JPH0663479A - Roll coater - Google Patents

Roll coater

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JPH0663479A
JPH0663479A JP24563792A JP24563792A JPH0663479A JP H0663479 A JPH0663479 A JP H0663479A JP 24563792 A JP24563792 A JP 24563792A JP 24563792 A JP24563792 A JP 24563792A JP H0663479 A JPH0663479 A JP H0663479A
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coating liquid
stirring
roll
output
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一夫 木瀬
Kazuto Ozaki
一人 尾崎
Takeshi Okumura
剛 奥村
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To uniformly apply a coating solution to the surface of a substrate by preventing that the adverse effect due to a stirring mark appears on the surface of the substrate while preventing the generation of the coating irregularity caused by a ring-shaped pattern by well stirring the coating soln. stored in a coating soln. storage part. CONSTITUTION:First and third electrostatic capacity sensors 29, 31 detect such a state that a square substrate W is placed on a substrate placing stage from a substrate feed-in device and, on the basis of the detection results, a stirring stopping means 34 is operated to stop the stirring of the coating soln. in a coating soln. storage part. A second electrostatic capacity sensor 30 detects such a state that the substrate is taken out to a substrate feed-out means from the substrate placing stage and, on the basis of the detection result, a stirring start means 35 is operated to stirr the coating soln. in the coating soln. storage part.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、フォトマスク用のガラ
ス基板、液晶表示装置用のガラス基板等の基板に対し
て、フォトレジスト液とかポリイミド樹脂とかカラーフ
ィルタ材などの塗布液を塗布して均一な薄膜を形成する
ために、アプリケータロールの外周面に塗布液貯留部か
ら塗布液を供給し、水平方向にアプリケータロールと相
対的に移動される基板の表面にアプリケータロールを回
転させて塗布液を塗布するロールコータに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention applies a coating solution such as a photoresist solution, a polyimide resin or a color filter material to a substrate such as a glass substrate for a photomask or a glass substrate for a liquid crystal display device. In order to form a uniform thin film, the coating liquid is supplied from the coating liquid storage part to the outer peripheral surface of the applicator roll, and the applicator roll is rotated horizontally on the surface of the substrate that is moved relative to the applicator roll. The present invention relates to a roll coater for applying a coating liquid.

【0002】[0002]

【従来の技術】上述のようなロールコータでは、静止状
態において、局部的な対流や淀みなどに起因して塗布液
貯留部に貯留されている塗布液がある定常な状態へと移
行し、それが原因となって、アプリケータロールの外周
面にリング状パターンが形成される状態で塗布液が供給
され、それが基板表面に転写され、塗布ムラを生じてし
まう問題があった。そこで、塗布液貯留部に貯留されて
いる塗布液を適度に攪拌し、上述の塗布ムラ発生を回避
するようにしている。
2. Description of the Related Art In a roll coater as described above, in a stationary state, the coating liquid stored in the coating liquid storage portion moves to a steady state due to local convection or stagnation. As a result, there is a problem that the coating liquid is supplied in a state where a ring-shaped pattern is formed on the outer peripheral surface of the applicator roll, and the coating liquid is transferred to the surface of the substrate to cause coating unevenness. Therefore, the coating liquid stored in the coating liquid storage section is appropriately stirred to avoid the above-mentioned coating unevenness.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、塗布液
の種類によっては、激しく攪拌しないとリング状パター
ンに起因する塗布ムラを生じる場合があるが、一方、激
しく攪拌するとその攪拌の跡が基板表面に現れてしまう
欠点があった。
However, depending on the type of the coating liquid, non-uniform agitation may cause uneven coating due to the ring-shaped pattern. It had the drawback of appearing.

【0004】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、攪拌手段の作動を制御し、塗布液貯留
部に貯留されている塗布液を良好に攪拌してリング状パ
ターンに起因する塗布ムラ発生を防止しながら、攪拌跡
による悪影響が基板表面に現れることをも防止して基板
表面に塗布液を均一に塗布できるようにすることを目的
とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and controls the operation of the stirring means to satisfactorily stir the coating liquid stored in the coating liquid storage portion to form a ring-shaped pattern. It is an object of the present invention to prevent the occurrence of coating unevenness due to this and also to prevent the adverse effect of stirring marks from appearing on the substrate surface so that the coating liquid can be uniformly coated on the substrate surface.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明のロ
ールコータは、上述のような目的を達成するために、ア
プリケータロールの外周面に塗布液貯留部から塗布液を
供給し、水平方向にアプリケータロールと相対的に移動
される基板の表面にアプリケータロールを回転させて塗
布液を塗布するロールコータにおいて、塗布液貯留部
に、貯留された塗布液を攪拌する攪拌手段を設け、基板
に塗布されるべき塗布液が塗布液貯留部からアプリケー
タロールに供給されることを判別する塗布液供給判別手
段を設けるとともに、その塗布液供給判別手段によって
基板に塗布されるべき塗布液が供給されることを判別す
るに伴い、攪拌手段の攪拌動作を停止する攪拌制御手段
を設けて構成する。
In order to achieve the above-mentioned object, a roll coater of the invention according to claim 1 supplies a coating liquid from a coating liquid storage portion to an outer peripheral surface of an applicator roll, and horizontally. In a roll coater for applying the coating liquid by rotating the applicator roll on the surface of the substrate that is moved relative to the applicator roll in the direction, the coating liquid storage section is provided with a stirring means for stirring the stored coating liquid. , A coating liquid to be applied to the substrate is provided from the coating liquid reservoir to the applicator roll, and a coating liquid to be applied to the substrate by the coating liquid supply determining unit. It is configured to include a stirring control means for stopping the stirring operation of the stirring means when it is determined that the water is supplied.

【0006】上記塗布液供給判別手段としては、請求項
2に係る発明のロールコータのように、搬送手段上に基
板が載置されたことを検出する基板載置検出手段と、搬
送手段上から基板が取り出されたことを検出する基板取
り出し検出手段とから構成し、攪拌制御手段としては、
基板載置検出手段による基板載置検出によって攪拌手段
の攪拌動作を停止する攪拌停止手段と、基板取り出し検
出手段による基板取り出し検出によって攪拌手段の攪拌
動作を行う攪拌起動手段とを備えて構成するものでも良
い。
As the coating liquid supply determining means, like the roll coater according to the second aspect of the present invention, the substrate placement detecting means for detecting that the substrate is placed on the carrying means, and the carrying means It is composed of a substrate removal detecting means for detecting that the substrate has been removed, and the stirring control means includes:
A configuration including a stirring stop means for stopping the stirring operation of the stirring means by the substrate placement detection means by the substrate placement detection means, and a stirring activation means for performing the stirring operation of the stirring means by the substrate removal detection by the substrate removal detection means. But good.

【0007】また、別の塗布液供給判別手段としては、
請求項3に係る発明のロールコータのように、アプリケ
ータロールの回転速度を出力する回転速度出力手段と、
搬送手段の搬送速度を出力する搬送速度出力手段と、基
板の移送方向におけるサイズを出力する基板サイズ出力
手段と、基板載置検出手段による基板載置状態の検出
と、回転速度出力手段から出力されるアプリケータロー
ルの回転速度と、搬送速度出力手段から出力される搬送
手段の搬送速度および基板サイズ出力手段から出力され
る基板サイズそれぞれとを入力して、基板に塗布される
べき塗布液が塗布液貯留部から供給される供給タイミン
グと供給されなくなる非供給タイミングとを算出する塗
布液供給タイミング算出手段とから構成し、攪拌制御手
段としては、塗布液供給タイミング算出手段によって算
出された供給タイミングで攪拌手段の攪拌動作を停止す
る攪拌停止手段と、塗布液供給タイミング算出手段によ
って算出された非供給タイミングで攪拌手段の攪拌動作
を行う攪拌起動手段とを備えて構成するものでも良い。
Further, as another coating liquid supply determining means,
Rotation speed output means for outputting the rotation speed of the applicator roll, such as the roll coater of the invention according to claim 3;
Transport speed output means for outputting the transport speed of the transport means, substrate size output means for outputting the size of the substrate in the transfer direction, detection of the substrate placement state by the substrate placement detection means, and output from the rotation speed output means. Input the rotation speed of the applicator roll, the transport speed of the transport means output from the transport speed output means, and the substrate size output from the substrate size output means to apply the coating liquid to be applied to the substrate. The coating liquid supply timing calculating means for calculating the supply timing supplied from the liquid storage portion and the non-supply timing not supplied, and the stirring control means is the supply timing calculated by the coating liquid supply timing calculating means. The agitation stopping means for stopping the agitation operation of the agitation means, and the non-compliance calculated by the coating liquid supply timing calculation means. It may constitute and an agitating starting means for performing stirring operation of the stirring means at a timing.

【0008】本発明のロールコータとしては、請求項4
に係る発明のロールコータのように、アプリケータロー
ルにメタルロールを当接し、段差部を備えたドクタを設
けるとともに、段差部に近接した上方位置でドクタをメ
タルロールに水平方向で近接し、メタルロールとドクタ
との間に塗布液貯留部を形成するものでも良い。
A roll coater according to the present invention is described in claim 4.
Like the roll coater of the invention according to the invention, a metal roll is brought into contact with the applicator roll, and a doctor having a step is provided, and the doctor is horizontally approached to the metal roll at an upper position close to the step, A coating liquid storage part may be formed between the roll and the doctor.

【0009】上記請求項4に係る発明のロールコータに
おいては、請求項5に係る発明のロールコータのよう
に、塗布液供給判別手段を、アプリケータロールの回転
速度を出力する第1の回転速度出力手段と、メタルロー
ルの回転速度を出力する第2の回転速度出力手段と、搬
送手段の搬送速度を出力する搬送速度出力手段と、基板
の移送方向におけるサイズを出力する基板サイズ出力手
段と、基板載置検出手段による基板載置状態の検出と、
第1および第2の回転速度出力手段から出力されるアプ
リケータロールおよびメタルロールの回転速度それぞれ
と、搬送速度出力手段から出力される搬送手段の搬送速
度および基板サイズ出力手段から出力される基板サイズ
それぞれとを入力して、基板に塗布されるべき塗布液が
塗布液貯留部からメタルロールに供給される供給タイミ
ングと供給されなくなる非供給タイミングとを算出する
塗布液供給タイミング算出手段とから構成し、攪拌制御
手段を、塗布液供給タイミング算出手段によって算出さ
れた供給タイミングで攪拌手段の攪拌動作を停止する攪
拌停止手段と、塗布液供給タイミング算出手段によって
算出された非供給タイミングで攪拌手段の攪拌動作を行
う攪拌起動手段とを備えて構成しても良い。
In the roll coater of the invention according to claim 4, as in the roll coater of the invention according to claim 5, the coating liquid supply determining means outputs a first rotation speed for outputting the rotation speed of the applicator roll. Output means, second rotation speed output means for outputting the rotation speed of the metal roll, transfer speed output means for outputting the transfer speed of the transfer means, and substrate size output means for outputting the size of the substrate in the transfer direction, Detection of the substrate mounting state by the substrate mounting detection means,
Each of the rotation speeds of the applicator roll and the metal roll output from the first and second rotation speed output means, the transfer speed of the transfer means output from the transfer speed output means, and the substrate size output from the substrate size output means And a supply timing for supplying the coating liquid to be applied to the substrate from the coating liquid storage unit to the metal roll and a non-supply timing at which the coating liquid is not supplied. A stirring control means for stopping the stirring operation of the stirring means at the supply timing calculated by the coating liquid supply timing calculation means, and stirring the stirring means at the non-supply timing calculated by the coating liquid supply timing calculation means It may be configured to include a stirring start-up means for performing an operation.

【0010】[0010]

【作用】請求項1に係る発明のロールコータの構成によ
れば、通常時においては、塗布液貯留部に貯留された塗
布液を攪拌手段で攪拌し、塗布液の局部的対流や淀みを
無くして基板表面でのリング状パターンの発生を防止
し、しかも、基板に塗布されるべき塗布液がアプリケー
タロールに供給されるときには、攪拌制御手段によって
攪拌手段の攪拌動作を停止し、攪拌跡が基板表面に現れ
ることを回避することができる。
According to the structure of the roll coater of the first aspect of the present invention, in a normal state, the coating liquid stored in the coating liquid storage section is agitated by the agitating means to eliminate local convection and stagnation of the coating liquid. To prevent the formation of a ring-shaped pattern on the surface of the substrate, and when the coating liquid to be coated on the substrate is supplied to the applicator roll, the stirring control unit stops the stirring operation of the stirring unit, and the trace of stirring is left. Appearance on the substrate surface can be avoided.

【0011】また、請求項2に係る発明のロールコータ
の構成によれば、基板が搬送手段上に載置されてからア
プリケータロールによって塗布液が塗布されるまでの間
に所定の時間を要することに着目し、通常時において
は、塗布液貯留部に貯留された塗布液を攪拌手段で攪拌
しながら、塗布液の塗布のために基板が搬送手段上に載
置されるに伴って攪拌を停止し、そして、塗布液の塗布
後に基板が搬送手段から取り出されるに伴って攪拌を再
開し、基板が搬送手段上にある間は攪拌を停止し、攪拌
状態の塗布液が基板表面に塗布されて攪拌跡が基板表面
に現れることを回避することができる。
According to the structure of the roll coater of the second aspect of the present invention, it takes a predetermined time from when the substrate is placed on the transfer means until the coating liquid is applied by the applicator roll. Paying attention to this fact, in normal times, while the coating liquid stored in the coating liquid storage section is being stirred by the stirring means, the stirring is performed as the substrate is placed on the transfer means for coating the coating liquid. After the coating liquid is applied, the agitation is restarted as the substrate is taken out from the transporting means, the agitation is stopped while the substrate is on the transporting means, and the agitated coating liquid is applied to the substrate surface. Therefore, it is possible to prevent the stirring trace from appearing on the substrate surface.

【0012】また、請求項3に係る発明のロールコータ
の構成によれば、通常時においては、塗布液貯留部に貯
留された塗布液を攪拌手段で攪拌しながら、塗布液を塗
布する基板のサイズに応じ、基板表面の移送方向上手側
の端から下手側の端に至る部分に、攪拌を停止した状態
の塗布液を塗布し、攪拌跡が基板表面に現れることを回
避することができる。
Further, according to the structure of the roll coater of the third aspect of the present invention, in a normal state, while the coating liquid stored in the coating liquid storage portion is stirred by the stirring means, the substrate to be coated with the coating liquid is Depending on the size, it is possible to prevent the stirring trace from appearing on the surface of the substrate by applying the coating liquid in a state where stirring is stopped to a portion of the surface of the substrate from the end on the upper side to the end on the lower side in the transfer direction.

【0013】また、請求項4に係る発明のロールコータ
の構成によれば、塗布液貯留部からメタルロールの外周
面に塗膜を形成して取り出すときに、段差部で適切な剪
断力を作用させ、塗布液をドクタから良好に分離するこ
とができる。
According to the roll coater of the invention as defined in claim 4, when the coating film is formed on the outer peripheral surface of the metal roll and taken out from the coating liquid storage portion, an appropriate shearing force acts on the step portion. Thus, the coating liquid can be well separated from the doctor.

【0014】また、請求項5に係る発明のロールコータ
の構成によれば、通常時においては、塗布液貯留部に貯
留された塗布液を攪拌手段で攪拌しながら、塗布液を塗
布する基板のサイズに応じ、基板表面の移送方向上手側
の端から下手側の端に至る部分に、ドクタから良好に分
離され、しかも、攪拌を停止した状態の塗布液を塗布
し、攪拌跡が基板表面に現れることを回避することがで
きる。
Further, according to the structure of the roll coater of the fifth aspect of the invention, in a normal state, the coating liquid stored in the coating liquid storage portion is stirred by the stirring means while the substrate to which the coating liquid is applied is coated. Depending on the size, the coating liquid that is well separated from the doctor and is in a state where stirring is stopped is applied to the area from the upper end to the lower end of the substrate surface in the transfer direction, and the agitation marks are on the substrate surface. You can avoid appearing.

【0015】[0015]

【実施例】次に、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。
Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings.

【0016】(第1実施例)図1は、本発明に係るロー
ルコータの第1実施例を示す全体側面図、図2はその全
体平面図、図3は要部の拡大側面図であり、基台1の上
部に、水平方向に往復移動可能に基板搬送ステージ2が
設けられ、基台1に、その基板搬送方向下手側の水平方
向の第1の軸芯P1周りで上下揺動可能に支持枠3が設
けられるとともに、その支持枠3に、前記第1の軸芯P
1に近い箇所で水平方向の第2の軸芯P2周りで上下揺
動可能に上部支持枠4が設けられている。
(First Embodiment) FIG. 1 is an overall side view showing a first embodiment of a roll coater according to the present invention, FIG. 2 is an overall plan view thereof, and FIG. 3 is an enlarged side view of essential parts. A substrate transfer stage 2 is provided on the upper part of the base 1 so as to be capable of reciprocating in the horizontal direction, and the base 1 is vertically swingable around a horizontal first axis P1 on the lower side of the substrate transfer direction. A support frame 3 is provided, and the support frame 3 is provided with the first axis P.
An upper support frame 4 is provided at a position close to 1 so as to be vertically swingable around a second axis P2 in the horizontal direction.

【0017】上部支持枠4に、周面が平滑な金属製のメ
タルロール5と、塗布液剪断用の段差部6,6によって
周面がほぼ円弧状に形成されたメタルドクタ7とが水平
方向の軸芯周りで回転可能に並設されている。
On the upper support frame 4, a metal roll 5 made of a metal having a smooth peripheral surface and a metal doctor 7 having a peripheral surface formed in a substantially arc shape by the step portions 6 and 6 for shearing the coating liquid are arranged in a horizontal direction. They are arranged side by side so that they can rotate around their axes.

【0018】メタルロール5の外周面とメタルドクタ7
の外周面とが所定の隙間を介して近接されるとともに、
メタルドクタ7を水平方向に変位することによって隙間
を調節可能に構成され、メタルロール5の外周面とメタ
ルドクタ7の外周面とによって塗布液貯留部8が形成さ
れるとともに、そこに貯留される塗布液の粘度等に応じ
て前述した隙間を調節するように構成されている。
The outer peripheral surface of the metal roll 5 and the metal doctor 7
The outer peripheral surface of the is approached through a predetermined gap,
The gap can be adjusted by displacing the metal doctor 7 in the horizontal direction, and the outer peripheral surface of the metal roll 5 and the outer peripheral surface of the metal doctor 7 form a coating liquid storage portion 8 and the coating liquid stored therein. It is configured to adjust the above-mentioned gap according to the viscosity and the like.

【0019】塗布液貯留部8には、その先端が塗布液中
に浸入する状態で攪拌手段兼用の塗布液供給ノズル9が
設けられるとともに、この塗布液供給ノズル9が、メタ
ルロール5の長手方向と平行な姿勢で架設されたロッド
レスシリンダ10によって移動可能に設けられ、その移
動に伴って塗布液貯留部8に貯留された塗布液を攪拌す
るとともに、塗布液貯留部8に塗布液を供給できるよう
に構成されている。
The coating liquid reservoir 8 is provided with a coating liquid supply nozzle 9 which also serves as a stirring means in a state where its tip penetrates into the coating liquid, and the coating liquid supply nozzle 9 extends in the longitudinal direction of the metal roll 5. It is movably provided by a rodless cylinder 10 installed in a posture parallel to the above, and the coating liquid stored in the coating liquid storage portion 8 is stirred along with the movement, and the coating liquid is supplied to the coating liquid storage portion 8. It is configured to be able to.

【0020】メタルロール5の横側方には、スクレーパ
11aとトレイ11bとが設けられ、メタルロール5の
外周面に残存付着した残留塗布液、ならびに、角型基板
Wに塗布されなかった塗布液を回収するように構成され
ている。
A scraper 11a and a tray 11b are provided on the lateral side of the metal roll 5, and the residual coating liquid remaining on the outer peripheral surface of the metal roll 5 and the coating liquid not coated on the rectangular substrate W are provided. Is configured to recover.

【0021】支持枠3の基板搬送方向上手側箇所に、周
面が平滑で弾性を有するゴム製のアプリケータロール1
2が水平方向の軸芯周りで回転可能に取り付けられ、メ
タルロール5に対して遠近するとともに近接箇所では回
転方向が逆になるように同方向に回転し、メタルロール
5の外周面に付着して塗布液貯留部8から供給されてく
る塗布液をアプリケータロール12に転写するように構
成されている。
An applicator roll 1 made of rubber having a smooth peripheral surface and elasticity at a position on the upper side of the support frame 3 in the substrate carrying direction.
2 is rotatably mounted around a horizontal axis, rotates toward the metal roll 5 in the same direction so that the rotation direction is opposite to that of the metal roll 5 and is attached to the outer peripheral surface of the metal roll 5. The coating liquid supplied from the coating liquid storage section 8 is transferred to the applicator roll 12.

【0022】基台1の角型基板Wの搬送方向両端の一方
側に基板搬入装置13が、そして、他方側に基板搬出装
置14がそれぞれ設けられている。基板搬入装置13お
よび基板搬出装置14それぞれは、角型基板Wを載置し
て搬送する基板搬送ローラ15…と、角型基板Wを真空
吸引によって吸着保持し基台1に対して遠近する方向に
移動可能でかつ昇降可能な基板吸着アーム16とから構
成されている。
A substrate loading device 13 is provided on one side of both ends of the rectangular substrate W in the transport direction of the base 1, and a substrate unloading device 14 is provided on the other side thereof. Each of the substrate loading device 13 and the substrate unloading device 14 is a direction in which the rectangular substrate W is placed and transported, and the rectangular substrate W is sucked and held by vacuum suction to approach the base 1. And a substrate suction arm 16 that is movable up and down.

【0023】基板搬送ローラ15…それぞれにおいて、
角型基板Wの搬送方向に直交する方向での幅を規制する
鍔17が付設され、一方、基板搬入装置13において、
その搬送方向後端にストッパー18,18が設けられ、
基板搬送ローラ15…によって搬送されてきた角型基板
Wを搬送方向後端で所定の姿勢に維持させ、その角型基
板Wを基板吸着アーム16で吸着保持して上昇させ、基
板搬送ステージ2に搬入するように構成されている。
Substrate transport roller 15 ...
A brim 17 for restricting the width of the rectangular substrate W in the direction orthogonal to the transport direction is additionally provided, while in the substrate loading device 13,
Stoppers 18, 18 are provided at the rear end in the transport direction,
The rectangular substrate W transported by the substrate transport rollers 15 is maintained in a predetermined posture at the rear end in the transport direction, and the rectangular substrate W is suction-held by the substrate suction arm 16 and lifted, and then the substrate is transferred to the substrate transport stage 2. It is configured to be loaded.

【0024】基板搬送ステージ2は、一対のガイド1
9,19と、零点検出器付のサーボモータ20で駆動回
転されるネジ軸21とによって水平方向に移動可能に搬
送手段としての基板載置ステージ22を設け、この基板
載置ステージ22に、図4の平面図、および、図5の断
面図(図4のA−A線断面図)に示すように、微小な吸
着孔23を全面に分散形成するとともに、基板搬送方向
と平行に2列に並ぶ状態で筒軸状の真空吸着構成を備え
た基板支持部材24…を昇降により基板載置面に対して
出退可能に設けて構成されている。
The substrate transfer stage 2 comprises a pair of guides 1.
9, 19 and a screw shaft 21 driven and rotated by a servo motor 20 having a zero point detector are provided with a substrate mounting stage 22 as a transfer means so as to be movable in the horizontal direction. As shown in the plan view of FIG. 4 and the cross-sectional view of FIG. 5 (the cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 4), the minute suction holes 23 are dispersedly formed on the entire surface, and the two rows are arranged in parallel with the substrate transfer direction. Substrate supporting members 24 having a cylindrical shaft-like vacuum suction structure in a lined state are provided so as to be able to move back and forth with respect to the substrate mounting surface by raising and lowering.

【0025】基板載置ステージ22の下方に、図6の側
面図(図4のB−B線断面図)に示すように、2本の中
空パイプ25,25が昇降可能に設けられている。中空
パイプ25,25それぞれに、4個の基板支持部材24
が連通する状態で一体的に取り付けられるとともに、両
中空パイプ25,25の長手方向両端がクランクアーム
26に連動連結され、かつ、クランクアーム26にエア
ーシリンダ27が連動連結され、エアーシリンダ27の
伸縮により、基板支持部材24を、基板載置面より突出
して角型基板Wを受け止める基板受け止め位置と、基板
載置面より引退して角型基板Wに作用しない非作用位置
とにわたって変位するように構成されている。
Below the substrate mounting stage 22, as shown in the side view of FIG. 6 (a sectional view taken along the line BB in FIG. 4), two hollow pipes 25, 25 are vertically movable. Each of the hollow pipes 25, 25 has four substrate support members 24.
Are integrally attached in a state of communicating with each other, both longitudinal ends of both hollow pipes 25, 25 are interlockingly connected to a crank arm 26, and an air cylinder 27 is interlockingly connected to the crank arm 26, so that the air cylinder 27 can expand and contract. Thus, the substrate support member 24 is displaced between a substrate receiving position that projects from the substrate mounting surface to receive the rectangular substrate W and a non-acting position that retracts from the substrate mounting surface and does not act on the rectangular substrate W. It is configured.

【0026】基板支持部材24の、真空吸着孔の開口端
側に、テフロン(デュポン社商標)、ポリプロピレン、
ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ゴムなどの摩擦係
数の大きい樹脂材料で成形された筒体28が取り付けら
れ、角型基板Wが載置時に滑ることを防止できるように
構成されている。
On the opening end side of the vacuum suction hole of the substrate support member 24, Teflon (trademark of DuPont), polypropylene,
A cylindrical body 28 formed of a resin material having a large friction coefficient such as polyethylene, high-density polyethylene, or rubber is attached to the rectangular substrate W so that the rectangular substrate W can be prevented from slipping during mounting.

【0027】図2に示すように、基板搬入側の基板吸着
アーム16の所定箇所に、角型基板Wを真空吸着保持し
たことを検出する第1の静電容量センサ29が付設さ
れ、一方、基板搬出側の基板吸着アーム16の所定箇所
に、角型基板Wを真空吸着保持したことを検出する基板
取り出し検出手段としての第2の静電容量センサ30が
付設されている。
As shown in FIG. 2, a first electrostatic capacity sensor 29 for detecting that the rectangular substrate W is vacuum-sucked and held is attached to a predetermined position of the substrate suction arm 16 on the substrate loading side. A second electrostatic capacitance sensor 30 is attached to a predetermined position of the substrate suction arm 16 on the substrate unloading side as a substrate extraction detection unit that detects that the rectangular substrate W is vacuum suction-held.

【0028】また、図4に示すように、基板載置ステー
ジ22の所定箇所に、角型基板Wを載置して真空吸着保
持したことを検出する基板載置検出手段としての第3の
静電容量センサ31が付設されている。
Further, as shown in FIG. 4, a third substrate as a substrate placement detecting means for detecting that the rectangular substrate W is placed at a predetermined position on the substrate placing stage 22 and held by vacuum suction. A capacitance sensor 31 is attached.

【0029】図7のブロック図に示すように、第1、第
2および第3の静電容量センサ29,30,31それぞ
れが攪拌制御手段としてのマイクロコンピュータ32に
接続されるとともに、そのマイクロコンピュータ32
に、前記ロッドレスシリンダ10に対する制御弁33が
接続されている。
As shown in the block diagram of FIG. 7, each of the first, second and third capacitance sensors 29, 30 and 31 is connected to a microcomputer 32 as a stirring control means, and the microcomputer thereof is also connected. 32
A control valve 33 for the rodless cylinder 10 is connected to the.

【0030】マイクロコンピュータ32には、攪拌停止
手段34と攪拌起動手段35とが備えられている。攪拌
停止手段34では、第1および第3の静電容量センサ2
9,31の検出結果に基づき、基板搬入装置13の基板
吸着アーム16から基板載置ステージ22上に角型基板
Wが載置されたことを検出し、それに基づいて制御弁3
3に停止信号を出力し、塗布液供給ノズル9による、塗
布液貯留部8内に貯留された塗布液の攪拌を停止するよ
うになっている。攪拌起動手段35では、第2の静電容
量センサ30の検出結果に基づき、角型基板Wが基板載
置ステージ22から取り出されて基板搬出装置14の基
板吸着アーム16に吸着保持されたことを検出し、それ
に基づいて制御弁33に起動信号を出力し、塗布液供給
ノズル9による、塗布液貯留部8内に貯留された塗布液
の攪拌を開始するようになっている。前述の、第1、第
2および第3の静電容量センサ29,30,31から成
る構成をして塗布液供給判別手段と称する。
The microcomputer 32 is provided with an agitation stopping means 34 and an agitation starting means 35. In the stirring stop means 34, the first and third capacitance sensors 2
Based on the detection results of 9 and 31, it is detected that the rectangular substrate W is placed on the substrate placing stage 22 from the substrate suction arm 16 of the substrate carry-in device 13, and based on that, the control valve 3
A stop signal is output to 3 to stop the stirring of the coating liquid stored in the coating liquid storage section 8 by the coating liquid supply nozzle 9. In the stirring starter 35, based on the detection result of the second capacitance sensor 30, it is confirmed that the rectangular substrate W is taken out from the substrate mounting stage 22 and sucked and held by the substrate suction arm 16 of the substrate carry-out device 14. The detection is performed, and the start signal is output to the control valve 33 based on the detection, and the coating liquid supply nozzle 9 starts stirring the coating liquid stored in the coating liquid storage section 8. The above-mentioned configuration including the first, second, and third capacitance sensors 29, 30, and 31 is referred to as a coating liquid supply determination unit.

【0031】(第2実施例)図8のブロック図に示すよ
うに、基板載置検出手段としての第3の静電容量センサ
31と、アプリケータロール12に設けられてその回転
速度を検出して出力する第1の回転速度出力手段36
と、メタルロール5に設けられてその回転速度を検出し
て出力する第2の回転速度出力手段37と、基板載置ス
テージ22を駆動するサーボモータ20に設けられてそ
のパルス間隔から角型基板Wの搬送速度を検出して出力
する搬送速度出力手段38と、角型基板Wの移送方向に
おけるサイズを人為設定により出力する基板サイズ出力
手段39それぞれが、マイクロコンピュータ40に接続
され、そのマイクロコンピュータ40に、前記ロッドレ
スシリンダ10に対する制御弁33が接続されている。
(Second Embodiment) As shown in the block diagram of FIG. 8, a third capacitance sensor 31 as a substrate placement detecting means and an applicator roll 12 are provided to detect the rotation speed thereof. First rotation speed output means 36 for outputting
And a second rotation speed output means 37 provided on the metal roll 5 for detecting and outputting the rotation speed thereof, and a servo motor 20 for driving the substrate mounting stage 22. A transfer speed output means 38 for detecting and outputting the transfer speed of W and a substrate size output means 39 for outputting the size of the rectangular substrate W in the transfer direction by artificial setting are connected to a microcomputer 40, respectively. A control valve 33 for the rodless cylinder 10 is connected to 40.

【0032】マイクロコンピュータ40には、塗布液供
給タイミング算出手段41と、攪拌制御手段42とが備
えられ、そして、攪拌制御手段42には、攪拌停止手段
43と攪拌起動手段44とが備えられている。
The microcomputer 40 is provided with a coating liquid supply timing calculation means 41 and a stirring control means 42, and the stirring control means 42 is provided with a stirring stopping means 43 and a stirring starting means 44. There is.

【0033】塗布液供給タイミング算出手段41では、
第3の静電容量センサ31により角型基板Wが基板載置
ステージ22上に載置したことを検出するに伴い、第1
および第2の回転速度出力手段36,37から出力され
るアプリケータロール12およびメタルロール5それぞ
れの回転速度と、搬送速度出力手段38から出力される
基板載置ステージ22の搬送速度および基板サイズ出力
手段39から出力される基板サイズそれぞれとを入力し
て、角型基板Wに塗布されるべき塗布液が塗布液貯留部
8からメタルロール5に供給される供給タイミングと供
給されなくなる非供給タイミングとを算出するようにな
っている。
In the coating liquid supply timing calculation means 41,
As the third capacitance sensor 31 detects that the rectangular substrate W is placed on the substrate placement stage 22, the first
And the rotation speeds of the applicator roll 12 and the metal roll 5 output from the second rotation speed output means 36 and 37, and the transfer speed and the substrate size output of the substrate mounting stage 22 output from the transfer speed output means 38. By inputting each of the substrate sizes output from the means 39, the supply timing at which the coating liquid to be coated on the rectangular substrate W is supplied from the coating liquid storage section 8 to the metal roll 5, and the non-supply timing at which the coating liquid is not supplied. Is calculated.

【0034】攪拌停止手段43では、塗布液供給タイミ
ング算出手段41で算出された塗布液の供給タイミング
において、制御弁33に停止信号を出力し、塗布液供給
ノズル9による、塗布液貯留部8内に貯留された塗布液
の攪拌を停止するようになっている。
The agitation stopping means 43 outputs a stop signal to the control valve 33 at the coating liquid supply timing calculated by the coating liquid supply timing calculating means 41 so that the coating liquid storage nozzle 8 is operated by the coating liquid supply nozzle 9. The stirring of the coating liquid stored in is stopped.

【0035】攪拌起動手段44では、塗布液供給タイミ
ング算出手段41で算出された塗布液の非供給タイミン
グにおいて、制御弁33に起動信号を出力し、塗布液供
給ノズル9による、塗布液貯留部8内に貯留された塗布
液の攪拌を開始するようになっている。前述の、第3の
静電容量センサ31と、第1および第2の回転速度出力
手段36,37と、搬送速度出力手段38と、基板サイ
ズ出力手段39と、塗布液供給タイミング算出手段41
とから成る構成をして塗布液供給判別手段と称する。
The agitation starting means 44 outputs a starting signal to the control valve 33 at the non-supply timing of the coating liquid calculated by the coating liquid supply timing calculating means 41 so that the coating liquid storage section 8 is operated by the coating liquid supply nozzle 9. The stirring of the coating liquid stored inside is started. The third capacitance sensor 31, the first and second rotation speed output means 36 and 37, the transfer speed output means 38, the substrate size output means 39, and the coating liquid supply timing calculation means 41 described above.
It is constituted by and is referred to as a coating liquid supply determining means.

【0036】すなわち、この第2実施例においては、先
ず、第1および第2の回転速度出力手段36,37から
出力されるアプリケータロール12およびメタルロール
5それぞれの回転速度により、塗布液貯留部8から供給
された塗布液がメタルロール5からアプリケータロール
12に転写されるまでの時間と、アプリケータロール1
2に転写された塗布液が、角型基板Wの表面に転写され
ることとなるアプリケータロール12の回転軸芯の鉛直
下方位置に到達するまでの時間との合計を算出し、塗布
液貯留部8から角型基板Wへの塗布位置に到達するまで
の塗布液到達時間を算出する。
That is, in the second embodiment, first, the coating liquid storage section is controlled by the respective rotation speeds of the applicator roll 12 and the metal roll 5 output from the first and second rotation speed output means 36 and 37. The time required for the coating liquid supplied from 8 to be transferred from the metal roll 5 to the applicator roll 12, and the applicator roll 1
The total time taken for the coating liquid transferred to No. 2 to reach the position vertically below the rotation axis of the applicator roll 12 to be transferred to the surface of the rectangular substrate W is calculated, and the coating liquid is stored. The time required for the coating liquid to reach the coating position on the rectangular substrate W from the portion 8 is calculated.

【0037】一方、搬送速度出力手段38から出力され
る搬送速度に基づき、予め知られている、基板搬入装置
13からの角型基板Wの受け渡し位置からアプリケータ
ロール12による塗布位置までの距離との関係から、基
板載置ステージ22上に載置した角型基板Wの移送方向
上手側端縁が塗布位置に到達する基板到達時間を算出す
る。
On the other hand, based on the transport speed output from the transport speed output means 38, the distance from the transfer position of the rectangular substrate W from the substrate loading device 13 to the coating position by the applicator roll 12, which is known in advance, From this relationship, the substrate arrival time at which the edge of the rectangular substrate W placed on the substrate placement stage 22 on the upstream side in the transfer direction reaches the coating position is calculated.

【0038】上記基板到達時間と塗布液到達時間との差
から、角型基板Wの受け渡し位置から移送を開始した
後、角型基板Wに塗布されるべき塗布液が塗布液貯留部
8からメタルロール5に供給される状態になるまでの時
間を求め、その時間の経過後を塗布液の供給タイミング
として、攪拌停止手段43から制御弁33に停止信号を
出力し、塗布液供給ノズル9による、塗布液貯留部8内
に貯留された塗布液の攪拌を停止するのである。
Due to the difference between the substrate arrival time and the coating liquid arrival time, after the transfer from the transfer position of the rectangular substrate W is started, the coating liquid to be applied to the rectangular substrate W is supplied from the coating liquid storage section 8 to the metal. The time until the state of being supplied to the roll 5 is obtained, and after the lapse of the time, the agitation stopping means 43 outputs a stop signal to the control valve 33 so that the coating liquid supply nozzle 9 causes The stirring of the coating liquid stored in the coating liquid storage section 8 is stopped.

【0039】また、前述した搬送速度出力手段38から
出力される搬送速度と、基板サイズ出力手段39から出
力される基板サイズとの関係から、塗布液の開始後、角
型基板Wの下手側端縁まで塗布液を塗布し終わるまでの
塗布時間を求め、上述塗布液の供給タイミングから塗布
時間が経過した時点を上述塗布液の非供給タイミングと
して、制御弁33に起動信号を出力し、塗布液供給ノズ
ル9による、塗布液貯留部8内に貯留された塗布液の攪
拌を開始するのである。
From the relationship between the transport speed output from the above-described transport speed output means 38 and the substrate size output from the substrate size output means 39, the lower edge of the rectangular substrate W after the coating liquid is started. The application time until the application liquid is completely applied to the edge is obtained, and when the application time has elapsed from the application liquid supply timing, the start time signal is output to the control valve 33, and the application liquid is output. The supply nozzle 9 starts agitating the coating liquid stored in the coating liquid storage section 8.

【0040】本発明のロールコータとしては、上述実施
例のように、塗布液貯留部8からの塗布液をメタルロー
ル5およびアプリケータロール12を介して角型基板W
の表面に塗布するタイプに限らず、例えば、塗布液貯留
部8からの塗布液をアプリケータロール12によって直
接的に角型基板Wの表面に塗布するタイプにも適用で
き、その場合であれば、上述第2実施例における第2の
回転速度検出手段37を無くした形で塗布液の供給タイ
ミングと非供給タイミングとを算出するように構成すれ
ば良い。この構成が請求項3に係る発明のロールコータ
に相当する。
As the roll coater of the present invention, as in the above-mentioned embodiment, the rectangular substrate W is obtained by applying the coating liquid from the coating liquid storage section 8 through the metal roll 5 and the applicator roll 12.
The present invention is not limited to the type in which the surface of the rectangular substrate W is directly applied to the surface of the rectangular substrate W by the applicator roll 12 without being limited to the type in which it is applied to the surface of the rectangular substrate W. The supply timing and the non-supply timing of the coating liquid may be calculated without the second rotation speed detecting means 37 in the second embodiment. This configuration corresponds to the roll coater of the invention according to claim 3.

【0041】本発明としては、上述実施例のロールコー
タに限らず、例えば、グラビアメタルロールによって塗
布液を供給するように構成したタイプのロールコータな
ど各種構成のロールコータに適用できる。
The present invention is not limited to the roll coater of the above-described embodiment, but can be applied to various roll coaters such as a roll coater of the type configured to supply the coating liquid by a gravure metal roll.

【0042】本発明としては、上述のような角型基板W
に限らず、各種の形状の基板に塗布液を塗布する場合に
適用できる。
According to the present invention, the rectangular substrate W as described above is used.
However, the present invention is not limited to this and can be applied to the case where the coating liquid is applied to substrates of various shapes.

【0043】本発明としては、攪拌手段兼用の塗布液供
給ノズル9に限らず、例えば、塗布液貯留部8内に塗布
液供給ノズル9とは別に、専用の攪拌スクリュー軸を浸
漬し、塗布液貯留部8内の塗布液を攪拌するように構成
するなど、各種構成の攪拌手段が適用できる。
The present invention is not limited to the coating liquid supply nozzle 9 which also serves as a stirring means. For example, a dedicated stirring screw shaft is immersed in the coating liquid storage section 8 separately from the coating liquid supply nozzle 9 to form the coating liquid. Agitating means having various configurations, such as a configuration in which the coating liquid in the reservoir 8 is agitated, can be applied.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1に係る発
明のロールコータによれば、通常時においては、塗布液
貯留部に貯留された塗布液を攪拌手段で攪拌するから、
塗布液の局部的対流や淀みに起因する変質を無くして基
板表面でのリング状パターンの発生を防止し、リング状
パターンに起因する塗布ムラ発生を防止でき、しかも、
基板に塗布されるべき塗布液がアプリケータロールに供
給されるときには、攪拌制御手段によって攪拌手段の攪
拌動作を停止し、攪拌による悪影響を受けない状態の塗
布液を基板表面に塗布するから、攪拌跡による悪影響が
基板表面に現れることをも防止して基板表面に塗布液を
均一に塗布できる。
As described above, according to the roll coater of the first aspect of the invention, the coating solution stored in the coating solution storage section is normally stirred by the stirring means.
Prevents the occurrence of ring-shaped patterns on the substrate surface by eliminating the alteration caused by local convection and stagnation of the coating liquid, and prevents the occurrence of coating unevenness caused by the ring-shaped patterns, and
When the coating liquid to be applied to the substrate is supplied to the applicator roll, the stirring operation of the stirring unit is stopped by the stirring control unit, and the coating liquid that is not adversely affected by stirring is coated on the substrate surface. The coating liquid can be evenly applied to the surface of the substrate while preventing the adverse effect of traces from appearing on the surface of the substrate.

【0045】また、請求項2に係る発明のロールコータ
によれば、塗布液の塗布のために基板が搬送手段上に載
置されているかどうかを判断し、基板が搬送手段上に載
置されている間は攪拌を停止するように制御するから、
搬送手段に基板が載置されたかどうかを検出するセンサ
を設けて、そのセンサと攪拌手段とを連係して制御すれ
ば良く、簡単な構成で、攪拌状態の塗布液が基板表面に
塗布されて攪拌跡が基板表面に現れることを回避するこ
とができる。
Further, according to the roll coater of the second aspect of the present invention, it is determined whether or not the substrate is placed on the transport means for applying the coating liquid, and the substrate is placed on the transport means. While stirring, it controls to stop stirring,
A sensor for detecting whether or not the substrate is placed on the transfer means may be provided, and the sensor and the stirring means may be controlled in cooperation with each other. With a simple configuration, the coating liquid in the stirred state is applied to the substrate surface. It is possible to prevent the stirring trace from appearing on the substrate surface.

【0046】また、請求項3に係る発明のロールコータ
によれば、塗布液を塗布する基板のサイズに応じ、必要
最小限の間だけ攪拌を停止するから、攪拌を良好に行っ
てリング状パターンの発生を防止しながら、攪拌跡が基
板表面に現れることを回避し、基板表面に塗布液を良好
に塗布できる。
According to the roll coater of the third aspect of the present invention, the stirring is stopped for a minimum necessary period according to the size of the substrate on which the coating liquid is applied. It is possible to prevent the occurrence of stirring traces on the surface of the substrate while preventing the occurrence of, and to satisfactorily apply the coating liquid to the surface of the substrate.

【0047】また、請求項4に係る発明のロールコータ
によれば、塗布液をドクタから良好に分離して塗布液貯
留部からメタルロールの外周面に塗膜を形成して取り出
すことができるから、塗布ムラを無くすことができる上
に膜厚を均一にできる。
According to the roll coater of the fourth aspect of the present invention, the coating liquid can be properly separated from the doctor, and a coating film can be formed and taken out from the coating liquid storage portion on the outer peripheral surface of the metal roll. The coating unevenness can be eliminated and the film thickness can be made uniform.

【0048】また、請求項5に係る発明のロールコータ
によれば、膜厚を均一にできながら、塗布液を塗布する
基板のサイズに応じ、必要最小限の間だけ攪拌を停止す
るから、攪拌を良好に行ってリング状パターンの発生を
防止しながら、攪拌跡が基板表面に現れることを回避
し、基板表面に塗布液を一層良好に塗布できる。
According to the roll coater of the fifth aspect of the invention, while the film thickness can be made uniform, the stirring is stopped for a necessary minimum amount depending on the size of the substrate to which the coating liquid is applied. The coating liquid can be more favorably applied to the substrate surface while avoiding the appearance of stirring marks on the substrate surface while preventing the occurrence of ring-shaped patterns.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係るロールコータの第1実施例を示す
全体側面図である。
FIG. 1 is an overall side view showing a first embodiment of a roll coater according to the present invention.

【図2】全体平面図である。FIG. 2 is an overall plan view.

【図3】要部の拡大側面図である。FIG. 3 is an enlarged side view of a main part.

【図4】基板載置ステージの平面図である。FIG. 4 is a plan view of a substrate mounting stage.

【図5】図4のA−A線断面図である。5 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.

【図6】図4のB−B線断面図である。6 is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG.

【図7】ブロック図である。FIG. 7 is a block diagram.

【図8】第2実施例を示すブロック図である。FIG. 8 is a block diagram showing a second embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

5…メタルロール 8…塗布液貯留部 9…攪拌手段としての塗布液供給ノズル 12…アプリケータロール 22…搬送手段としての基板載置ステージ 30…基板取り出し検出手段としての第2の静電容量セ
ンサ 31…基板載置検出手段としての第3の静電容量センサ 32…攪拌制御手段としてのマイクロコンピュータ 34…攪拌停止手段 35…攪拌起動手段 36…第1の回転速度出力手段 37…第2の回転速度出力手段 38…搬送速度出力手段 39…基板サイズ出力手段 41…塗布液供給タイミング算出手段 42…攪拌制御手段 43…攪拌停止手段 44…攪拌起動手段 W…角型基板
5 ... Metal Roll 8 ... Coating Liquid Reservoir 9 ... Coating Liquid Supply Nozzle as Stirring Means 12 ... Applicator Roll 22 ... Substrate Placement Stage 30 as Transfer Means 30 ... Second Capacitance Sensor as Substrate Ejection Detection Means 31 ... Third capacitance sensor as substrate placement detecting means 32 ... Microcomputer as stirring control means 34 ... Stirring stopping means 35 ... Stirring starting means 36 ... First rotation speed output means 37 ... Second rotation Speed output means 38 ... Transport speed output means 39 ... Substrate size output means 41 ... Coating liquid supply timing calculation means 42 ... Stirring control means 43 ... Stirring stop means 44 ... Stirring start means W ... Square substrate

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アプリケータロールの外周面に塗布液貯
留部から塗布液を供給し、水平方向に前記アプリケータ
ロールと相対的に移動される基板の表面に前記アプリケ
ータロールを回転させて塗布液を塗布するロールコータ
において、 前記塗布液貯留部に、貯留された塗布液を攪拌する攪拌
手段を設け、前記基板に塗布されるべき塗布液が前記塗
布液貯留部から前記アプリケータロールに供給されるこ
とを判別する塗布液供給判別手段を設けるとともに、そ
の塗布液供給判別手段によって前記基板に塗布されるべ
き塗布液が供給されることを判別するに伴い、前記攪拌
手段の攪拌動作を停止する攪拌制御手段を設けたことを
特徴とするロールコータ。
1. An application liquid is supplied from an application liquid storage part to the outer peripheral surface of an applicator roll, and the applicator roll is applied to the surface of a substrate which is horizontally moved relative to the applicator roll. In a roll coater for applying a liquid, the coating liquid storage unit is provided with a stirring means for stirring the stored coating liquid, and the coating liquid to be applied to the substrate is supplied from the coating liquid storage unit to the applicator roll. The coating liquid supply determining means for determining that the coating liquid is to be applied is provided, and the stirring operation of the stirring means is stopped as the coating liquid supply determining means determines that the coating liquid to be applied to the substrate is supplied. A roll coater characterized by being provided with a stirring control means for controlling.
【請求項2】 請求項1に記載の塗布液供給判別手段
が、 搬送手段上に基板が載置されたことを検出する基板載置
検出手段と、 前記搬送手段上から基板が取り出されたことを検出する
基板取り出し検出手段とから成り、 攪拌制御手段が、 前記基板載置検出手段による基板載置検出によって攪拌
手段の攪拌動作を停止する攪拌停止手段と、 前記基板取り出し検出手段による基板取り出し検出によ
って攪拌手段の攪拌動作を行う攪拌起動手段と、 を備えたものであるロールコータ。
2. The coating liquid supply determining means according to claim 1, wherein the substrate placement detecting means detects that the substrate is placed on the carrying means, and the substrate is taken out from the carrying means. And a substrate removal detection means for detecting the substrate removal detection means, wherein the stirring control means stops the stirring operation of the stirring means by the substrate placement detection by the substrate placement detection means, and the substrate removal detection by the substrate removal detection means. A roll coater comprising: a stirring start-up means for performing a stirring operation of the stirring means.
【請求項3】 請求項1に記載の塗布液供給判別手段
が、 搬送手段上に基板が載置されたことを検出する基板載置
検出手段と、 アプリケータロールの回転速度を出力する回転速度出力
手段と、 搬送手段の搬送速度を出力する搬送速度出力手段と、 基板の移送方向におけるサイズを出力する基板サイズ出
力手段と、 前記基板載置検出手段による基板載置状態の検出と、前
記回転速度出力手段から出力される前記アプリケータロ
ールの回転速度と、前記搬送速度出力手段から出力され
る前記搬送手段の搬送速度および前記基板サイズ出力手
段から出力される基板サイズそれぞれとを入力して、前
記基板に塗布されるべき塗布液が前記塗布液貯留部から
供給される供給タイミングと供給されなくなる非供給タ
イミングとを算出する塗布液供給タイミング算出手段と
から成り、 攪拌制御手段が、 前記塗布液供給タイミング算出手段によって算出された
供給タイミングで攪拌手段の攪拌動作を停止する攪拌停
止手段と、 前記塗布液供給タイミング算出手段によって算出された
非供給タイミングで攪拌手段の攪拌動作を行う攪拌起動
手段と、 を備えたものであるロールコータ。
3. The coating liquid supply determining means according to claim 1, the substrate placement detecting means for detecting that the substrate is placed on the transporting means, and the rotation speed for outputting the rotation speed of the applicator roll. Output means, transfer speed output means for outputting the transfer speed of the transfer means, substrate size output means for outputting the size of the substrate in the transfer direction, detection of the substrate mounting state by the substrate mounting detection means, and rotation of the substrate By inputting the rotation speed of the applicator roll output from the speed output means, the transfer speed of the transfer means output from the transfer speed output means and the substrate size output from the substrate size output means, respectively, A coating liquid supply tie for calculating a supply timing and a non-supply timing at which the coating liquid to be applied to the substrate is supplied from the coating liquid storage section. And a stirring stop means for stopping the stirring operation of the stirring means at the supply timing calculated by the coating liquid supply timing calculating means, and the stirring control means calculates by the coating liquid supply timing calculating means. A roll coater comprising: a stirring start-up means for stirring the stirring means at a non-supply timing.
【請求項4】 請求項1、2または3のいずれかに記載
のアプリケータロールにメタルロールを当接し、段差部
を備えたドクタを設けるとともに、前記段差部に近接し
た上方位置で前記ドクタを前記メタルロールに水平方向
で近接し、前記メタルロールと前記ドクタとの間に塗布
液貯留部を形成してあるロールコータ。
4. The applicator roll according to claim 1, a metal roll is brought into contact with the applicator roll, and a doctor provided with a step portion is provided, and the doctor is provided at an upper position close to the step portion. A roll coater horizontally adjacent to the metal roll and having a coating liquid reservoir formed between the metal roll and the doctor.
【請求項5】 請求項4に記載のロールコータにおい
て、 塗布液供給判別手段が、 搬送手段上に基板が載置されたことを検出する基板載置
検出手段と、 アプリケータロールの回転速度を出力する第1の回転速
度出力手段と、 メタルロールの回転速度を出力する第2の回転速度出力
手段と、 搬送手段の搬送速度を出力する搬送速度出力手段と、 基板の移送方向におけるサイズを出力する基板サイズ出
力手段と、 前記基板載置検出手段による基板載置状態の検出と、前
記第1および第2の回転速度出力手段から出力される前
記アプリケータロールおよびメタルロールの回転速度そ
れぞれと、前記搬送速度出力手段から出力される前記搬
送手段の搬送速度および前記基板サイズ出力手段から出
力される基板サイズそれぞれとを入力して、前記基板に
塗布されるべき塗布液が前記塗布液貯留部から前記メタ
ルロールに供給される供給タイミングと供給されなくな
る非供給タイミングとを算出する塗布液供給タイミング
算出手段とから成り、 攪拌制御手段が、 前記塗布液供給タイミング算出手段によって算出された
供給タイミングで攪拌手段の攪拌動作を停止する攪拌停
止手段と、 前記塗布液供給タイミング算出手段によって算出された
非供給タイミングで攪拌手段の攪拌動作を行う攪拌起動
手段と、 を備えたものであるロールコータ。
5. The roll coater according to claim 4, wherein the coating liquid supply determining means detects the substrate placement detecting means for detecting that the substrate is placed on the carrying means, and the rotation speed of the applicator roll. First rotation speed output means for outputting, second rotation speed output means for outputting rotation speed of the metal roll, transfer speed output means for outputting transfer speed of the transfer means, and size in the transfer direction of the substrate are output. Substrate size output means, detection of the substrate placement state by the substrate placement detection means, and rotation speeds of the applicator roll and the metal roll output from the first and second rotation speed output means, respectively. The transport speed of the transport means output from the transport speed output means and the substrate size output from the substrate size output means are respectively input, and the substrate is output. The coating liquid to be applied to the metal roll from the coating liquid storage unit is supplied to the metal roll and a non-supplying timing for calculating the non-supply timing, and the stirring control unit, A stirring stop means for stopping the stirring operation of the stirring means at the supply timing calculated by the coating liquid supply timing calculation means, and a stirring start for performing the stirring operation of the stirring means at the non-supply timing calculated by the coating liquid supply timing calculation means A roll coater equipped with means and.
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