JP2000237664A - Ultrasonic coating head and ultrasonic coating apparatus using the same - Google Patents

Ultrasonic coating head and ultrasonic coating apparatus using the same

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JP2000237664A
JP2000237664A JP11046957A JP4695799A JP2000237664A JP 2000237664 A JP2000237664 A JP 2000237664A JP 11046957 A JP11046957 A JP 11046957A JP 4695799 A JP4695799 A JP 4695799A JP 2000237664 A JP2000237664 A JP 2000237664A
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JP
Japan
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coating
ultrasonic
fluid
application
coating head
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JP11046957A
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Japanese (ja)
Inventor
Sumio Harukawa
澄夫 春川
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Hirata Corp
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Hirata Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To make an ultrasonic coating head dealable with all of substrates inclusive of a large-sized substrate by making all of coating fluids usable regardless of a drying speed and a viscosity change by changing a coating fluid to a Newton fluid by the application of ultrasonic waves. SOLUTION: In the ultrasonic coating apparatus, a predetermined gap is kept between an emitting part 103 ejecting a predetermined coating fluid in a predetermined width and a rectangular or circular substrate W having a flat coating surface and an ultrasonic applying part 104 using an ultrasonic vibrator 20 for applying ultrasonic vibration to the predetermined coating fluid in a coating state on the coating surface in order to perform uniform coating by ejecting the coating fluid through the ejecting part 103 under pressure while the ejecting part and the substrate W are relatively moved at a predetermined speed is provided in the vicinity of the ejecting part 103.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は平面を有する矩形や
円盤状の塗布対象物である基板に、塗布膜を形成するた
めの塗布液の塗布装置であって、特に半導体や液晶やプ
ラズマディスプレイやプリント回路基板等の平らな基板
表面に均一な薄膜を得るために使用されるシクソトロピ
ー性の非ニュートン流体を塗布するための超音波式塗布
ヘッドとその塗布装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for applying a coating liquid for forming a coating film on a rectangular or disk-shaped substrate having a flat surface, and more particularly to a semiconductor, liquid crystal, plasma display or the like. The present invention relates to an ultrasonic coating head for coating a non-Newtonian fluid having a thixotropic property, which is used for obtaining a uniform thin film on a flat substrate surface such as a printed circuit board, and a coating apparatus therefor.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶ディスプレー(LCD)や半導体光
学素子、半導体素子、半導体集積回路、プリント配線基
板等の製造工程においては、フォトレジストや絶縁材
料、はんだレジスト等の各種塗布液を塗布対象物である
例えば、ガラス基板や半導体ウエハ等の平らな表面に塗
布し、数ミクロンあるいはそれ以下の非常に薄い塗膜を
形成する工程がある。具体的には、液晶ディスプレーの
製造工程においては、ガラス基板の表面に乾燥後の厚み
が1ミクロン程の均一なフォトレジストがコーティング
される。
2. Description of the Related Art In a manufacturing process of a liquid crystal display (LCD), a semiconductor optical element, a semiconductor element, a semiconductor integrated circuit, a printed wiring board, and the like, various coating liquids such as a photoresist, an insulating material, and a solder resist are applied to an object to be coated. For example, there is a step of applying a flat surface such as a glass substrate or a semiconductor wafer to form a very thin coating film of several microns or less. Specifically, in a liquid crystal display manufacturing process, a uniform photoresist having a thickness of about 1 micron after drying is coated on the surface of a glass substrate.

【0003】このような場合に、有効面全体にわたり極
めて均一な膜厚の塗膜を形成する必要があり、しかも、
高精度に膜厚を制御する必要がある。そこで、従来は塗
布装置として遠心力を利用したスピンコータと呼ばれる
回転塗布装置が一般に多く使用されている。このスピン
コータも用いたスピンコート法によれば、塗布対象物を
一定の回転数で回転させながら、基層の上に塗布液を多
めに滴下し、遠心力によって塗布液を薄く延ばし、塗布
液の粘度や回転数や回転時間等から決まる膜厚の塗膜を
塗布対象物の表面に形成するようにしている。このスピ
ンコート法は塗布基板を低速で回転させながら塗布ヘッ
ドを回転中心から外側に移動させつつ渦巻き状の塗布軌
跡を塗布基板に描きながら流体を塗布面に十分に行き渡
らせた後に、高速回転により塗布液を広がらせ遠心力の
作用でさらに外側へ拡散させるものであり、所望する塗
布面形成に必要な量の数十倍の塗布液の吐出量が1回の
塗布に消費されており90%以上が余剰液として廃棄処
理される。また、基板サイズの大型化に伴い、回転中心
部と外周部の遠心力差はさらに拡大し、基板中央部と外
側の膜厚を均一化することがますます難しくなってき
た。
[0003] In such a case, it is necessary to form a coating film having a very uniform thickness over the entire effective surface.
It is necessary to control the film thickness with high accuracy. Therefore, conventionally, a spin coater called a spin coater using a centrifugal force has been widely used as a coater. According to the spin coating method also using this spin coater, a large amount of the coating liquid is dripped onto the base layer while rotating the object to be coated at a constant rotation speed, and the coating liquid is thinly spread by centrifugal force, and the viscosity of the coating liquid is reduced. In addition, a coating film having a thickness determined by the number of rotations and the rotation time is formed on the surface of the object to be coated. In this spin coating method, the coating head is moved from the center of rotation to the outside while rotating the coating substrate at a low speed, and a fluid is sufficiently spread over the coating surface while drawing a spiral coating trajectory on the coating substrate. The coating liquid is spread and further diffused outward by the action of centrifugal force. The discharge amount of the coating liquid, which is several tens times the amount required for forming a desired coating surface, is consumed in one coating. The above is discarded as surplus liquid. Further, as the size of the substrate increases, the difference in centrifugal force between the center of rotation and the outer periphery further increases, and it becomes more and more difficult to uniform the film thickness between the center and the outside of the substrate.

【0004】一方、塗布液のレジスト液は極めて高価な
ことから、塗布液の浪費が激しいと生産コストが上昇す
る。また、基板の大型化や流動性の低い高粘度の流体で
は均一な膜形成がますます困難となり品質上の問題が発
生する。
[0004] On the other hand, since the resist solution of the coating solution is extremely expensive, the production cost increases if the coating solution is wasted. In addition, it is more difficult to form a uniform film with a large-sized substrate or a fluid having a low fluidity and a high viscosity, which causes a problem in quality.

【0005】このようなスピンコート法の欠点を解決す
る方法として、長手方向にスリット開口部を有する塗布
ノズルを有するスリットコータと呼ばれる塗布装置が提
案されている。この塗布装置によると過剰な塗布液を供
給せず、塗布ヘッドから塗布対象物上の必要な領域への
み塗布液を供給できるので、塗布液の歩留りを大幅に向
上できる。また、上記の遠心法において発生した基板縁
部や基板裏面に塗布液が付着する問題も同時に解消でき
るので、生産コストおよび生産性を向上させるものであ
った。
As a method of solving such a drawback of the spin coating method, there has been proposed a coating apparatus called a slit coater having a coating nozzle having a slit opening in a longitudinal direction. According to this coating apparatus, the coating liquid can be supplied only from the coating head to a required area on the coating object without supplying an excessive coating liquid, so that the yield of the coating liquid can be greatly improved. In addition, since the problem of the application liquid adhering to the substrate edge and the substrate back surface generated in the centrifugal method can be solved at the same time, the production cost and productivity are improved.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、最近の高精細
度化技術では、よりシビアな均一薄膜が要求され、かつ
また塗布対称基板の大型化への要求もある。このような
要求に対処するために、スリットコータにおいて相対移
動手段として使用されるボールネジの精度を高めること
でリード誤差を縮小したり、走行ガイドレールの精度を
高めたり、駆動するサーボモーターの速度変動を縮小し
たり、塗布液供給量を均一化するために供給流体と塗布
ヘッドの恒温化を行なったり、塗布ヘッドの流路特にス
リット形成面の面粗度や開口幅精度を開口全長に渡り高
精度に仕上げ、従来よりも全ての機能を見直し精度を高
めた装置で塗布を行なうことで対応するようにしてい
る。
However, in the recent high-definition technology, a more severe uniform thin film is required, and there is also a demand for increasing the size of a coating symmetric substrate. In order to cope with such demands, the lead error is reduced by increasing the accuracy of a ball screw used as a relative moving means in a slit coater, the accuracy of a traveling guide rail is increased, and the speed fluctuation of a driving servo motor is increased. The supply fluid and the coating head are kept at a constant temperature in order to reduce the volume of the coating liquid and to make the supply amount of the coating liquid uniform. Finishing with high precision, and reviewing all functions compared to the past, coating is performed using a device with higher precision.

【0007】しかしながら、大型化する基板に対応する
ためには塗布ヘッドのスリット開口部の直線性を維持し
変形を防止するために剛性が必要となるので、重量も重
くなる。また、加工、組立、試運転、本稼動まで高度の
技術と慎重な取り扱いと最終条件出しまでのかなりの時
間が要求され、大形化と塗膜品質向上とは相反すること
になる問題があった。
However, in order to cope with a large-sized substrate, rigidity is required in order to maintain the linearity of the slit opening of the coating head and to prevent deformation, so that the weight increases. In addition, there was a problem that high technology and careful handling and considerable time until final conditions were set were required for processing, assembly, trial operation, and actual operation, and large size and coating quality improvement were in conflict. .

【0008】一方、スリットコータによる塗布の完了後
に対象基板を回転させることで遠心力により塗布流体を
均一に拡散させて薄膜を形成するいわゆるスリットスピ
ンコータも提案されている。塗布流体には生産性向上の
面から速乾性であることが望まれており、スリットコー
タにより薄膜を形成する場合には、回転開始時には塗布
開始時の流体の揮発溶剤が蒸発し流動性が低下してしま
い回転により塗布流体を拡散させることが困難になる。
そこで回転開始時まで流動性を維持し拡散させようとす
るとかなりの厚膜塗布が必要となるので、従来のスリッ
トコート法に比較すれば液効率は10倍〜20倍低くな
ってしまう。
On the other hand, there has been proposed a so-called slit spin coater in which a target substrate is rotated after completion of coating by a slit coater to uniformly diffuse a coating fluid by centrifugal force to form a thin film. It is desired that the coating fluid be quick-drying from the viewpoint of productivity improvement.When a thin film is formed by a slit coater, the volatile solvent of the fluid at the start of coating evaporates at the start of rotation and the fluidity decreases. As a result, the rotation makes it difficult to diffuse the application fluid.
In order to maintain and diffuse the fluidity until the start of rotation, it is necessary to apply a considerably thick film, so that the liquid efficiency is reduced by 10 to 20 times as compared with the conventional slit coating method.

【0009】また、厚膜状態の流体塗布基板を回転させ
ると、余剰液を遠心力で飛散させることになり、基板縁
部や基板裏面への付着は避けられず、また飛散した余剰
液が飛散ミストとなって塗布膜形成面に付着し、歩留ま
りを低下する要因となるために、その対策を講ずる必要
があり、そのための設備は複雑で高価なものとなる。さ
らに加えて、回転中央部と回転外周部での遠心力の差か
ら中央部は厚く、外周部は薄くなり有効面全域にわたり
均一膜を形成することも難しい、加えて大型サイズの基
板になるとその現象は著しく特に基板外周では所望する
均一膜を得ることは難しいといった欠点がある。
Further, when the fluid-coated substrate in a thick film state is rotated, surplus liquid is scattered by centrifugal force, and adherence to the substrate edge and the back surface of the substrate is unavoidable, and the scattered surplus liquid is scattered. Since it becomes a mist and adheres to the surface on which the coating film is formed, which causes a reduction in yield, it is necessary to take measures against such a problem, and the equipment for that purpose is complicated and expensive. In addition, due to the difference in centrifugal force between the center of rotation and the outer periphery, the center is thicker, the outer periphery is thinner and it is difficult to form a uniform film over the entire effective surface. The phenomenon is remarkable, and there is a disadvantage that it is difficult to obtain a desired uniform film particularly on the outer periphery of the substrate.

【0010】そこで、本願出願人は、塗布ヘッドのスリ
ット開口部に連通するとともに、スリット開口部の長手
方向に延設される空間部に対して超音波振動を印加する
ことで塗布流体の流動性を高めて塗布流体の吐出制御を
行なうことで、均一な薄膜形成を容易にするとともに、
異なる塗布液の洗浄を洗浄可能にできることに着目し実
験研究を続けて、超音波を塗布ヘッド内に一時的に貯蔵
された塗布流体と、吐出直前または直後の状態にある塗
布流体に印加することで、ニュートン流体に塗布流体を
近づけることができる事実を発見し、ニュートン流体に
近づけることで、上記のように搬送機構に微振動等があ
っても膜圧の急激な変化を解消することができ、なだら
かな変化勾配の均一塗膜を形成することを確認できた。
[0010] The applicant of the present application has proposed that the fluid of the coating fluid be applied by applying ultrasonic vibration to a space extending in the longitudinal direction of the slit opening while communicating with the slit opening of the coating head. By controlling the discharge of the coating fluid by increasing the
Focusing on the fact that cleaning of different coating liquids can be made possible, we will continue experimental research and apply ultrasonic waves to the coating fluid temporarily stored in the coating head and the coating fluid just before or immediately after ejection. Then, we discovered the fact that the coating fluid could be brought closer to the Newtonian fluid, and by bringing it closer to the Newtonian fluid, it was possible to eliminate the rapid change in the membrane pressure even if the transport mechanism had slight vibrations as described above. It was confirmed that a uniform coating film having a gentle change gradient was formed.

【0011】したがって、本発明は上述した事情に鑑み
てなされたものであり、塗布流体を超音波印加によりニ
ュートン流体に変化させることにより、乾燥速度、粘度
変化の種類を問わず全ての塗布流体を使用でき、大型サ
イズ基板を含む全ての基板にに対応することができ、所
望される膜厚の確保と、均一性の向上を図ることができ
る超音波式塗布ヘッドと超音波式塗布装置の提供を目的
としている。
Accordingly, the present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and by changing the application fluid to a Newtonian fluid by applying ultrasonic waves, all the application fluids can be used regardless of the drying speed and the type of viscosity change. Provided is an ultrasonic coating head and an ultrasonic coating apparatus which can be used, can cope with all substrates including large size substrates, can secure a desired film thickness, and can improve uniformity. It is an object.

【0012】また、スリットスピンコータと併用する場
合には、塗布流体の余剰液を極端に抑え生産効率の高い
省液塗布が可能な超音波式塗布ヘッドと超音波式塗布装
置の提供を目的としている。
Another object of the present invention is to provide an ultrasonic coating head and an ultrasonic coating apparatus which can suppress the surplus liquid of a coating fluid extremely and can perform liquid-saving coating with high production efficiency when used together with a slit spin coater. .

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上述の課題を解決し、目
的を達成するために、本発明によれば、所定塗布流体を
所定幅で吐出する吐出部を、平らな塗布面を有する矩形
または円形の基板との間で所定間隙を維持し、前記基板
と所定速度で相対移動しつつ、前記吐出部を介して所定
圧力で吐出することで均一な塗布を行なう超音波式塗布
ヘッドであって、前記塗布面上における塗布状態の前記
所定塗布流体に対して超音波振動を印加するための超音
波発生手段の超音波印加部を、前記吐出部の近傍に設け
ることを特徴としている。
According to the present invention, in order to solve the above-mentioned problems and achieve the object, a discharge portion for discharging a predetermined application fluid at a predetermined width is provided by a rectangular or flat plate having a flat application surface. An ultrasonic coating head that performs a uniform coating by discharging at a predetermined pressure through the discharge unit while maintaining a predetermined gap between the substrate and a circular substrate and relatively moving at a predetermined speed with the substrate. An ultrasonic wave application unit of ultrasonic wave generation means for applying ultrasonic vibration to the predetermined application fluid in an application state on the application surface is provided near the discharge unit.

【0014】また、前記超音波発生手段は、前記所定塗
布流体の供給口と排出口とに連通する接液部に対して超
音波を略垂直に入射させる超音波発振部と、入射後の超
音波を反射させることで前記超音波印加部に指向させる
反射形状部とから構成されることを特徴としている。
The ultrasonic wave generating means includes an ultrasonic wave oscillating section for making the ultrasonic wave incident substantially perpendicularly to a liquid contact portion communicating with a supply port and a discharge port of the predetermined application fluid, and an ultrasonic wave after the incident. And a reflecting shape part for directing the ultrasonic wave to the ultrasonic wave applying part by reflecting a sound wave.

【0015】また、前記超音波発振部は、前記相対移動
方向に沿うように接液部に対して超音波を略垂直に入射
させるとともに、前記反射形状部は、入射後の超音波を
反射させることで前記超音波印加部に指向させる曲面部
から構成されることを特徴としている。
Further, the ultrasonic wave oscillating section makes the ultrasonic wave incident substantially perpendicularly to the liquid contact portion along the relative movement direction, and the reflection shape section reflects the ultrasonic wave after the incident. Thus, it is characterized by comprising a curved surface portion directed to the ultrasonic wave application unit.

【0016】また、前記超音波発振部は、前記相対移動
方向に略直交するように接液部に対して超音波を略垂直
に入射させるとともに、前記反射形状部は、入射後の超
音波を反射させることで前記超音波印加部に指向させる
傾斜面部から構成されることを特徴としている。
Further, the ultrasonic wave oscillating section causes the ultrasonic wave to be incident on the liquid contacting section substantially perpendicularly to the direction of relative movement, and the reflection shape section transmits the ultrasonic wave after the incidence. It is characterized in that it is constituted by an inclined surface portion which is reflected and directed to the ultrasonic wave application unit.

【0017】また、前記吐出部は、幅方向に連続開口す
るスリットノズルであることを特徴としている。
Further, the discharge section is a slit nozzle which continuously opens in the width direction.

【0018】また、前記吐出部は、多数の細孔を直線状
に配置して構成されることを特徴としている。
Further, the discharge section is characterized in that a large number of fine holes are linearly arranged.

【0019】また、超音波式塗布ヘッドを用いた超音波
式塗布装置であって、前記基板と前記超音波式塗布ヘッ
ドとを所定速度で相対移動する相対移動手段と、前記塗
布ヘッドの吐出部の先端と前記塗布面との離間距離を検
出する距離検出手段と、前記超音波式塗布ヘッドを前記
所定間隙を維持する塗布状態と、前記吐出部から離間す
る待機状態とに昇降する昇降手段と、前記供給口を介し
て前記塗布流体を所定圧力で供給する供給手段と、前記
排出口を介して前記塗布流体を排出する排出手段と、前
記相対移動手段と前記距離検出手段と前記昇降手段と前
記供給手段と前記排出手段と前記超音波手段とに接続さ
れ、塗布開始と塗布終了の間の所定タイミングで所定制
御を司る制御手段とを具備することを特徴としている。
An ultrasonic coating apparatus using an ultrasonic coating head, a relative moving means for relatively moving the substrate and the ultrasonic coating head at a predetermined speed, and a discharge unit of the coating head A distance detecting means for detecting a separation distance between the tip of the coating surface and the coating surface, a coating state in which the ultrasonic coating head maintains the predetermined gap, and a lifting means for raising and lowering to a standby state in which the ultrasonic coating head is separated from the ejection unit. Supply means for supplying the application fluid at a predetermined pressure via the supply port, discharge means for discharging the application fluid via the discharge port, the relative movement means, the distance detection means, and the elevating means, A control unit is connected to the supply unit, the discharge unit, and the ultrasonic unit, and is configured to perform a predetermined control at a predetermined timing between the start of the coating and the end of the coating.

【0020】そして、塗布後に、回転による遠心力で余
剰分の塗布流体を除去する基板回転装置とともに使用さ
れることを特徴としている。
Further, the present invention is characterized in that it is used together with a substrate rotating device for removing an excess coating fluid by centrifugal force due to rotation after coating.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の好適な各実施形
態について、添付図面を参照して詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings.

【0022】先ず、図1は超音波式塗布装置の全体構成
を示した概略構成図である。本図において、超音波式塗
布装置はクラス100以上のクリーン度のクリーンルー
ム内に設置され、塗布対象物である基板Wの移動機構は
クリーンルーム床上に設置される基部10と、この基部
10の長手方向に沿うように配設された一対のガイドレ
ール7と、このガイトレール7により案内されるガイド
ブッシュ6aを固定した保持盤6と、この保持盤6上に
配設されるとともに図示のような略平板状の基板Wまた
は不図示の円盤状の基板Wを吸着して保持する吸着部1
2と、この保持盤6をガイドレール7の長手方向に沿う
ように駆動するために保持盤6の底面に固定された不図
示のボールブッシュに螺合するボールネジ8と、このボ
ールネジ8をその出力軸に固定または一体形成するとと
もに基部10に固定されるサーボモータ9とから構成さ
れている。
First, FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing the overall configuration of an ultrasonic coating apparatus. In this figure, the ultrasonic coating apparatus is installed in a clean room of a class 100 or higher cleanness, and the moving mechanism of the substrate W to be coated is a base 10 installed on the clean room floor, and the longitudinal direction of the base 10. , A pair of guide rails 7, a holding plate 6 to which a guide bush 6 a guided by the guide rail 7 is fixed, and a substantially flat plate as shown in FIG. Suction unit 1 for sucking and holding a substrate W or a disk-shaped substrate W (not shown)
2, a ball screw 8 screwed into a ball bush (not shown) fixed to the bottom surface of the holding plate 6 to drive the holding plate 6 along the longitudinal direction of the guide rail 7, and output the ball screw 8 And a servomotor 9 fixed to the shaft or integrally formed and fixed to the base 10.

【0023】また、基部10上には保持盤6の基部10
に対する相対移動位置を検出するための位置センサ11
が配設されている。以上のモータ9、位置センサ11は
制御部100に接続されており、夫々を同期して駆動す
ることで、保持盤6上に吸着して保持される基板W基板
Wを図示の矢印X1、X2方向に往復駆動するように構
成されている。
The base 10 of the holding plate 6 is placed on the base 10.
Position sensor 11 for detecting a relative movement position with respect to
Are arranged. The motor 9 and the position sensor 11 described above are connected to the control unit 100. By driving each of the motors 9 and the position sensor 11 in synchronization with each other, the substrates W sucked and held on the holding board 6 can be moved by arrows X1, X2 shown in the figure. It is configured to reciprocate in the direction.

【0024】一方、塗布ヘッド1を塗布対象物である基
板Wに対して相対移動するための塗布ヘッド移動機構
は、基部10の上に固定される昇降軸12(図示では1
本であるが、実際には左右位置に2本設けられる)と、
この昇降軸12の上に固定される昇降用のサーポモータ
4と、このサーボモータ4の出力軸に固定された不図示
のボールネジに螺合するブッシュを設けた昇降台5と、
この昇降台5から図面のX−Y面上に延設されるアーム
3と、このアーム3に取付けられる塗布ヘッド1と、基
板Wの表面との間隙を測定するためにアーム3に取り付
けられる距離測定の2個の距離センサ2とから構成され
ており、これら距離センサ2による測定結果に基づき、
昇降用のサーポモーター4を適宜駆動することで塗布ヘ
ッド1を図中のZ方向に昇降させて、基板Wとの間の間
隙をリアルタイムで維持するように構成されている。
尚、図1において塗布ヘッド1への塗布流体の供給シス
テムと、基板Wを搬送して図示の位置にセットするロボ
ット機構は不図示である。
On the other hand, a coating head moving mechanism for relatively moving the coating head 1 with respect to the substrate W to be coated includes an elevating shaft 12 (1 in FIG. 1) fixed on a base 10.
Book, but actually two are provided at the left and right positions)
A lifting / lowering servomotor 4 fixed on the lifting / lowering shaft 12, a lifting / lowering table 5 provided with a bush screwed to a ball screw (not shown) fixed to the output shaft of the servomotor 4,
An arm 3 extending from the elevator 5 on the XY plane of the drawing, a coating head 1 attached to the arm 3, and a distance attached to the arm 3 for measuring a gap between the coating head 1 and the surface of the substrate W. And two distance sensors 2 for measurement. Based on the measurement results of these distance sensors 2,
The application head 1 is moved up and down in the Z direction in the figure by appropriately driving the elevation motor 4 so as to maintain the gap with the substrate W in real time.
In FIG. 1, a supply system of the application fluid to the application head 1 and a robot mechanism for transporting the substrate W and setting it at the illustrated position are not shown.

【0025】また、図1による説明によれば、塗布ヘツ
ド1を昇降させているが、これに限定されず、保持盤6
を昇降させて間隙を維持するようにしても良い。また上
述のように保持盤6を矢印X1,2方向に往復駆動する
構成に代えて、昇降軸12側を往復駆動するように構成
しても良く、少なくとも塗布ヘッド1と基板Wの表面と
の間隙を維持しつつ、相対移動できるようにすれば如何
なる構成でも良い。さらに、基部10は図示のように平
坦面を上にする構成に限定されず、起立または傾斜して
設けるようにして、設置面積を少なくするようにするこ
ともできる。
Further, according to the description with reference to FIG. 1, the coating head 1 is moved up and down.
May be raised and lowered to maintain the gap. Instead of the configuration in which the holding plate 6 is reciprocally driven in the directions of the arrows X1 and X2 as described above, a configuration in which the holding shaft 6 side is reciprocally driven may be employed, and at least the coating head 1 and the surface of the substrate W may be moved. Any configuration is possible as long as the relative movement is possible while maintaining the gap. Further, the base 10 is not limited to the configuration in which the flat surface faces upward as shown in the figure, but may be provided standing or inclined so as to reduce the installation area.

【0026】また、距離測定の距離センサ2は、レーザ
ーセンサ等の非接触タイプが塗布面を損傷する虞がない
ことから好ましいが、これに限定されず接触型の変位セ
ンサでも良い。また距離センサ2は、図1では2個設置
されており、基板Wの両縁の近くの部位を夫々測定でき
るようしているが、センサの設置位置は図示の位置に限
定されず、またセンサ2を1個設けるようにしても良
い。また、昇降、走行の機能を司る制御装置100は数
値制御できるものであれば種類は問わない。
The distance sensor 2 for distance measurement is preferably a non-contact type such as a laser sensor since there is no risk of damaging the coating surface, but is not limited to this, and may be a contact type displacement sensor. Also, two distance sensors 2 are installed in FIG. 1 so as to be able to measure portions near both edges of the substrate W, respectively. However, the installation positions of the sensors are not limited to the illustrated positions. 2 may be provided. Further, the type of the control device 100 that controls the lifting and lowering and traveling functions is not limited as long as it can perform numerical control.

【0027】以上説明の構成における塗布開始時の動作
概略は、先ず、基板Wが搬送移載装置(不図示)から保
持盤6に受け渡されると、保持盤6に設けられた吸着部
12の多数の吸引孔内がバキューム機構(不図示)によ
り負圧にされて、基板Wが真空で保持され基板Wに多少
の反りがある場合には保持盤6の平面に沿うように平ら
に修正され保持される。
The outline of the operation at the start of coating in the configuration described above is as follows. First, when a substrate W is transferred from a transfer / transfer device (not shown) to the holding plate 6, the suction portion 12 provided on the holding plate 6 The inside of a large number of suction holes is made negative by a vacuum mechanism (not shown), and when the substrate W is held in a vacuum and the substrate W is slightly warped, it is corrected to be flat along the plane of the holding plate 6. Will be retained.

【0028】続いて、所定の高さに位置決めされた昇降
用のアーム3に設けられた距離センサ2の下に基板Wが
位置するように保持盤6を図中の矢印X2方向に移動さ
せて、塗布対称面までの距離を各センサ2で測定して、
塗布ヘッド1の先端と塗布対象表面の距離を計算する。
この測定個所は1個所でも複数個所でも良い。この測定
が完了すると、保持盤6は、所定の位置で待機して、塗
布動作の準備が完了する。
Subsequently, the holding plate 6 is moved in the direction of arrow X2 in the figure so that the substrate W is positioned below the distance sensor 2 provided on the elevating arm 3 positioned at a predetermined height. , The distance to the coating symmetry plane is measured by each sensor 2,
The distance between the tip of the coating head 1 and the surface to be coated is calculated.
The number of measurement points may be one or more. When the measurement is completed, the holding plate 6 waits at a predetermined position, and preparation for the coating operation is completed.

【0029】このとき、塗布ヘッド1は気泡の存在しな
い略満タン状態に予め維持され、スリット先端の開口面
からやや高めの位置に塗布流体の下端が位置する状態で
貯留している。この塗布ヘッド1内で貯留されている塗
布流体は吐出部のスリット先端が開放されているので大
気圧となる。また、供給される塗布流体には常に一定の
圧力と、後述する超音波が所定タイミングで印加され
る。続いて、塗布ヘッド1に設けられた塗布流体供給バ
ルブが開かれると、圧力の加わった塗布流体は塗布ヘッ
ド1内で貯留した塗布流体をスリット先端から押し出す
ようになる。
At this time, the coating head 1 is maintained in advance in a substantially full state without bubbles, and is stored in a state where the lower end of the coating fluid is positioned slightly higher than the opening surface of the slit tip. The application fluid stored in the application head 1 has an atmospheric pressure because the slit tip of the discharge unit is open. Further, a constant pressure and an ultrasonic wave described later are always applied to the supplied application fluid at a predetermined timing. Subsequently, when the application fluid supply valve provided on the application head 1 is opened, the application fluid under pressure pushes out the application fluid stored in the application head 1 from the tip of the slit.

【0030】このとき、吐出される塗布流体の先頭部は
ヘッド内からヘッドの外に押し出されて、微少の半球状
の液玉をスリット開口部の全長に亘り短いピッチで形成
成長されるが、後述のように超音波を基板W面とスリッ
ト面との間に印加することで塗布液はニュートン流体と
なり、液玉の影響を完全に解消することができるように
なる。
At this time, the head of the applied fluid to be ejected is pushed out of the head to the outside of the head, and minute hemispherical liquid balls are formed and grown at a short pitch over the entire length of the slit opening. By applying an ultrasonic wave between the surface of the substrate W and the slit surface as described later, the coating liquid becomes a Newtonian fluid, and the effect of the liquid droplet can be completely eliminated.

【0031】尚、スリットノズル内に貯留したときの塗
布液の位置が常に一定の高さで一直線を維持し、供給さ
れる塗布流体の圧力と粘性、それに塗布ヘッドを含めた
温度に変化が無く常に一定で、かつ、スリット幅とスリ
ット壁の状態が均一であれば、液玉の形成状態には再現
性を確保できるが、この再現性にはばらつきが必ず伴う
ことから塗布開始時点の塗膜状態を不揃いにしている。
そこで、微少な液玉が全長に亘り形成されたときに、液
玉をヘッド先端で押し潰すまでの間隙になるように塗布
ヘッド1を下降させることで、塗布流体は塗布対象面と
塗布ヘッド先端部との間を隙間無く埋める状態にするこ
とができる。
Incidentally, the position of the coating liquid when stored in the slit nozzle always keeps a straight line at a constant height, and the pressure and viscosity of the supplied coating fluid and the temperature including the coating head remain unchanged. If the condition is always constant and the slit width and slit wall condition are uniform, reproducibility can be ensured in the formation of liquid droplets. The state is uneven.
Therefore, when a minute liquid ball is formed over the entire length, the application head 1 is lowered so as to be in a gap until the liquid ball is crushed at the head end, so that the application fluid is applied to the application target surface and the application head end. The space between the parts can be filled without gaps.

【0032】このときに、すでに塗布ヘッド1は基板W
に対する相対移動状態で、かつ一定速度になっている必
要がある。即ち、吐出開始から微少な液玉を形成する時
間t1後には塗布ヘッド1と塗布対象面は所定の間隙に
なるように下降させておき、走行速度状態ではすでに一
定速度に到達しておくように制御すると良い。
At this time, the coating head 1 has already
It must be in a relative movement state with respect to and at a constant speed. That is, after a time t1 at which a minute liquid droplet is formed from the start of ejection, the coating head 1 and the surface to be coated are lowered so as to have a predetermined gap, and have already reached a constant speed in the running speed state. Good to control.

【0033】このように制御することで、相対移動の速
度が例えば50mm/secと十分に遅く、また下降速
度が10mm/secと十分に早い場合には、スリット
幅を30μm、間隙を約100μmとした場合におい
て、塗布開始線を±1mm以下のばらつき範囲内にする
ことが可能となる。
By performing such control, when the relative movement speed is sufficiently low, for example, 50 mm / sec, and when the descent speed is sufficiently fast, for example, 10 mm / sec, the slit width is set to 30 μm and the gap is set to about 100 μm. In this case, the application start line can be set within a variation range of ± 1 mm or less.

【0034】以上の条件で所定範囲を塗布後に塗布を終
了する。このとき、塗布ヘッド1の供給バルブを閉じて
も塗布ヘッド1内の塗布流体は残圧の影響と吐出した塗
布流体との分子間結合力により完全に吐出が止まるまで
に時間を要する。このために、吐出量の減少に合わせて
移動速度を減速すると良いが、このように制御すると所
望の塗布厚みを確保することが困難となる。そこで、供
給バルブを閉じるのと略同時に塗布ヘッド1内の塗布流
体を一気にスリット開口部から引き込むサックバック機
能を塗布ヘッド1に設けており、このサックバック量を
調整することで吐出を止めるようにしている。
After the application of the predetermined range under the above conditions, the application is completed. At this time, even if the supply valve of the coating head 1 is closed, it takes time until the discharge of the coating fluid in the coating head 1 is completely stopped by the influence of the residual pressure and the intermolecular bonding force with the discharged coating fluid. For this purpose, it is preferable to reduce the moving speed in accordance with the decrease in the discharge amount. However, such control makes it difficult to secure a desired coating thickness. Therefore, the coating head 1 is provided with a suck-back function that draws the coating fluid in the coating head 1 from the slit opening at a time substantially at the same time as closing the supply valve, and discharge is stopped by adjusting the suck-back amount. ing.

【0035】また、供給バルブを閉じる動作により、滅
速停止モードとなり、同タイミングで塗布ヘッド1を上
昇させるようにしている。即ち、供給バルブ閉、サック
バック開、塗布ヘツト減速上昇の4つの動作のタイミン
グを同じにしている。また、それらのタイミングは所望
の有効塗布面積を過ぎたところ(1〜2mm)程度で十
分である。このような動作制御を行うことで、所望の有
効塗布面より捨て代(無効塗布面)を数mm以内に抑え
た塗布膜形成面を得ることができ、超音波式塗布装置の
最大の特徴である額縁塗布と省液塗布を実現できるよう
になる。
Further, the operation of closing the supply valve switches to the deceleration stop mode, and the coating head 1 is raised at the same timing. That is, the timing of the four operations of closing the supply valve, opening the suck back, and decelerating and raising the coating head is set to be the same. In addition, it is sufficient that their timing is about (1 to 2 mm) beyond the desired effective application area. By performing such an operation control, it is possible to obtain a coating film forming surface in which the disposal margin (ineffective coating surface) is suppressed to within several mm from the desired effective coating surface. A certain frame application and liquid saving application can be realized.

【0036】次に、図2を参照して塗布ヘッド1につい
て述べると、流体から固体板に垂直入射するときの音波
の透過率Dは、図2(a)に示されるBarやRayl
eighの式から求めることができる。ここに、ρは密
度、cは音速度である。以上から超音波を固定板に対し
て垂直に入射させると1>D>0.8となり、8割強の
音波を伝搬させることが可能となる。この垂直に入射し
た音波は大気に接している壁面まで達するとほぼ100
%反射するようになる。
Next, the coating head 1 will be described with reference to FIG. 2. The transmittance D of a sound wave when vertically incident on a solid plate from a fluid is represented by Bar or Rayl shown in FIG.
It can be obtained from the equation of eigh. Where ρ is the density and c is the sound velocity. From the above, when the ultrasonic wave is perpendicularly incident on the fixed plate, 1>D> 0.8, and more than 80% of the sound wave can be propagated. This vertically incident sound wave reaches almost 100 when it reaches the wall in contact with the atmosphere.
% Reflection.

【0037】そこで、図2(b)に図示の横断面図に示
されるように、供給口24と排出口25に連通する接液
部101の側面において超音波発振部20を固定し、こ
の超音波発振部20から発生する超音波Vを接液部10
1に略垂直に入射させ、図示のような曲面を有する傾斜
形状部202において、入射後の超音波Vを角度Θ1、
Θ2で反射させることによりスリット寸法tの吐出部1
03の先端部の近傍の超音波印加部104に指向させる
ように構成されている。
Therefore, as shown in the cross-sectional view of FIG. 2B, the ultrasonic oscillator 20 is fixed on the side surface of the liquid contact portion 101 communicating with the supply port 24 and the discharge port 25, and The ultrasonic wave V generated from the sound wave oscillating unit 20 is
1 is incident substantially perpendicularly, and in the inclined shape portion 202 having a curved surface as shown in FIG.
The discharge unit 1 having a slit dimension t by reflecting at # 2
It is configured to direct the ultrasonic wave to the ultrasonic wave application unit 104 near the tip of the reference numeral 03.

【0038】以上説明した構成の塗布ヘッド1におい
て、図2(c)に図示のように塗布ヘッド1を基板Wに
対して相対移動しつつ塗布するときに、所定周波数の超
音波Vが超音波印加部104と基板Wの塗布面との間で
表面張力の作用で滞留した状態になっている塗布流体に
印加することで、ニュートン流体に変化されることにな
る。すなわち基板Wと塗布ヘッド1の吐出部の間隙は例
えば30〜50μm前後と非常に狭く設定されているの
で基板表面とヘッド先端に図示のように液ダマリが生じ
て、基板にはその一部が塗布されることになる。この液
ダマリ近傍に超音波エネルギーが照射されることで粘性
が低下した流体はニュートン液体となるかまたはその特
性に近づくので表面張力の作用も手伝いなだらかに広が
り均一塗膜を形成することができるようになる。この結
果、塗布流体の粘性等に主に起因する流れの悪さが大幅
に改善されて、高精細度化技術におけるシビアな均一薄
膜形成にも機械的改良なして良好に対応できるようにな
る。このために、相対移動手段の走行精度を上記のよう
にシビアに設定する必要がなくなる。
In the coating head 1 having the above-described structure, when the coating head 1 is coated while being relatively moved with respect to the substrate W as shown in FIG. By applying to the application fluid which is in a state of staying between the application unit 104 and the application surface of the substrate W due to the action of the surface tension, the application fluid is changed to a Newtonian fluid. That is, since the gap between the substrate W and the discharge portion of the coating head 1 is set to be very narrow, for example, around 30 to 50 μm, liquid summaries occur on the substrate surface and the head end as shown in FIG. Will be applied. The fluid whose viscosity has been reduced by the application of ultrasonic energy to the vicinity of the liquid summaries becomes a Newtonian liquid or approaches its characteristics, so that the action of the surface tension can be smoothly spread and a uniform coating film can be formed. become. As a result, the poor flow mainly caused by the viscosity of the coating fluid and the like is greatly improved, and it is possible to satisfactorily cope with severe uniform thin film formation in high definition technology without mechanical improvement. For this reason, it is not necessary to set the traveling accuracy of the relative moving means severely as described above.

【0039】図3は、別実施形態の塗布ヘッド1の断面
図(a)であり、図3(b)は、塗布流体の粘性係数と
せん断応力の関係を示した関係図であって、超音波を印
加した状態と印加しない場合を夫々示したものである。
FIG. 3 is a sectional view (a) of a coating head 1 of another embodiment, and FIG. 3 (b) is a relational diagram showing a relation between a viscosity coefficient of a coating fluid and a shear stress. 3A and 3B show a state where a sound wave is applied and a case where no sound wave is applied.

【0040】先ず、図3(a)において、既に説明済み
の構成部品については同様の符号を附して説明を割愛す
ると超音波発振部20は、矢印Xの相対移動方向に略直
交するようにして接液部101に対して超音波を略垂直
に入射させる。このように入射した超音波Vは、さらに
下方に向かい傾斜面部102において反射され超音波印
加部104と吐出部103の内部に指向される。このよ
うにして傾斜角45度でスリットノズル部内の塗布流体
へは直角に作用させるとともに、上記のように液ダマリ
状態になっている塗布流体への超音波を作用させること
が同時にできるようになる。尚、入射角度を45度より
若干鋭くして先端部の方へ斜に入射させより先端部によ
り多く反射させることも可能である。
First, in FIG. 3 (a), the components already described are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. If not described, the ultrasonic oscillation unit 20 is set so as to be substantially perpendicular to the relative movement direction of the arrow X. The ultrasonic wave is made to enter the liquid contact part 101 almost vertically. The ultrasonic wave V thus incident is further reflected downward on the inclined surface portion 102 and directed to the inside of the ultrasonic wave application portion 104 and the ejection portion 103. In this way, it is possible to simultaneously act on the application fluid in the slit nozzle portion at an inclination angle of 45 degrees at a right angle and simultaneously apply ultrasonic waves to the application fluid in the liquid-summarized state as described above. . Incidentally, it is also possible to make the incident angle slightly more than 45 degrees and to make the light obliquely incident toward the front end and to reflect more light at the front end.

【0041】さらに、吐出部先端に図2(c)に図示の
ような好ましくは0.2mm〜0.3mm前後の寸法の印加
部104を平面状に設けると、液ダマリに入射音波を垂
直に伝搬させることが可能となりエネルギー照射効率を
より高めることができる。以上のように、塗布直後に超
音波を印加することで図3(b)に図示のようにせん断
応力の上昇にともない塗布流体の粘性係数が次第に減少
して、ニュートン流体にすることができる。
Further, when an application section 104 having a size of preferably about 0.2 mm to 0.3 mm as shown in FIG. 2C is provided in a plane at the tip of the discharge section, the incident sound wave is vertically applied to the liquid sump. The energy can be propagated, and the energy irradiation efficiency can be further increased. As described above, by applying the ultrasonic wave immediately after the application, the viscosity coefficient of the applied fluid gradually decreases as the shear stress increases, as shown in FIG.

【0042】次に、図4は塗布ヘッド1の塗布流体供給
系の系統図であって、初期洗浄の状態を示している。本
図において塗布ヘッド1には上記の液接部101に連通
する中央の供給口24と左右の排出口25が穿設されて
おり、塗布流体は供給口24から一定の圧力で注入され
る、このため各流路には開閉バルブ33、34が備えら
れている。また、排出口25は塗布ヘッド1内を塗布流
体で満タンにする際に、ヘッド内の空気抜き用としての
機能が備えられており排出口25の先には開閉バルブ塗
布ヘッド洗浄を含めた各々のバルブが接続される。図4
において2つの排出口25のバルブ34を各々開放し、
バルブ33を切り替えて洗浄液を塗布ヘッド1内に注入
し、超音波を発生させる様子を示している。この後、適
度な時間経過後に、図5(a)に示すように排出口25
のバルブ34を閉じ、スリット開口部である吐出部から
矢印方向に洗浄液を吐出するように洗浄液Kを圧送す
る。この塗布ヘッド1の供給口24には不図示の駆動機
構を備えた三方向弁33が接続されており、電磁弁とポ
ンプを介して洗浄液を収容したタンク35に配管されて
いる。また、三方向弁33には、塗布流体を収容したタ
ンク36がポンプと電磁弁とを介して配管されている。
また、各排出口25にはサックバルブ37に連通した開
放弁34が配管されている。
Next, FIG. 4 is a system diagram of a coating fluid supply system of the coating head 1 and shows an initial cleaning state. In the drawing, a supply port 24 at the center and left and right discharge ports 25 communicating with the liquid contact portion 101 are formed in the coating head 1, and a coating fluid is injected from the supply port 24 at a constant pressure. For this purpose, each flow path is provided with open / close valves 33, 34. The discharge port 25 is provided with a function for bleeding air from the coating head 1 when filling the inside of the coating head 1 with the coating fluid. Are connected. FIG.
At, the valves 34 of the two outlets 25 are each opened,
The state in which the cleaning liquid is injected into the coating head 1 by switching the valve 33 to generate ultrasonic waves is shown. Thereafter, after a lapse of an appropriate time, as shown in FIG.
Is closed, and the cleaning liquid K is pressure-fed so as to discharge the cleaning liquid in the direction of the arrow from the discharge portion which is the slit opening. A three-way valve 33 having a drive mechanism (not shown) is connected to the supply port 24 of the coating head 1, and is connected to a tank 35 containing a cleaning liquid via an electromagnetic valve and a pump. The three-way valve 33 is provided with a tank 36 containing a coating fluid via a pump and an electromagnetic valve.
Further, an open valve 34 communicating with a sack valve 37 is connected to each outlet 25.

【0043】その後適当な時間を経過させてから、図5
(b)に示すように排出口側のバルブ34を開放し、同
時に供給バルブ33を洗浄液から塗布液Rの流路に切り
替える。超音波はこの後適当な時期に止める。
After a suitable time has elapsed after that, FIG.
As shown in (b), the valve 34 on the discharge port side is opened, and at the same time, the supply valve 33 is switched from the cleaning liquid to the flow path of the coating liquid R. The ultrasound is then stopped at the appropriate time.

【0044】その後適当な時間を経過させ、図5(c)
に示すように吐出口のバルブ34を閉じ、スリット開口
部から塗布液Rを吐出する。
Thereafter, an appropriate time elapses, and FIG.
As shown in (2), the valve 34 of the discharge port is closed, and the coating liquid R is discharged from the slit opening.

【0045】その後適当な時間を経過させ、図5(d)
に示すように供給バルブを切り替えて全ての塗布流体供
給を止める。
Thereafter, an appropriate time elapses, and FIG.
The supply valve is switched to stop the supply of all application fluids as shown in FIG.

【0046】その後、排出口25のバルブの先に設けた
吸引装置であるサックバルブを動作させて、排出バルブ
34を所定の時間だけ開放した後に閉じて、図5(e)
に示すような状態にする。この時の塗布ヘッド内の塗布
流体の先端はスリット内部にやや引き込まれた状態とな
り、塗布動作待機状態を形成することになる。
Thereafter, the suction valve, which is a suction device provided at the end of the discharge port 25, is operated to open the discharge valve 34 for a predetermined time and then close it.
To the state shown in. At this time, the tip of the application fluid in the application head is slightly drawn into the slit, and the application operation standby state is formed.

【0047】尚、排出バルブ34、供給バルブ33は、
目的とする機能を果たせればその構成数量や構造は種々
あることは言うまでもない。
The discharge valve 34 and the supply valve 33 are
It goes without saying that the number of components and structures are various as long as the desired function can be achieved.

【0048】以上説明したように、塗布ヘッドから吐出
する塗布流体に超音波を印加することで、塗布直前と直
後の塗布流体の流動性を高めることができるので、塗膜
の平坦性を向上させることが可能となる。また、超音波
振動はヘッド内を洗浄液(溶剤)により洗浄するときの
洗浄力を高めることができるようになる。
As described above, by applying ultrasonic waves to the application fluid discharged from the application head, the fluidity of the application fluid immediately before and immediately after the application can be increased, so that the flatness of the coating film is improved. It becomes possible. In addition, the ultrasonic vibration can increase the cleaning power when cleaning the inside of the head with a cleaning liquid (solvent).

【0049】塗布動作を図6の動作原理図において説明
すると、塗布ヘッド1が位置P1にある状態が塗布開始
の初期状態であり、超音波振動子20のオン/オフのタ
イミングとともに説明する。
The application operation will be described with reference to the operation principle diagram of FIG. 6. The state in which the application head 1 is at the position P1 is the initial state of the start of application, and will be described together with the on / off timing of the ultrasonic vibrator 20.

【0050】P1は待機位置での塗布流体の状態を示
し、P2は液玉が形成されつつある状態を示し、P3で
は形成した液玉を塗布対象面に接地させた状態を示し、
P4では供給を止めヘッド上昇開始点を示し、P5では
吸引作用で塗布流体が所定の位置に引き込まれた状態を
説明している。
P1 indicates a state of the application fluid at the standby position, P2 indicates a state where a liquid ball is being formed, P3 indicates a state where the formed liquid ball is grounded to the surface to be coated,
In P4, the supply is stopped to indicate the head rising start point, and in P5, the state where the application fluid is drawn into a predetermined position by the suction action is described.

【0051】また、図に示した塗布対象端面からの距離
A及びBは5mm以下となることが望まれており、かつ
非塗布域は4方向の端面において2mm程度確保され
る。図示のGは塗布ヘッド先端と基板Wの塗布面の間隙
である。
Further, it is desired that the distances A and B from the end face to be coated shown in the figure be 5 mm or less, and the non-coating area is secured about 2 mm at the end face in four directions. G in the drawing is a gap between the tip of the coating head and the coating surface of the substrate W.

【0052】本図において、位置P1で塗布ヘッド1は
基板Wの相対移動と、下降動作と及び供給バルブの3つ
を同時に開始する。この後、位置P3において、相対移
動速度は一定速度になっており、微少な液玉を吐出部1
03の全長に亘り形成しているが、このとき塗布ヘッド
1は下降限に到達しており、先端の液玉は塗布面に接地
する。位置P3において超音波振動子20への通電が開
始され超音波を発生させる。この状態のまま相対移動し
て、位置P4までは、一定の速度と供給圧力と間隙Gを
維持しつつ、一定の超音波を作用させることで上記のニ
ュートン流体にして均一な塗布面を形成する。また、位
置P4の手前では、排出口25の先に設けた吸引装置を
始動させておく。位置P4に到達すると、供給バルブを
閉じて、排出バルブを開き、塗布ヘッド1を上昇させ、
超音波振動子20への通電を停止する。これらの動作を
同時に行ない相対移動の停止動作はその後に行なう。
In this figure, at the position P1, the coating head 1 simultaneously starts the relative movement of the substrate W, the lowering operation, and the supply valve. Thereafter, at the position P3, the relative movement speed is constant, and the minute liquid droplets
However, at this time, the coating head 1 has reached the lower limit, and the liquid droplet at the tip is grounded to the coating surface. At position P3, energization of the ultrasonic vibrator 20 is started to generate ultrasonic waves. In this state, relative movement is performed, and up to the position P4, while maintaining a constant speed, a supply pressure, and a gap G, a constant ultrasonic wave is applied to form the above Newtonian fluid to form a uniform coating surface. . Before the position P4, the suction device provided at the end of the discharge port 25 is started. When the position P4 is reached, the supply valve is closed, the discharge valve is opened, and the coating head 1 is raised,
The power supply to the ultrasonic vibrator 20 is stopped. These operations are performed simultaneously, and the relative movement stop operation is performed thereafter.

【0053】このとき、塗布流体は塗布ヘッド1内に一
定の位置まで吸い込まれることが肝要であり、そのため
に、排出バルブの開放時間は実験により定め、常に一定
の時間で閉じるようにしている。位置P5で、塗布ヘッ
ドは上昇限、走行限にあり、塗布流体はヘッド内で一定
の位置にあり塗布動作を終了する。
At this time, it is important that the coating fluid is sucked into the coating head 1 to a certain position. Therefore, the opening time of the discharge valve is determined by an experiment, and the discharging valve is always closed at a certain time. At the position P5, the application head is at the upper limit and the travel limit, the application fluid is at a fixed position in the head, and the application operation ends.

【0054】以上のように超音波式塗布装置を動作させ
ることで、塗布流体の流動性を高めるこようにでき、容
易に塗布膜の均一性を向上させるようにできる。尚、超
音波振動子20の配置数、配置姿勢は図示の例に限定さ
れないことは言うまでもなく、基板W上の液ダマリに対
して均一な超音波を印加できるようにすればあらゆる構
成が可能である。以上のように吐出直後の塗布流体の流
動性を高めることができるので、塗布ヘッドの温度分布
や吐出部の壁面の面粗度等が粗い装置を実現出来、塗膜
条件出しが容易になる。
By operating the ultrasonic coating apparatus as described above, the fluidity of the coating fluid can be increased, and the uniformity of the coating film can be easily improved. It is needless to say that the number and arrangement of the ultrasonic transducers 20 are not limited to the example shown in the figure, and any configuration is possible as long as uniform ultrasonic waves can be applied to the liquid summary on the substrate W. is there. As described above, since the fluidity of the application fluid immediately after the discharge can be enhanced, an apparatus having a rough coating of the temperature distribution of the coating head and the surface roughness of the wall surface of the discharge part can be realized, and the condition of the coating film can be easily determined.

【0055】また、塗布動作前に、塗布ヘッドと塗布対
象面の間隙を測定する機能と、間隙を設定する機能を設
けたことで、塗布対象物の板厚の変化やばらつき、また
塗布塗布流体の変化(異種塗布流体)に柔軟に対応でき
る。また、最少塗布面積で所望の有効塗布面を得ること
ができる。
Further, by providing a function of measuring the gap between the coating head and the surface to be coated and a function of setting the gap before the coating operation, a change or variation in the thickness of the coating object and a change in the coating fluid can be obtained. (Flexible coating fluid). Also, a desired effective application surface can be obtained with a minimum application area.

【0056】さらにまた、塗布流体の吐出圧力と塗布流
体吐出のタイミングと塗布するための塗布ヘッドもしく
は塗布対象物の移動開始タイミングと、塗布ヘッドと塗
布対象物の間隙設定の動作タイミング等を適宜制御する
ことで、塗布対象面の塗布開始線を所定の位置になるよ
うに一直線で揃えることができ、安定した均一な膜厚を
短い塗布動作距離で得ることができるようになる。
Further, the discharge pressure of the coating fluid, the timing of the discharge of the coating fluid, the movement start timing of the coating head or the object to be coated, and the operation timing of setting the gap between the coating head and the object to be coated are appropriately controlled. By doing so, the coating start line on the coating target surface can be aligned in a straight line so as to be at a predetermined position, and a stable and uniform film thickness can be obtained with a short coating operation distance.

【0057】また、上述のように塗布開始線を形成する
までは超音波を発生させないようにして、塗布開始線形
成直後に超音波を発生させることで、塗布開始線から短
い移動距離(塗布距離)で安定した均一な膜厚面を得る
ことができ、有効面以外の塗布面積を小さくすることが
できる。この結果、現状より狭い塗布面積により少ない
塗布液量で現状通りの塗布有効形成面を得ることが可能
となる。
As described above, ultrasonic waves are not generated until the application start line is formed, and ultrasonic waves are generated immediately after the application start line is formed, so that a short moving distance (application distance) from the application start line is obtained. (2), a stable and uniform film thickness surface can be obtained, and the coating area other than the effective surface can be reduced. As a result, it is possible to obtain a coating effective formation surface as it is now with a smaller coating area and a smaller amount of coating solution than the current condition.

【0058】また、塗布流体の塗布装置においては、上
述のように複数の超音波発生器で構成することも可能で
あり、各々の超音波の強さや周波数を個別にコントロー
ルできるようにすることで、塗布対象部や塗布ヘッドに
ダメージを与えず、かつ吐出塗布流体にバブルやミスト
粒を発生させず、しかも適度な流動性を与えることがで
きるようになるので、塗布流体の特性に合わせたきめ細
かな調整が可能となるものである。
Further, the application device for the application fluid can be composed of a plurality of ultrasonic generators as described above, and the intensity and frequency of each ultrasonic wave can be individually controlled. It does not cause damage to the application target area or application head, and does not generate bubbles or mist particles in the discharged application fluid, and can provide an appropriate fluidity, so that it can be fine-tuned to the characteristics of the application fluid. Adjustment is possible.

【0059】さらにまた、塗布直前及び直後の塗布流体
の流動性を高めるを可能としたことから、速乾性の塗布
液を使用することが可能となり、乾燥時間が早くなり、
生産性が向上する。
Furthermore, since the fluidity of the coating fluid immediately before and immediately after the coating can be increased, it is possible to use a quick-drying coating solution, and the drying time is shortened.
Productivity is improved.

【0060】また、塗布ヘッドを上述のように洗浄する
ことで、塗布ヘッドの取り外し、分解、洗浄、さらに組
み立て、取り付け、条件出しを行う立ち上げ作業が一切
不要となり、作業性、生産性が格段に向上することにな
る。
Further, by cleaning the coating head as described above, the start-up work for removing, disassembling, cleaning, assembling, attaching, and setting the conditions of the coating head is not required at all, and workability and productivity are remarkably improved. Will be improved.

【0061】さらに、塗布ヘッドの品質判定において、
従来は、加工、組立の各工程毎に良品と判定されたもの
を塗布実験工程で不良とする場合も少なからずあった
が、その割合を減少させることができるので、塗布ヘッ
ド製作時の歩留まりを向上させてコストを低減すること
が可能となる。
Further, in determining the quality of the coating head,
In the past, there were not a few cases where what was determined to be non-defective in each process of processing and assembly was determined to be defective in the coating experiment process, but the ratio can be reduced, so the yield at the time of manufacturing the coating head can be reduced. It is possible to improve the cost and reduce the cost.

【0062】さらに、より高精度の均一な膜厚を得るこ
とができるので、塗布品質の歩留まりが向上し、生産コ
ストを低減することが可能となる。
Furthermore, since a more accurate and uniform film thickness can be obtained, the yield of coating quality can be improved and the production cost can be reduced.

【0063】加えて、額縁のように境界線を明瞭にした
額縁塗布を前提とした塗布方法であるので、塗布液の歩
留まりは極めて高いレベルを維持することができるとと
もに、端面に余剰の塗布液が付着しないので、ゴミを発
生させる可能性が低く、塗布後の塗布面へのダメージを
軽減でき、生産歩留まりの向上に寄与できることにな
る。
In addition, since the coating method is based on the premise of frame application in which the boundaries are clearly defined like a frame, the yield of the coating solution can be maintained at an extremely high level, and the excess coating solution can be applied to the end face. Does not adhere, the possibility of generating dust is low, damage to the coated surface after coating can be reduced, and it is possible to contribute to improvement in production yield.

【0064】また、図7は、別実施形態の塗布ヘッド1
の外観斜視図であって、既に説明済みの構成部品につい
ては同様の符号を附して説明を割愛すると、上記の接液
部101には多数の細孔200を直線状に穿設されてお
り、これら細孔を介して塗布流体を基板W上に塗布す
る。このときに多数の細孔200の夫々から液玉が図示
のように形成されて吐出され、基板Wの塗布面との間で
長手方向に規則的に分布する液ダマリが形成されること
になるが、超音波を塗布直後に印加することで塗布流体
の粘性係数が次第に減少して、ニュートン流体になるの
で相対移動に伴い均一に分布できるようになる。細孔2
00は丸穴でも角穴でも統一された形状で等間隔に配置
されていれば問題はないここで、塗膜品質は例えば、仕
様1μm±5%の場合に、その仕様をクリヤーすれば全
て良品であるといったものではなく、膜厚の部分的な急
激な変化がある場合は例え±5%以内であっても不良品
であり、膜厚がなだらかに変化する場合は±5%をオー
バーしても良品扱いとしている。すなわち膜厚品質はそ
の均一性が極めて重要な項目となっている。膜厚の急激
な変化をもたらす要因として、走行移動塗布時の走行時
の振動であり、ボールネジや走行ガイド(ベアリング)
やサーボモーター系による振動等に着目した。走行時に
振動が塗布液に作用しその振動が流体にせん断力として
働き流体の粘性を変化させていることは十分に考えられ
た。超音波式塗布装置における塗布膜品質は、大きく塗
布ヘッドの加工精度と、塗布走行時の走行振動をどこま
で抑えることができるかにかかっていて、塗膜品質の向
上は加工技術の向上によるものが大きかった。形成した
塗膜は走行経路の一部においてのみ膜厚変化となって現
れ、その現象には再現性があることと、形成膜ムラは所
定の厚さより厚い部分の近傍は薄くなっているが確かめ
られている。
FIG. 7 shows a coating head 1 according to another embodiment.
FIG. 2 is a perspective view of the outer appearance of the first embodiment, and the same reference numerals are given to the components already described, and the description is omitted. In the liquid contact part 101, a large number of pores 200 are formed in a straight line. The application fluid is applied onto the substrate W through these pores. At this time, liquid droplets are formed and discharged from each of the large number of pores 200 as shown in the drawing, and liquid summaries regularly distributed in the longitudinal direction with the application surface of the substrate W are formed. However, when the ultrasonic wave is applied immediately after the application, the viscosity coefficient of the application fluid gradually decreases and becomes a Newtonian fluid, so that it can be uniformly distributed with the relative movement. Pore 2
There is no problem if 00 is a uniform shape in both round holes and square holes as long as they are arranged at equal intervals. Here, if the coating quality is 1 μm ± 5%, for example, if the specification is cleared, all are good. If there is a partial rapid change in the film thickness, it is a defective product even if it is within ± 5%, and if the film thickness changes gently, it exceeds ± 5%. Is treated as good. That is, uniformity is an extremely important item for the film thickness quality. Factors that cause a sudden change in film thickness include vibration during running during running movement coating, such as ball screws and running guides (bearings).
We paid attention to vibration by servo motor system and so on. It was sufficiently considered that vibrations acted on the coating liquid during running, and the vibrations acted on the fluid as a shear force to change the viscosity of the fluid. The quality of the coating film in the ultrasonic type coating equipment largely depends on the processing accuracy of the coating head and the degree to which the running vibration during coating running can be suppressed. It was big. The formed coating film appears as a change in film thickness only in a part of the traveling route, and it is confirmed that the phenomenon has reproducibility and that the unevenness of the formed film is thin near the part thicker than the specified thickness. Have been.

【0065】このように、等温条件下で流体を一定のず
り速度で流動させるとき、粘度またはせん断応力が時間
とともに減少するシクソトロピー流体に超音波振動を印
加すると、流体にせん断応力を付加することになり、流
体の粘性を安定域まで低下させるは減粘性作用があるこ
とを利用した塗布方法であり、塗布流体をニュートン流
体の性質に近づけることが可能となるので、移動塗布時
の多少の外乱(機械振動)の影響による塗布ムラに対し
てもなだらかな膜厚分布を得ることが可能となる。
As described above, when a fluid is caused to flow at a constant shear rate under isothermal conditions, when ultrasonic vibration is applied to a thixotropic fluid whose viscosity or shear stress decreases with time, shear fluid is applied to the fluid. In other words, reducing the viscosity of the fluid to a stable range is a coating method utilizing the effect of a thinning effect, and it is possible to make the coating fluid close to the properties of Newtonian fluid. It is possible to obtain a gentle film thickness distribution even for coating unevenness due to the influence of (mechanical vibration).

【0066】さらに、ペースト状の高粘性流体にあって
も、その粘性を減ずることで、塗布ヘッド内に残存する
気泡を容易に排出することも可能となりスムースな吐出
作業を実現できる。
Further, even in the case of a paste-like high-viscosity fluid, by reducing the viscosity, bubbles remaining in the application head can be easily discharged, and a smooth discharge operation can be realized.

【0067】そして、接液部101を含む流路に滞留し
ている液がゲル化し塗布品質の低下を招く虞があること
から、従来の超音波式塗布装置ーの塗布ヘッド内は定期
的な分解洗浄を必要としていたが、上記の装置で、接液
部の流体と吐出部または細孔部の流体にも超音波振動を
印加するので、流路に滞留する割合を減ずることが可能
になり、定期的な洗浄頻度を少なくすることを可能と
し、また、分解せず洗浄液を流路に流し超音波を印可す
るだけで洗浄できるようになる。
Since there is a possibility that the liquid staying in the flow path including the liquid contact portion 101 may gel and cause deterioration of coating quality, the inside of the coating head of the conventional ultrasonic coating apparatus is periodically replaced. Although it was necessary to disassemble and clean, the above-mentioned device applies ultrasonic vibration to the fluid in the liquid contact part and the fluid in the discharge part or the pore part, so it is possible to reduce the rate of stagnation in the flow path. In addition, the frequency of regular cleaning can be reduced, and the cleaning can be performed only by flowing the cleaning liquid through the flow path and applying ultrasonic waves without decomposition.

【0068】このことは生産性や品質維持に極めて重要
な要素であり、分解洗浄後の組立および条件出し等の再
現技術は細心の注意を払う必要と、また高度の熟練技術
と相応の再現作業時間を要していたが、これらの作業が
極めて簡単にしかも分解せずに自動的に行なう事が可能
となったために、流体品質を維持するため従来以上の頻
度で洗浄を繰り返しても生産性を低下させることはな
く、また短時間で容易に洗浄ができるために塗布品質や
生産性を大幅に向上できる。
This is a very important factor for productivity and quality maintenance. Reproduction techniques such as assembly and condition setting after disassembly and cleaning require careful attention. Although it took time, these operations could be performed very easily and automatically without disassembly, so that even if cleaning was repeated more frequently than before to maintain fluid quality, productivity could be improved. And the coating quality and productivity can be greatly improved since the cleaning can be easily performed in a short time without lowering the coating quality.

【0069】また、スリットスピンコータと併用する場
合には、塗布流体の余剰液を極端に抑え生産効率の高い
省液塗布が可能となる。
Further, when used in combination with the slit spin coater, the surplus liquid of the application fluid is extremely suppressed, and liquid-saving application with high production efficiency can be performed.

【0070】[0070]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
塗布流体を超音波印加によりニュートン流体に変化させ
ることにより、乾燥速度、粘度変化の種類を問わず全て
の塗布流体を使用でき、大型サイズ基板を含む全ての基
板にに対応することができ、所望される膜厚の確保と、
均一性の向上を図ることができる超音波式塗布ヘッドと
超音波式塗布装置を提供することができる。
As described above, according to the present invention,
By changing the application fluid to a Newtonian fluid by applying ultrasonic waves, all application fluids can be used regardless of the drying speed and the type of viscosity change, and it can be applied to all substrates including large-size substrates. Ensuring the film thickness
An ultrasonic coating head and an ultrasonic coating device capable of improving uniformity can be provided.

【0071】また、加えてスリットスピンコータと併用
する場合には、塗布流体の余剰液を極端に抑え生産効率
の高い省液塗布を可能にすることができる。
In addition, when used in combination with the slit spin coater, the surplus liquid of the application fluid can be extremely suppressed to enable liquid-saving application with high production efficiency.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】超音波式塗布装置の全体構成を示した概略構成
図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing the overall configuration of an ultrasonic coating apparatus.

【図2】(a)は透過率Dの計算式、(b)は塗布ヘッ
ドの横断面図、(c)は塗布ヘッドの拡大断面図であ
る。
2A is a formula for calculating a transmittance D, FIG. 2B is a cross-sectional view of a coating head, and FIG. 2C is an enlarged cross-sectional view of the coating head.

【図3】(a)は別構成の塗布ヘッド1の要部破断図で
あり、(b)はせん断応力と粘性係数の関係図である。
FIG. 3A is a cutaway view of a main part of a coating head 1 having another configuration, and FIG. 3B is a diagram showing a relationship between a shear stress and a viscosity coefficient.

【図4】塗布ヘッドの塗布流体供給の系統図である。FIG. 4 is a system diagram for supplying a coating fluid of a coating head.

【図5】(a)〜(e)塗布ヘッド洗浄を含めた各々の
バルブ動作を説明する流路図である。
FIGS. 5A to 5E are flow charts for explaining valve operations including coating head cleaning.

【図6】塗布ヘッドの動作説明図である。FIG. 6 is a diagram illustrating the operation of a coating head.

【図7】別実施形態の塗布ヘッドの外観斜視図である。FIG. 7 is an external perspective view of a coating head according to another embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 塗布ヘッド 2 距離センサ 3 アーム 4 サーボモータ 5 昇降台 6 保持盤 7 ガイドレール 8 ボールネジ 9 サーボモータ 10 基部 11 位置センサ 20 超音波振動子 24 供給口 25 排出口 27 振動板 101接液部 102反射形状部 103吐出部 104印加部 202傾斜形状部 REFERENCE SIGNS LIST 1 coating head 2 distance sensor 3 arm 4 servo motor 5 elevating table 6 holding plate 7 guide rail 8 ball screw 9 servo motor 10 base 11 position sensor 20 ultrasonic vibrator 24 supply port 25 discharge port 27 diaphragm 101 liquid contact part 102 reflection Shape part 103 Discharge part 104 Apply part 202 Slant shape part

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定塗布流体を所定幅で吐出する吐出部
を、平らな塗布面を有する矩形または円形の基板との間
で所定間隙を維持し、前記基板と所定速度で相対移動し
つつ、前記吐出部を介して所定圧力で吐出することで均
一な塗布を行なう超音波式塗布ヘッドであって、 前記塗布面上における塗布状態の前記所定塗布流体に対
して超音波振動を印加するための超音波発生手段の超音
波印加部を、前記吐出部の近傍に設けることを特徴とす
る超音波式塗布ヘッド。
1. A discharge unit for discharging a predetermined application fluid at a predetermined width, while maintaining a predetermined gap between the substrate and a rectangular or circular substrate having a flat application surface, while relatively moving at a predetermined speed with the substrate. An ultrasonic coating head that performs uniform coating by discharging at a predetermined pressure through the discharging unit, and is configured to apply ultrasonic vibration to the predetermined coating fluid in a coating state on the coating surface. An ultrasonic applying head, wherein an ultrasonic applying section of the ultrasonic generating means is provided near the discharge section.
【請求項2】 前記超音波発生手段は、前記所定塗布流
体の供給口と排出口とに連通する接液部に対して超音波
を略垂直に入射させる超音波発振部と、 入射後の超音波を反射させることで前記超音波印加部に
指向させる反射形状部とから構成されることを特徴とす
る請求項1に記載の超音波式塗布ヘッド。
2. The ultrasonic generator according to claim 1, further comprising: an ultrasonic generator configured to input the ultrasonic wave substantially perpendicularly to a liquid contact part communicating with a supply port and a discharge port of the predetermined application fluid. 2. The ultrasonic coating head according to claim 1, further comprising: a reflection-shaped portion configured to reflect a sound wave to direct the ultrasonic wave to the ultrasonic wave application unit. 3.
【請求項3】 前記超音波発振部は、前記相対移動方向
に沿うように接液部に対して超音波を略垂直に入射させ
るとともに、 前記反射形状部は、入射後の超音波を反射させることで
前記超音波印加部に指向させる曲面部から構成されるこ
とを特徴とする請求項2に記載の超音波式塗布ヘッド。
3. The ultrasonic oscillating section makes the ultrasonic wave incident substantially perpendicularly to the liquid contacting part along the relative movement direction, and the reflecting shape part reflects the ultrasonic wave after the incident. The ultrasonic coating head according to claim 2, wherein the ultrasonic coating head is configured by a curved surface portion directed to the ultrasonic application unit.
【請求項4】 前記超音波発振部は、前記相対移動方向
に略直交するように接液部に対して超音波を略垂直に入
射させるとともに、 前記反射形状部は、入射後の超音波を反射させることで
前記超音波印加部に指向させる傾斜形状部から構成され
ることを特徴とする請求項2に記載の超音波式塗布ヘッ
ド。
4. The ultrasonic oscillating section causes the ultrasonic wave to be incident substantially perpendicularly to the liquid contacting part so as to be substantially orthogonal to the relative movement direction, and the reflection shape section transmits the ultrasonic wave after the incident. The ultrasonic coating head according to claim 2, wherein the ultrasonic coating head is configured by an inclined shape portion that reflects the light to be directed to the ultrasonic wave application unit.
【請求項5】 前記吐出部は、幅方向に連続開口するス
リットノズルであることを特徴とする請求項1乃至請求
項4のいずれか1項に記載の超音波式塗布ヘッド。
5. The ultrasonic coating head according to claim 1, wherein the discharge unit is a slit nozzle that continuously opens in a width direction.
【請求項6】 前記吐出部は、多数の細孔を直線状に配
置して構成されることを特徴とする請求項1乃至請求項
4のいずれか1項に記載の超音波式塗布ヘッド。
6. The ultrasonic coating head according to claim 1, wherein the discharge section is configured by arranging a number of fine holes in a straight line.
【請求項7】 請求項1に記載の超音波式塗布ヘッドを
用いた超音波式塗布装置であって、 前記基板と前記超音波式塗布ヘッドとを所定速度で相対
移動する相対移動手段と、 前記塗布ヘッドの吐出部の先端と前記塗布面との離間距
離を検出する距離検出手段と、 前記超音波式塗布ヘッドを前記所定間隙を維持する塗布
状態と、前記吐出部から離間する待機状態とに昇降する
昇降手段と、 前記供給口を介して前記塗布流体を所定圧力で供給する
供給手段と、 前記排出口を介して前記塗布流体を排出する排出手段
と、 前記相対移動手段と前記距離検出手段と前記昇降手段と
前記供給手段と前記排出手段と前記超音波手段とに接続
され、塗布開始と塗布終了の間の所定タイミングで所定
制御を司る制御手段とを具備することを特徴とする超音
波式塗布ヘッドを用いた超音波式塗布装置。
7. An ultrasonic coating apparatus using the ultrasonic coating head according to claim 1, wherein: a relative moving unit that relatively moves the substrate and the ultrasonic coating head at a predetermined speed; Distance detecting means for detecting a separation distance between the tip of the discharge unit of the coating head and the coating surface; a coating state in which the ultrasonic coating head maintains the predetermined gap; and a standby state in which the ultrasonic coating head is separated from the discharge unit. Raising and lowering means, supplying means for supplying the application fluid at a predetermined pressure through the supply port, discharging means for discharging the coating fluid via the discharge port, the relative moving means and the distance detection Control means connected to the means, the elevating means, the supply means, the discharge means, and the ultrasonic means, and performing predetermined control at a predetermined timing between the start of coating and the end of coating. Sound wave type An ultrasonic coating device using a coating head.
【請求項8】 塗布後に、回転による遠心力で余剰分の
塗布流体を除去する基板回転装置とともに使用されるこ
とを特徴とする請求項7に記載の超音波式塗布ヘッドを
用いた超音波式塗布装置。
8. An ultrasonic type using an ultrasonic type application head according to claim 7, wherein the ultrasonic type application head is used together with a substrate rotating device for removing an excess application fluid by centrifugal force due to rotation after application. Coating device.
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