ビームポート ２０ 本体姿勢監視ユニット ２１ ステージ姿勢検出部 ２２ 相対姿勢検出部 ２３ ＳＲ光軸検出部 ２４ 本体姿勢検出部 ２５ 補正基準値記憶部 ２６ 補正手段 ３１ アライメント検出部

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 マスクとウエハのアライメントを行った
   後、干渉計ユニットとウエハステージ側に配置された反
   射ミラーとを用いて該ウエハステージの面内方向の位置
   を負帰還制御しながらマスクに対しウエハをアライメン
   ト時と異なるギャップに移動させ、露光を行う方法であ
   って、 前記反射ミラーと露光光軸との相対角度を検出し、この
   検出した相対角度に基づき、前記ウエハの近接移動の際
   の前記露光光軸と直交する方向への位置ずれを補正する
   ことを特徴とする半導体露光方法。
2. 【請求項２】 ウエハステージ側に設置された反射ミラ
   ーと、露光に先だってマスクに対してウエハをアライメ
   ント時と異なるギャップに移動させる際に前記反射ミラ
   ーと協働して前記ウエハの面内方向の位置を負帰還制御
   する干渉計ユニットとを含む装置であって、 前記反射ミラーと露光光軸との相対角度を検出する検出
   手段と、 前記検出手段で検出した相対角度に基づき、前記ウエハ
   の近接移動の際の前記露光光軸と直交する方向への位置
   ずれを補正する補正手段と、を有することを特徴とする
   半導体露光装置。
3. 【請求項３】 前記検出手段は、基準状態で予め計測さ
   れた前記反射ミラーと露光光軸との相対角度を記憶する
   記憶部と、アライメントギャップから露光ギャップへウ
   エハを移動する際の前記反射ミラーと露光光軸との相対
   角度の基準状態からの変化を検出する相対角度変化検出
   手段と、から構成された請求項２に記載の半導体露光装
   置。
4. 【請求項４】 前記相対角度変化検出手段は、ウエハス
   テージの角度を検出するステージ姿勢検出部と、装置本
   体と露光光軸との相対角度を検出する相対姿勢検出部
   と、から構成された請求項３に記載の半導体露光装置。
5. 【請求項５】 前記相対姿勢検出手段は、地面を基準に
   露光光軸の角度を検出する光軸検出手段と、地面を基準
   に装置本体の角度を検出する本体姿勢検出手段と、から
   構成された請求項４に記載の半導体露光装置。
6. 【請求項６】 前記補正手段は、ステージ駆動を補正す
   る手段である請求項２乃至５のいずれか１項に記載の半
   導体露光装置。
7. 【請求項７】 前記補正手段は、アライメント計測値を
   補正する手段である請求項２乃至５のいずれか１項に記
   載の半導体露光装置。