JP2713531B2 - Roll coater - Google Patents

Roll coater

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JP2713531B2
JP2713531B2 JP24563792A JP24563792A JP2713531B2 JP 2713531 B2 JP2713531 B2 JP 2713531B2 JP 24563792 A JP24563792 A JP 24563792A JP 24563792 A JP24563792 A JP 24563792A JP 2713531 B2 JP2713531 B2 JP 2713531B2
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coating liquid
stirring
roll
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、フォトマスク用のガラ
ス基板、液晶表示装置用のガラス基板等の基板に対し
て、フォトレジスト液とかポリイミド樹脂とかカラーフ
ィルタ材などの塗布液を塗布して均一な薄膜を形成する
ために、アプリケータロールの外周面に塗布液貯留部か
ら塗布液を供給し、水平方向にアプリケータロールと相
対的に移動される基板の表面にアプリケータロールを回
転させて塗布液を塗布するロールコータに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of applying a coating liquid such as a photoresist liquid, a polyimide resin or a color filter material to a substrate such as a glass substrate for a photomask or a glass substrate for a liquid crystal display. In order to form a uniform thin film, the coating liquid is supplied from the coating liquid storage section to the outer peripheral surface of the applicator roll, and the applicator roll is rotated on the surface of the substrate which is moved relative to the applicator roll in the horizontal direction. And a roll coater for applying a coating liquid.

【0002】[0002]

【従来の技術】上述のようなロールコータでは、静止状
態において、局部的な対流や淀みなどに起因して塗布液
貯留部に貯留されている塗布液がある定常な状態へと移
行し、それが原因となって、アプリケータロールの外周
面にリング状パターンが形成される状態で塗布液が供給
され、それが基板表面に転写され、塗布ムラを生じてし
まう問題があった。そこで、塗布液貯留部に貯留されて
いる塗布液を適度に攪拌し、上述の塗布ムラ発生を回避
するようにしている。
2. Description of the Related Art In a roll coater as described above, in a stationary state, the coating liquid stored in a coating liquid storage section shifts to a steady state due to local convection or stagnation. For this reason, there has been a problem that the coating liquid is supplied in a state where a ring-shaped pattern is formed on the outer peripheral surface of the applicator roll, and the coating liquid is transferred to the surface of the substrate, causing uneven coating. Therefore, the coating liquid stored in the coating liquid storage unit is appropriately stirred to avoid the above-described coating unevenness.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、塗布液
の種類によっては、激しく攪拌しないとリング状パター
ンに起因する塗布ムラを生じる場合があるが、一方、激
しく攪拌するとその攪拌の跡が基板表面に現れてしまう
欠点があった。
However, depending on the type of the coating liquid, uneven coating may occur due to the ring-shaped pattern if not vigorously stirred. On the other hand, if vigorously stirred, traces of the stirring may be left on the substrate surface. There was a drawback that appeared.

【0004】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、攪拌手段の作動を制御し、塗布液貯留
部に貯留されている塗布液を良好に攪拌してリング状パ
ターンに起因する塗布ムラ発生を防止しながら、攪拌跡
による悪影響が基板表面に現れることをも防止して基板
表面に塗布液を均一に塗布できるようにすることを目的
とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and controls the operation of the stirring means to satisfactorily stir the coating liquid stored in the coating liquid storage unit to form a ring-shaped pattern. It is an object of the present invention to prevent the occurrence of coating unevenness caused by the application and prevent the adverse effects of the stirring marks from appearing on the substrate surface, thereby enabling the coating liquid to be uniformly applied to the substrate surface.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明のロ
ールコータは、上述のような目的を達成するために、ア
プリケータロールの外周面に塗布液貯留部から塗布液を
供給し、水平方向にアプリケータロールと相対的に移動
される基板の表面にアプリケータロールを回転させて塗
布液を塗布するロールコータにおいて、塗布液貯留部
に、貯留された塗布液を攪拌する攪拌手段を設け、基板
に塗布されるべき塗布液が塗布液貯留部からアプリケー
タロールに供給されることを判別する塗布液供給判別手
段を設けるとともに、その塗布液供給判別手段によって
基板に塗布されるべき塗布液が供給されることを判別す
るに伴い、攪拌手段の攪拌動作を停止する攪拌制御手段
を設けて構成する。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a roll coater for supplying a coating liquid to an outer peripheral surface of an applicator roll from a coating liquid storage section, thereby achieving the above object. In a roll coater for applying the coating liquid by rotating the applicator roll on the surface of the substrate moved relative to the applicator roll in the direction, the coating liquid storage unit is provided with a stirring means for stirring the stored coating liquid. A coating liquid supply determining means for determining that the coating liquid to be applied to the substrate is supplied from the coating liquid reservoir to the applicator roll, and the coating liquid to be coated on the substrate by the coating liquid supply determining means And a stirring control means for stopping the stirring operation of the stirring means when it is determined that the water is supplied.

【0006】上記塗布液供給判別手段としては、請求項
2に係る発明のロールコータのように、搬送手段上に基
板が載置されたことを検出する基板載置検出手段と、搬
送手段上から基板が取り出されたことを検出する基板取
り出し検出手段とから構成し、攪拌制御手段としては、
基板載置検出手段による基板載置検出によって攪拌手段
の攪拌動作を停止する攪拌停止手段と、基板取り出し検
出手段による基板取り出し検出によって攪拌手段の攪拌
動作を行う攪拌起動手段とを備えて構成するものでも良
い。
The coating liquid supply determining means includes a substrate placement detecting means for detecting that a substrate is placed on the transport means, as in the roll coater according to the second aspect of the present invention, And substrate removal detection means for detecting that the substrate has been removed, and as stirring control means,
What comprises: a stirring stop means for stopping the stirring operation of the stirring means by the substrate placement detection by the substrate placement detection means; and a stirring start means for stirring the stirring means by the substrate removal detection by the substrate removal detection means. But it is good.

【0007】また、別の塗布液供給判別手段としては、
請求項3に係る発明のロールコータのように、アプリケ
ータロールの回転速度を出力する回転速度出力手段と、
搬送手段の搬送速度を出力する搬送速度出力手段と、基
板の移送方向におけるサイズを出力する基板サイズ出力
手段と、基板載置検出手段による基板載置状態の検出
と、回転速度出力手段から出力されるアプリケータロー
ルの回転速度と、搬送速度出力手段から出力される搬送
手段の搬送速度および基板サイズ出力手段から出力され
る基板サイズそれぞれとを入力して、基板に塗布される
べき塗布液が塗布液貯留部から供給される供給タイミン
グと供給されなくなる非供給タイミングとを算出する塗
布液供給タイミング算出手段とから構成し、攪拌制御手
段としては、塗布液供給タイミング算出手段によって算
出された供給タイミングで攪拌手段の攪拌動作を停止す
る攪拌停止手段と、塗布液供給タイミング算出手段によ
って算出された非供給タイミングで攪拌手段の攪拌動作
を行う攪拌起動手段とを備えて構成するものでも良い。
Further, as another application liquid supply determining means,
Rotation speed output means for outputting the rotation speed of the applicator roll, as in the roll coater according to the invention according to claim 3,
A transfer speed output unit that outputs a transfer speed of the transfer unit, a substrate size output unit that outputs a size in the transfer direction of the substrate, a detection of a substrate mounting state by the substrate mounting detection unit, and an output from the rotation speed output unit. The rotation speed of the applicator roll, the transport speed of the transport unit output from the transport speed output unit, and the substrate size output from the substrate size output unit are input to apply the coating liquid to be applied to the substrate. A coating liquid supply timing calculating means for calculating a supply timing supplied from the liquid storage section and a non-supply timing at which the liquid is not supplied, and the stirring control means includes a supply timing calculated by the coating liquid supply timing calculating means. A stirring stop means for stopping the stirring operation of the stirring means; It may constitute and an agitating starting means for performing stirring operation of the stirring means at a timing.

【0008】本発明のロールコータとしては、請求項4
に係る発明のロールコータのように、アプリケータロー
ルにメタルロールを当接し、段差部を備えたドクタを設
けるとともに、段差部に近接した上方位置でドクタをメ
タルロールに水平方向で近接し、メタルロールとドクタ
との間に塗布液貯留部を形成するものでも良い。
The roll coater according to the present invention is characterized in that
Like the roll coater of the invention according to the present invention, the metal roll is brought into contact with the applicator roll, and a doctor having a step is provided, and the doctor is horizontally approached to the metal roll at an upper position close to the step, and A coating liquid storage section may be formed between the roll and the doctor.

【0009】上記請求項4に係る発明のロールコータに
おいては、請求項5に係る発明のロールコータのよう
に、塗布液供給判別手段を、アプリケータロールの回転
速度を出力する第1の回転速度出力手段と、メタルロー
ルの回転速度を出力する第2の回転速度出力手段と、搬
送手段の搬送速度を出力する搬送速度出力手段と、基板
の移送方向におけるサイズを出力する基板サイズ出力手
段と、基板載置検出手段による基板載置状態の検出と、
第1および第2の回転速度出力手段から出力されるアプ
リケータロールおよびメタルロールの回転速度それぞれ
と、搬送速度出力手段から出力される搬送手段の搬送速
度および基板サイズ出力手段から出力される基板サイズ
それぞれとを入力して、基板に塗布されるべき塗布液が
塗布液貯留部からメタルロールに供給される供給タイミ
ングと供給されなくなる非供給タイミングとを算出する
塗布液供給タイミング算出手段とから構成し、攪拌制御
手段を、塗布液供給タイミング算出手段によって算出さ
れた供給タイミングで攪拌手段の攪拌動作を停止する攪
拌停止手段と、塗布液供給タイミング算出手段によって
算出された非供給タイミングで攪拌手段の攪拌動作を行
う攪拌起動手段とを備えて構成しても良い。
In the roll coater according to the fourth aspect of the present invention, like the roll coater according to the fifth aspect of the present invention, the coating liquid supply determining means is provided with a first rotation speed for outputting the rotation speed of the applicator roll. An output unit, a second rotation speed output unit that outputs a rotation speed of the metal roll, a transfer speed output unit that outputs a transfer speed of the transfer unit, a substrate size output unit that outputs a size in a transfer direction of the substrate, Detection of the substrate placement state by the substrate placement detection means,
The rotation speeds of the applicator roll and the metal roll output from the first and second rotation speed output means, the transfer speed of the transfer means output from the transfer speed output means, and the substrate size output from the substrate size output means And a coating liquid supply timing calculating means for calculating a supply timing at which the coating liquid to be applied to the substrate is supplied from the coating liquid storage section to the metal roll and a non-supply timing at which the coating liquid is not supplied. A stirring control means, a stirring stop means for stopping the stirring operation of the stirring means at the supply timing calculated by the coating liquid supply timing calculating means, and a stirring of the stirring means at the non-supply timing calculated by the coating liquid supply timing calculating means. An agitation starting means for performing the operation may be provided.

【0010】[0010]

【作用】請求項1に係る発明のロールコータの構成によ
れば、通常時においては、塗布液貯留部に貯留された塗
布液を攪拌手段で攪拌し、塗布液の局部的対流や淀みを
無くして基板表面でのリング状パターンの発生を防止
し、しかも、基板に塗布されるべき塗布液がアプリケー
タロールに供給されるときには、攪拌制御手段によって
攪拌手段の攪拌動作を停止し、攪拌跡が基板表面に現れ
ることを回避することができる。
According to the configuration of the roll coater according to the first aspect of the present invention, the coating liquid stored in the coating liquid storage section is normally stirred by the stirring means to eliminate local convection and stagnation of the coating liquid. To prevent the occurrence of a ring-shaped pattern on the substrate surface, and when the coating liquid to be applied to the substrate is supplied to the applicator roll, the stirring operation of the stirring means is stopped by the stirring control means, and Appearance on the substrate surface can be avoided.

【0011】また、請求項2に係る発明のロールコータ
の構成によれば、基板が搬送手段上に載置されてからア
プリケータロールによって塗布液が塗布されるまでの間
に所定の時間を要することに着目し、通常時において
は、塗布液貯留部に貯留された塗布液を攪拌手段で攪拌
しながら、塗布液の塗布のために基板が搬送手段上に載
置されるに伴って攪拌を停止し、そして、塗布液の塗布
後に基板が搬送手段から取り出されるに伴って攪拌を再
開し、基板が搬送手段上にある間は攪拌を停止し、攪拌
状態の塗布液が基板表面に塗布されて攪拌跡が基板表面
に現れることを回避することができる。
According to the roll coater of the present invention, it takes a predetermined time from when the substrate is placed on the transfer means to when the coating liquid is applied by the applicator roll. In normal times, while stirring the coating liquid stored in the coating liquid storage section with the stirring means, the stirring is performed as the substrate is placed on the transport means for coating the coating liquid. Stop, and after the application of the coating liquid, the stirring is restarted as the substrate is taken out of the transfer means, and the stirring is stopped while the substrate is on the transfer means, and the coating liquid in the stirred state is applied to the substrate surface. Thus, it is possible to avoid the appearance of stirring marks on the substrate surface.

【0012】また、請求項3に係る発明のロールコータ
の構成によれば、通常時においては、塗布液貯留部に貯
留された塗布液を攪拌手段で攪拌しながら、塗布液を塗
布する基板のサイズに応じ、基板表面の移送方向上手側
の端から下手側の端に至る部分に、攪拌を停止した状態
の塗布液を塗布し、攪拌跡が基板表面に現れることを回
避することができる。
According to the configuration of the roll coater according to the third aspect of the present invention, under normal conditions, the coating liquid stored in the coating liquid storage section is stirred by the stirring means while the substrate to which the coating liquid is coated is formed. According to the size, the application liquid in a state where the stirring is stopped is applied to the portion from the upper end to the lower end in the transfer direction of the substrate surface, so that the trace of the agitation can be prevented from appearing on the substrate surface.

【0013】また、請求項4に係る発明のロールコータ
の構成によれば、塗布液貯留部からメタルロールの外周
面に塗膜を形成して取り出すときに、段差部で適切な剪
断力を作用させ、塗布液をドクタから良好に分離するこ
とができる。
According to the configuration of the roll coater of the invention according to claim 4, when forming a coating film on the outer peripheral surface of the metal roll from the coating liquid storage section and taking it out, an appropriate shear force acts on the step portion. As a result, the coating liquid can be satisfactorily separated from the doctor.

【0014】また、請求項5に係る発明のロールコータ
の構成によれば、通常時においては、塗布液貯留部に貯
留された塗布液を攪拌手段で攪拌しながら、塗布液を塗
布する基板のサイズに応じ、基板表面の移送方向上手側
の端から下手側の端に至る部分に、ドクタから良好に分
離され、しかも、攪拌を停止した状態の塗布液を塗布
し、攪拌跡が基板表面に現れることを回避することがで
きる。
According to the configuration of the roll coater of the invention according to the fifth aspect, in a normal state, the coating liquid stored in the coating liquid storage section is stirred by the stirring means while the substrate on which the coating liquid is coated is formed. Depending on the size, the coating solution that is well separated from the doctor and applied with the stirring stopped is applied to the portion of the substrate surface from the upper end to the lower end in the transfer direction, and the stirring mark is applied to the substrate surface. Appearance can be avoided.

【0015】[0015]

【実施例】次に、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。
Next, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

【0016】(第1実施例)図1は、本発明に係るロー
ルコータの第1実施例を示す全体側面図、図2はその全
体平面図、図3は要部の拡大側面図であり、基台1の上
部に、水平方向に往復移動可能に基板搬送ステージ2が
設けられ、基台1に、その基板搬送方向下手側の水平方
向の第1の軸芯P1周りで上下揺動可能に支持枠3が設
けられるとともに、その支持枠3に、前記第1の軸芯P
1に近い箇所で水平方向の第2の軸芯P2周りで上下揺
動可能に上部支持枠4が設けられている。
(First Embodiment) FIG. 1 is an overall side view showing a first embodiment of a roll coater according to the present invention, FIG. 2 is an overall plan view thereof, and FIG. A substrate transfer stage 2 is provided on the upper portion of the base 1 so as to be capable of reciprocating in the horizontal direction. The base 1 is capable of swinging up and down around a first axis P1 in the horizontal direction on the lower side in the substrate transfer direction. A support frame 3 is provided, and the first axis P
An upper support frame 4 is provided at a location close to 1 so as to be able to swing up and down around a second axis P2 in the horizontal direction.

【0017】上部支持枠4に、周面が平滑な金属製のメ
タルロール5と、塗布液剪断用の段差部6,6によって
周面がほぼ円弧状に形成されたメタルドクタ7とが水平
方向の軸芯周りで回転可能に並設されている。
A metal roll 5 having a smooth peripheral surface and a metal doctor 7 whose peripheral surface is formed in a substantially arc shape by step portions 6 and 6 for shearing the coating liquid are provided on the upper support frame 4 in a horizontal direction. They are arranged side by side so as to be rotatable around the axis.

【0018】メタルロール5の外周面とメタルドクタ7
の外周面とが所定の隙間を介して近接されるとともに、
メタルドクタ7を水平方向に変位することによって隙間
を調節可能に構成され、メタルロール5の外周面とメタ
ルドクタ7の外周面とによって塗布液貯留部8が形成さ
れるとともに、そこに貯留される塗布液の粘度等に応じ
て前述した隙間を調節するように構成されている。
Outer peripheral surface of metal roll 5 and metal doctor 7
Is brought close to the outer peripheral surface through a predetermined gap,
The gap is adjustable by displacing the metal doctor 7 in the horizontal direction, and the outer peripheral surface of the metal roll 5 and the outer peripheral surface of the metal doctor 7 form the coating liquid storage portion 8 and the coating liquid stored therein. The above-mentioned gap is adjusted according to the viscosity or the like.

【0019】塗布液貯留部8には、その先端が塗布液中
に浸入する状態で攪拌手段兼用の塗布液供給ノズル9が
設けられるとともに、この塗布液供給ノズル9が、メタ
ルロール5の長手方向と平行な姿勢で架設されたロッド
レスシリンダ10によって移動可能に設けられ、その移
動に伴って塗布液貯留部8に貯留された塗布液を攪拌す
るとともに、塗布液貯留部8に塗布液を供給できるよう
に構成されている。
The coating liquid storage section 8 is provided with a coating liquid supply nozzle 9 which also serves as a stirring means with its tip penetrating into the coating liquid. Is provided so as to be movable by a rodless cylinder 10 erected in a posture parallel to the above, agitates the application liquid stored in the application liquid storage unit 8 with the movement, and supplies the application liquid to the application liquid storage unit 8 It is configured to be able to.

【0020】メタルロール5の横側方には、スクレーパ
11aとトレイ11bとが設けられ、メタルロール5の
外周面に残存付着した残留塗布液、ならびに、角型基板
Wに塗布されなかった塗布液を回収するように構成され
ている。
A scraper 11a and a tray 11b are provided on the lateral side of the metal roll 5, and a residual coating liquid remaining on the outer peripheral surface of the metal roll 5 and a coating liquid not applied to the square substrate W are provided. Is configured to be collected.

【0021】支持枠3の基板搬送方向上手側箇所に、周
面が平滑で弾性を有するゴム製のアプリケータロール1
2が水平方向の軸芯周りで回転可能に取り付けられ、メ
タルロール5に対して遠近するとともに近接箇所では回
転方向が逆になるように同方向に回転し、メタルロール
5の外周面に付着して塗布液貯留部8から供給されてく
る塗布液をアプリケータロール12に転写するように構
成されている。
A rubber applicator roll 1 having a smooth peripheral surface and elasticity is provided on the upper side of the support frame 3 in the substrate transport direction.
2 is rotatably mounted around the horizontal axis, rotates in the same direction so that the direction of rotation is opposite to the metal roll 5 at the near and near locations, and adheres to the outer peripheral surface of the metal roll 5. The application liquid supplied from the application liquid storage unit 8 is transferred to the applicator roll 12.

【0022】基台1の角型基板Wの搬送方向両端の一方
側に基板搬入装置13が、そして、他方側に基板搬出装
置14がそれぞれ設けられている。基板搬入装置13お
よび基板搬出装置14それぞれは、角型基板Wを載置し
て搬送する基板搬送ローラ15…と、角型基板Wを真空
吸引によって吸着保持し基台1に対して遠近する方向に
移動可能でかつ昇降可能な基板吸着アーム16とから構
成されている。
A substrate carrying-in device 13 is provided on one side of both ends of the rectangular substrate W in the carrying direction of the base 1, and a substrate carrying-out device 14 is provided on the other side. The substrate carrying-in device 13 and the substrate carrying-out device 14 each include a substrate transport roller 15 for mounting and transporting the rectangular substrate W, and a direction in which the rectangular substrate W is sucked and held by vacuum suction and moved toward and away from the base 1. And a substrate suction arm 16 that can move up and down.

【0023】基板搬送ローラ15…それぞれにおいて、
角型基板Wの搬送方向に直交する方向での幅を規制する
鍔17が付設され、一方、基板搬入装置13において、
その搬送方向後端にストッパー18,18が設けられ、
基板搬送ローラ15…によって搬送されてきた角型基板
Wを搬送方向後端で所定の姿勢に維持させ、その角型基
板Wを基板吸着アーム16で吸着保持して上昇させ、基
板搬送ステージ2に搬入するように構成されている。
Each of the substrate transport rollers 15...
A flange 17 for regulating the width of the rectangular substrate W in a direction perpendicular to the transport direction is provided.
Stoppers 18, 18 are provided at the rear end in the transport direction,
The rectangular substrate W transported by the substrate transport rollers 15 is maintained in a predetermined posture at the rear end in the transport direction, and the rectangular substrate W is sucked and held by the substrate suction arm 16 and lifted. It is configured to be carried in.

【0024】基板搬送ステージ2は、一対のガイド1
9,19と、零点検出器付のサーボモータ20で駆動回
転されるネジ軸21とによって水平方向に移動可能に搬
送手段としての基板載置ステージ22を設け、この基板
載置ステージ22に、図4の平面図、および、図5の断
面図(図4のA−A線断面図)に示すように、微小な吸
着孔23を全面に分散形成するとともに、基板搬送方向
と平行に2列に並ぶ状態で筒軸状の真空吸着構成を備え
た基板支持部材24…を昇降により基板載置面に対して
出退可能に設けて構成されている。
The substrate transfer stage 2 includes a pair of guides 1
9 and 19 and a screw shaft 21 driven and rotated by a servomotor 20 having a zero point detector, a substrate mounting stage 22 as a transport means is provided so as to be movable in the horizontal direction. As shown in the plan view of FIG. 4 and the cross-sectional view of FIG. 5 (cross-sectional view taken along the line AA in FIG. 4), minute suction holes 23 are dispersedly formed on the entire surface, and are arranged in two rows in parallel with the substrate transport direction. Substrate support members 24 having a cylindrical shaft-shaped vacuum suction structure are provided so as to be able to move up and down with respect to the substrate mounting surface in a state of being lined up.

【0025】基板載置ステージ22の下方に、図6の側
面図(図4のB−B線断面図)に示すように、2本の中
空パイプ25,25が昇降可能に設けられている。中空
パイプ25,25それぞれに、4個の基板支持部材24
が連通する状態で一体的に取り付けられるとともに、両
中空パイプ25,25の長手方向両端がクランクアーム
26に連動連結され、かつ、クランクアーム26にエア
ーシリンダ27が連動連結され、エアーシリンダ27の
伸縮により、基板支持部材24を、基板載置面より突出
して角型基板Wを受け止める基板受け止め位置と、基板
載置面より引退して角型基板Wに作用しない非作用位置
とにわたって変位するように構成されている。
As shown in a side view of FIG. 6 (a cross-sectional view taken along the line BB of FIG. 4), two hollow pipes 25 are provided below the substrate mounting stage 22 so as to be able to move up and down. Each of the hollow pipes 25, 25 has four substrate support members 24.
Are connected integrally with each other in a state where they communicate with each other, and both ends in the longitudinal direction of the two hollow pipes 25, 25 are operatively connected to a crank arm 26, and an air cylinder 27 is operatively connected to the crank arm 26. Thereby, the substrate supporting member 24 is displaced between a substrate receiving position where it protrudes from the substrate mounting surface and receives the square substrate W, and a non-operating position where the substrate supporting member 24 retreats from the substrate mounting surface and does not act on the square substrate W. It is configured.

【0026】基板支持部材24の、真空吸着孔の開口端
側に、テフロン(デュポン社商標)、ポリプロピレン、
ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ゴムなどの摩擦係
数の大きい樹脂材料で成形された筒体28が取り付けら
れ、角型基板Wが載置時に滑ることを防止できるように
構成されている。
Teflon (trademark of DuPont), polypropylene,
A cylindrical body 28 formed of a resin material having a large coefficient of friction, such as polyethylene, high-density polyethylene, or rubber, is attached so that the rectangular substrate W can be prevented from slipping when placed.

【0027】図2に示すように、基板搬入側の基板吸着
アーム16の所定箇所に、角型基板Wを真空吸着保持し
たことを検出する第1の静電容量センサ29が付設さ
れ、一方、基板搬出側の基板吸着アーム16の所定箇所
に、角型基板Wを真空吸着保持したことを検出する基板
取り出し検出手段としての第2の静電容量センサ30が
付設されている。
As shown in FIG. 2, a first capacitance sensor 29 for detecting that the rectangular substrate W is held by vacuum suction is provided at a predetermined position of the substrate suction arm 16 on the substrate loading side. At a predetermined position of the substrate suction arm 16 on the substrate unloading side, a second capacitance sensor 30 is provided as a substrate removal detecting means for detecting that the rectangular substrate W is held by vacuum suction.

【0028】また、図4に示すように、基板載置ステー
ジ22の所定箇所に、角型基板Wを載置して真空吸着保
持したことを検出する基板載置検出手段としての第3の
静電容量センサ31が付設されている。
Further, as shown in FIG. 4, a third static member as a substrate placement detecting means for detecting that the rectangular substrate W is placed on a predetermined portion of the substrate placement stage 22 and held by vacuum suction. A capacitance sensor 31 is provided.

【0029】図7のブロック図に示すように、第1、第
2および第3の静電容量センサ29,30,31それぞ
れが攪拌制御手段としてのマイクロコンピュータ32に
接続されるとともに、そのマイクロコンピュータ32
に、前記ロッドレスシリンダ10に対する制御弁33が
接続されている。
As shown in the block diagram of FIG. 7, each of the first, second, and third capacitance sensors 29, 30, and 31 is connected to a microcomputer 32 as stirring control means. 32
Is connected to a control valve 33 for the rodless cylinder 10.

【0030】マイクロコンピュータ32には、攪拌停止
手段34と攪拌起動手段35とが備えられている。攪拌
停止手段34では、第1および第3の静電容量センサ2
9,31の検出結果に基づき、基板搬入装置13の基板
吸着アーム16から基板載置ステージ22上に角型基板
Wが載置されたことを検出し、それに基づいて制御弁3
3に停止信号を出力し、塗布液供給ノズル9による、塗
布液貯留部8内に貯留された塗布液の攪拌を停止するよ
うになっている。攪拌起動手段35では、第2の静電容
量センサ30の検出結果に基づき、角型基板Wが基板載
置ステージ22から取り出されて基板搬出装置14の基
板吸着アーム16に吸着保持されたことを検出し、それ
に基づいて制御弁33に起動信号を出力し、塗布液供給
ノズル9による、塗布液貯留部8内に貯留された塗布液
の攪拌を開始するようになっている。前述の、第1、第
2および第3の静電容量センサ29,30,31から成
る構成をして塗布液供給判別手段と称する。
The microcomputer 32 is provided with stirring stop means 34 and stirring start means 35. In the stirring stop means 34, the first and third capacitance sensors 2
Based on the detection results of the steps 9 and 31, it is detected that the square substrate W is mounted on the substrate mounting stage 22 from the substrate suction arm 16 of the substrate carry-in device 13, and the control valve 3 is controlled based on the detection.
A stop signal is output to 3 to stop the application liquid supply nozzle 9 from stirring the application liquid stored in the application liquid storage unit 8. Based on the detection result of the second capacitance sensor 30, the agitation starting means 35 determines that the rectangular substrate W has been taken out of the substrate mounting stage 22 and sucked and held by the substrate suction arm 16 of the substrate unloading device 14. Upon detection, a start signal is output to the control valve 33 based on the detection, and the application liquid supply nozzle 9 starts stirring the application liquid stored in the application liquid storage unit 8. The above-described configuration including the first, second, and third capacitance sensors 29, 30, and 31 is referred to as a coating liquid supply determining unit.

【0031】(第2実施例)図8のブロック図に示すよ
うに、基板載置検出手段としての第3の静電容量センサ
31と、アプリケータロール12に設けられてその回転
速度を検出して出力する第1の回転速度出力手段36
と、メタルロール5に設けられてその回転速度を検出し
て出力する第2の回転速度出力手段37と、基板載置ス
テージ22を駆動するサーボモータ20に設けられてそ
のパルス間隔から角型基板Wの搬送速度を検出して出力
する搬送速度出力手段38と、角型基板Wの移送方向に
おけるサイズを人為設定により出力する基板サイズ出力
手段39それぞれが、マイクロコンピュータ40に接続
され、そのマイクロコンピュータ40に、前記ロッドレ
スシリンダ10に対する制御弁33が接続されている。
(Second Embodiment) As shown in the block diagram of FIG. 8, a third capacitance sensor 31 as a substrate placement detecting means and a rotation speed provided on the applicator roll 12 for detecting the rotation speed are provided. First rotation speed output means 36 for outputting
A second rotational speed output means 37 provided on the metal roll 5 for detecting and outputting the rotational speed thereof; and a square substrate provided on the servomotor 20 for driving the substrate mounting stage 22 based on the pulse interval. The transport speed output means 38 for detecting and outputting the transport speed of W and the substrate size output means 39 for outputting the size of the rectangular substrate W in the transport direction by artificial setting are connected to a microcomputer 40, and A control valve 33 for the rodless cylinder 10 is connected to 40.

【0032】マイクロコンピュータ40には、塗布液供
給タイミング算出手段41と、攪拌制御手段42とが備
えられ、そして、攪拌制御手段42には、攪拌停止手段
43と攪拌起動手段44とが備えられている。
The microcomputer 40 is provided with a coating liquid supply timing calculation means 41 and a stirring control means 42, and the stirring control means 42 is provided with a stirring stop means 43 and a stirring start means 44. I have.

【0033】塗布液供給タイミング算出手段41では、
第3の静電容量センサ31により角型基板Wが基板載置
ステージ22上に載置したことを検出するに伴い、第1
および第2の回転速度出力手段36,37から出力され
るアプリケータロール12およびメタルロール5それぞ
れの回転速度と、搬送速度出力手段38から出力される
基板載置ステージ22の搬送速度および基板サイズ出力
手段39から出力される基板サイズそれぞれとを入力し
て、角型基板Wに塗布されるべき塗布液が塗布液貯留部
8からメタルロール5に供給される供給タイミングと供
給されなくなる非供給タイミングとを算出するようにな
っている。
In the application liquid supply timing calculating means 41,
As the third capacitance sensor 31 detects that the square substrate W has been mounted on the substrate mounting stage 22, the first capacitance sensor 31
And the rotation speeds of the applicator roll 12 and the metal roll 5 output from the second rotation speed output means 36 and 37, and the transport speed and substrate size output of the substrate mounting stage 22 output from the transport speed output means 38. The substrate size output from the means 39 is input, and a supply timing at which the coating liquid to be applied to the square substrate W is supplied from the coating liquid storage unit 8 to the metal roll 5 and a non-supply timing at which the supply is stopped. Is calculated.

【0034】攪拌停止手段43では、塗布液供給タイミ
ング算出手段41で算出された塗布液の供給タイミング
において、制御弁33に停止信号を出力し、塗布液供給
ノズル9による、塗布液貯留部8内に貯留された塗布液
の攪拌を停止するようになっている。
The agitation stop means 43 outputs a stop signal to the control valve 33 at the application liquid supply timing calculated by the application liquid supply timing calculation means 41, and the application liquid supply nozzle 9 controls the inside of the application liquid storage section 8. The stirring of the coating liquid stored in the storage is stopped.

【0035】攪拌起動手段44では、塗布液供給タイミ
ング算出手段41で算出された塗布液の非供給タイミン
グにおいて、制御弁33に起動信号を出力し、塗布液供
給ノズル9による、塗布液貯留部8内に貯留された塗布
液の攪拌を開始するようになっている。前述の、第3の
静電容量センサ31と、第1および第2の回転速度出力
手段36,37と、搬送速度出力手段38と、基板サイ
ズ出力手段39と、塗布液供給タイミング算出手段41
とから成る構成をして塗布液供給判別手段と称する。
The agitation starting means 44 outputs a start signal to the control valve 33 at the non-supply timing of the coating liquid calculated by the coating liquid supply timing calculating means 41, and the coating liquid supply nozzle 9 causes the coating liquid storage section 8. The agitation of the coating liquid stored therein is started. The above-described third capacitance sensor 31, first and second rotation speed output means 36 and 37, transport speed output means 38, substrate size output means 39, and coating liquid supply timing calculation means 41
And is referred to as a coating liquid supply determining unit.

【0036】すなわち、この第2実施例においては、先
ず、第1および第2の回転速度出力手段36,37から
出力されるアプリケータロール12およびメタルロール
5それぞれの回転速度により、塗布液貯留部8から供給
された塗布液がメタルロール5からアプリケータロール
12に転写されるまでの時間と、アプリケータロール1
2に転写された塗布液が、角型基板Wの表面に転写され
ることとなるアプリケータロール12の回転軸芯の鉛直
下方位置に到達するまでの時間との合計を算出し、塗布
液貯留部8から角型基板Wへの塗布位置に到達するまで
の塗布液到達時間を算出する。
That is, in the second embodiment, first, the rotation speeds of the applicator roll 12 and the metal roll 5 output from the first and second rotation speed output means 36 and 37 are used to control the application liquid storage section. And the time required for the coating liquid supplied from the transfer roller 8 to be transferred from the metal roll 5 to the applicator roll 12.
And calculating a total time required for the coating liquid transferred to 2 to reach a position vertically below the rotation axis of the applicator roll 12 to be transferred to the surface of the square substrate W, and store the coating liquid. The application liquid arrival time from the unit 8 to the application position on the square substrate W is calculated.

【0037】一方、搬送速度出力手段38から出力され
る搬送速度に基づき、予め知られている、基板搬入装置
13からの角型基板Wの受け渡し位置からアプリケータ
ロール12による塗布位置までの距離との関係から、基
板載置ステージ22上に載置した角型基板Wの移送方向
上手側端縁が塗布位置に到達する基板到達時間を算出す
る。
On the other hand, based on the transport speed output from the transport speed output means 38, the distance between the transfer position of the rectangular substrate W from the substrate loading device 13 and the coating position by the applicator roll 12, which is known in advance, is determined. From the relationship, the substrate arrival time at which the edge on the upper side in the transfer direction of the rectangular substrate W mounted on the substrate mounting stage 22 reaches the coating position is calculated.

【0038】上記基板到達時間と塗布液到達時間との差
から、角型基板Wの受け渡し位置から移送を開始した
後、角型基板Wに塗布されるべき塗布液が塗布液貯留部
8からメタルロール5に供給される状態になるまでの時
間を求め、その時間の経過後を塗布液の供給タイミング
として、攪拌停止手段43から制御弁33に停止信号を
出力し、塗布液供給ノズル9による、塗布液貯留部8内
に貯留された塗布液の攪拌を停止するのである。
From the difference between the substrate arrival time and the coating liquid arrival time, after the transfer from the transfer position of the rectangular substrate W is started, the coating liquid to be applied to the rectangular substrate W is transferred from the coating liquid storage section 8 to the metal storage section 8. A time until the state in which the liquid is supplied to the roll 5 is obtained, and a stop signal is output from the stirring stop means 43 to the control valve 33 after the elapse of the time as a supply timing of the coating liquid. The agitation of the coating liquid stored in the coating liquid storage unit 8 is stopped.

【0039】また、前述した搬送速度出力手段38から
出力される搬送速度と、基板サイズ出力手段39から出
力される基板サイズとの関係から、塗布液の開始後、角
型基板Wの下手側端縁まで塗布液を塗布し終わるまでの
塗布時間を求め、上述塗布液の供給タイミングから塗布
時間が経過した時点を上述塗布液の非供給タイミングと
して、制御弁33に起動信号を出力し、塗布液供給ノズ
ル9による、塗布液貯留部8内に貯留された塗布液の攪
拌を開始するのである。
Further, from the relationship between the transport speed output from the transport speed output means 38 and the substrate size output from the substrate size output means 39, the lower end of the square substrate W after the start of the coating liquid is obtained. The application time until the application of the coating solution to the edge is completed is determined, and a start signal is output to the control valve 33 by setting the time when the application time has elapsed from the supply timing of the coating solution as the non-supply timing of the coating solution, and The supply nozzle 9 starts stirring the coating liquid stored in the coating liquid storage unit 8.

【0040】本発明のロールコータとしては、上述実施
例のように、塗布液貯留部8からの塗布液をメタルロー
ル5およびアプリケータロール12を介して角型基板W
の表面に塗布するタイプに限らず、例えば、塗布液貯留
部8からの塗布液をアプリケータロール12によって直
接的に角型基板Wの表面に塗布するタイプにも適用で
き、その場合であれば、上述第2実施例における第2の
回転速度検出手段37を無くした形で塗布液の供給タイ
ミングと非供給タイミングとを算出するように構成すれ
ば良い。この構成が請求項3に係る発明のロールコータ
に相当する。
In the roll coater of the present invention, as in the above-described embodiment, the coating liquid from the coating liquid storage section 8 is applied to the square substrate W through the metal roll 5 and the applicator roll 12.
The present invention is not limited to the type in which the coating liquid is applied to the surface of the rectangular substrate W, and may be applied to the type in which the coating liquid from the coating liquid storage unit 8 is directly applied to the surface of the square substrate W by the applicator roll 12. The configuration may be such that the supply timing and the non-supply timing of the application liquid are calculated without the second rotation speed detecting means 37 in the second embodiment. This configuration corresponds to the roll coater according to the third aspect of the present invention.

【0041】本発明としては、上述実施例のロールコー
タに限らず、例えば、グラビアメタルロールによって塗
布液を供給するように構成したタイプのロールコータな
ど各種構成のロールコータに適用できる。
The present invention can be applied not only to the roll coater of the above-described embodiment but also to various types of roll coaters such as a roll coater configured to supply a coating liquid by a gravure metal roll.

【0042】本発明としては、上述のような角型基板W
に限らず、各種の形状の基板に塗布液を塗布する場合に
適用できる。
According to the present invention, the rectangular substrate W
The present invention is not limited to this, and can be applied to a case where a coating liquid is applied to substrates having various shapes.

【0043】本発明としては、攪拌手段兼用の塗布液供
給ノズル9に限らず、例えば、塗布液貯留部8内に塗布
液供給ノズル9とは別に、専用の攪拌スクリュー軸を浸
漬し、塗布液貯留部8内の塗布液を攪拌するように構成
するなど、各種構成の攪拌手段が適用できる。
The present invention is not limited to the coating liquid supply nozzle 9 also serving as stirring means. For example, a dedicated stirring screw shaft is immersed in the coating liquid storage section 8 separately from the coating liquid supply nozzle 9, Various configurations of stirring means, such as a configuration in which the coating liquid in the storage unit 8 is stirred, can be applied.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1に係る発
明のロールコータによれば、通常時においては、塗布液
貯留部に貯留された塗布液を攪拌手段で攪拌するから、
塗布液の局部的対流や淀みに起因する変質を無くして基
板表面でのリング状パターンの発生を防止し、リング状
パターンに起因する塗布ムラ発生を防止でき、しかも、
基板に塗布されるべき塗布液がアプリケータロールに供
給されるときには、攪拌制御手段によって攪拌手段の攪
拌動作を停止し、攪拌による悪影響を受けない状態の塗
布液を基板表面に塗布するから、攪拌跡による悪影響が
基板表面に現れることをも防止して基板表面に塗布液を
均一に塗布できる。
As described above, according to the roll coater according to the first aspect of the present invention, the coating liquid stored in the coating liquid storage section is normally stirred by the stirring means.
Eliminates alteration caused by local convection and stagnation of the coating liquid, prevents the occurrence of ring-shaped patterns on the substrate surface, prevents coating unevenness caused by the ring-shaped patterns, and
When the application liquid to be applied to the substrate is supplied to the applicator roll, the stirring operation of the stirring means is stopped by the stirring control means, and the application liquid which is not adversely affected by the stirring is applied to the substrate surface. The coating liquid can be uniformly applied to the substrate surface by preventing the adverse effects of the trace from appearing on the substrate surface.

【0045】また、請求項2に係る発明のロールコータ
によれば、塗布液の塗布のために基板が搬送手段上に載
置されているかどうかを判断し、基板が搬送手段上に載
置されている間は攪拌を停止するように制御するから、
搬送手段に基板が載置されたかどうかを検出するセンサ
を設けて、そのセンサと攪拌手段とを連係して制御すれ
ば良く、簡単な構成で、攪拌状態の塗布液が基板表面に
塗布されて攪拌跡が基板表面に現れることを回避するこ
とができる。
According to the roll coater of the second aspect of the present invention, it is determined whether or not the substrate is placed on the transport means for applying the coating liquid, and the substrate is placed on the transport means. While stirring, it is controlled to stop stirring,
A sensor for detecting whether the substrate is placed on the transfer means may be provided, and the sensor and the stirring means may be controlled in cooperation with each other, and with a simple configuration, the application liquid in the stirring state is applied to the substrate surface. It is possible to avoid the appearance of stirring marks on the substrate surface.

【0046】また、請求項3に係る発明のロールコータ
によれば、塗布液を塗布する基板のサイズに応じ、必要
最小限の間だけ攪拌を停止するから、攪拌を良好に行っ
てリング状パターンの発生を防止しながら、攪拌跡が基
板表面に現れることを回避し、基板表面に塗布液を良好
に塗布できる。
According to the roll coater of the third aspect of the present invention, the stirring is stopped only for a necessary minimum according to the size of the substrate on which the coating liquid is to be applied. While avoiding the occurrence of, the appearance of stirring marks on the substrate surface is avoided, and the coating liquid can be satisfactorily applied to the substrate surface.

【0047】また、請求項4に係る発明のロールコータ
によれば、塗布液をドクタから良好に分離して塗布液貯
留部からメタルロールの外周面に塗膜を形成して取り出
すことができるから、塗布ムラを無くすことができる上
に膜厚を均一にできる。
According to the roll coater of the fourth aspect of the present invention, the coating liquid can be satisfactorily separated from the doctor and a coating film can be formed on the outer peripheral surface of the metal roll and taken out from the coating liquid storage section. In addition, coating unevenness can be eliminated, and the film thickness can be made uniform.

【0048】また、請求項5に係る発明のロールコータ
によれば、膜厚を均一にできながら、塗布液を塗布する
基板のサイズに応じ、必要最小限の間だけ攪拌を停止す
るから、攪拌を良好に行ってリング状パターンの発生を
防止しながら、攪拌跡が基板表面に現れることを回避
し、基板表面に塗布液を一層良好に塗布できる。
According to the roll coater of the fifth aspect of the present invention, while the film thickness can be made uniform, the stirring is stopped for a minimum time according to the size of the substrate on which the coating liquid is applied. Is performed satisfactorily to prevent the occurrence of a ring-shaped pattern, avoid the appearance of stirring marks on the substrate surface, and apply the coating liquid to the substrate surface more favorably.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係るロールコータの第1実施例を示す
全体側面図である。
FIG. 1 is an overall side view showing a first embodiment of a roll coater according to the present invention.

【図2】全体平面図である。FIG. 2 is an overall plan view.

【図3】要部の拡大側面図である。FIG. 3 is an enlarged side view of a main part.

【図4】基板載置ステージの平面図である。FIG. 4 is a plan view of a substrate mounting stage.

【図5】図4のA−A線断面図である。FIG. 5 is a sectional view taken along line AA of FIG. 4;

【図6】図4のB−B線断面図である。FIG. 6 is a sectional view taken along line BB of FIG. 4;

【図7】ブロック図である。FIG. 7 is a block diagram.

【図8】第2実施例を示すブロック図である。FIG. 8 is a block diagram showing a second embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

5…メタルロール 8…塗布液貯留部 9…攪拌手段としての塗布液供給ノズル 12…アプリケータロール 22…搬送手段としての基板載置ステージ 30…基板取り出し検出手段としての第2の静電容量セ
ンサ 31…基板載置検出手段としての第3の静電容量センサ 32…攪拌制御手段としてのマイクロコンピュータ 34…攪拌停止手段 35…攪拌起動手段 36…第1の回転速度出力手段 37…第2の回転速度出力手段 38…搬送速度出力手段 39…基板サイズ出力手段 41…塗布液供給タイミング算出手段 42…攪拌制御手段 43…攪拌停止手段 44…攪拌起動手段 W…角型基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 5 ... Metal roll 8 ... Coating liquid storage part 9 ... Coating liquid supply nozzle 12 as stirring means 12 ... Applicator roll 22 ... Substrate mounting stage as transport means 30 ... Second capacitance sensor as substrate removal detecting means 31 a third capacitance sensor as a substrate placement detecting means 32 a microcomputer as a stirring control means 34 a stirring stopping means 35 a stirring starting means 36 a first rotation speed output means 37 a second rotation Speed output means 38 Transport speed output means 39 Substrate size output means 41 Coating liquid supply timing calculation means 42 Stirring control means 43 Stirring stop means 44 Stirring start means W ... Square substrate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥村 剛 滋賀県彦根市高宮町480番地の1 大日 本スクリーン製造株式会社 彦根地区事 業所内 (56)参考文献 特開 昭62−298477(JP,A) ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuation of the front page (72) Inventor Go Okumura 1 at 480 Takamiya-cho, Hikone City, Shiga Prefecture Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Hikone District Office (56) References JP-A-62-29877 A)

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 アプリケータロールの外周面に塗布液貯
留部から塗布液を供給し、水平方向に前記アプリケータ
ロールと相対的に移動される基板の表面に前記アプリケ
ータロールを回転させて塗布液を塗布するロールコータ
において、 前記塗布液貯留部に、貯留された塗布液を攪拌する攪拌
手段を設け、前記基板に塗布されるべき塗布液が前記塗
布液貯留部から前記アプリケータロールに供給されるこ
とを判別する塗布液供給判別手段を設けるとともに、そ
の塗布液供給判別手段によって前記基板に塗布されるべ
き塗布液が供給されることを判別するに伴い、前記攪拌
手段の攪拌動作を停止する攪拌制御手段を設けたことを
特徴とするロールコータ。
An applicator roll is supplied with a coating liquid from an application liquid reservoir to an outer peripheral surface of the applicator roll, and the applicator roll is rotated and applied to a surface of a substrate which is moved relatively to the applicator roll in a horizontal direction. In a roll coater for applying a liquid, a stirrer for stirring the stored coating liquid is provided in the coating liquid storage section, and the coating liquid to be applied to the substrate is supplied from the coating liquid storage section to the applicator roll. A coating liquid supply determining means for determining that the application liquid to be applied to the substrate is supplied by the coating liquid supply determining means, and stopping the stirring operation of the stirring means. A roll coater comprising:
【請求項2】 請求項1に記載の塗布液供給判別手段
が、 搬送手段上に基板が載置されたことを検出する基板載置
検出手段と、 前記搬送手段上から基板が取り出されたことを検出する
基板取り出し検出手段とから成り、 攪拌制御手段が、 前記基板載置検出手段による基板載置検出によって攪拌
手段の攪拌動作を停止する攪拌停止手段と、 前記基板取り出し検出手段による基板取り出し検出によ
って攪拌手段の攪拌動作を行う攪拌起動手段と、 を備えたものであるロールコータ。
2. The method according to claim 1, wherein the application liquid supply determining unit detects that the substrate is mounted on the transfer unit, and the substrate is removed from the transfer unit. Agitation control means, agitation control means, agitation stop means for stopping the agitation operation of the agitation means by substrate placement detection by the substrate placement detection means, and substrate removal detection by the substrate removal detection means And a stirring start means for performing a stirring operation of the stirring means by the roll coater.
【請求項3】 請求項1に記載の塗布液供給判別手段
が、 搬送手段上に基板が載置されたことを検出する基板載置
検出手段と、 アプリケータロールの回転速度を出力する回転速度出力
手段と、 搬送手段の搬送速度を出力する搬送速度出力手段と、 基板の移送方向におけるサイズを出力する基板サイズ出
力手段と、 前記基板載置検出手段による基板載置状態の検出と、前
記回転速度出力手段から出力される前記アプリケータロ
ールの回転速度と、前記搬送速度出力手段から出力され
る前記搬送手段の搬送速度および前記基板サイズ出力手
段から出力される基板サイズそれぞれとを入力して、前
記基板に塗布されるべき塗布液が前記塗布液貯留部から
供給される供給タイミングと供給されなくなる非供給タ
イミングとを算出する塗布液供給タイミング算出手段と
から成り、 攪拌制御手段が、 前記塗布液供給タイミング算出手段によって算出された
供給タイミングで攪拌手段の攪拌動作を停止する攪拌停
止手段と、 前記塗布液供給タイミング算出手段によって算出された
非供給タイミングで攪拌手段の攪拌動作を行う攪拌起動
手段と、 を備えたものであるロールコータ。
3. A substrate placement detecting means for detecting that a substrate is placed on a transport means, and a rotation speed for outputting a rotation speed of an applicator roll. An output unit, a transfer speed output unit that outputs a transfer speed of the transfer unit, a substrate size output unit that outputs a size in a transfer direction of the substrate, a detection of a substrate placement state by the substrate placement detection unit, and the rotation. The rotation speed of the applicator roll output from the speed output means, and each of the transport speed of the transport means output from the transport speed output means and the substrate size output from the substrate size output means, A coating liquid supply tie for calculating a supply timing at which a coating liquid to be applied to the substrate is supplied from the coating liquid storage section and a non-supply timing at which the coating liquid is not supplied. An agitation control unit, wherein the agitation control unit stops the agitation operation of the agitation unit at the supply timing calculated by the application liquid supply timing calculation unit, and the agitation control unit calculates the agitation liquid supply timing calculation unit. A roll coater comprising: a stirring start unit that performs a stirring operation of the stirring unit at a non-supply timing.
【請求項4】 請求項1、2または3のいずれかに記載
のアプリケータロールにメタルロールを当接し、段差部
を備えたドクタを設けるとともに、前記段差部に近接し
た上方位置で前記ドクタを前記メタルロールに水平方向
で近接し、前記メタルロールと前記ドクタとの間に塗布
液貯留部を形成してあるロールコータ。
4. A doctor provided with a stepped portion by contacting a metal roll with the applicator roll according to claim 1, and a doctor provided with a stepped portion at an upper position close to the stepped portion. A roll coater which is horizontally adjacent to the metal roll and has a coating liquid storage section formed between the metal roll and the doctor.
【請求項5】 請求項4に記載のロールコータにおい
て、 塗布液供給判別手段が、 搬送手段上に基板が載置されたことを検出する基板載置
検出手段と、 アプリケータロールの回転速度を出力する第1の回転速
度出力手段と、 メタルロールの回転速度を出力する第2の回転速度出力
手段と、 搬送手段の搬送速度を出力する搬送速度出力手段と、 基板の移送方向におけるサイズを出力する基板サイズ出
力手段と、 前記基板載置検出手段による基板載置状態の検出と、前
記第1および第2の回転速度出力手段から出力される前
記アプリケータロールおよびメタルロールの回転速度そ
れぞれと、前記搬送速度出力手段から出力される前記搬
送手段の搬送速度および前記基板サイズ出力手段から出
力される基板サイズそれぞれとを入力して、前記基板に
塗布されるべき塗布液が前記塗布液貯留部から前記メタ
ルロールに供給される供給タイミングと供給されなくな
る非供給タイミングとを算出する塗布液供給タイミング
算出手段とから成り、 攪拌制御手段が、 前記塗布液供給タイミング算出手段によって算出された
供給タイミングで攪拌手段の攪拌動作を停止する攪拌停
止手段と、 前記塗布液供給タイミング算出手段によって算出された
非供給タイミングで攪拌手段の攪拌動作を行う攪拌起動
手段と、 を備えたものであるロールコータ。
5. The roll coater according to claim 4, wherein the application liquid supply determining means detects a substrate mounted on the transport means and a rotation speed of the applicator roll. First rotation speed output means for outputting the rotation speed, second rotation speed output means for outputting the rotation speed of the metal roll, transfer speed output means for outputting the transfer speed of the transfer means, and output of the size of the substrate in the transfer direction. Substrate size output means, detection of a substrate placement state by the substrate placement detection means, and rotation speeds of the applicator roll and the metal roll output from the first and second rotation speed output means, respectively. By inputting the transport speed of the transport unit output from the transport speed output unit and the substrate size output from the substrate size output unit, A coating liquid supply timing calculating means for calculating a supply timing at which the coating liquid to be applied to the metal roll is supplied from the coating liquid storage section to the metal roll and a non-supply timing at which the coating liquid is not supplied, wherein the stirring control means comprises: Stirring stop means for stopping the stirring operation of the stirring means at the supply timing calculated by the coating liquid supply timing calculation means; and stirring start for performing the stirring operation of the stirring means at the non-supply timing calculated by the coating liquid supply timing calculation means. Means, and a roll coater comprising:
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