JPH1094931A - Substrate holding stage and roll-coater using it - Google Patents

Substrate holding stage and roll-coater using it

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JPH1094931A
JPH1094931A JP27565197A JP27565197A JPH1094931A JP H1094931 A JPH1094931 A JP H1094931A JP 27565197 A JP27565197 A JP 27565197A JP 27565197 A JP27565197 A JP 27565197A JP H1094931 A JPH1094931 A JP H1094931A
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JP
Japan
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substrate
stage
holding
suction
roll
Prior art date
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Pending
Application number
JP27565197A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Kise
一夫 木瀬
Kizashi Fukui
萌 福井
Hiroo Nakamura
宏生 中村
Seiji Taketo
聖司 竹藤
Hidekazu Wada
英一 和田
Kazuto Ozaki
一人 尾崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP27565197A priority Critical patent/JPH1094931A/en
Publication of JPH1094931A publication Critical patent/JPH1094931A/en
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  • Coating Apparatus (AREA)
  • Jigs For Machine Tools (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To catch and support a substrate carried in by a substrate carrying in device and prevent the generation of a position shift caused by the retreat of a substrate support member until holding to the holding surface of a substrate stage. SOLUTION: A substrate stage 22 placed a square substrate and dispersed and formed a sucking hole for sucking and holding by a vaccume suction is installed movably in a horizontal direction and also a substrate support member 24 is installed on the substrate stage 22 so as to be advanced/retreated for the holding surface and further a vaccume suction hole 30 for sucking and holding the square substrate by the vaccume suction after opening in the tip side is installed on the substrate support member 24 and the substrate support member 24 is advanced/reteated and displaced under a state held the square substrate by the vaccume suction.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、液晶表示
装置用のガラス基板等の基板の表面に、例えば、フォト
レジスト液とかポリイミド樹脂とかカラーフィルタ材な
どの塗布液を塗布する場合とか、配向膜印刷を行う場合
などに用いるための基板保持ステージおよびそれを用い
たロールコータに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to the case where a coating liquid such as a photoresist liquid, a polyimide resin, a color filter material or the like is applied to the surface of a substrate such as a glass substrate for a liquid crystal display or the like. The present invention relates to a substrate holding stage used for performing film printing and the like and a roll coater using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】上述のような基板保持ステージを用いた
ロールコータとしては、従来、例えば、図12の概略断
面図に示すものが知られている。
2. Description of the Related Art As a roll coater using the above-described substrate holding stage, a roll coater shown in a schematic sectional view of FIG. 12 is conventionally known.

【0003】この従来例によれば、周面に微細ピッチの
溝加工を施したコーティングゴムロール01とメタルド
クタ02とが水平方向の軸芯周りで回転可能に並設さ
れ、そして、コーティングゴムロール01の外周面とメ
タルドクタ02の外周面とが所定の隙間を介して近接さ
れるとともに、メタルドクタ02を水平方向に変位する
ことによって隙間を調節可能に構成され、コーティング
ゴムロール01の外周面とメタルドクタ02の外周面と
によって塗布液貯留部03が形成されるとともに、そこ
に貯留される塗布液の粘度等に応じて前述した隙間を調
節するように構成されている。図中、04は塗布液供給
ノズルを示している。
[0003] According to this conventional example, a coating rubber roll 01 having a fine pitch groove formed on its peripheral surface and a metal doctor 02 are arranged side by side so as to be rotatable around a horizontal axis. The outer surface of the coating rubber roll 01 and the outer surface of the metal doctor 02 are configured such that the surface and the outer peripheral surface of the metal doctor 02 approach each other via a predetermined gap, and the gap is adjustable by displacing the metal doctor 02 in the horizontal direction. Thus, the coating liquid storage section 03 is formed, and the gap is adjusted according to the viscosity of the coating liquid stored therein. In the drawing, reference numeral 04 denotes a coating liquid supply nozzle.

【0004】コーティングゴムロール01の下方には、
基板05を水平方向に搬送する基板搬送ローラ06とバ
ックアップロール07とが設けられ、水平方向に搬送さ
れる基板05の表面に、バックアップロール07と同調
して回転させながらコーティングゴムロール01でもっ
て塗布液を塗布するように構成されている。
[0004] Below the coating rubber roll 01,
A substrate transport roller 06 for transporting the substrate 05 in the horizontal direction and a backup roll 07 are provided, and the coating liquid is applied to the surface of the substrate 05 transported in the horizontal direction by the coating rubber roll 01 while rotating in synchronization with the backup roll 07. Is applied.

【0005】ところで、上述従来例にあって、例えば、
基板05の搬送方向長さよりも短い所定の領域に塗布液
を塗布するなどといったように、基板05に対して所定
の領域にのみ塗布液を塗布しようとした場合、基板搬送
ローラ06で搬送される基板05にコーティングゴムロ
ール01で塗布するときに位置ズレを生じる問題があ
る。
By the way, in the above conventional example, for example,
When an application liquid is to be applied only to a predetermined area on the substrate 05, for example, the application liquid is applied to a predetermined area shorter than the length of the substrate 05 in the conveyance direction, the application liquid is conveyed by the substrate conveyance roller 06. There is a problem that a positional shift occurs when the coating is performed on the substrate 05 with the coating rubber roll 01.

【0006】そこで、このような基板05の搬送途中で
の位置ズレを防止するために、基板05を載置して真空
吸着により保持する基板ステージに、その保持面より出
退可能に金属製で円柱状の支持ピンを設けて構成した基
板保持ステージを用い、その基板保持ステージを水平方
向に往復移動することにより、真空吸着により保持した
状態で基板05を搬送しようとするものが提案されてい
る。
Therefore, in order to prevent such a displacement during the transportation of the substrate 05, a metal stage is provided on the substrate stage on which the substrate 05 is mounted and held by vacuum suction so as to be able to move out of the holding surface. It has been proposed to use a substrate holding stage configured by providing columnar support pins, and to reciprocate the substrate holding stage in the horizontal direction to transfer the substrate 05 while holding the substrate by vacuum suction. .

【0007】この提案技術によれば、支持ピンを突出さ
せた状態で基板搬送開始位置に位置させ、そこに、基板
搬入装置により吸着保持した基板05を搬入して下降す
るとともに基板搬入装置を基板ステージから離れる側に
退避させ、基板05を支持ピン上に載置した後に支持ピ
ンを下降することにより基板05を基板ステージ上に載
置して吸着保持させている。
According to this proposed technique, the support pins are protruded and positioned at the substrate transfer start position, and the substrate 05 sucked and held by the substrate carry-in device is carried in and descends. The substrate 05 is retracted to the side away from the stage, the substrate 05 is placed on the support pins, and then the support pins are lowered, whereby the substrate 05 is placed on the substrate stage and held by suction.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た支持ピンは、金属製で円柱状に形成されているため、
基板搬入装置から基板05を受け取った後に下降し、基
板ステージに吸着保持するまでの間に、支持ピン上で基
板05が横すべりするなどにより位置ズレを生じる不都
合があった。
However, since the above-mentioned support pins are made of metal and formed in a columnar shape,
There has been a problem that the substrate 05 may slide down on the support pins before the substrate 05 descends after receiving the substrate 05 from the substrate carry-in device and is held by suction on the substrate stage.

【0009】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、請求項1に係る発明の基板保持ステー
ジは、基板搬入装置で搬入されてくる基板を受け止め支
持し、基板ステージの保持面に保持させるまでの基板支
持部材の引退に起因する位置ズレ発生を防止できるよう
にすることを目的とし、また、請求項2に係る発明の基
板保持ステージは、位置ズレ発生をより良好に防止でき
るようにすることを目的とし、さらに、請求項3に係る
発明の基板保持ステージは、基板搬入装置で搬入されて
くる基板を受け止め支持し、基板ステージの保持面に吸
着保持させるまでの基板支持部材の引退に起因する位置
ズレ発生を防止できるようにすることを目的とし、そし
て、請求項4に係る発明のロールコータは、塗布液を基
板の所定位置に良好に塗布できるものを提供することを
目的とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and a substrate holding stage according to a first aspect of the present invention receives and supports a substrate carried in by a substrate carrying device, and supports the substrate stage. It is an object of the present invention to prevent the occurrence of a positional shift due to the retraction of the substrate supporting member until the substrate holding member is held on the holding surface. The substrate holding stage of the invention according to claim 3 receives and supports the substrate carried in by the substrate carrying-in device, and holds the substrate until the substrate is held by suction on the holding surface of the substrate stage. An object of the present invention is to provide a roll coater according to a fourth aspect of the present invention, in which a coating liquid is applied to a predetermined position on a substrate. And to provide what can be applied to.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明の基
板保持ステージは、上述のような目的を達成するため
に、基板を保持する基板保持ステージであって、前記基
板を保持する保持面を有する基板ステージと、前記基板
ステージの保持面に対して出退可能に設けられた基板支
持部材と、を有し、前記基板支持部材に、先端側で開口
して基板を真空吸着によって吸着保持する真空吸着孔を
設けて構成する。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a substrate holding stage for holding a substrate, wherein the holding surface holds the substrate. A substrate stage having a substrate stage, and a substrate support member provided to be able to move back and forth with respect to a holding surface of the substrate stage. A vacuum suction hole is provided.

【0011】また、請求項2に係る発明の基板保持ステ
ージは、上述のような目的を達成するために、上記請求
項1に記載の基板支持部材の先端を摩擦係数の大きい樹
脂で形成する。
According to a second aspect of the present invention, in order to achieve the above-mentioned object, the tip of the substrate supporting member according to the first aspect is formed of a resin having a large friction coefficient.

【0012】また、請求項3に係る発明の基板保持ステ
ージは、上述のような目的を達成するために、上記請求
項1に記載の基板ステージは保持面に吸着孔が形成さ
れ、真空吸着により基板を保持する。
According to a third aspect of the present invention, in order to achieve the above object, the substrate stage according to the first aspect of the present invention has a suction hole formed in a holding surface, and is provided by vacuum suction. Hold the substrate.

【0013】また、請求項4に係る発明のロールコータ
は、上述のような目的を達成するために、請求項1ない
し3のいずれかに記載の基板保持ステージ上に、基板ス
テージに保持された基板と相対的に昇降可能に塗布液塗
布用のアプリケータロールと、そのアプリケータロール
に塗布液を供給する塗布液貯留部とを設けて構成する。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a roll coater which is held on a substrate holding stage according to any one of the first to third aspects, in order to achieve the above object. An applicator roll for applying a coating liquid is provided so as to be able to move up and down relative to the substrate, and a coating liquid storage unit for supplying the coating liquid to the applicator roll is provided.

【0014】[0014]

【作用】請求項1に係る発明の基板保持ステージの構成
によれば、基板搬入装置で搬入されてくる基板を基板支
持部材で受け止めるとともに真空吸引によって吸着保持
し、その状態で基板ステージの保持面に対して基板支持
部材を引退して基板ステージの保持面に基板を保持させ
ることができる。
According to the structure of the substrate holding stage according to the first aspect of the present invention, the substrate carried in by the substrate carry-in device is received by the substrate supporting member and is sucked and held by vacuum suction. The substrate supporting member can be withdrawn to hold the substrate on the holding surface of the substrate stage.

【0015】請求項2に係る発明の基板保持ステージの
構成によれば、基板支持部材の先端での基板の滑りを防
止した状態で、基板を真空吸引によって吸着保持させる
ことができる。
According to the configuration of the substrate holding stage according to the second aspect of the present invention, the substrate can be suction-held by vacuum suction in a state where the substrate is prevented from sliding at the tip of the substrate support member.

【0016】請求項3に係る発明の基板保持ステージの
構成によれば、基板搬入装置で搬入されてくる基板を基
板支持部材で受け止めるとともに真空吸引によって吸着
保持し、その状態で基板ステージの保持面に対して基板
支持部材を引退して基板ステージの保持面に基板を真空
吸引によって吸着保持させることができる。
According to the structure of the substrate holding stage of the present invention, the substrate carried in by the substrate carry-in device is received by the substrate supporting member and is sucked and held by vacuum suction. The substrate supporting member can be retracted to hold the substrate on the holding surface of the substrate stage by vacuum suction.

【0017】請求項4に係る発明のロールコータの構成
によれば、基板ステージの保持面に位置ズレを生じるこ
と無く保持された基板に対し、アプリケータロールとの
相対昇降により塗布液を所定の領域に塗布することがで
きる。
According to the configuration of the roll coater of the invention according to the fourth aspect, the coating liquid is applied to the substrate held without causing a positional shift on the holding surface of the substrate stage by the relative lifting and lowering with the applicator roll. Can be applied to the area.

【0018】[0018]

【実施例】次に、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。
Next, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0019】図1は、本発明に係る基板保持ステージお
よびそれを用いたロールコータの実施例を示す全体側面
図、図2はその全体平面図、図3は要部の拡大側面図で
あり、基台1の上部に、水平方向に往復移動可能に基板
保持ステージ2が設けられ、基台1に、その基板搬送方
向下手側の水平方向の第1の軸芯P1周りで上下揺動可
能に支持枠3が設けられるとともに、その支持枠3に、
前記第1の軸芯P1に近い箇所で水平方向の第2の軸芯
P2周りで上下揺動可能に上部支持枠4が設けられてい
る。
FIG. 1 is an overall side view showing an embodiment of a substrate holding stage and a roll coater using the same according to the present invention, FIG. 2 is an overall plan view thereof, and FIG. A substrate holding stage 2 is provided on the upper part of the base 1 so as to be capable of reciprocating in the horizontal direction. The base 1 is capable of swinging up and down around a first horizontal axis P1 on the lower side in the substrate transfer direction. A support frame 3 is provided, and the support frame 3
An upper support frame 4 is provided at a location near the first axis P1 so as to be vertically swingable around a second axis P2 in the horizontal direction.

【0020】上部支持枠4に、周面が平滑な金属製のメ
タルロール5と、塗布液剪断用の段差部6,6によって
周面がほぼ円弧状に形成されたメタルドクタ7とが水平
方向の軸芯周りで回転可能に並設されている。
A metal roll 5 made of a metal having a smooth peripheral surface and a metal doctor 7 having a peripheral surface formed in a substantially arc shape by step portions 6 and 6 for shearing the coating liquid are provided on the upper support frame 4 in a horizontal direction. They are arranged side by side so as to be rotatable around the axis.

【0021】メタルロール5の外周面とメタルドクタ7
の外周面とが所定の隙間を介して近接されるとともに、
メタルドクタ7を水平方向に変位することによって隙間
を調節可能に構成され、メタルロール5の外周面とメタ
ルドクタ7の外周面とによって塗布液貯留部8が形成さ
れるとともに、そこに貯留される塗布液の粘度等に応じ
て前述した隙間を調節するように構成されている。図
中、9は塗布液供給ノズルを示している。
The outer peripheral surface of the metal roll 5 and the metal doctor 7
Is brought close to the outer peripheral surface through a predetermined gap,
The gap is adjustable by displacing the metal doctor 7 in the horizontal direction, and the outer peripheral surface of the metal roll 5 and the outer peripheral surface of the metal doctor 7 form the coating liquid storage portion 8 and the coating liquid stored therein. The above-mentioned gap is adjusted according to the viscosity or the like. In the figure, reference numeral 9 denotes a coating liquid supply nozzle.

【0022】メタルロール5の横側方には、スクレーパ
10とトレイ11とが設けられ、メタルロール5の外周
面に残存付着した残留塗布液、ならびに、角型基板Wに
塗布されなかった塗布液を回収するように構成されてい
る。
A scraper 10 and a tray 11 are provided on the lateral side of the metal roll 5. A residual coating liquid remaining on the outer peripheral surface of the metal roll 5 and a coating liquid not applied to the square substrate W are provided. Is configured to be collected.

【0023】支持枠3の基板搬送方向上手側箇所に、周
面が平滑で弾性を有するゴム製のアプリケータロール1
2が水平方向の軸芯周りで回転可能に取り付けられ、メ
タルロール5に対して遠近するとともに近接箇所では回
転方向が逆になるように同方向に回転し、メタルロール
5の外周面に付着して塗布液貯留部8から供給されてく
る塗布液をアプリケータロール12に転写するように構
成されている。
A rubber applicator roll 1 having a smooth peripheral surface and elasticity is provided on the upper side of the support frame 3 in the substrate transport direction.
2 is rotatably mounted around the horizontal axis, rotates in the same direction so that the direction of rotation is opposite to the metal roll 5 at the near and near locations, and adheres to the outer peripheral surface of the metal roll 5. The application liquid supplied from the application liquid storage unit 8 is transferred to the applicator roll 12.

【0024】基台1の角型基板Wの搬送方向両端の一方
側に基板搬入装置13が、そして、他方側に基板搬出装
置14がそれぞれ設けられている。基板搬入装置13お
よび基板搬出装置14それぞれは、角型基板Wを載置し
て搬送する基板搬送ローラ15…と、角型基板Wを真空
吸引によって吸着保持し、基台1に対して遠近する方向
に移動可能でかつ昇降可能な基板吸着アーム16とから
構成されている。
A substrate loading device 13 is provided on one side of both ends of the rectangular substrate W in the transport direction of the base 1, and a substrate unloading device 14 is provided on the other side. The substrate carrying-in device 13 and the substrate carrying-out device 14 respectively hold and transport the rectangular substrates W by suction and hold the rectangular substrates W by vacuum suction, and move toward and away from the base 1. And a substrate suction arm 16 that can move in the direction and move up and down.

【0025】基板搬送ローラ15…それぞれにおいて、
角型基板Wの搬送方向に直交する方向での幅を規制する
鍔17が付設され、一方、基板搬入装置13において、
その搬送方向後端にストッパー18,18が設けられ、
基板搬送ローラ15…によって搬送されてきた角型基板
Wを搬送方向後端で所定の姿勢に維持させ、その角型基
板Wを基板吸着アーム16で吸着保持して上昇させ、基
板保持ステージ2に搬入するように構成されている。
Substrate transport rollers 15...
A flange 17 for regulating the width of the rectangular substrate W in a direction perpendicular to the transport direction is provided.
Stoppers 18, 18 are provided at the rear end in the transport direction,
The rectangular substrate W transported by the substrate transport rollers 15 is maintained in a predetermined posture at the rear end in the transport direction, and the rectangular substrate W is sucked and held by the substrate suction arm 16 to be lifted. It is configured to be carried in.

【0026】基板保持ステージ2は、一対のガイド1
9,19と、零点検出器付のサーボモータ20で駆動回
転されるネジ軸21とによって水平方向に移動可能に基
板ステージ22を設け、この基板ステージ22に、図4
の平面図、および、図5の断面図(図4のA−A線断面
図)に示すように、微小な吸着孔23を全面に分散形成
するとともに、基板搬送方向と平行に2列に並ぶ状態で
筒軸状の基板支持部材24…を昇降により保持面に対し
て出退可能に設けて構成されている。
The substrate holding stage 2 includes a pair of guides 1
A substrate stage 22 is provided so as to be movable in the horizontal direction by a screw shaft 21 driven and rotated by a servomotor 20 with a zero point detector.
As shown in a plan view of FIG. 5 and a cross-sectional view of FIG. 5 (a cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 4), minute suction holes 23 are dispersedly formed on the entire surface and arranged in two rows in parallel with the substrate transport direction. In this state, the substrate supporting members 24 are provided so as to be able to move up and down with respect to the holding surface by lifting and lowering.

【0027】基板ステージ22の下方に、図6の側面図
(図4のB−B線断面図)、および、図7の断面図(図
5のC−C線断面図)それぞれに示すように、2本の中
空パイプ25,25が昇降可能に設けられている。中空
パイプ25,25それぞれに、4個の基板支持部材24
が連通する状態で一体的に取り付けられるとともに、両
中空パイプ25,25の長手方向両端がクランクアーム
26に連動連結され、かつ、クランクアーム26にエア
ーシリンダ27が連動連結され、エアーシリンダ27の
伸縮により、基板支持部材24を、保持面より突出して
角型基板Wを受け止める基板受け止め位置と、保持面よ
り引退して角型基板Wに作用しない非作用位置とにわた
って変位するように構成されている。
Below the substrate stage 22, as shown in a side view of FIG. 6 (a sectional view taken along the line BB of FIG. 4) and a sectional view of FIG. 7 (a sectional view taken along the line CC of FIG. 5), respectively. The two hollow pipes 25 are provided so as to be able to move up and down. Each of the hollow pipes 25, 25 has four substrate support members 24.
Are connected integrally with each other in a state where they communicate with each other, and both ends in the longitudinal direction of the two hollow pipes 25, 25 are operatively connected to a crank arm 26, and an air cylinder 27 is operatively connected to the crank arm 26. Thus, the substrate supporting member 24 is configured to be displaced between a substrate receiving position where the substrate supporting member 24 protrudes from the holding surface and receives the rectangular substrate W, and a non-operating position where the substrate supporting member 24 retreats from the holding surface and does not act on the rectangular substrate W. .

【0028】基板支持部材24は、図7に示すように、
中空管28の先端に、テフロン(デュポン社商標)、ポ
リプロピレン、ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ゴ
ムなどの摩擦係数の大きい樹脂材料で成形された筒体2
9が取り付けられ、中空管28に連ねて筒体29の先端
に真空吸着孔30が形成されている。請求項1に係る発
明の基板保持ステージとしては、上記筒体29を備えず
に中空管28だけで構成するものでも良い。
As shown in FIG. 7, the substrate support member 24
A cylindrical body 2 formed of a resin material having a large friction coefficient such as Teflon (trademark of DuPont), polypropylene, polyethylene, high-density polyethylene, rubber, etc.
9 is attached, and a vacuum suction hole 30 is formed at the distal end of the cylindrical body 29 in connection with the hollow tube 28. The substrate holding stage according to the first aspect of the present invention may be configured with only the hollow tube 28 without the cylindrical body 29.

【0029】両中空パイプ25,25の内部空間が仕切
り板(図示せず)で仕切られるとともに、その長手方向
の両端側それぞれに各別に真空吸引用チューブ31(図
1参照)が接続されている。
The internal spaces of the two hollow pipes 25, 25 are separated by partition plates (not shown), and vacuum suction tubes 31 (see FIG. 1) are respectively connected to both ends in the longitudinal direction. .

【0030】一方、図8の空気圧回路図に示すように、
基板ステージ22に形成された吸着孔23は、小さい角
型基板Wに対する小域吸着孔23Sと大きい角型基板W
に対する大域吸着孔23Lとに区別され、それらの小域
吸着孔23S、大域吸着孔23Lおよび真空吸着孔30
それぞれと真空ポンプ32とが電磁式のバルブVを介し
て接続されており、これら3種類の吸着孔の吸着動作が
それぞれ別々に制御できるように構成されている。
On the other hand, as shown in the pneumatic circuit diagram of FIG.
The suction holes 23 formed in the substrate stage 22 include a small area suction hole 23S for the small square substrate W and a large square substrate W.
, The small-sized suction holes 23S, the large-sized suction holes 23L, and the vacuum suction holes 30L.
Each of them is connected to a vacuum pump 32 via an electromagnetic valve V, so that the suction operations of these three types of suction holes can be individually controlled.

【0031】図9のブロック図に示すように、基板搬入
装置13の基板吸着アーム16の所定箇所に付設されて
角型基板Wを吸着保持したことを検出する静電容量式の
アーム用センサ33a、基板ステージ22の所定箇所に
付設されて角型基板Wを吸着保持したことを検出する静
電容量式のステージ用センサ33b、サーボモータ20
に付設された零点検出器兼用のロータリー・エンコーダ
34それぞれがマイクロコンピュータ35に接続される
とともに、そのマイクロコンピュータ35にサーボモー
タ20、エアーシリンダ27、支持枠3を昇降してアプ
リケータロール12を塗布位置と非塗布位置とに変位す
るロール昇降モータ36が接続されている。
As shown in the block diagram of FIG. 9, a capacitance type arm sensor 33a is provided at a predetermined position of the substrate suction arm 16 of the substrate carrying-in device 13 and detects that the rectangular substrate W is sucked and held. A capacitive stage sensor 33b attached to a predetermined portion of the substrate stage 22 for detecting that the rectangular substrate W is suctioned and held;
Are connected to a microcomputer 35, and the servomotor 20, the air cylinder 27, and the support frame 3 are moved up and down on the microcomputer 35 to apply the applicator roll 12. A roll elevating motor 36 that is displaced between the position and the non-coating position is connected.

【0032】また、マイクロコンピュータ35に、角型
基板Wの搬送方向上手側からの長さに基づいて角型基板
Wに対する塗布領域を設定する領域設定器37が接続さ
れている。
The microcomputer 35 is connected to an area setting device 37 for setting an application area for the rectangular substrate W based on the length of the rectangular substrate W from the upper side in the transport direction.

【0033】マイクロコンピュータ35には、基板支持
動作判別手段38とカウンタ39と領域判別手段40と
が備えられている。
The microcomputer 35 is provided with a substrate support operation determining means 38, a counter 39, and an area determining means 40.

【0034】基板支持動作判別手段38では、アーム用
センサ33aによって角型基板Wを吸着保持したことを
検出するに伴い、エアーシリンダ27を作動して基板支
持部材24…を基板受け止め位置まで上昇するようにな
っている。
The substrate support operation discriminating means 38 activates the air cylinder 27 to raise the substrate support members 24 to the substrate receiving position as the arm sensor 33a detects that the square substrate W has been sucked and held. It has become.

【0035】カウンタ39では、ステージ用センサ33
bによって角型基板Wを基板ステージ22に吸着保持し
たことを検出するに伴い、その時点を零点としてロータ
リー・エンコーダ34から出力されるパルス数を計測す
るようになっている。
In the counter 39, the stage sensor 33
When detecting that the square substrate W has been sucked and held on the substrate stage 22 by b, the number of pulses output from the rotary encoder 34 is measured with that time as a zero point.

【0036】領域判別手段40では、領域設定器37で
設定された領域と、カウンタ39で計測されるパルス数
とを比較して、角型基板Wに対する塗布開始位置と塗布
終了位置とを判別し、ロール昇降モータ36を作動して
所定の領域に塗布液を塗布するとともに、サーボモータ
20を作動して基板ステージ22を往復移動するように
なっている。
The area discriminating means 40 compares the area set by the area setting device 37 with the number of pulses measured by the counter 39 to determine the coating start position and the coating end position for the rectangular substrate W. Then, the coating liquid is applied to a predetermined area by operating the roll elevating motor 36, and the servo motor 20 is operated to reciprocate the substrate stage 22.

【0037】上記構成により、角型基板Wを真空吸着に
よって吸着保持する基板ステージ13を水平方向の始点
位置と終点位置とにわたって往復移動し、アプリケータ
ロール12の外周面を基板ステージ13上の角型基板W
の表面に押し付けながらその押し付け箇所では回転方向
が角型基板Wの移動方向と逆になるように回転させ、ア
プリケータロール12の外周面に供給された塗布液を角
型基板Wの表面の所定領域に塗布するようになってお
り、次に、その塗布動作を、図10のフローチャート、
および、図11の動作説明図を用いて説明する。
With the above-described structure, the substrate stage 13 for holding the rectangular substrate W by vacuum suction is reciprocated over the horizontal start point and end point, and the outer peripheral surface of the applicator roll 12 is moved to the corner on the substrate stage 13. Mold substrate W
While pressing against the surface of the rectangular substrate W, the application liquid supplied to the outer peripheral surface of the applicator roll 12 is rotated at a position where the rotation is opposite to the moving direction of the rectangular substrate W, and the coating liquid is supplied to the predetermined surface of the rectangular substrate W. The application operation is performed on the area, and then the application operation is described in a flowchart of FIG.
The operation will be described with reference to the operation explanatory diagram of FIG.

【0038】先ず、アーム用センサ33aにより基板吸
着アーム16上に角型基板Wが吸着保持されたことを検
出するに伴って基板支持部材24を上昇させ(S1)、
その後に、所定のバルブVを開いて真空吸着孔30…か
らの吸引を開始し(S2)、図11の(a)および
(b)に示すように、基板吸着アーム16により角型基
板Wを基板支持部材24上に搬入して吸着保持させる
(S3)。
First, as the arm sensor 33a detects that the rectangular substrate W has been suction-held on the substrate suction arm 16, the substrate support member 24 is raised (S1).
Thereafter, a predetermined valve V is opened to start suction from the vacuum suction holes 30 (S2), and the square substrate W is moved by the substrate suction arm 16 as shown in FIGS. 11A and 11B. It is carried on the substrate support member 24 and is held by suction (S3).

【0039】その後、図11の(c)に示すように、基
板吸着アーム16を退避させるとともに、所定のバルブ
Vを開いて吸着孔23…からの吸引を開始し(S4)、
しかる後に、図11の(d)に示すように、基板支持部
材24を下降させ(S5)、角型基板Wが基板ステージ
22に吸着保持されたことをステージ用センサ33bに
よって検出するに伴い、メタルロール5およびアプリケ
ータロール12の回転を開始して塗布液を供給する(S
6)とともに、基板ステージ22の移動を開始する(S
7)。
Thereafter, as shown in FIG. 11C, the substrate suction arm 16 is retracted, and a predetermined valve V is opened to start suction through the suction holes 23 (S4).
Thereafter, as shown in FIG. 11D, the substrate support member 24 is lowered (S5), and the stage sensor 33b detects that the square substrate W has been sucked and held on the substrate stage 22 by the stage sensor 33b. The rotation of the metal roll 5 and the applicator roll 12 is started to supply the coating liquid (S
6), the movement of the substrate stage 22 is started (S)
7).

【0040】次いで、領域判別手段40によって塗布開
始位置になったかどうかを判別し(S8)、塗布開始位
置になるに伴ってロール昇降モータ36を作動させてア
プリケータロール12を下降させ(S9)、しかる後
に、領域判別手段40によって塗布終了位置になったか
どうかを判別し(S10)、塗布終了位置になるに伴っ
てロール昇降モータ36を作動させてアプリケータロー
ル12を上昇させ(S11)、基板ステージ13上に吸
着保持された角型基板Wに対して、搬送方向の所望領域
にのみアプリケータロール12を押し付け、角型基板W
の表面に塗布液を塗布する。
Next, it is judged by the area judging means 40 whether or not the application start position has been reached (S8). As the application start position is reached, the roll elevating motor 36 is operated to lower the applicator roll 12 (S9). Thereafter, it is determined whether or not the application end position has been reached by the area determining means 40 (S10). As the application end position is reached, the roll lifting motor 36 is operated to raise the applicator roll 12 (S11). The applicator roll 12 is pressed against only the desired region in the transport direction against the square substrate W sucked and held on the substrate stage 13, and the square substrate W is pressed.
A coating solution is applied to the surface of.

【0041】その後、角型基板Wが基板搬出位置まで搬
送されるに伴い、基板ステージ22の移動を停止すると
ともに(S12)、バルブVを閉じて吸着孔23…およ
び真空吸着孔30…からの吸引を停止し(S13)、か
つ、基板支持部材24を上昇させて角型基板Wを基板ス
テージ22から離間する(S14)。
Thereafter, as the square substrate W is conveyed to the substrate unloading position, the movement of the substrate stage 22 is stopped (S12), and the valve V is closed to close the suction holes 23 and the vacuum suction holes 30. The suction is stopped (S13), and the substrate support member 24 is raised to separate the square substrate W from the substrate stage 22 (S14).

【0042】次いで、基板搬出装置14の基板吸着アー
ム16を角型基板Wの下方に挿入して持ち上げて搬出し
(S15)、その後に、連続処理かどうかを判別し(S
16)、連続処理であれば、ステップS2に移行し、基
板ステージ22を基板搬入位置まで戻してから上述動作
を繰り返し、一方、連続処理でなければ、ステップS1
7に移行し、メタルロール5およびアプリケータロール
12の回転を停止して(S17)処理を終了する。尚、
本実施例において、基板ステージ22に設けられた吸着
孔23は、図8に示されるように、小域吸着孔23Sと
大域吸着孔23Lとに分けられ、基板の大きさに応じて
別々にその吸着動作が制御され得るように構成されてい
るのに対して、基板支持部材24に形成された真空吸着
孔30の吸着動作は基板の大きさに応じて別々に制御す
ることができない。そこで、小域基板の場合には、基板
が載置されない基板支持部材24についてはキャップを
かぶせたりあるいは真空吸着孔を有さない従来のものと
交換するようにすれば良い。
Next, the substrate suction arm 16 of the substrate unloading device 14 is inserted below the rectangular substrate W, lifted and unloaded (S15), and thereafter, it is determined whether or not the processing is continuous (S15).
16) If it is a continuous process, the process proceeds to step S2, and the above operation is repeated after returning the substrate stage 22 to the substrate loading position.
Then, the process proceeds to S7, where the rotation of the metal roll 5 and the applicator roll 12 is stopped (S17), and the process ends. still,
In the present embodiment, the suction holes 23 provided in the substrate stage 22 are divided into small suction holes 23S and large suction holes 23L as shown in FIG. 8, and the suction holes 23 are separately formed according to the size of the substrate. While the suction operation is configured to be controlled, the suction operation of the vacuum suction holes 30 formed in the substrate support member 24 cannot be separately controlled according to the size of the substrate. Therefore, in the case of a small-area substrate, the substrate support member 24 on which the substrate is not placed may be covered with a cap or replaced with a conventional substrate having no vacuum suction hole.

【0043】本発明に係る基板保持ステージとしては、
上述実施例のロールコータに限らず、例えば、グラビア
メタルロールによって塗布液を供給するように構成した
タイプのロールコータなど各種構成のロールコータに適
用できる。
As the substrate holding stage according to the present invention,
The present invention can be applied not only to the roll coater of the above-described embodiment but also to various types of roll coaters such as a type of roll coater configured to supply a coating liquid by a gravure metal roll.

【0044】本発明としては、上述のような角型基板W
に限らず、各種の形状の基板に適用できる。
According to the present invention, the rectangular substrate W
The present invention is not limited to this, and can be applied to substrates of various shapes.

【0045】本発明としては、角型基板Wに対して塗布
液を塗布する状態と塗布しない状態とに切換えるのに、
アプリケータロール12を昇降しているが、基板保持ス
テージ2側を昇降するようにしても良い。
According to the present invention, it is possible to switch between a state in which the coating liquid is applied to the square substrate W and a state in which the coating liquid is not applied.
Although the applicator roll 12 is moved up and down, the applicator roll 12 may be moved up and down on the substrate holding stage 2 side.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1に係る発
明の基板保持ステージによれば、基板搬入装置で搬入さ
れてくる基板を受け止めてから基板ステージの保持面に
保持するまでの間、基板支持部材で基板を真空吸引によ
って吸着保持するから、基板支持部材の引退動作途中で
の位置ズレ発生を良好に防止できるようになった。
As described above, according to the substrate holding stage according to the first aspect of the present invention, the period from when the substrate carried in by the substrate carry-in device is received to when it is held on the holding surface of the substrate stage is maintained. Since the substrate is sucked and held by the substrate supporting member by vacuum suction, it is possible to satisfactorily prevent the occurrence of positional deviation during the retreating operation of the substrate supporting member.

【0047】請求項2に係る発明の基板保持ステージに
よれば、基板支持部材の先端を摩擦係数の大きい樹脂で
形成するから、基板支持部材による基板受け止め時の不
測の滑りなどを良好に防止でき、基板支持部材に起因す
る位置ズレ発生をより一層良好に防止できるようになっ
た。
According to the substrate holding stage of the second aspect of the present invention, since the tip of the substrate supporting member is formed of a resin having a large friction coefficient, unexpected slippage when the substrate supporting member receives the substrate can be satisfactorily prevented. In addition, it is possible to more favorably prevent the occurrence of positional deviation caused by the substrate supporting member.

【0048】請求項3に係る発明の基板保持ステージに
よれば、基板搬入装置で搬入されてくる基板を受け止め
てから基板ステージの保持面に吸着保持するまでの間、
基板支持部材で基板を真空吸引によって吸着保持するか
ら、基板支持部材の引退動作途中での位置ズレ発生を良
好に防止できるようになった。
According to the substrate holding stage of the invention according to claim 3, the period from when the substrate carried in by the substrate carry-in device is received to when it is sucked and held on the holding surface of the substrate stage.
Since the substrate is sucked and held by the substrate supporting member by vacuum suction, it is possible to satisfactorily prevent the occurrence of positional deviation during the retreating operation of the substrate supporting member.

【0049】請求項4に係る発明のロールコータの構成
によれば、基板ステージの保持面に位置ズレを生じるこ
と無く保持された基板に対し、その表面にアプリケータ
ロールで塗布液を塗布するから、塗布液を基板の所定の
領域に確実良好に塗布することができるようになった。
According to the configuration of the roll coater according to the fourth aspect of the present invention, the coating liquid is applied to the surface of the substrate held by the applicator roll without causing a positional shift on the holding surface of the substrate stage. As a result, it has become possible to reliably and satisfactorily apply the coating liquid to a predetermined region of the substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る基板保持ステージおよびそれを用
いたロールコータの実施例を示す全体側面図である。
FIG. 1 is an overall side view showing an embodiment of a substrate holding stage and a roll coater using the same according to the present invention.

【図2】全体平面図である。FIG. 2 is an overall plan view.

【図3】要部の拡大側面図である。FIG. 3 is an enlarged side view of a main part.

【図4】基板ステージの平面図である。FIG. 4 is a plan view of a substrate stage.

【図5】図4のA−A線断面図である。FIG. 5 is a sectional view taken along line AA of FIG. 4;

【図6】図4のB−B線断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along line BB of FIG. 4;

【図7】図5のC−C線断面図である。FIG. 7 is a sectional view taken along line CC of FIG. 5;

【図8】空気圧回路図である。FIG. 8 is a pneumatic circuit diagram.

【図9】ブロック図である。FIG. 9 is a block diagram.

【図10】フローチャートである。FIG. 10 is a flowchart.

【図11】動作説明図である。FIG. 11 is an operation explanatory diagram.

【図12】従来例を示す概略断面図である。FIG. 12 is a schematic sectional view showing a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

8…塗布液貯留部 12…アプリケータロール 22…基板ステージ 24…基板支持部材 30…真空吸着孔 W…角型基板 Reference Signs List 8: Coating liquid storage unit 12: Applicator roll 22: Substrate stage 24: Substrate support member 30: Vacuum suction hole W: Square substrate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 宏生 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内 (72)発明者 竹藤 聖司 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内 (72)発明者 和田 英一 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内 (72)発明者 尾崎 一人 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Hiroo Nakamura 1 at 480 Takamiyacho, Hikone City, Shiga Prefecture Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Hikone District Office (72) Inventor Seiji Takefuji 480 Takamiyacho, Hikone City, Shiga Prefecture 1 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. in the Hikone area business establishment (72) Inventor Eiichi Wada 480 Takamiya-cho, Hikone City, Shiga Prefecture 1 Nippon Mfg. Screen Manufacturing Co., Ltd. Hikone area business establishment (72) Inventor Hitoshi Ozaki, Hikone City, Shiga Prefecture 480 No. 1 in Takamiyacho Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板を保持する基板保持ステージであっ
て、 前記基板を保持する保持面を有する基板ステージと、 前記基板ステージの保持面に対して出退可能に設けられ
た基板支持部材と、 を有し、 前記基板支持部材に、先端側で開口して基板を真空吸着
によって吸着保持する真空吸着孔を設けたことを特徴と
する基板保持ステージ。
1. A substrate holding stage for holding a substrate, comprising: a substrate stage having a holding surface for holding the substrate; a substrate supporting member provided so as to be able to move out and with respect to the holding surface of the substrate stage; A substrate holding stage, wherein the substrate supporting member is provided with a vacuum suction hole which is opened at a front end side and suction-holds the substrate by vacuum suction.
【請求項2】 請求項1に記載の基板支持部材の先端を
摩擦係数の大きい樹脂で形成してある基板保持ステー
ジ。
2. A substrate holding stage, wherein a tip of the substrate supporting member according to claim 1 is formed of a resin having a high coefficient of friction.
【請求項3】 請求項1に記載の基板ステージは保持面
に吸着孔が形成され、真空吸着により基板を保持する基
板保持ステージ。
3. The substrate stage according to claim 1, wherein a suction hole is formed in the holding surface, and the substrate stage holds the substrate by vacuum suction.
【請求項4】 請求項1ないし3のいずれかに記載の基
板保持ステージ上に、基板ステージに保持された基板と
相対的に昇降可能に塗布液塗布用のアプリケータロール
と、そのアプリケータロールに塗布液を供給する塗布液
貯留部とを設けたロールコータ。
4. An applicator roll for applying a coating liquid on the substrate holding stage according to claim 1 so as to be movable up and down relative to the substrate held on the substrate stage, and the applicator roll. A roll coater provided with a coating liquid storage unit for supplying a coating liquid to the roll coater.
JP27565197A 1997-10-08 1997-10-08 Substrate holding stage and roll-coater using it Pending JPH1094931A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100410750C (en) * 2003-06-17 2008-08-13 友达光电股份有限公司 Carrying and inverting platform

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