JPH069844U - Substrate transfer stage and roll coater using the same - Google Patents

Substrate transfer stage and roll coater using the same

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JPH069844U
JPH069844U JP5527092U JP5527092U JPH069844U JP H069844 U JPH069844 U JP H069844U JP 5527092 U JP5527092 U JP 5527092U JP 5527092 U JP5527092 U JP 5527092U JP H069844 U JPH069844 U JP H069844U
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JP
Japan
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substrate
suction
stage
vacuum suction
coating liquid
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Application number
JP5527092U
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Japanese (ja)
Inventor
一夫 木瀬
萌 福井
宏生 中村
聖司 竹藤
英一 和田
一人 尾崎
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Screen Holdings Co Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Screen Holdings Co Ltd
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH069844U publication Critical patent/JPH069844U/en
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板搬入装置で搬入されてくる基板を受け止
め支持し、基板載置ステージ上に吸着保持させるまでの
基板支持部材の下降に起因する位置ズレ発生を防止す
る。 【構成】 角型基板を載置して真空吸着により吸着保持
する吸着孔を分散形成した基板載置ステージ22を水平
方向に移動可能に設けるとともに、基板載置ステージ2
2に、その基板載置面に対して出退可能に基板支持部材
24を設け、更に、基板支持部材24に、先端側で開口
して角型基板を真空吸着によって吸着保持する真空吸着
孔30を設け、角型基板を真空吸着により保持した状態
で基板支持部材24を出退変位させる。
(57) [Abstract] [Purpose] A substrate is carried in by a substrate carry-in device, receives and supports a substrate, and prevents the occurrence of positional deviation due to the lowering of the substrate support member until the substrate is held by suction on the stage. A substrate mounting stage 22 on which a rectangular substrate is mounted and suction holes for sucking and holding by vacuum suction are dispersedly formed is provided so as to be movable in the horizontal direction, and the substrate mounting stage 2 is also provided.
2, a substrate supporting member 24 is provided so as to be able to move in and out of the substrate mounting surface, and further, a vacuum suction hole 30 that is opened at the front end side of the substrate supporting member 24 and suction-holds a rectangular substrate by vacuum suction. Is provided, and the substrate support member 24 is displaced in the retracted state while the rectangular substrate is held by vacuum suction.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the device]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】[Industrial applications]

本考案は、例えば、液晶表示装置用のガラス基板等の基板の表面に、例えば、 フォトレジスト液とかポリイミド樹脂とかカラーフィルタ材などの塗布液を塗布 する場合とか、配向膜印刷を行う場合などに用いるために、基板を載置して真空 吸着により吸着保持する基板載置ステージを水平方向に移動可能に設けるととも に、基板載置ステージに、その基板載置面に対して出退可能に基板支持部材を設 けた基板搬送ステージおよびそれを用いたロールコータに関する。 The present invention is applicable, for example, to coating a surface of a substrate such as a glass substrate for a liquid crystal display device with a coating liquid such as a photoresist liquid, a polyimide resin, or a color filter material, or to perform alignment film printing. For use, a substrate mounting stage that mounts a substrate and holds the substrate by vacuum suction is provided so as to be movable in the horizontal direction, and the substrate mounting stage can be moved in and out of the substrate mounting surface. The present invention relates to a substrate transfer stage provided with a substrate support member and a roll coater using the stage.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

上述のような基板搬送ステージを用いたロールコータとしては、従来、例えば 、図12の概略断面図に示すものが知られている。 As a roll coater using the substrate transfer stage as described above, a roll coater shown in the schematic cross-sectional view of FIG. 12 is conventionally known.

【0003】 この従来例によれば、周面に微細ピッチの溝加工を施したコーティングゴムロ ール01とメタルドクタ02とが水平方向の軸芯周りで回転可能に並設され、そ して、コーティングゴムロール01の外周面とメタルドクタ02の外周面とが所 定の隙間を介して近接されるとともに、メタルドクタ02を水平方向に変位する ことによって隙間を調節可能に構成され、コーティングゴムロール01の外周面 とメタルドクタ02の外周面とによって塗布液貯留部03が形成されるとともに 、そこに貯留される塗布液の粘度等に応じて前述した隙間を調節するように構成 されている。図中、04は塗布液供給ノズルを示している。According to this conventional example, a coating rubber roll 01 and a metal doctor 02, which have grooves formed on the peripheral surface with a fine pitch, are rotatably arranged side by side around a horizontal axis, and The outer peripheral surface of the coating rubber roll 01 and the outer peripheral surface of the metal doctor 02 are brought close to each other with a predetermined gap, and the gap can be adjusted by displacing the metal doctor 02 in the horizontal direction. The coating liquid storage part 03 is formed by the outer peripheral surface of the metal doctor 02, and the above-mentioned gap is adjusted according to the viscosity of the coating liquid stored therein. In the figure, reference numeral 04 indicates a coating liquid supply nozzle.

【0004】 コーティングゴムロール01の下方には、基板05を水平方向に搬送する基板 搬送ローラ06とバックアップロール07とが設けられ、水平方向に搬送される 基板05の表面に、バックアップロール07と同調して回転させながらコーティ ングゴムロール01でもって塗布液を塗布するように構成されている。A substrate transfer roller 06 and a backup roll 07 for horizontally transferring the substrate 05 are provided below the coating rubber roll 01, and the surface of the substrate 05 that is horizontally transferred is synchronized with the backup roll 07. The coating liquid is applied by the coating rubber roll 01 while rotating the roller.

【0005】 ところで、上述従来例にあって、例えば、基板05の搬送方向長さよりも短い 所定の領域に塗布液を塗布するなどといったように、基板05に対して所定の領 域にのみ塗布液を塗布しようとした場合、基板搬送ローラ06で搬送される基板 05にコーティングゴムロール01で塗布するときに位置ズレを生じる問題があ る。By the way, in the above-described conventional example, for example, the coating liquid is applied to a predetermined region shorter than the length of the substrate 05 in the transport direction, and the coating liquid is applied only to a predetermined region on the substrate 05. However, there is a problem that when the coating rubber roll 01 is applied to the substrate 05 conveyed by the substrate conveying roller 06, a positional deviation occurs.

【0006】 そこで、このような基板05の搬送途中での位置ズレを防止するために、基板 05を載置して真空吸着により保持する基板載置ステージに、その載置面より出 退可能に金属製で円柱状の支持ピンを設けて構成した基板搬送ステージを用い、 その基板搬送ステージを水平方向に往復移動することにより、真空吸着により保 持した状態で基板05を搬送しようとするものが提案されている。Therefore, in order to prevent such a positional deviation of the substrate 05 during transportation, it is possible to move the substrate 05 to and from the substrate mounting stage that holds the substrate 05 by vacuum suction. There is a substrate transfer stage that is made of metal and provided with columnar support pins, and moves the substrate transfer stage back and forth in the horizontal direction to transfer the substrate 05 while holding it by vacuum suction. Proposed.

【0007】 この提案技術によれば、支持ピンを突出させた状態で基板搬送開始位置に位置 させ、そこに、基板搬入装置により吸着保持した基板05を搬入して下降すると ともに基板搬入装置を基板載置ステージから離れる側に退避させ、基板05を支 持ピン上に載置した後に支持ピンを下降することにより基板05を基板載置ステ ージ上に載置して吸着保持させている。According to this proposed technique, the support pin is positioned at the substrate transfer start position in a protruding state, the substrate 05 sucked and held by the substrate transfer device is loaded therein, and the substrate transfer device is moved downward. The substrate 05 is evacuated to the side away from the mounting stage, the substrate 05 is mounted on the support pins, and then the support pins are lowered to mount the substrate 05 on the substrate mounting stage and hold it by suction.

【0008】[0008]

【考案が解決しようとする課題】[Problems to be solved by the device]

しかしながら、前述した支持ピンは、金属製で円柱状に形成されているため、 基板搬入装置から基板05を受け取った後に下降し、基板載置ステージに吸着保 持するまでの間に、支持ピン上で基板05が横すべりするなどにより位置ズレを 生じる不都合があった。 However, since the above-mentioned support pin is made of metal and has a cylindrical shape, it is lowered after receiving the substrate 05 from the substrate carry-in device and is held on the support pin until it is sucked and held on the substrate mounting stage. However, there was a problem that the substrate 05 slips and the position is displaced.

【0009】 本考案は、このような事情に鑑みてなされたものであって、請求項1に係る考 案の基板搬送ステージは、基板搬入装置で搬入されてくる基板を受け止め支持し 、基板載置ステージ上に吸着保持させるまでの基板支持部材の下降に起因する位 置ズレ発生を防止できるようにすることを目的とし、また、請求項2に係る考案 の基板搬送ステージは、位置ズレ発生をより良好に防止できるようにすることを 目的とし、そして、請求項3に係る考案のロールコータは、塗布液を基板の所定 位置に良好に塗布できるものを提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above circumstances, and the substrate transfer stage according to the first aspect of the present invention receives and supports a substrate loaded by a substrate loading device, and mounts the substrate. The purpose of the present invention is to prevent the occurrence of displacement due to the lowering of the substrate supporting member until the substrate is sucked and held on the mounting stage, and the substrate transfer stage of the invention according to claim 2 can prevent the displacement. The roll coater according to the third aspect of the present invention is intended to provide a coating solution that can be well coated at a predetermined position on a substrate.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】[Means for Solving the Problems]

請求項1に係る考案の基板搬送ステージは、上述のような目的を達成するため に、基板を載置して真空吸着により吸着保持する基板載置ステージを水平方向に 移動可能に設けるとともに、基板載置ステージに、その基板載置面に対して出退 可能に基板支持部材を設けた基板搬送ステージにおいて、基板支持部材に、先端 側で開口して基板を真空吸着によって吸着保持する真空吸着孔を設けて構成する 。 In order to achieve the above-mentioned object, the substrate transfer stage of the invention according to claim 1 is provided with a substrate mounting stage for mounting a substrate and holding the substrate by vacuum suction so that the substrate can be moved in the horizontal direction. In a substrate transfer stage in which a substrate supporting member is provided on the mounting stage so as to be able to move in and out of the substrate mounting surface, a vacuum suction hole that is opened at the front end side of the substrate supporting member and suction-holds the substrate by vacuum suction Is provided and configured.

【0011】 また、請求項2に係る考案の基板搬送ステージは、上述のような目的を達成す るために、上記請求項1に記載の基板支持部材の先端を摩擦係数の大きい樹脂で 形成する。In order to achieve the above object, the substrate transfer stage of the invention according to claim 2 forms the tip of the substrate support member according to claim 1 with a resin having a large friction coefficient. .

【0012】 また、請求項3に係る考案のロールコータは、上述のような目的を達成するた めに、請求項1または2に記載の基板搬送ステージを用い、その基板搬送ステー ジ上に、基板載置ステージに吸着保持された基板と相対的に昇降可能に塗布液塗 布用のアプリケータロールと、そのアプリケータロールに塗布液を供給する塗布 液貯留部とを設けて構成する。In order to achieve the above-mentioned object, the roll coater of the invention according to claim 3 uses the substrate transfer stage according to claim 1 or 2, and on the substrate transfer stage, An applicator roll for applying a coating liquid is provided so as to be able to move up and down relative to the substrate suction-held on the substrate mounting stage, and a coating liquid storage unit for supplying the coating liquid to the applicator roll is provided.

【0013】[0013]

【作用】[Action]

請求項1に係る考案の基板搬送ステージの構成によれば、基板搬入装置で搬入 されてくる基板を基板支持部材で受け止めるとともに真空吸引によって吸着保持 し、その状態で下降して基板載置ステージ上に基板を載置するとともに真空吸引 によって吸着保持させることができる。 According to the structure of the substrate transfer stage of the invention according to claim 1, the substrate carried in by the substrate carry-in device is received by the substrate support member and sucked and held by the vacuum suction, and then descends in that state and onto the substrate mounting stage. The substrate can be placed on and held by suction by vacuum suction.

【0014】 請求項2に係る考案の基板搬送ステージの構成によれば、基板支持部材上での 基板の滑りを防止した状態で、基板を真空吸引によって吸着保持させることがで きる。With the structure of the substrate transfer stage according to the second aspect of the present invention, the substrate can be sucked and held by vacuum suction while the substrate is prevented from sliding on the substrate supporting member.

【0015】 請求項3に係る考案のロールコータの構成によれば、基板載置ステージ上に位 置ズレを生じること無く載置して吸着保持された基板に対し、アプリケータロー ルとの相対昇降により塗布液を所定の領域に塗布することができる。According to the configuration of the roll coater of the third aspect of the present invention, the relative elevation with the applicator roll is performed with respect to the substrate that is mounted and adsorbed and held on the substrate mounting stage without causing displacement. Thus, the coating liquid can be applied to a predetermined area.

【0016】[0016]

【実施例】【Example】

次に、本考案の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。 Next, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0017】 図1は、本考案に係る基板搬送ステージおよびそれを用いたロールコータの実 施例を示す全体側面図、図2はその全体平面図、図3は要部の拡大側面図であり 、基台1の上部に、水平方向に往復移動可能に基板搬送ステージ2が設けられ、 基台1に、その基板搬送方向下手側の水平方向の第1の軸芯P1周りで上下揺動 可能に支持枠3が設けられるとともに、その支持枠3に、前記第1の軸芯P1に 近い箇所で水平方向の第2の軸芯P2周りで上下揺動可能に上部支持枠4が設け られている。FIG. 1 is an overall side view showing an embodiment of a substrate transfer stage and a roll coater using the same according to the present invention, FIG. 2 is an overall plan view thereof, and FIG. 3 is an enlarged side view of essential parts. A substrate transfer stage 2 is provided on the upper part of the base 1 so as to be capable of reciprocating in the horizontal direction, and the base 1 can be vertically swung around a horizontal first axis P1 on the lower side of the substrate transfer direction. Is provided with a support frame 3, and the support frame 3 is provided with an upper support frame 4 that is vertically swingable around a second axis P2 in the horizontal direction at a position close to the first axis P1. There is.

【0018】 上部支持枠4に、周面が平滑な金属製のメタルロール5と、塗布液剪断用の段 差部6,6によって周面がほぼ円弧状に形成されたメタルドクタ7とが水平方向 の軸芯周りで回転可能に並設されている。In the upper support frame 4, a metal roll 5 made of a metal having a smooth peripheral surface and a metal doctor 7 having a peripheral surface formed in a substantially arc shape by the step portions 6 and 6 for shearing the coating liquid are arranged in the horizontal direction. Are arranged side by side so as to be rotatable around the axis.

【0019】 メタルロール5の外周面とメタルドクタ7の外周面とが所定の隙間を介して近 接されるとともに、メタルドクタ7を水平方向に変位することによって隙間を調 節可能に構成され、メタルロール5の外周面とメタルドクタ7の外周面とによっ て塗布液貯留部8が形成されるとともに、そこに貯留される塗布液の粘度等に応 じて前述した隙間を調節するように構成されている。図中、9は塗布液供給ノズ ルを示している。The outer peripheral surface of the metal roll 5 and the outer peripheral surface of the metal doctor 7 are brought into close contact with each other through a predetermined gap, and the gap can be adjusted by displacing the metal doctor 7 in the horizontal direction. The outer peripheral surface of 5 and the outer peripheral surface of the metal doctor 7 form a coating liquid storage portion 8 and are configured to adjust the above-mentioned gap according to the viscosity of the coating liquid stored therein. There is. In the figure, 9 indicates the coating liquid supply nozzle.

【0020】 メタルロール5の横側方には、スクレーパ10とトレイ11とが設けられ、メ タルロール5の外周面に残存付着した残留塗布液、ならびに、角型基板Wに塗布 されなかった塗布液を回収するように構成されている。A scraper 10 and a tray 11 are provided on the lateral side of the metal roll 5, and the residual coating liquid remaining on the outer peripheral surface of the metal roll 5 and the coating liquid not applied to the rectangular substrate W are provided. Is configured to recover.

【0021】 支持枠3の基板搬送方向上手側箇所に、周面が平滑で弾性を有するゴム製のア プリケータロール12が水平方向の軸芯周りで回転可能に取り付けられ、メタル ロール5に対して遠近するとともに近接箇所では回転方向が逆になるように同方 向に回転し、メタルロール5の外周面に付着して塗布液貯留部8から供給されて くる塗布液をアプリケータロール12に転写するように構成されている。An applicator roll 12 made of rubber having a smooth peripheral surface and elasticity is attached rotatably around a horizontal axis at a position on the upper side of the support frame 3 in the substrate transport direction, with respect to the metal roll 5. The coating liquid supplied to the coating liquid storage unit 8 from the coating liquid storage unit 8 is transferred to the applicator roll 12 by rotating in the same direction so that the rotation direction is reversed in the vicinity of the metal roll 5. Is configured to.

【0022】 基台1の角型基板Wの搬送方向両端の一方側に基板搬入装置13が、そして、 他方側に基板搬出装置14がそれぞれ設けられている。基板搬入装置13および 基板搬出装置14それぞれは、角型基板Wを載置して搬送する基板搬送ローラ1 5…と、角型基板Wを真空吸引によって吸着保持し、基台1に対して遠近する方 向に移動可能でかつ昇降可能な基板吸着アーム16とから構成されている。A substrate loading device 13 is provided on one side of both ends of the rectangular substrate W in the transport direction of the base 1, and a substrate unloading device 14 is provided on the other side. Each of the substrate carry-in device 13 and the substrate carry-out device 14 holds the rectangular substrate W and conveys it, and the rectangular substrate W by vacuum suction. It is composed of a substrate suction arm 16 that is movable in the direction of movement and can be moved up and down.

【0023】 基板搬送ローラ15…それぞれにおいて、角型基板Wの搬送方向に直交する方 向での幅を規制する鍔17が付設され、一方、基板搬入装置13において、その 搬送方向後端にストッパー18,18が設けられ、基板搬送ローラ15…によっ て搬送されてきた角型基板Wを搬送方向後端で所定の姿勢に維持させ、その角型 基板Wを基板吸着アーム16で吸着保持して上昇させ、基板搬送ステージ2に搬 入するように構成されている。Each of the substrate transport rollers 15 is provided with a collar 17 for restricting the width of the rectangular substrate W in the direction orthogonal to the transport direction, and on the other hand, in the substrate loading device 13, a stopper is provided at the rear end in the transport direction. 18 is provided, the rectangular substrate W transported by the substrate transport rollers 15 ... Is maintained in a predetermined posture at the rear end in the transport direction, and the rectangular substrate W is suction-held by the substrate suction arm 16. It is configured to be lifted up and loaded into the substrate transfer stage 2.

【0024】 基板搬送ステージ2は、一対のガイド19,19と、零点検出器付のサーボモ ータ20で駆動回転されるネジ軸21とによって水平方向に移動可能に基板載置 ステージ22を設け、この基板載置ステージ22に、図4の平面図、および、図 5の断面図(図4のA−A線断面図)に示すように、微小な吸着孔23を全面に 分散形成するとともに、基板搬送方向と平行に2列に並ぶ状態で筒軸状の基板支 持部材24…を昇降により基板載置面に対して出退可能に設けて構成されている 。The substrate transfer stage 2 is provided with a substrate mounting stage 22 movably in a horizontal direction by a pair of guides 19 and 19 and a screw shaft 21 driven and rotated by a servo motor 20 having a zero detector. As shown in the plan view of FIG. 4 and the cross-sectional view of FIG. 5 (cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 4), the substrate mounting stage 22 has minute suction holes 23 dispersedly formed on the entire surface. In the state of being arranged in two rows parallel to the substrate transfer direction, cylindrical shaft-shaped substrate support members 24 ... Are provided so as to be able to move in and out of the substrate mounting surface by elevating.

【0025】 基板載置ステージ22の下方に、図6の側面図(図4のB−B線断面図)、お よび、図7の断面図(図5のC−C線断面図)それぞれに示すように、2本の中 空パイプ25,25が昇降可能に設けられている。中空パイプ25,25それぞ れに、4個の基板支持部材24が連通する状態で一体的に取り付けられるととも に、両中空パイプ25,25の長手方向両端がクランクアーム26に連動連結さ れ、かつ、クランクアーム26にエアーシリンダ27が連動連結され、エアーシ リンダ27の伸縮により、基板支持部材24を、基板載置面より突出して角型基 板Wを受け止める基板受け止め位置と、基板載置面より引退して角型基板Wに作 用しない非作用位置とにわたって変位するように構成されている。Below the substrate mounting stage 22, a side view of FIG. 6 (a sectional view taken along the line BB of FIG. 4) and a sectional view of FIG. 7 (a sectional view taken along the line CC of FIG. 5) are shown. As shown, two hollow pipes 25, 25 are provided so as to be able to move up and down. The four substrate supporting members 24 are integrally attached to the hollow pipes 25, 25 so as to communicate with each other, and both longitudinal ends of the hollow pipes 25, 25 are interlockingly connected to the crank arm 26. An air cylinder 27 is interlocked with the crank arm 26, and the expansion and contraction of the air cylinder 27 causes the substrate support member 24 to project from the substrate placement surface to receive the rectangular substrate W and a substrate receiving position and a substrate placement position. It is configured to be retreated from the surface and to be displaced over a non-acting position where the rectangular substrate W is not operated.

【0026】 基板支持部材24は、図7に示すように、中空管28の先端に、テフロン(デ ュポン社商標)、ポリプロピレン、ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ゴムな どの摩擦係数の大きい樹脂材料で成形された筒体29が取り付けられ、中空管2 8に連ねて筒体29の先端に真空吸着孔30が形成されている。請求項1に係る 考案の基板搬送ステージとしては、上記筒体29を備えずに中空管28だけで構 成するものでも良い。As shown in FIG. 7, the substrate supporting member 24 is made of a resin material having a large coefficient of friction such as Teflon (trademark of Dupont), polypropylene, polyethylene, high density polyethylene, or rubber at the tip of the hollow tube 28. A molded tubular body 29 is attached, and a vacuum suction hole 30 is formed at the tip of the tubular body 29 so as to be continuous with the hollow tube 28. The substrate transfer stage of the invention according to claim 1 may be configured by only the hollow tube 28 without the cylindrical body 29.

【0027】 両中空パイプ25,25の内部空間が仕切り板(図示せず)で仕切られるとと もに、その長手方向の両端側それぞれに各別に真空吸引用チューブ31(図1参 照)が接続されている。The inner space of both hollow pipes 25, 25 is partitioned by a partition plate (not shown), and a vacuum suction tube 31 (see FIG. 1) is provided on each of both longitudinal ends thereof. It is connected.

【0028】 一方、図8の空気圧回路図に示すように、基板載置ステージ22に形成された 吸着孔23は、小さい角型基板Wに対する小域吸着孔23Sと大きい角型基板W に対する大域吸着孔23Lとに区別され、それらの小域吸着孔23S、大域吸着 孔23Lおよび真空吸着孔30それぞれと真空ポンプ32とが電磁式のバルブV を介して接続されており、これら3種類の吸着孔の吸着動作がそれぞれ別々に制 御できるように構成されている。On the other hand, as shown in the pneumatic circuit diagram of FIG. 8, the suction holes 23 formed in the substrate mounting stage 22 are small suction holes 23S for the small rectangular substrate W and large suction holes for the large rectangular substrate W 2. The small area suction hole 23S, the large area suction hole 23L, and the vacuum suction hole 30 are respectively connected to the vacuum pump 32 through an electromagnetic valve V. It is configured so that each suction operation can be controlled separately.

【0029】 図9のブロック図に示すように、基板搬入装置13の基板吸着アーム16の所 定箇所に付設されて角型基板Wを吸着保持したことを検出する静電容量式のアー ム用センサ33a、基板載置ステージ22の所定箇所に付設されて角型基板Wを 吸着保持したことを検出する静電容量式のステージ用センサ33b、サーボモー タ20に付設された零点検出器兼用のロータリー・エンコーダ34それぞれがマ イクロコンピュータ35に接続されるとともに、そのマイクロコンピュータ35 にサーボモータ20、エアーシリンダ27、支持枠3を昇降してアプリケータロ ール12を塗布位置と非塗布位置とに変位するロール昇降モータ36が接続され ている。As shown in the block diagram of FIG. 9, for a capacitance type arm that is attached to a predetermined position of the substrate suction arm 16 of the substrate carry-in device 13 and detects that the rectangular substrate W is suction-held. A sensor 33a, a capacitance type stage sensor 33b attached to a predetermined position of the substrate mounting stage 22 for detecting that the rectangular substrate W is adsorbed and held, and a zero point detector rotary attached to the servomotor 20.・ Each encoder 34 is connected to the micro computer 35, and the servo motor 20, air cylinder 27, and support frame 3 are moved up and down by the microcomputer 35 to displace the applicator roll 12 between the application position and the non-application position. A roll elevating motor 36 is connected.

【0030】 また、マイクロコンピュータ35に、角型基板Wの搬送方向上手側からの長さ に基づいて角型基板Wに対する塗布領域を設定する領域設定器37が接続されて いる。Further, the microcomputer 35 is connected to a region setting device 37 that sets a coating region for the rectangular substrate W based on the length of the rectangular substrate W from the upstream side in the transport direction.

【0031】 マイクロコンピュータ35には、基板支持動作判別手段38とカウンタ39と 領域判別手段40とが備えられている。The microcomputer 35 is provided with a substrate supporting operation discriminating means 38, a counter 39 and an area discriminating means 40.

【0032】 基板支持動作判別手段38では、アーム用センサ33aによって角型基板Wを 吸着保持したことを検出するに伴い、エアーシリンダ27を作動して基板支持部 材24…を基板受け止め位置まで上昇するようになっている。In the substrate supporting operation determining means 38, the air cylinder 27 is operated to raise the substrate supporting members 24, ... To the substrate receiving position in accordance with the fact that the rectangular substrate W is adsorbed and held by the arm sensor 33a. It is supposed to do.

【0033】 カウンタ39では、ステージ用センサ33bによって角型基板Wを基板載置ス テージ22に吸着保持したことを検出するに伴い、その時点を零点としてロータ リー・エンコーダ34から出力されるパルス数を計測するようになっている。The counter 39 detects the fact that the rectangular substrate W is adsorbed and held on the substrate mounting stage 22 by the stage sensor 33 b, and the number of pulses output from the rotary encoder 34 with the time point as a zero point. Is designed to measure.

【0034】 領域判別手段40では、領域設定器37で設定された領域と、カウンタ39で 計測されるパルス数とを比較して、角型基板Wに対する塗布開始位置と塗布終了 位置とを判別し、ロール昇降モータ36を作動して所定の領域に塗布液を塗布す るとともに、サーボモータ20を作動して基板載置ステージ22を往復移動する ようになっている。The area determination means 40 compares the area set by the area setting device 37 with the number of pulses measured by the counter 39 to determine the coating start position and the coating end position for the rectangular substrate W. The roll elevating motor 36 is operated to apply the coating liquid to a predetermined area, and the servo motor 20 is operated to reciprocate the substrate mounting stage 22.

【0035】 上記構成により、角型基板Wを真空吸着によって吸着保持する基板載置ステー ジ13を水平方向の始点位置と終点位置とにわたって往復移動し、アプリケータ ロール12の外周面を基板載置ステージ13上の角型基板Wの表面に押し付けな がらその押し付け箇所では回転方向が角型基板Wの移動方向と逆になるように回 転させ、アプリケータロール12の外周面に供給された塗布液を角型基板Wの表 面の所定領域に塗布するようになっており、次に、その塗布動作を、図10のフ ローチャート、および、図11の動作説明図を用いて説明する。With the above configuration, the substrate mounting stage 13 for sucking and holding the rectangular substrate W by vacuum suction is reciprocated between the starting position and the ending position in the horizontal direction, and the outer peripheral surface of the applicator roll 12 is mounted on the substrate. While pressing against the surface of the rectangular substrate W on the stage 13, at the pressing position, it is rotated so that the rotation direction is opposite to the moving direction of the rectangular substrate W, and the coating applied to the outer peripheral surface of the applicator roll 12 is applied. The liquid is applied to a predetermined area on the surface of the rectangular substrate W. Next, the applying operation will be described with reference to the flowchart of FIG. 10 and the operation explanatory diagram of FIG. 11.

【0036】 先ず、アーム用センサ33aにより基板吸着アーム16上に角型基板Wが吸着 保持されたことを検出するに伴って基板支持部材24を上昇させ(S1)、その 後に、所定のバルブVを開いて真空吸着孔30…からの吸引を開始し(S2)、 図11の(a)および(b)に示すように、基板吸着アーム16により角型基板 Wを基板支持部材24上に搬入して吸着保持させる(S3)。First, the substrate support member 24 is moved up in response to the detection of the adsorption and holding of the rectangular substrate W on the substrate adsorption arm 16 by the arm sensor 33a (S1), and then the predetermined valve V To start sucking from the vacuum suction holes 30 ... (S2), and the square substrate W is loaded onto the substrate support member 24 by the substrate suction arm 16 as shown in FIGS. And hold it by adsorption (S3).

【0037】 その後、図11の(c)に示すように、基板吸着アーム16を退避させるとと もに、所定のバルブVを開いて吸着孔23…からの吸引を開始し(S4)、しか る後に、図11の(d)に示すように、基板支持部材24を下降させ(S5)、 角型基板Wが基板載置ステージ22に吸着保持されたことをステージ用センサ3 3bによって検出するに伴い、メタルロール5およびアプリケータロール12の 回転を開始して塗布液を供給する(S6)とともに、基板載置ステージ22の移 動を開始する(S7)。After that, as shown in FIG. 11C, the substrate suction arm 16 is retracted, the predetermined valve V is opened, and suction from the suction holes 23 ... Is started (S4). After that, as shown in FIG. 11 (d), the substrate support member 24 is lowered (S5), and it is detected by the stage sensor 33b that the rectangular substrate W is adsorbed and held by the substrate mounting stage 22. Accordingly, the rotation of the metal roll 5 and the applicator roll 12 is started to supply the coating liquid (S6), and at the same time, the movement of the substrate mounting stage 22 is started (S7).

【0038】 次いで、領域判別手段40によって塗布開始位置になったかどうかを判別し( S8)、塗布開始位置になるに伴ってロール昇降モータ36を作動させてアプリ ケータロール12を下降させ(S9)、しかる後に、領域判別手段40によって 塗布終了位置になったかどうかを判別し(S10)、塗布終了位置になるに伴っ てロール昇降モータ36を作動させてアプリケータロール12を上昇させ(S1 1)、基板載置ステージ13上に吸着保持された角型基板Wに対して、搬送方向 の所望領域にのみアプリケータロール12を押し付け、角型基板Wの表面に塗布 液を塗布する。Next, the area determination means 40 determines whether or not the coating start position has been reached (S8), and when the coating start position is reached, the roll elevating motor 36 is operated to lower the applicator roll 12 (S9). Thereafter, the area discriminating means 40 discriminates whether or not the application end position has been reached (S10), and the roll elevating motor 36 is operated to raise the applicator roll 12 at the application end position (S11). The applicator roll 12 is pressed only on a desired region in the transport direction with respect to the rectangular substrate W suction-held on the substrate mounting stage 13, and the coating liquid is applied to the surface of the rectangular substrate W.

【0039】 その後、角型基板Wが基板搬出位置まで搬送されるに伴い、基板載置ステージ 22の移動を停止するとともに(S12)、バルブVを閉じて吸着孔23…およ び真空吸着孔30…からの吸引を停止し(S13)、かつ、基板支持部材24を 上昇させて角型基板Wを基板載置ステージ22から離間する(S14)。Thereafter, as the rectangular substrate W is transported to the substrate unloading position, the movement of the substrate mounting stage 22 is stopped (S12), and the valve V is closed to close the suction holes 23 ... and the vacuum suction holes. Suction from 30 is stopped (S13), and the substrate support member 24 is raised to separate the rectangular substrate W from the substrate mounting stage 22 (S14).

【0040】 次いで、基板搬出装置14の基板吸着アーム16を角型基板Wの下方に挿入し て持ち上げて搬出し(S15)、その後に、連続処理かどうかを判別し(S16 )、連続処理であれば、ステップS2に移行し、基板載置ステージ22を基板搬 入位置まで戻してから上述動作を繰り返し、一方、連続処理でなければ、ステッ プS17に移行し、メタルロール5およびアプリケータロール12の回転を停止 して(S17)処理を終了する。尚、本実施例において、基板載置ステージ22 に設けられた吸着孔23は、図8に示されるように、小域吸着孔23Sと大域吸 着孔23Lとに分けられ、基板の大きさに応じて別々にその吸着動作が制御され 得るように構成されているのに対して、基板支持部材24に形成された真空吸着 孔30の吸着動作は基板の大きさに応じて別々に制御することができない。そこ で、小域基板の場合には、基板が載置されない基板支持部材24についてはキャ ップをかぶせたりあるいは真空吸着孔を有さない従来のものと交換するようにす れば良い。Next, the substrate suction arm 16 of the substrate carry-out device 14 is inserted below the rectangular substrate W and lifted and carried out (S15). After that, it is determined whether or not it is a continuous process (S16), and the continuous process is performed. If there is, the process proceeds to step S2, the substrate mounting stage 22 is returned to the substrate loading position, and the above operation is repeated. On the other hand, if it is not a continuous process, the process proceeds to step S17, where the metal roll 5 and the applicator roll are used. The rotation of 12 is stopped (S17), and the process ends. In this embodiment, the suction holes 23 provided on the substrate mounting stage 22 are divided into small suction holes 23S and large suction holes 23L as shown in FIG. The suction operation of the vacuum suction holes 30 formed in the substrate support member 24 is controlled separately according to the size of the substrate, while the suction operation is controlled separately. I can't. Therefore, in the case of a small area substrate, the substrate supporting member 24 on which the substrate is not mounted may be covered with a cap or replaced with a conventional one having no vacuum suction hole.

【0041】 本考案に係る基板搬送ステージとしては、上述実施例のロールコータに限らず 、例えば、グラビアメタルロールによって塗布液を供給するように構成したタイ プのロールコータなど各種構成のロールコータに適用できる。The substrate transfer stage according to the present invention is not limited to the roll coater of the above-described embodiment, but may be a roll coater of various configurations such as a type roll coater configured to supply the coating liquid by a gravure metal roll. Applicable.

【0042】 本考案としては、上述のような角型基板Wに限らず、各種の形状の基板に適用 できる。The present invention is not limited to the rectangular substrate W as described above, but can be applied to substrates of various shapes.

【0043】 本考案としては、角型基板Wに対して塗布液を塗布する状態と塗布しない状態 とに切換えるのに、アプリケータロール12を昇降しているが、基板搬送ステー ジ2側を昇降するようにしても良い。According to the present invention, the applicator roll 12 is moved up and down to switch between the state of applying the coating liquid and the state of not applying the coating liquid to the rectangular substrate W. It may be done.

【0044】[0044]

【考案の効果】[Effect of device]

以上説明したように、請求項1に係る考案の基板搬送ステージによれば、基板 搬入装置で搬入されてくる基板を受け止めてから基板載置ステージ上に載置する までの間、基板支持部材で基板を真空吸引によって吸着保持するから、基板支持 部材の下降動作途中での位置ズレ発生を良好に防止できるようになった。 As described above, according to the substrate transfer stage of the invention according to claim 1, the substrate supporting member is provided between the time when the substrate is loaded by the substrate loading device and the time when the substrate is loaded on the substrate loading stage. Since the substrate is suction-held by vacuum suction, it is possible to favorably prevent the occurrence of displacement during the lowering operation of the substrate support member.

【0045】 請求項2に係る考案の基板搬送ステージによれば、基板支持部材の先端を摩擦 係数の大きい樹脂で形成するから、基板支持部材による基板受け止め時の不測の 滑りなどを良好に防止でき、基板支持部材に起因する位置ズレ発生をより一層良 好に防止できるようになった。According to the substrate transfer stage of the second aspect of the present invention, since the tip of the substrate supporting member is made of resin having a large friction coefficient, it is possible to satisfactorily prevent unexpected slippage when the substrate supporting member receives the substrate. As a result, it is possible to better prevent the occurrence of misalignment due to the substrate support member.

【0046】 請求項3に係る考案のロールコータの構成によれば、基板載置ステージ上に位 置ズレを生じること無く載置して吸着保持された基板に対し、その表面にアプリ ケータロールで塗布液を塗布するから、塗布液を基板の所定の領域に確実良好に 塗布することができるようになった。According to the configuration of the roll coater of the third aspect of the present invention, the applicator roll is provided on the surface of the substrate that is mounted and adsorbed and held on the substrate mounting stage without causing displacement. Since the coating liquid is applied, the coating liquid can be reliably and satisfactorily applied to a predetermined area of the substrate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本考案に係る基板搬送ステージおよびそれを用
いたロールコータの実施例を示す全体側面図である。
FIG. 1 is an overall side view showing an embodiment of a substrate transfer stage and a roll coater using the same according to the present invention.

【図2】全体平面図である。FIG. 2 is an overall plan view.

【図3】要部の拡大側面図である。FIG. 3 is an enlarged side view of a main part.

【図4】基板載置ステージの平面図である。FIG. 4 is a plan view of a substrate mounting stage.

【図5】図4のA−A線断面図である。5 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.

【図6】図4のB−B線断面図である。6 is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG.

【図7】図5のC−C線断面図である。7 is a cross-sectional view taken along line CC of FIG.

【図8】空気圧回路図である。FIG. 8 is a pneumatic circuit diagram.

【図9】ブロック図である。FIG. 9 is a block diagram.

【図10】フローチャートである。FIG. 10 is a flowchart.

【図11】動作説明図である。FIG. 11 is an operation explanatory diagram.

【図12】従来例を示す概略断面図である。FIG. 12 is a schematic cross-sectional view showing a conventional example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

8…塗布液貯留部 12…アプリケータロール 22…基板載置ステージ 24…基板支持部材 30…真空吸着孔 W…角型基板 8 ... Coating liquid storage part 12 ... Applicator roll 22 ... Substrate mounting stage 24 ... Substrate support member 30 ... Vacuum suction hole W ... Square substrate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/027 21/68 N 8418−4M (72)考案者 中村 宏生 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内 (72)考案者 竹藤 聖司 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内 (72)考案者 和田 英一 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内 (72)考案者 尾崎 一人 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日本 スクリーン製造株式会社彦根地区事業所内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification number Reference number within the agency FI Technical display location H01L 21/027 21/68 N 8418-4M (72) Creator Hiroo Nakamura 480 Takamiyacho, Hikone, Shiga Prefecture Address 1 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Hikone District Office (72) Inventor Seiji Taketo 1 480 Takamiya-cho, Hikone City, Shiga Prefecture Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Hikone District Office (72) Inventor Eiichi Wada Shiga Prefecture 1 480, Takamiya-cho, Hikone-shi, Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. in Hikone area, business office (72) Inventor Ozaki, 1 person, 480, Takamiya-cho, Hikone-shi, Shiga Dai Nippon Screen Mfg. Co., Ltd. in Hikone area

Claims (3)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】 基板を載置して真空吸着により吸着保持
する基板載置ステージを水平方向に移動可能に設けると
ともに、前記基板載置ステージに、その基板載置面に対
して出退可能に基板支持部材を設けた基板搬送ステージ
において、 前記基板支持部材に、先端側で開口して基板を真空吸着
によって吸着保持する真空吸着孔を設けたことを特徴と
する基板搬送ステージ。
1. A substrate mounting stage on which a substrate is mounted and suction-held by vacuum suction is provided so as to be movable in the horizontal direction, and the substrate mounting stage is capable of moving in and out of the substrate mounting surface. A substrate transfer stage provided with a substrate support member, wherein the substrate support member is provided with a vacuum suction hole which is opened at a front end side and sucks and holds the substrate by vacuum suction.
【請求項2】 請求項1に記載の基板支持部材の先端を
摩擦係数の大きい樹脂で形成してある基板搬送ステー
ジ。
2. A substrate transfer stage in which the front end of the substrate support member according to claim 1 is formed of a resin having a large friction coefficient.
【請求項3】 請求項1または2に記載の基板搬送ステ
ージ上に、基板載置ステージに吸着保持された基板と相
対的に昇降可能に塗布液塗布用のアプリケータロール
と、そのアプリケータロールに塗布液を供給する塗布液
貯留部とを設けたロールコータ。
3. An applicator roll for applying a coating liquid on the substrate transfer stage according to claim 1 or 2 such that the applicator roll can be moved up and down relatively to the substrate suction-held on the substrate mounting stage, and the applicator roll. A roll coater provided with a coating liquid reservoir for supplying the coating liquid to the.
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