JPH1028916A - Coating method and coater - Google Patents

Coating method and coater

Info

Publication number
JPH1028916A
JPH1028916A JP20786796A JP20786796A JPH1028916A JP H1028916 A JPH1028916 A JP H1028916A JP 20786796 A JP20786796 A JP 20786796A JP 20786796 A JP20786796 A JP 20786796A JP H1028916 A JPH1028916 A JP H1028916A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating
liquid
head
application
reservoir
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20786796A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Mitsuru Hirata
満 平田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hirata Corp
Original Assignee
Hirata Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hirata Corp filed Critical Hirata Corp
Priority to JP20786796A priority Critical patent/JPH1028916A/en
Publication of JPH1028916A publication Critical patent/JPH1028916A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a uniform coating film without causing any streak on the surface of the coating film. SOLUTION: A reservoir 41 for uniformly pressuring a coating liq. B is provided in the inside of a coating head 5, and a liq. reservoir communicated with the reservoir 41 is formed on the upper surface of the coating head 5. The coating liq. B is extruded from the reservoir 41 to the liq. reservoir by pressure, and the coating liq. B is highly bulged on the liq. reservoir by surface tension. When a matter A to be coated is moved while rubbing the surface of the bulged coating liq. B, the coating liq. is stuck to the back surface of the matter A by tackiness power to form the coating film D.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は塗布装置に関する。
特に、液晶表示パネルやウエハ等の平板状の塗布対象物
に使用されるレジスト液等の各種液状塗布液をガラス基
板等の平板状塗布対象物に均一に塗布するための塗布装
置に関する。
[0001] The present invention relates to a coating apparatus.
In particular, the present invention relates to a coating apparatus for uniformly applying various liquid coating liquids such as a resist liquid used for a flat coating target object such as a liquid crystal display panel or a wafer to a flat coating target object such as a glass substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示パネルに用いられるガラス基板
等やウエハその他の平板状の塗布対象物にレジスト液等
の塗布液を塗布する方法としては、スピンコート法を用
いるのが一般的である。しかし、スピンコート法では、
塗布対象物の表面に塗布される塗布液の量は、塗布対象
物の表面に供給した塗布液のうち数%に過ぎず、残りの
90数%は廃棄されており、塗布液の歩留りが非常に悪
いという問題があった。
2. Description of the Related Art A spin coating method is generally used as a method for applying a coating liquid such as a resist liquid to a glass substrate or the like used for a liquid crystal display panel, a wafer or other flat object to be coated. However, in the spin coating method,
The amount of the coating liquid applied to the surface of the coating target is only a few percent of the coating liquid supplied to the surface of the coating target, and the remaining 90% is discarded, and the yield of the coating liquid is extremely low. Had the problem of being bad.

【0003】そこで塗布液の歩留りを向上させるため、
特開平6−339656号公報などには、スロット方式
の塗布装置が提案されている。このスロット方式の塗布
装置にあっては、塗布ヘッド内に設けたスロットで塗布
液を薄く成形して塗布ヘッドの吐出口から流出させ、こ
れを塗布対象物の表面に塗布している。このとき塗布ヘ
ッドから吐出される塗布液の流出速度よりも塗布対象物
の移動速度が大きいため、塗布対象物の表面に塗布され
る際に塗布液が薄く引き伸ばされ、塗布対象物の表面に
は非常に薄い膜厚の塗膜が形成される。
In order to improve the yield of the coating solution,
Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-339656 proposes a slot type coating apparatus. In the slot type coating apparatus, a coating liquid is formed into a thin shape in a slot provided in the coating head, flows out from a discharge port of the coating head, and is coated on the surface of a coating target. At this time, since the moving speed of the application target is larger than the outflow speed of the coating liquid discharged from the coating head, the coating liquid is thinly stretched when being applied to the surface of the application target, and A very thin coating film is formed.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記のようなスロット
方式の塗布装置にあっては、塗布開始時に、塗布対象物
の上方に位置している塗布ヘッドの下端(スロットの吐
出口)に液玉を作り、その液玉を塗布ヘッドと塗布対象
物表面との間で押し潰すことにより塗膜の塗布開始端を
塗布対象物の表面に固定し、塗布対象物の表面に薄く引
き伸ばされた塗膜を形成している。
In the above-described slot type coating apparatus, when the coating is started, a liquid droplet is placed on the lower end (slot discharge port) of the coating head located above the object to be coated. , The liquid ball is crushed between the coating head and the surface of the object to be applied, so that the coating start end of the coating is fixed to the surface of the object to be applied, and the film which is thinly stretched on the surface of the object to be applied Is formed.

【0005】しかしながら、塗布開始時に塗布ヘッドの
下面にきわめて小さく均一な液玉を作って塗布対象物と
の間で押し潰すため、液玉がスロット長さ方向に不均一
な場合は塗膜の塗布開始領域に液玉の筋が残ることがあ
った。このように塗膜に筋が残ると、その塗布製品は不
良品として廃棄する必要がある。あるいは、筋の残って
いる部分を切断して筋のない部分のみを使用することに
なり、当初の塗布対象物サイズが必要寸法よりも大きく
なり、塗布対象物の取り扱いが困難になると共に塗布対
象物や塗布液の歩留りが低下することになる。
However, at the start of coating, a very small and uniform liquid ball is formed on the lower surface of the coating head and crushed between the liquid and the object to be coated. In some cases, a streak of liquid droplets remained in the starting area. If streaks remain in the coating film, the coated product must be discarded as a defective product. Alternatively, the remaining part of the streak is cut off and only the part without the streak is used, so that the initial size of the object to be coated becomes larger than the required dimension, making it difficult to handle the object to be coated, and The yield of the object and the coating solution will be reduced.

【0006】また、上方から塗布対象物に塗布液を塗布
しているので、塗布ヘッドからの塗布液の液垂れが起こ
り易く、その対策も問題となっていた。
Further, since the application liquid is applied to the object to be applied from above, the application liquid is easily dripped from the application head, and a countermeasure has been a problem.

【0007】さらに、従来のスロット方式の塗布装置に
より形成される塗膜の平坦性は、塗布開始時に塗布ヘ
ッド先端に、スロット長さ方向に均一で微細な液玉をい
かにして作り出すか、また、いかにして塗布ヘッド先
端より定量の塗布液を吐出するか、といった要因によっ
て左右される。従って、塗膜の平坦性を確保するために
は、スロット長さ方向全長にわたって均一で定量な吐出
量を得る必要があり、塗布ヘッドの製作時における液注
入口から吐出口へ至る加工面の微細加工及び塗布ヘッド
のスロット幅(ギャップ)の間隔の微調整作業を必要と
し、塗布ヘッドの製作上においても塗布装置による塗布
運転時においても大きな困難を伴っていた。
Further, the flatness of a coating film formed by a conventional slot type coating apparatus is determined by how uniform and fine liquid droplets are formed at the tip of the coating head at the start of coating in the slot length direction. It depends on factors such as how to discharge a fixed amount of coating liquid from the tip of the coating head. Therefore, in order to ensure the flatness of the coating film, it is necessary to obtain a uniform and constant discharge amount over the entire length in the slot length direction, and the fine processing surface from the liquid injection port to the discharge port at the time of manufacturing the coating head is required. Processing and fine adjustment of the interval of the slot width (gap) of the coating head are required, and there are great difficulties both in manufacturing the coating head and in the coating operation by the coating device.

【0008】また、塗布対象物の上面に塗布する従来の
スロット方式の塗布装置においては、塗布動作の開始と
終了は、流体バルブ等による塗布液の流出の開放及び遮
断動作によって行なわれていた。この方法によると、そ
の塗布開始と終了時点において、塗布液の漏れにより塗
布膜の平坦度が悪くなり、筋引きが発生して不良品とな
ることが多かった。このように塗布対象物の上面から塗
布する従来のスロット方式の塗布装置においては、塗布
の開始と終了時点の液漏れの問題が解決困難であるた
め、スムーズな連続塗布動作により均一な膜厚の塗膜を
得ることが困難であった。
In the conventional slot type coating apparatus for coating on the upper surface of the object to be coated, the start and the end of the coating operation are performed by opening and shutting off the flow of the coating liquid by a fluid valve or the like. According to this method, at the start and end of the application, the flatness of the applied film is deteriorated due to the leakage of the application liquid, and streaking occurs, often resulting in defective products. As described above, in the conventional slot type coating apparatus which applies the liquid from the upper surface of the object to be coated, since it is difficult to solve the problem of the liquid leakage at the start and the end of the application, a uniform film thickness is obtained by a smooth continuous applying operation. It was difficult to obtain a coating.

【0009】本発明は叙上の従来例の欠点に鑑みてなさ
れたものであり、その目的とするところは、全体にわた
って平坦で均一な膜厚を有する塗膜を形成することがで
きる塗布装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art, and has as its object to provide a coating apparatus capable of forming a coating film having a flat and uniform film thickness over the whole. To provide.

【0010】[0010]

【発明の開示】本発明の請求項1に記載の塗布方法は、
塗布ヘッドの上面に設けた液溜まりに塗布液を保持し、
塗布液の表面張力によって塗布液を液溜まりから盛り上
がらせ、液溜まりから盛り上がった塗布液に接触させな
がら塗布対象物を相対的に移動させることにより塗布対
象物の下面に塗布液を塗布することを特徴としている。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The coating method according to claim 1 of the present invention comprises:
The coating liquid is held in a liquid pool provided on the upper surface of the coating head,
Applying the coating liquid to the lower surface of the coating object by raising the coating liquid from the liquid pool by the surface tension of the coating liquid and relatively moving the coating object while making contact with the coating liquid rising from the liquid pool. Features.

【0011】また、本発明の請求項4に記載の塗布装置
は、内部にリザーバを有し、リザーバから供給された塗
布液を保持する液溜まりを上面に有する塗布ヘッドと、
塗布ヘッドに塗布液を供給する手段と、塗布ヘッドの上
方を通過するように塗布対象物を移動させる搬送手段と
を備えたことを特徴としている。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a coating apparatus, comprising: a coating head having a reservoir inside, and a liquid reservoir for holding a coating liquid supplied from the reservoir on an upper surface;
It is characterized by comprising a means for supplying a coating liquid to the coating head, and a transport means for moving an object to be coated so as to pass above the coating head.

【0012】本発明は液晶表示パネルのガラス基板やウ
エハ等の塗布対象物にレジスト液等の各種液状の塗布液
を塗布するために好適な塗布方法及び塗布装置である。
塗布ヘッド先端の液溜まりでは、塗布液自身の表面張力
により液面が盛り上がっており、スロット方向に水平に
盛り上がった塗布液の表面に塗布対象物を接触させなが
ら移動させると、塗布液自身の粘性により塗布液が塗布
対象物に付着し、塗布対象物の表面に塗膜が形成され
る。
The present invention is a coating method and a coating apparatus suitable for applying various liquid coating liquids such as a resist liquid to a coating target such as a glass substrate or a wafer of a liquid crystal display panel.
In the liquid pool at the tip of the coating head, the liquid surface rises due to the surface tension of the coating liquid itself, and when the object to be coated is moved while contacting the surface of the coating liquid rising horizontally in the slot direction, the viscosity of the coating liquid itself becomes high. As a result, the coating liquid adheres to the object to be coated, and a coating film is formed on the surface of the object to be coated.

【0013】さらに、下面側から塗布対象物に塗布液を
塗布しているので、液垂れの問題が発生しない。
Further, since the application liquid is applied to the application object from the lower surface side, the problem of liquid dripping does not occur.

【0014】さらに、液溜まりにおいて塗布液の表面張
力によって塗布液を盛り上がらせているので、液溜まり
においては塗布ヘッドの液吐出口および液溜まりの形状
が長さ方向に均一であれば、塗布液は長さ方向に均一に
盛り上がり、従来のスロット方式の塗布装置のように塗
膜に筋が発生せず、品質のよい塗膜を得ることができ、
製品の歩留りが向上する。
Further, since the coating liquid is raised by the surface tension of the coating liquid in the liquid pool, if the liquid discharge port of the coating head and the shape of the liquid pool are uniform in the length direction, the coating liquid Swells uniformly in the length direction, and the coating film has no streak like a conventional slot type coating device, and a high quality coating film can be obtained.
Product yield is improved.

【0015】さらに、液溜まりに塗布液を供給すると、
塗布液は液溜まりに広がって表面張力によって均一に盛
り上がるので、従来のスロット方式の塗布ヘッドのよう
に微細な加工を必要とせず、塗布ヘッドの構造を簡単に
することができると共に、スロットの開口幅等の微調整
が不要となる。
Further, when the coating liquid is supplied to the liquid pool,
Since the coating liquid spreads in the liquid pool and rises evenly due to surface tension, fine processing is not required unlike the conventional slot type coating head, so that the structure of the coating head can be simplified and the opening of the slot can be simplified. Fine adjustment of width and the like becomes unnecessary.

【0016】また、請求項2に記載の実施態様は、請求
項1記載の塗布方法において、塗布ヘッド内の塗布液を
加圧して前記液溜まりに塗布液を盛り上がらせた後、塗
布ヘッド上端と塗布対象物下面との距離が一定距離とな
るように塗布ヘッドを上昇させて、液溜まりに盛り上が
っている塗布液を塗布対象物の下面に接触させることに
より、塗布液の塗布開始することを特徴としている。
According to a second aspect of the present invention, in the coating method according to the first aspect, after the application liquid in the application head is pressurized to cause the application liquid to swell in the liquid reservoir, the upper surface of the application head is removed. It is characterized in that the application head is raised so that the distance from the lower surface of the object to be applied is constant, and the application of the application liquid rising in the liquid pool is brought into contact with the lower surface of the object to start application of the application liquid. And

【0017】この実施態様によれば、塗布液に加圧して
液溜まり内に盛り上がらせ、塗布液の液位を表面張力に
よって均一にならした状態で塗布ヘッドを上昇させて塗
布液を塗布対象物の下面に接触させているので、塗布液
の塗り始め、すなわち塗膜始端を均一な膜厚に形成する
ことができる。
According to this embodiment, the coating liquid is pressurized to rise in the liquid pool, and the coating head is raised in a state where the liquid level of the coating liquid is made uniform by the surface tension to apply the coating liquid to the object to be coated. , It is possible to form a uniform film thickness at the beginning of application of the coating liquid, that is, at the beginning of the coating film.

【0018】請求項3に記載の実施態様は、請求項1記
載の塗布方法において、塗布対象物の下面に接触してい
る前記液溜まり内の塗布液を減圧した後、塗布ヘッドを
下降させることにより、塗布液の塗布終了することを特
徴としている。
According to a third aspect of the present invention, in the coating method according to the first aspect, after the pressure of the coating liquid in the liquid pool in contact with the lower surface of the object to be coated is reduced, the coating head is lowered. Thus, the application of the application liquid is completed.

【0019】この実施態様によれば、液溜まりの上に盛
り上がって塗布対象物の下面に接触、塗布されていた塗
布液を減圧した状態で塗布ヘッドを下降させて塗布液を
塗布対象物から分離させているので、均一に塗布液を塗
布対象物から液切れさせることができ、塗布液の塗り終
わり、すなわち塗膜終端を均一な膜厚に形成することが
できる。
According to this embodiment, the coating liquid rises above the liquid pool and contacts the lower surface of the object to be coated, and the coating liquid is separated from the object by lowering the coating head in a state where the applied coating liquid is reduced in pressure. Since the coating liquid is applied, the coating liquid can be uniformly drained from the object to be coated, and the end of application of the coating liquid, that is, the end of the coating film can be formed with a uniform film thickness.

【0020】請求項5に記載の実施態様は、請求項4記
載の塗布装置において、前記リザーバ内の塗布液の液圧
を調整する手段と、前記塗布ヘッドを昇降させるための
手段とを、さらに備えていることを特徴としている。
According to a fifth aspect of the present invention, in the coating apparatus of the fourth aspect, a means for adjusting a liquid pressure of the coating liquid in the reservoir and a means for raising and lowering the coating head are further provided. It is characterized by having.

【0021】この実施態様では、リザーバ内の塗布液の
液圧を調整する手段を備えているので、塗布液に加圧し
たり減圧したりすることができるので、請求項2又は3
に記載の塗布方法のように塗布ヘッドの昇降前に塗布液
に加圧させたり、減圧させたりすることができる。
In this embodiment, since means for adjusting the liquid pressure of the coating liquid in the reservoir is provided, it is possible to pressurize or depressurize the coating liquid.
The application liquid can be pressurized or depressurized before the application head moves up and down as in the application method described in (1).

【0022】従って、これらの実施態様においては、塗
布開始と終了時点における塗布液の垂れによる塗膜の平
坦度の悪化を最小限に抑えることができる。特に、複数
の矩形状をした塗布対象物に対する断続的な塗布作業を
スムーズに行なうことができる。さらに、従来の塗布装
置では、困難であった額縁塗り、すなわち塗布対象物の
縁を額縁状に残して内側に塗布液を均一に塗ることも可
能になる。
Therefore, in these embodiments, it is possible to minimize the deterioration of the flatness of the coating film due to the dripping of the coating liquid at the start and end of coating. In particular, it is possible to smoothly perform an intermittent application operation on a plurality of rectangular application objects. Further, it is also possible to apply the coating liquid uniformly on the inside while leaving the frame of the object to be coated in a frame shape, which is difficult with the conventional coating apparatus.

【0023】[0023]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

(ワーク供給台)図1は本発明の一実施形態による塗布
装置1を示す一部破断した斜視図である。キャビネット
2内には、各種タンクやコントローラ等が納められてお
り、キャビネット2の側面にはコントロールパネル3が
設けられている。キャビネット2の上面には、ワーク供
給台4、塗布ヘッド5を備えた塗布機構部6、吸着テー
ブル7を備えた搬送装置8などが設けられており、その
上方は開閉可能なカバー(図示せず)によって覆われて
いる。
(Work Supply Table) FIG. 1 is a partially broken perspective view showing a coating apparatus 1 according to an embodiment of the present invention. Various tanks, controllers and the like are housed in the cabinet 2, and a control panel 3 is provided on a side surface of the cabinet 2. On the upper surface of the cabinet 2, there are provided a work supply table 4, a coating mechanism unit 6 having a coating head 5, a transfer device 8 having a suction table 7, and the like. ).

【0024】ワーク供給台4の上面にはガラス基板等の
塗布対象物を位置決めするための位置決めピース10が
設けられており、ワーク供給台4に搬入された塗布対象
物は位置決めピース10に囲まれた領域にはまり込むよ
うにして位置決めされる。位置決めピース10によって
囲まれた領域の内部にはワーク供給台4から突出した
り、引っ込んだりするワーク支持ピン11が設けられて
おり、ワーク支持ピン11を引っ込めた状態でワーク供
給台4上に塗布対象物を位置決めし、ついでワーク支持
ピン11を突出させることにより塗布対象物を位置決め
ピース10間から押し上げることができる。
A positioning piece 10 for positioning an object to be coated such as a glass substrate is provided on the upper surface of the work supply table 4, and the object to be applied carried into the work supply table 4 is surrounded by the positioning piece 10. Is positioned so that it fits in the area where it is located. A work support pin 11 that protrudes or retracts from the work supply table 4 is provided inside a region surrounded by the positioning piece 10, and the object to be coated is applied onto the work supply table 4 in a state where the work support pin 11 is retracted. The object to be coated can be pushed up from between the positioning pieces 10 by positioning the object and then projecting the work support pin 11.

【0025】(搬送装置)搬送装置8は、塗布対象物を
吸着して塗布ヘッド5の上方を通過させるものであっ
て、以下のような構造を有している。キャビネット2上
面の両側部に固設されたレール12にはそれぞれスライ
ダー13が摺動自在に係合しており、両スライダー13
間に架設されたブリッジ14の下面には吸着テーブル7
が取り付けられている。吸着テーブル7は、負圧によっ
て塗布対象物を吸着するものであって、エア回路(図示
せず)が接続されている。キャビネット2内には、ブリ
ッジ14及び吸着テーブル7を移動させるための駆動機
構15が設けられている。駆動機構15はボールネジ機
構となっており、サーボモータ16によってスクリュー
軸17を回転駆動すると、スクリュー軸17と螺合して
いる雌ネジブロック18がスクリュー軸17に沿って移
動するようになっている。スライダー13は、この駆動
機構15の雌ネジブロック18と連結されているので、
駆動機構15を駆動して雌ネジブロック18を移動させ
ると、それと共に吸着テーブル7が移動する。
(Transporting Apparatus) The transporting apparatus 8 sucks an object to be coated and passes it over the coating head 5 and has the following structure. Sliders 13 are slidably engaged with rails 12 fixed on both sides of the upper surface of the cabinet 2, respectively.
The suction table 7 is provided on the lower surface of the bridge 14 provided between them.
Is attached. The suction table 7 is for suctioning an object to be coated by a negative pressure, and is connected to an air circuit (not shown). A drive mechanism 15 for moving the bridge 14 and the suction table 7 is provided in the cabinet 2. The drive mechanism 15 is a ball screw mechanism. When the screw shaft 17 is rotationally driven by the servo motor 16, the female screw block 18 screwed with the screw shaft 17 moves along the screw shaft 17. . Since the slider 13 is connected to the female screw block 18 of the drive mechanism 15,
When the drive mechanism 15 is driven to move the female screw block 18, the suction table 7 moves with it.

【0026】しかして、搬送装置8は、塗布対象物がワ
ーク供給台4に搬入されて位置決めピース10間に位置
決めされると、吸着テーブル7をワーク供給台4の上に
移動させる。吸着テーブル7がワーク供給台4の真上に
移動すると、ワーク支持ピン11が突出して塗布対象物
を位置決めピース10間から押し出し、さらに塗布対象
物を吸着テーブル7の下面に押し付ける。塗布対象物が
吸着テーブル7の下面に密着すると、吸着テーブル7は
下面に塗布対象物のほぼ全面を吸着する。ついで、ワー
ク支持ピン11は元のように引っ込められる。こうして
吸着テーブル7の下面に吸着された塗布対象物は、搬送
装置8によって塗布ヘッド5の上方を通過するように搬
送される。
When the object to be coated is carried into the work supply table 4 and positioned between the positioning pieces 10, the transfer device 8 moves the suction table 7 onto the work supply table 4. When the suction table 7 moves directly above the work supply table 4, the work support pins 11 protrude to push the application target from between the positioning pieces 10, and further press the application target against the lower surface of the suction table 7. When the application object comes into close contact with the lower surface of the suction table 7, the suction table 7 suctions almost the entire surface of the application object to the lower surface. Next, the work support pin 11 is retracted as before. The application object sucked on the lower surface of the suction table 7 is transported by the transport device 8 so as to pass above the coating head 5.

【0027】(塗布機構部)塗布機構部6の構造を図2
に示す。キャビネット2のフレーム19上に載置された
ベース20には、一対のガイドブッシュ21が固定され
ており、ガイドブッシュ21にはそれぞれガイドシャフ
ト22がスライド自在に挿通されている。両ガイドシャ
フト22の上端部には、ガイドシャフト22の上端間に
架設されたビーム9の両端部が回動自在に枢支されてお
り、ビーム9の上面には液吐出側を上向きにして塗布ヘ
ッド5が取り付けられている。各ガイドシャフト22の
下端部は、NCシリンダ(数値制御型シリンダ)23の
出力ロッド24の上端面に当接して下面から支持されて
おり、NCシリンダ23を駆動することによりビーム9
の両端部を昇降させ、塗布ヘッド5の傾き及び高さを精
密に調整できるようになっている。
(Coating Mechanism) The structure of the coating mechanism 6 is shown in FIG.
Shown in A pair of guide bushes 21 is fixed to a base 20 mounted on a frame 19 of the cabinet 2, and a guide shaft 22 is slidably inserted into each of the guide bushes 21. Both ends of a beam 9 erected between the upper ends of the guide shafts 22 are rotatably supported on the upper ends of the two guide shafts 22, and the upper surface of the beam 9 is coated with the liquid discharge side facing upward. The head 5 is attached. The lower end of each guide shaft 22 is in contact with the upper end surface of an output rod 24 of an NC cylinder (numerical control type cylinder) 23 and is supported from the lower surface.
Are raised and lowered so that the inclination and height of the coating head 5 can be precisely adjusted.

【0028】また、上記NCシリンダ23は、ベース2
0から垂下されたガイド軸25に挿通された昇降板26
の上面に固定されており、昇降板26はガイド軸25の
下端部に固定された固定板27に固定されたエアシリン
ダ28の出力軸29上端に支持されている。従って、エ
アシリンダ28を駆動して昇降板26を昇降させること
により、塗布ヘッド5全体を昇降させることができる。
The NC cylinder 23 is provided with a base 2
Elevating plate 26 inserted through guide shaft 25 suspended from zero
The lifting plate 26 is supported on an upper end of an output shaft 29 of an air cylinder 28 fixed to a fixing plate 27 fixed to a lower end of a guide shaft 25. Therefore, the entire application head 5 can be moved up and down by driving the air cylinder 28 to move the elevating plate 26 up and down.

【0029】吸着テーブル7の下面に吸着されて搬送さ
れてくる塗布対象物の下面の高さは、塗布対象物の厚み
バラツキ等によってばらついている。そのため、図3に
示すように、塗布ヘッド5の前方の左右両側部にはそれ
ぞれ、搬送されてくる塗布対象物の下面の高さ又は塗布
対象物の板厚を測定するための非接触式のクリアランス
測定ヘッド30を設けてあり、塗布直前に塗布対象物下
面の高さを測定し、測定情報をコントローラへ送信する
ようにしている。なお、31はクリアランス測定ヘッド
30の高さを調整するためのNCシリンダ23である。
クリアランス測定ヘッド30からの送信情報を受信した
コントローラは、NCシリンダ23を駆動することによ
り、塗布ヘッド5の液吐出口36と塗布対象物下面とが
平行となるように、かつ塗布時に塗布ヘッド5の液吐出
口36と塗布対象物下面とのギャップが所定値となるよ
うに塗布ヘッド5の高さ及び傾きを調整する。
The height of the lower surface of the object to be applied which is sucked and conveyed to the lower surface of the suction table 7 varies due to the thickness variation of the object to be applied. Therefore, as shown in FIG. 3, a non-contact type for measuring the height of the lower surface of the conveyed object to be applied or the thickness of the object to be applied is provided on each of the left and right sides in front of the application head 5. A clearance measuring head 30 is provided to measure the height of the lower surface of the object to be applied immediately before the application, and transmit the measurement information to the controller. Reference numeral 31 denotes an NC cylinder 23 for adjusting the height of the clearance measuring head 30.
The controller that has received the transmission information from the clearance measuring head 30 drives the NC cylinder 23 so that the liquid discharge port 36 of the coating head 5 and the lower surface of the object to be coated are parallel to each other, and the coating head 5 The height and the inclination of the coating head 5 are adjusted so that the gap between the liquid discharge port 36 and the lower surface of the coating target becomes a predetermined value.

【0030】塗布ヘッド5の後方には、回動自在なアー
ム32の先端に保持された塗布ヘッドカバー33が設け
られており、待機中には、塗布ヘッドカバー33は塗布
ヘッド5上面の液吐出口36を覆って塗布液の乾燥を防
止する。また、塗布作業時には、アーム32が回転して
塗布ヘッドカバー33が塗布ヘッド5から離れ、塗布作
業を可能にする。
A coating head cover 33 held at the tip of a rotatable arm 32 is provided at the rear of the coating head 5. During standby, the coating head cover 33 is attached to a liquid discharge port 36 on the upper surface of the coating head 5. To prevent the coating liquid from drying. Further, at the time of the coating operation, the arm 32 rotates and the coating head cover 33 separates from the coating head 5 to enable the coating operation.

【0031】(塗布ヘッド)図4は上記塗布ヘッド5の
構造を示す分解斜視図、図5(a)(b)は塗布ヘッド
5の異なる断面位置における断面図である。塗布ヘッド
5は一対の分割ダイ37,38からなり、両分割ダイ3
7,38の内面を密着させてボルトで締結することによ
り一体化されている。両分割ダイ37,38の内面に
は、ほぼ全長にわたって半円溝状の凹部39,40が形
成されており、両凹部39,40が対向して塗布ヘッド
5内にリザーバ41を形成している。このリザーバ41
は塗布液に均一に圧力を加えて塗布液の吐出量を安定さ
せるものである。図5(a)に示すように、一方の分割
ダイ37には、リザーバ41内に塗布液を供給するため
の塗布液供給口42が形成されている。また、塗布ヘッ
ド5の上面には液吐出口36が突設されており、液吐出
口36の上端部には、ほぼ全長にわたって、塗布液を溜
めるための均一な形状の液溜まり43が一直線状に形成
されている。少なくとも一方の分割ダイ37,38に
は、リザーバ41と液溜まり43を連通させるためのス
ロット44が開口されており、リザーバ41内の塗布液
に圧力が加わると、リザーバ41内の塗布液は液溜まり
43へ上昇し、表面張力によって液溜まり43から盛り
上がる(図7(a)参照)。このスロット44は塗布液
の圧力損失があまり大きくならないよう比較的大きなギ
ャップとしてあり、塗布液の特性によって寸法は異なる
が、例えば0.3〜1.5mm程度のギャップ寸法として
いる。
(Coating Head) FIG. 4 is an exploded perspective view showing the structure of the coating head 5, and FIGS. 5A and 5B are sectional views of the coating head 5 at different cross-sectional positions. The coating head 5 includes a pair of split dies 37 and 38,
The inner surfaces 7 and 38 are integrated by tightly contacting with each other and fastening with bolts. On the inner surfaces of both split dies 37, 38, semicircular groove-shaped concave portions 39, 40 are formed over substantially the entire length, and the concave portions 39, 40 face each other to form a reservoir 41 in the coating head 5. . This reservoir 41
Is to uniformly apply pressure to the coating liquid to stabilize the discharge amount of the coating liquid. As shown in FIG. 5A, one of the split dies 37 is provided with a coating liquid supply port 42 for supplying a coating liquid into the reservoir 41. A liquid discharge port 36 protrudes from the upper surface of the coating head 5, and a liquid pool 43 of a uniform shape for storing the coating liquid is formed in a straight line at the upper end of the liquid discharge port 36 over substantially the entire length. Is formed. At least one of the split dies 37 and 38 is provided with a slot 44 for communicating the reservoir 41 with the liquid reservoir 43. When pressure is applied to the coating liquid in the reservoir 41, the coating liquid in the reservoir 41 It rises to the pool 43 and rises from the liquid pool 43 due to surface tension (see FIG. 7A). The slot 44 has a relatively large gap so that the pressure loss of the coating liquid does not become too large. Although the size varies depending on the characteristics of the coating liquid, the gap is, for example, about 0.3 to 1.5 mm.

【0032】また、塗布ヘッド5上面の液吐出口36の
両側には、ほぼ全長にわたって廃液プール45が凹設さ
れている。この廃液プール45内には、液吐出口36か
ら溢れた塗布液や洗浄時に使用した洗浄液(溶剤)など
が溜まるようになっている。従って、廃液プール45内
の塗布液や洗浄液から蒸発する溶剤によって液吐出口3
6の付近を溶剤雰囲気に保つことができ、塗布対象物の
下面に塗布された塗布液自身が塗布膜を平均にしようと
する働き(レベリング)を補助することができる。さら
に、廃液プール45の両端部には、図5(b)に示すよ
うに、分割ダイ37,38の内部を通って側面に開口す
る排出口46が連通している。
On both sides of the liquid discharge port 36 on the upper surface of the coating head 5, a waste liquid pool 45 is formed substantially over the entire length. In the waste liquid pool 45, a coating liquid overflowing from the liquid discharge port 36, a cleaning liquid (solvent) used for cleaning, and the like are stored. Therefore, the liquid discharge port 3 is formed by the solvent evaporating from the coating liquid and the cleaning liquid in the waste liquid pool 45.
The vicinity of 6 can be kept in a solvent atmosphere, and the coating liquid applied to the lower surface of the object to be coated itself can assist the function of leveling the coating film (leveling). Furthermore, as shown in FIG. 5B, discharge ports 46 that open to the side through the inside of the split dies 37 and 38 communicate with both ends of the waste liquid pool 45.

【0033】(液供給/排出系統)図6は塗布ヘッド5
に対する塗布液の供給/排出系統を示す図である。塗布
ヘッド5の排出口46には、手動バルブ47を備えた液
排出経路48が接続されており、液排出経路48の管端
は下方に配置された廃液タンク49に導かれている。従
って、手動バルブ47を閉じることによって廃液プール
45内に塗布液や洗浄液を溜めることができ、手動バル
ブ47を開くと廃液プール45内の塗布液や洗浄液を廃
液タンク49へ排出することができる。
(Liquid supply / discharge system) FIG.
FIG. 3 is a diagram showing a supply / discharge system of a coating liquid to the system. A liquid discharge path 48 having a manual valve 47 is connected to a discharge port 46 of the coating head 5, and a pipe end of the liquid discharge path 48 is guided to a waste liquid tank 49 disposed below. Therefore, by closing the manual valve 47, the coating liquid and the cleaning liquid can be stored in the waste liquid pool 45, and when the manual valve 47 is opened, the coating liquid and the cleaning liquid in the waste liquid pool 45 can be discharged to the waste liquid tank 49.

【0034】また、塗布ヘッド5の塗布液供給口42に
は、開閉バルブ50を備えた液供給経路51が接続され
ており、液供給経路51は途中で切り替えバルブ52及
びフィルタ53を備えた塗布液供給経路54と切り替え
バルブ55及びフィルタ56を備えた洗浄液供給経路5
7に分岐し、塗布液供給経路54の管端は塗布液タンク
58内に導かれ、洗浄液供給経路57の管端は洗浄液タ
ンク59内に導かれている。塗布液タンク58内には、
精密減圧弁60及びフィルタ61を介してN2ガスが供
給されており、このガス圧によって塗布液Bの供給圧を
得て塗布ヘッド5の先端に塗布液を送っている。その時
のガス圧は、塗布ヘッド5の内部と配管内部の塗布液量
及び配管抵抗を加味した圧力値とする。精密減圧弁60
を用いているのは、塗布ヘッド5の先端に盛り上がって
いる塗布液の量を一定に保持するよう精密に圧力バラン
スをとるためである。また、洗浄液タンク59内にも、
精密減圧弁62及びフィルタ63を介してN2ガスが供
給されており、このガス圧によって洗浄液を供給可能に
している。
A liquid supply path 51 having an opening / closing valve 50 is connected to the coating liquid supply port 42 of the coating head 5. The liquid supply path 51 is provided with a switching valve 52 and a filter 53 on the way. Cleaning liquid supply path 5 including liquid supply path 54, switching valve 55 and filter 56
7, the pipe end of the coating liquid supply path 54 is guided into the coating liquid tank 58, and the pipe end of the cleaning liquid supply path 57 is guided into the cleaning liquid tank 59. In the coating liquid tank 58,
N 2 gas is supplied through a precision pressure reducing valve 60 and a filter 61. The supply pressure of the coating liquid B is obtained by this gas pressure, and the coating liquid is sent to the tip of the coating head 5. The gas pressure at that time is a pressure value that takes into account the amount of the coating liquid inside the coating head 5 and the pipe and the pipe resistance. Precision pressure reducing valve 60
The reason why is used is to precisely balance the pressure so as to keep the amount of the coating liquid rising at the tip of the coating head 5 constant. Also, in the cleaning liquid tank 59,
N 2 gas is supplied through a precision pressure reducing valve 62 and a filter 63, and the cleaning pressure can be supplied by this gas pressure.

【0035】さらに、液供給経路51からは減圧用の塗
布液排出経路64が分岐しており、塗布液排出経路64
は圧力開放バルブ65を介して回収タンク66へ導かれ
ている。
Further, a coating liquid discharge path 64 for pressure reduction branches off from the liquid supply path 51.
Is led to a recovery tank 66 via a pressure release valve 65.

【0036】(運転動作)本発明の塗布装置1は、上記
のような構成を有しており、以下に説明するようにして
ガラス基板等の塗布対象物Aの下面にレジスト液等の塗
布液Bを均一に塗布する。まず、運転開始準備のため洗
浄時には、手動バルブ47を開いておく。ついで、塗布
液供給経路54の切り替えバルブ52を閉じ、洗浄液供
給経路57の切り替えバルブ55を開いておいて、液供
給経路51の開閉バルブ50を開くと、塗布ヘッド5に
洗浄液Cが供給され、塗布ヘッド5内が洗浄液Cに満た
されて洗浄される。
(Operating Operation) The coating apparatus 1 of the present invention has the above-described configuration, and a coating liquid such as a resist liquid is applied to the lower surface of the coating object A such as a glass substrate as described below. B is applied uniformly. First, at the time of cleaning in preparation for operation start, the manual valve 47 is opened. Next, when the switching valve 52 of the coating liquid supply path 54 is closed, the switching valve 55 of the cleaning liquid supply path 57 is opened, and the opening / closing valve 50 of the liquid supply path 51 is opened, the cleaning liquid C is supplied to the coating head 5. The inside of the application head 5 is filled with the cleaning liquid C and cleaned.

【0037】ついで、洗浄液供給経路57の切り替えバ
ルブ55を閉じて塗布液供給経路54の切り替えバルブ
52を開くと、塗布液Bが塗布ヘッド5内に供給される
ので、塗布ヘッド5内の洗浄液Cは液吐出口36から流
出し、塗布ヘッド5内の洗浄液Cは塗布液Bによって置
換される。
Next, when the switching valve 55 of the cleaning liquid supply path 57 is closed and the switching valve 52 of the coating liquid supply path 54 is opened, the coating liquid B is supplied into the coating head 5. Flows out of the liquid discharge port 36, and the cleaning liquid C in the coating head 5 is replaced by the coating liquid B.

【0038】この後直ちに塗布作業を開始しない場合に
は、開閉バルブ50を閉じ、圧力開放バルブ65を開い
て塗布ヘッド5内を減圧する。一方、手動バルブ47を
閉じ、廃液プール45内に塗布液Bないし洗浄液Cを溜
めた状態に保つ。そして、塗布ヘッド5の液吐出口36
及び廃液プール45を塗布ヘッドカバー33で覆って塗
布開始まで待機状態となる。
If the coating operation is not started immediately after this, the open / close valve 50 is closed and the pressure release valve 65 is opened to reduce the pressure inside the coating head 5. On the other hand, the manual valve 47 is closed to keep the application liquid B or the cleaning liquid C in the waste liquid pool 45. Then, the liquid discharge port 36 of the coating head 5
Then, the waste liquid pool 45 is covered with the coating head cover 33 and a standby state is set until the start of coating.

【0039】塗布動作を開始する場合には、塗布ヘッド
カバー33を開き、液供給経路51の開閉バルブ50を
開成する。ワーク供給台4に供給された塗布対象物Aが
吸着テーブル7の下面に吸着されて設定速度で搬送され
てくると、クリアランス測定ヘッド30は塗布対象物A
の下面の高さ(あるいは、板厚)を計測する。各NCシ
リンダ23はクリアランス測定ヘッド30の測定結果に
応じて駆動され、塗布ヘッド5は塗布対象物下面と液吐
出口36との間に適性クリアランスが得られるよう高さ
調整される。ついで、開閉バルブ50が開かれ、塗布ヘ
ッド5内のリザーバ41に圧力が加わるので、リザーバ
41内の塗布液Bが液吐出口36へ昇り、図7(a)に
示すように、液溜まり43で塗布液Bが高く盛り上が
る。
When starting the coating operation, the coating head cover 33 is opened, and the opening / closing valve 50 of the liquid supply path 51 is opened. When the application target A supplied to the work supply table 4 is adsorbed on the lower surface of the suction table 7 and transported at a set speed, the clearance measuring head 30 moves the application target A
The height (or plate thickness) of the lower surface of is measured. Each NC cylinder 23 is driven in accordance with the measurement result of the clearance measuring head 30, and the height of the coating head 5 is adjusted so that an appropriate clearance is obtained between the lower surface of the coating target and the liquid discharge port 36. Next, the opening / closing valve 50 is opened, and pressure is applied to the reservoir 41 in the coating head 5, so that the coating liquid B in the reservoir 41 rises to the liquid discharge port 36, and as shown in FIG. , The coating liquid B rises high.

【0040】ついで、塗布対象物Aの塗布開始位置が液
吐出口36の真上にくると、エアシリンダ28によって
塗布ヘッド5を上昇させ、塗布ヘッド5の液吐出口36
と塗布対象物A下面とを所定距離(例えば、50μm程
度)に保つ。このとき液溜まり43で盛り上がっている
塗布液Bは塗布対象物Aの下面に付着する。こうして液
吐出口36と塗布対象物Aとが非接触の状態で、盛り上
がっている塗布液Bの表面をこするようにして塗布対象
物Aが移動すると、図7(b)に示すように、塗布液B
の粘性によって塗布対象物Aの下面に塗布液Bが付着
し、均一な膜厚の塗膜Dが形成される。このとき塗布液
Bに一定の圧力を加えることにより、塗布ヘッド5への
塗布液Bの供給量と塗布対象物Aへの塗布量をバランス
させ、塗布液Bの盛り上がりを一定に保持することがで
きる。
Next, when the application start position of the application target A is directly above the liquid discharge port 36, the coating head 5 is raised by the air cylinder 28, and the liquid discharge port 36 of the coating head 5 is raised.
And the lower surface of the application target A are kept at a predetermined distance (for example, about 50 μm). At this time, the coating liquid B rising in the liquid pool 43 adheres to the lower surface of the coating object A. When the application target A moves in such a manner that the liquid discharge port 36 and the application target A are not in contact with each other while rubbing the rising surface of the application liquid B, as shown in FIG. Coating liquid B
The coating liquid B adheres to the lower surface of the coating object A due to the viscosity of the coating object A, and a coating film D having a uniform film thickness is formed. At this time, by applying a constant pressure to the coating liquid B, the supply amount of the coating liquid B to the coating head 5 and the coating amount to the coating target A can be balanced, and the swelling of the coating liquid B can be kept constant. it can.

【0041】しかも、この時廃液プール45内の洗浄液
Cや塗布液Bから蒸発している溶剤蒸気Eによって塗布
されたばかりの塗膜Dは溶剤雰囲気に包まれ、表面が平
坦にレベリングされる。
Further, at this time, the coating film D just applied by the solvent vapor E evaporating from the cleaning liquid C and the coating liquid B in the waste liquid pool 45 is surrounded by the solvent atmosphere, and the surface is leveled flat.

【0042】塗布終了直前になると、開閉バルブ50を
閉じ、圧力開放バルブ65を開く。これによって塗布ヘ
ッド5の内部が減圧され、液溜まり43の塗布液Bは自
重によって低下させながら液溜まり43の残液量のみで
最後まで塗布する。但し、塗布液Bには微圧を加えてお
き、あまり液面が低下しないように配慮している。塗布
が終了すると、エアシリンダ28によって塗布ヘッド5
を下降させる。この後、塗布ヘッドカバー33により液
吐出口36及び廃液プール45を覆い、待機状態に戻
る。
Immediately before the end of coating, the open / close valve 50 is closed and the pressure release valve 65 is opened. As a result, the inside of the coating head 5 is decompressed, and the coating liquid B in the liquid pool 43 is applied to the end only by the remaining amount of the liquid pool 43 while being reduced by its own weight. However, a slight pressure is applied to the coating liquid B so that the liquid level does not decrease so much. When the application is completed, the application head 5 is
Is lowered. Thereafter, the coating head cover 33 covers the liquid discharge port 36 and the waste liquid pool 45, and returns to the standby state.

【0043】本発明の塗布装置1によれば、リザーバ4
1内の塗布液Bがその液圧で液溜まり43に自動供給さ
れ、表面張力によって塗布液Bが盛り上がっているの
で、液溜まり43では塗布液Bが表面張力によって均一
に盛り上がる。しかも、スロット44は塗布液Bの供給
を行うのみである。従って、従来のスロット方式の塗布
装置のように、均一な吐出量を得るための微細な加工及
び微調整をスロット44に施す必要が無くなる。
According to the coating apparatus 1 of the present invention, the reservoir 4
The coating liquid B in 1 is automatically supplied to the liquid pool 43 by the liquid pressure, and the coating liquid B is raised by the surface tension. Therefore, the coating liquid B is raised uniformly in the liquid pool 43 by the surface tension. Moreover, the slot 44 only supplies the coating liquid B. Therefore, unlike the conventional slot type coating apparatus, there is no need to perform fine processing and fine adjustment for obtaining a uniform discharge amount in the slot 44.

【0044】また、液溜まり43において均一に盛り上
がっている塗布液Bの表面を塗布対象物Aが接触しなが
ら移動することにより、塗布液Bがその粘着力により塗
布対象物Aの下面に転写されてゆくだけであるので、塗
膜Dに筋が発生することがない。また、液吐出口36を
上に向けて塗布ヘッド5を下側に配置しているので、液
垂れの問題も発生しない。
The coating liquid B is transferred to the lower surface of the coating liquid A by the adhesive force by moving the coating liquid A while contacting the surface of the coating liquid B uniformly rising in the liquid pool 43. Since it only moves, streaks do not occur in the coating film D. Further, since the application head 5 is arranged on the lower side with the liquid discharge port 36 facing upward, the problem of liquid dripping does not occur.

【0045】上記のようにして形成される塗膜Dの厚み
は、塗布対象物A及び塗布ヘッド5の相対速度と塗布液
Bの粘度によって決まり、塗布対象物Aの速度を大きく
することによって薄い塗膜を得ることができる。例え
ば、5000Å〜数10μmの膜厚の塗膜を得ることが
できる。
The thickness of the coating film D formed as described above is determined by the relative speed of the coating object A and the coating head 5 and the viscosity of the coating liquid B, and becomes thinner by increasing the speed of the coating object A. A coating can be obtained. For example, a coating film having a thickness of 5000 to several tens of μm can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態による塗布装置を示す一部
破断した斜視図である。
FIG. 1 is a partially broken perspective view showing a coating apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】同上の塗布装置における塗布機構部の正面図で
ある。
FIG. 2 is a front view of a coating mechanism in the coating device of the same.

【図3】同上の塗布機構部とその周辺の構造を示す側面
図である。
FIG. 3 is a side view showing the coating mechanism and the structure around the coating mechanism;

【図4】塗布ヘッドの構造を示す分解斜視図である。FIG. 4 is an exploded perspective view showing a structure of a coating head.

【図5】(a)(b)はそれぞれ塗布ヘッドの異なる断
面位置における断面図である。
FIGS. 5A and 5B are cross-sectional views at different cross-sectional positions of a coating head.

【図6】同上の塗布装置の液供給/排出システムを示す
概略図である。
FIG. 6 is a schematic diagram showing a liquid supply / discharge system of the coating apparatus according to the first embodiment.

【図7】(a)(b)は同上の塗布装置による塗布方法
を説明するための一部破断した断面図である。
FIGS. 7 (a) and 7 (b) are partially cutaway sectional views for explaining a coating method using the coating apparatus of the above.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

5 塗布ヘッド 6 塗布機構部 36 液吐出口 37,38 分割ダイ 41 リザーバ 43 液溜まり 44 スロット 45 廃液プール A 塗布対象物 B 塗布液 Reference Signs List 5 coating head 6 coating mechanism part 36 liquid discharge port 37, 38 split die 41 reservoir 43 liquid pool 44 slot 45 waste liquid pool A coating target object B coating liquid

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 塗布ヘッドの上面に設けた液溜まりに塗
布液を保持し、塗布液の表面張力によって塗布液を液溜
まりから盛り上がらせ、液溜まりから盛り上がった塗布
液に接触させながら塗布対象物を相対的に移動させるこ
とにより塗布対象物の下面に塗布液を塗布することを特
徴とする塗布方法。
1. A coating liquid is held in a liquid pool provided on an upper surface of a coating head, the coating liquid is raised from the liquid pool by the surface tension of the coating liquid, and the object to be coated is brought into contact with the coating liquid raised from the liquid pool. A coating liquid is applied to the lower surface of the object to be applied by relatively moving the application liquid.
【請求項2】 塗布ヘッド内の塗布液を加圧して前記液
溜まりに塗布液を盛り上がらせた後、塗布ヘッド上端と
塗布対象物下面との距離が一定距離となるように塗布ヘ
ッドを上昇させて、液溜まりに盛り上がっている塗布液
を塗布対象物の下面に接触させることにより、塗布液の
塗布開始することを特徴とする、請求項1に記載の塗布
方法。
2. After the application liquid in the application head is pressurized and the application liquid is raised in the liquid pool, the application head is raised so that the distance between the upper end of the application head and the lower surface of the object to be applied is constant. The application method according to claim 1, wherein the application of the application liquid is started by bringing the application liquid rising in the liquid pool into contact with the lower surface of the object to be applied.
【請求項3】 塗布対象物の下面に接触している前記液
溜まり内の塗布液を減圧した後、塗布ヘッドを下降させ
ることにより、塗布液の塗布終了することを特徴とす
る、請求項1に記載の塗布方法。
3. The method according to claim 1, wherein the application of the application liquid is completed by lowering the application liquid in the liquid pool in contact with the lower surface of the object to be applied and then lowering the application head. Coating method.
【請求項4】 内部にリザーバを有し、リザーバから供
給された塗布液を保持する液溜まりを上面に有する塗布
ヘッドと、 塗布ヘッドに塗布液を供給する手段と、 塗布ヘッドの上方を通過するように塗布対象物を移動さ
せる搬送手段とを備えた塗布装置。
4. A coating head having a reservoir therein and having a reservoir on the upper surface for holding a coating liquid supplied from the reservoir, a means for supplying the coating liquid to the coating head, and passing above the coating head. And a conveying means for moving the object to be coated.
【請求項5】 前記リザーバ内の塗布液の液圧を調整す
る手段と、 前記塗布ヘッドを昇降させるための手段とを、 さらに備えていることを特徴とする、請求項4に記載の
塗布装置。
5. The coating apparatus according to claim 4, further comprising: means for adjusting a liquid pressure of the coating liquid in the reservoir; and means for moving the coating head up and down. .
JP20786796A 1996-07-17 1996-07-17 Coating method and coater Pending JPH1028916A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20786796A JPH1028916A (en) 1996-07-17 1996-07-17 Coating method and coater

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20786796A JPH1028916A (en) 1996-07-17 1996-07-17 Coating method and coater

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH1028916A true JPH1028916A (en) 1998-02-03

Family

ID=16546870

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20786796A Pending JPH1028916A (en) 1996-07-17 1996-07-17 Coating method and coater

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH1028916A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001113214A (en) * 1999-10-19 2001-04-24 Casio Comput Co Ltd Formation method and formation apparatus for thin film
JP2001200986A (en) * 2000-01-14 2001-07-27 Kuroda Precision Ind Ltd Lubricant supply method and lubricant supply device
JP2003080148A (en) * 2001-09-10 2003-03-18 Dainippon Printing Co Ltd Coating apparatus
JP2006159152A (en) * 2004-12-10 2006-06-22 Ulvac Japan Ltd Printer and printing method

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001113214A (en) * 1999-10-19 2001-04-24 Casio Comput Co Ltd Formation method and formation apparatus for thin film
JP2001200986A (en) * 2000-01-14 2001-07-27 Kuroda Precision Ind Ltd Lubricant supply method and lubricant supply device
JP2003080148A (en) * 2001-09-10 2003-03-18 Dainippon Printing Co Ltd Coating apparatus
JP2006159152A (en) * 2004-12-10 2006-06-22 Ulvac Japan Ltd Printer and printing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0761317B1 (en) Coating method and coating apparatus
JP3653688B2 (en) Slit coat type coating device and slit coat type coating method
KR100858180B1 (en) Apparatus for fabricating bonded substrate
US8455040B2 (en) Slit coater having apparatus for supplying a coater solution
KR101096847B1 (en) Processing apparatus and processing liquid supply method and storage device storing processing liquid supply program
US5965209A (en) Liquid application method and application apparatus
JP3048789B2 (en) Fluid coating device
JP4516034B2 (en) Coating method, coating apparatus, and coating program
JP2852923B1 (en) Fluid application device and fluid application method
JP2014180604A (en) Intermittent coating apparatus and intermittent coating method and method for manufacturing displaying member
JPH1190295A (en) Coating apparatus and method
JP3557472B2 (en) Liquid crystal substrate assembling method, assembling apparatus and liquid crystal supply apparatus
JPH1028916A (en) Coating method and coater
JPH078879A (en) Fluid-coating device
JPH09131560A (en) Coating device and coating method as well as apparatus for production of color filter and its production
JP4244529B2 (en) Method and apparatus for assembling liquid crystal substrate
JP2004267992A (en) Coating method, coating apparatus and production method of member for display
JPH06339655A (en) Liquid applicator
JP3139377B2 (en) Coating device and coating method, and color filter manufacturing device and manufacturing method
JP3561998B2 (en) Single-wafer coating method and apparatus
JP2002346463A (en) Sheet glass coating device
JP2000237664A (en) Ultrasonic coating head and ultrasonic coating apparatus using the same
JPH11239755A (en) Method and device for coating liquid
JP3469640B2 (en) Adhesive application method
JPH06339657A (en) Liquid applicator

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20001121