JP3563851B2 - Substrate transfer device - Google Patents

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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、液晶表示パネル用ガラス基板等の基板を搬送する基板搬送装置に関し、特に、第1の搬送機構により前行程から搬送された基板を第2の搬送機構により次工程に搬送する基板搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
このような基板搬送装置としては、従来、複数の搬送ローラよりなる第1の搬送機構により搬送された基板を、第1の搬送機構の下方に配設された複数の昇降ピンにより上昇させた後、この基板を、第1の搬送機構の上方に配設された一対のアームを備える第2の搬送機構により支持して搬送するものが使用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
このような従来の搬送装置においては、基板を複数の昇降ピンにより上昇させる構成であるため、その上昇動作時に基板が位置ずれを起こし、基板の受け渡しミスが発生する場合がある。特に、処理液が付着した基板を搬送する場合には、基板に付着した処理液の皮膜により基板が滑りやすいことから、上記搬送ミスが生じやすい。また、薄型(0.7mm)基板等の場合は、破損や傷発生の可能性もある。
【0004】
また、昇降ピンから一対のアームへ基板を受け渡す構成であるため、それらの位置関係を正確に調整する必要があり、また、その制御も複雑となる。
【0005】
この発明は、上記課題を解決するためになされたもので、簡易な構成でありながら、正確に基板を搬送することのできる基板搬送装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の発明は、基板を水平方向に搬送する第1の搬送機構と、前記第1の搬送機構により搬送された基板を支持して搬送する第2の搬送機構とを有する基板搬送装置であって、前記第1の搬送機構は、互いに同期して回転する複数の搬送ローラより構成され、前記第2の搬送機構は、一対のアームと、前記各アームに付設され、前記基板の両端部の下面を支持するための支持部材と、前記支持部材の下端部が前記第1の搬送機構により搬送される基板の下面より上方に位置する第1の位置と第1の搬送機構により搬送される基板の下面より下方に位置する第2の位置との間で、前記一対のアームを上下方向に昇降させる昇降手段と、前記一対のアームが第2の位置に位置する状態において、前記各アームを、前記搬送ローラによる基板の搬送方向と平行な方向で、かつ、互いに近接する方向に移動させることにより、前記基板を前記支持部材により支持させる移動手段とを備えるとともに、前記第2の搬送機構は、前記一対のアームのうちの少なくとも一方のアームに付設された支持部材が平面視において前記複数の搬送ローラのうちの隣接する2本のローラの間に位置する状態で、前記支持部材が前記第1の位置と前記第2の位置との間を移動するように、前記一対のアームを上下方向に昇降させることを特徴とする。
【0007】
請求項2に記載の発明は、基板を水平方向に搬送する第1の搬送機構と、前記第1の搬送機構により搬送された基板を支持して搬送する第2の搬送機構とを有し、前段の処理液を使用した処理工程より、処理液が付着した基板を基板乾燥装置に搬入するための基板搬送装置であって、前記第1の搬送機構は、互いに同期して回転する複数の搬送ローラより構成され、前記第2の搬送機構は、一対のアームと、前記各アームに付設され、前記基板の両端部の下面を支持するための支持部材と、前記支持部材の下端部が前記第1の搬送機構により搬送される基板の下面より上方に位置する第1の位置と第1の搬送機構により搬送される基板の下面より下方に位置する第2の位置との間で、前記一対のアームを上下方向に昇降させる昇降手段と、前記一対のアームが第2の位置に位置する状態において、前記各アームを、前記搬送ローラによる基板の搬送方向と平行な方向で、かつ、互いに近接する方向に移動させることにより、前記基板を前記支持部材により支持させる移動手段とを備えるとともに、前記第2の搬送機構は、前記一対のアームのうちの少なくとも一方のアームに付設された支持部材が平面視において前記複数の搬送ローラのうちの隣接する2本のローラの間に位置する状態で、前記支持部材が前記第1の位置と前記第2の位置との間を移動するように、前記一対のアームを上下方向に昇降させることを特徴とする。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づいてこの発明の実施の形態を説明する。図1は、この発明に係る基板搬送装置を適用した回転式基板乾燥装置の平面図である。
【0009】
この回転式基板乾燥装置は、角形の液晶表示パネル用ガラス基板に対して乾燥処理を行うものであり、基板搬入部2と、基板乾燥部3と、基板搬出部4と、基板搬送部5とを備える。
【0010】
基板搬入部2は、前段の処理液を使用した処理工程より、純水等の処理液が付着した状態の基板Wを回転式基板乾燥装置3に搬入するためのものであり、互いに同期して回転することにより基板Wを搬送する複数の搬送ローラ12を備える。
【0011】
基板乾燥部3は、基板Wを高速で回転させることにより基板Wを乾燥するためのものであり、基板Wを保持して回転するスピンチャック13と、基板Wの表面に乾燥を促進させるための気体を供給する気体供給手段14と、処理液の外部への飛散を防止するための飛散防止用カップ15とを備える。
【0012】
基板搬出部4は、基板乾燥部3により乾燥処理を行った基板Wを後段の処理工程へ搬出するためのものであり、基板搬入部2と同様、互いに同期して回転することにより基板Wを搬送する複数の搬送ローラ12を備える。
【0013】
基板搬送部5は、基板搬入部2と、基板乾燥部3と、基板搬出部4との間で基板Wを搬送するためのものであり、基板搬入部2の搬送ローラ12上に載置された基板Wを基板乾燥部3のスピンチャック13上に搬送するための第1のチャック16と、基板乾燥部3のスピンチャック13上に載置された基板Wを基板搬出部4の搬送ローラ12上に搬送するための第2のチャック17とを備える。第1、第2のチャック16、17は、いずれもモータ18により駆動を受ける同期ベルト19に連結されており、互いに同期して図1における左右方向に移動する。
【0014】
次に、基板搬送装置の構成について説明する。図2は、基板搬入部2の平面図であり、図3はその側面図である。
【0015】
この基板搬入部2には、一対の支持板21、21間にその両端を軸支された5本の搬送ローラ12が配設されている。これらの搬送ローラ12は、同期ベルト22により互いに連結されており、また、これらの搬送ローラ12のうちの1本の搬送ローラは、同期ベルト23を介してモータ24と連結されている。このため、5本の搬送ローラ12は、モータ24の駆動により、互いに同期して回転する。また、搬送ローラ12の下方には、搬送ローラ12により搬送される基板Wの先端を検出するための光電センサ29が配設されている。
【0016】
図示しない搬送ローラ等からなる搬送機構により前段の処理工程から搬入された基板Wは、搬送ローラ12の回転に伴い、搬送ローラ12上に載置された状態で水平方向に搬送される。このとき、各搬送ローラ12には基板Wの端縁を支持するための支持輪25が付設されており、基板Wはその有効部外である端縁のみを支持されて搬送される。そして、搬送ローラ12によって搬送された基板Wは、基板搬入部2において、第1のチャック16に受け渡される。
【0017】
この第1のチャック16は、図4に示すように、支持具31に支持された左右一対のアーム30a、30bと、アーム30a、30bを開閉させるための一対のエアシリンダ32a、32bと、支持具31を昇降させるためのエアシリンダ33と、エアシリンダ33を前述した同期ベルト19に連結するための連結具34とを有する。
【0018】
各アーム30a、30bには、基板Wの両端を支持するための各々2本の支持部材35a、35bが付設されている。各支持部材35a、35bの下端部には、凸部36(基板支持部)が形成されており、この凸部36により基板Wの下面の両端が支持される。
【0019】
各アーム30a、30bの上方には、連結具34と接続された一対の位置決めアーム37a、37bが配設されている。この位置決めアーム37a、37bには、支持部材35a、35bと同様の形状を有する位置決め部材38a、38bが付設されている。一対の位置決めアーム37a、37bは、各々エアシリンダ39a、39bと接続されており、このエアシリンダ39a、39bの駆動により位置決め部材38a、38bは互いに近接する方向に移動する。
【0020】
第1のチャック16の下方には、図3に示すように、純水の供給管40が付設されている。この純水の供給管40は、前段の処理工程で基板Wに付着した処理液が、基板乾燥部3において乾燥される以前に不均一な状態で乾燥することを防止するため、第1のチャック16による基板Wの搬送時に基板Wの表面に純水を供給するためのものである。
【0021】
なお、第2のチャック17は、純水の供給管40を備えない点以外は第1のチャック16と同様の構成を有する。
【0022】
次に、基板Wの搬送工程について説明する。
【0023】
搬送ローラ12上に載置されて搬送された基板Wは、光電センサ29によりその先端を検出され、図2において二点鎖線で示す基板の受け渡し位置で停止する。この基板Wの受け渡し位置においては、基板Wの後端は、複数の搬送ローラ12のうちの隣接する2本の搬送ローラ12の間に位置している。
【0024】
また、モータ18の駆動により第1のチャック16が、基板Wの受け渡し位置の上方に移動し、図2において実線で示すように、第1のアーム30aに付設された支持部材35aが平面視において2本の搬送ローラ12の間に位置する状態で停止する。このとき、各アーム30a、30bは互いに離隔した開放状態とされている。
【0025】
次に、エアシリンダ33の駆動により、支持具31を介して一対のアーム30a、30bを下降させる。これにより、図3において二点鎖線で示すように、支持部材35a、35bにおける凸部36が搬送ローラ12の支持輪25に支持された基板Wの下面より下方に移動する。このとき、支持部材35aは平面視において2本の搬送ローラ12の間に位置していることから、支持部材35aと搬送ローラ12とが干渉することはない。
【0026】
この状態において、エアシリンダ32a、32bの駆動により、図2において二点鎖線で示すように、一対のアーム30a、30bを互いに近接する方向に移動させる。これにより、支持部材35a、35bの凸部36が基板Wの両端部の下方に進入する。そして、エアシリンダ33の駆動により、支持具31を介して一対のアーム30a、30bを上昇させることにより、基板Wの両端部の下面が支持部材35a、35bの凸部36により支持される。このとき、基板Wの両端部は一対のアーム30a、30bに付設された支持部材35a、35bにより挟持されることから、基板Wに位置ずれ等が生じることによる搬送ミスが発生することはない。
【0027】
続いて、エアシリンダ39a、39bの駆動により、一対の位置決めアーム37a、37bを駆動し、位置決めアーム37a、37bに付設された位置決め部材38a、38bを互いに近接する方向に移動させる。この動作により、基板Wは、搬送ローラ12による搬送方向と直行する方向に位置決めされる。
【0028】
そして、モータ18の駆動により第1のチャック16を水平方向に移動させることにより、基板Wを基板乾燥部3におけるスピンチャック13の上方まで搬送する。そして、上述した動作と逆の動作により、基板Wをスピンチャック13に載置する。
【0029】
なお、第1のチャック16が基板搬入部2から基板乾燥部3まで基板Wを搬送する工程と並行して、第1のチャック16と同期して移動する第2のチャック17が第1のチャック16と同様の動作を行うことにより、先に乾燥処理を終えた基板Wを基板乾燥部3から基板搬出部4に搬送する。
【0030】
以上の動作を繰り返すことにより、基板Wは、基板搬入部2、基板乾燥部3および基板搬出部4に順次搬送され、その乾燥処理が行われれる。
【0031】
上記実施の形態においては、基板Wの端縁を搬送ローラ12の支持輪25により支持して搬送する場合について説明したが、搬送ローラ12により基板Wの裏面全面を支持して搬送してもよく、また、搬送ローラ12間にOリング等を展張し、このOリングにより基板Wの裏面を支持して搬送するようにしてもよい。さらに、搬送ローラ12のかわりに搬送ベルトにより基板Wの裏面を支持して搬送することも可能である。
【0032】
また、上記実施の形態においては、この発明を回転式基板乾燥装置に適用した場合について述べたが、基板を水平方向に搬送する第1の搬送機構と第1の搬送機構により搬送された基板を支持して搬送する第2の搬送機構とを有する各種の基板処理装置にこの発明を適用することが可能である。
【0033】
【発明の効果】
請求項1および請求項2に記載の発明によれば、第1の搬送機構上の基板を、一対のアームに付設された支持部材により直接支持して搬送することができることから、基板を昇降ピンにより上昇させる必要がなく、基板を確実に搬送し位置決めすることが可能となる。このため、特に処理液が付着した基板を搬送する場合等においても、基板の搬送ミスが生ずることはない。また、基板裏面に昇降ピンが当接することもないので、基板に対する傷や破損等が生じることもない。
【0034】
また、請求項1および請求項2に記載の発明によれば、搬送ローラと支持部材とが干渉を生ずることなく、搬送ローラ間に支持部材を進入させて基板を搬送することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に係る基板搬送装置を適用した回転式基板乾燥装置の平面図である。
【図2】基板搬入部2の平面図である。
【図3】図2の側面図である
【図4】第1のチャック16の概要を示す斜視図である。
【符号の説明】
2 基板搬入部
3 基板乾燥部
4 基板搬出部
5 基板搬送部
12 搬送ローラ
16 第1のチャック
17 第2のチャック
18 モータ
24 モータ
25 支持輪
30a、30b アーム
32a、32b エアシリンダ
33 エアシリンダ
35a、35b 支持部材
36 凸部
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a substrate transfer device for transferring a substrate such as a glass substrate for a liquid crystal display panel, and more particularly, to a substrate transfer device for transferring a substrate transferred from a previous process by a first transfer mechanism to a next process by a second transfer mechanism. Equipment related.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as such a substrate transfer device, after a substrate transferred by a first transfer mechanism including a plurality of transfer rollers is lifted by a plurality of lifting pins disposed below the first transfer mechanism, A substrate is used in which the substrate is supported and transferred by a second transfer mechanism having a pair of arms disposed above the first transfer mechanism.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
In such a conventional transfer device, since the substrate is raised by a plurality of lifting pins, the substrate may be displaced during the lifting operation, and a delivery error of the substrate may occur. In particular, when the substrate to which the processing liquid is attached is transported, the transport error is likely to occur because the substrate is easily slipped by the coating of the processing liquid attached to the substrate. In the case of a thin (0.7 mm) substrate or the like, there is a possibility that breakage or damage may occur.
[0004]
Further, since the configuration is such that the substrate is transferred from the elevating pins to the pair of arms, it is necessary to precisely adjust their positional relationship, and the control thereof is complicated.
[0005]
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and has as its object to provide a substrate transfer device that can transfer a substrate accurately with a simple configuration.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
According to the first aspect of the present invention, a substrate transport includes a first transport mechanism for transporting a substrate in a horizontal direction, and a second transport mechanism for supporting and transporting the substrate transported by the first transport mechanism. In the apparatus, the first transport mechanism is composed of a plurality of transport rollers that rotate in synchronization with each other, and the second transport mechanism is attached to a pair of arms and each of the arms, and A support member for supporting the lower surfaces of both ends, a lower end of the support member being transported by the first transport mechanism and a first position where the lower end is located above the lower surface of the substrate transported by the first transport mechanism; Lifting means for raising and lowering the pair of arms in a vertical direction between a second position located below the lower surface of the substrate, and a state in which the pair of arms are located in the second position. Arm by the transport roller Moving means for supporting the substrate by the support member by moving the board in a direction parallel to the board transfer direction and in a direction approaching each other; and the second transfer mechanism includes the pair of arms. In a state where a support member attached to at least one of the arms is located between two adjacent rollers of the plurality of transport rollers in a plan view, the support member is positioned between the first position and the first position. The pair of arms is vertically moved up and down so as to move between the second position and the second position .
[0007]
The invention according to claim 2 has a first transport mechanism for transporting the substrate in the horizontal direction, and a second transport mechanism for supporting and transporting the substrate transported by the first transport mechanism, A substrate transport apparatus for transporting a substrate to which a processing liquid has adhered to a substrate drying apparatus from a processing step using a processing liquid in a preceding stage, wherein the first transport mechanism includes a plurality of transports rotating in synchronization with each other. The second transport mechanism includes a pair of arms, a support member attached to each of the arms, for supporting lower surfaces of both ends of the substrate, and a lower end of the support member having the lower end. Between a first position located above the lower surface of the substrate transported by the first transport mechanism and a second position located below the lower surface of the substrate transported by the first transport mechanism; Lifting means for raising and lowering the arm in the vertical direction; In a state where the pair of arms are located at the second position, the arm is moved in a direction parallel to a direction in which the substrate is transported by the transport roller and in a direction close to each other, thereby supporting the substrate. The second transport mechanism is configured such that a support member attached to at least one of the pair of arms is adjacent to one of the plurality of transport rollers in plan view. The pair of arms is vertically moved up and down so that the support member moves between the first position and the second position while being positioned between two rollers. I do.
[0008]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view of a rotary substrate drying apparatus to which a substrate transfer device according to the present invention is applied.
[0009]
This rotary substrate drying apparatus performs a drying process on a rectangular glass substrate for a liquid crystal display panel, and includes a substrate carrying-in unit 2, a substrate drying unit 3, a substrate carrying-out unit 4, a substrate carrying unit 5, Is provided.
[0010]
The substrate carry-in section 2 carries the substrate W with the treatment liquid such as pure water attached thereto from the treatment step using the treatment liquid at the previous stage into the rotary substrate drying apparatus 3, and is synchronized with each other. A plurality of transport rollers 12 that transport the substrate W by rotating are provided.
[0011]
The substrate drying unit 3 is for drying the substrate W by rotating the substrate W at a high speed. The spin chuck 13 holding and rotating the substrate W and the spin chuck 13 for promoting the drying on the surface of the substrate W are provided. The apparatus includes a gas supply unit 14 for supplying gas and a scattering prevention cup 15 for preventing the processing liquid from scattering to the outside.
[0012]
The substrate unloading unit 4 is for unloading the substrate W that has been subjected to the drying process by the substrate drying unit 3 to a subsequent processing step. A plurality of transport rollers 12 for transport are provided.
[0013]
The substrate transport section 5 transports the substrate W between the substrate loading section 2, the substrate drying section 3, and the substrate transport section 4, and is mounted on the transport roller 12 of the substrate loading section 2. The first chuck 16 for transporting the substrate W onto the spin chuck 13 of the substrate drying unit 3 and the transport roller 12 of the substrate unloading unit 4 for transporting the substrate W placed on the spin chuck 13 of the substrate drying unit 3. And a second chuck 17 for transporting the upper chuck. The first and second chucks 16, 17 are both connected to a synchronous belt 19 driven by a motor 18, and move in the left-right direction in FIG. 1 in synchronization with each other.
[0014]
Next, the configuration of the substrate transfer device will be described. FIG. 2 is a plan view of the substrate loading section 2, and FIG. 3 is a side view thereof.
[0015]
The substrate carrying-in portion 2 is provided with a pair of support plates 21 and five transport rollers 12 whose both ends are pivotally supported. The transport rollers 12 are connected to each other by a synchronous belt 22, and one of the transport rollers 12 is connected to a motor 24 via a synchronous belt 23. Therefore, the five transport rollers 12 rotate in synchronization with each other by driving of the motor 24. A photoelectric sensor 29 for detecting the tip of the substrate W conveyed by the conveyance roller 12 is provided below the conveyance roller 12.
[0016]
The substrate W carried in from a preceding processing step by a transport mechanism including transport rollers (not shown) is transported in a horizontal direction while being placed on the transport rollers 12 as the transport rollers 12 rotate. At this time, a support wheel 25 for supporting the edge of the substrate W is attached to each of the transport rollers 12, and the substrate W is transported with only the edge outside its effective portion supported. Then, the substrate W transported by the transport rollers 12 is transferred to the first chuck 16 in the substrate loading section 2.
[0017]
As shown in FIG. 4, the first chuck 16 includes a pair of left and right arms 30a and 30b supported by a support member 31, a pair of air cylinders 32a and 32b for opening and closing the arms 30a and 30b, and It has an air cylinder 33 for raising and lowering the tool 31 and a connecting tool 34 for connecting the air cylinder 33 to the synchronous belt 19 described above.
[0018]
Each arm 30a, 30b is provided with two support members 35a, 35b for supporting both ends of the substrate W, respectively. Protrusions 36 (substrate support portions) are formed at the lower ends of the support members 35a and 35b, and the protrusions 36 support both ends of the lower surface of the substrate W.
[0019]
Above each arm 30a, 30b, a pair of positioning arms 37a, 37b connected to the connector 34 are arranged. The positioning arms 37a and 37b are provided with positioning members 38a and 38b having the same shape as the support members 35a and 35b. The pair of positioning arms 37a and 37b are connected to air cylinders 39a and 39b, respectively, and the positioning members 38a and 38b move in directions approaching each other by driving the air cylinders 39a and 39b.
[0020]
As shown in FIG. 3, a supply pipe 40 of pure water is provided below the first chuck 16. The pure water supply pipe 40 is provided with a first chuck to prevent the processing liquid attached to the substrate W in the previous processing step from drying in an uneven state before being dried in the substrate drying section 3. This is for supplying pure water to the surface of the substrate W when the substrate 16 is transported by the substrate 16.
[0021]
The second chuck 17 has the same configuration as the first chuck 16 except that the second chuck 17 does not include the pure water supply pipe 40.
[0022]
Next, the transfer process of the substrate W will be described.
[0023]
The tip of the substrate W placed and transported on the transport roller 12 is detected by the photoelectric sensor 29, and stops at the substrate transfer position indicated by the two-dot chain line in FIG. At the transfer position of the substrate W, the rear end of the substrate W is located between two adjacent transport rollers 12 of the plurality of transport rollers 12.
[0024]
Further, the first chuck 16 is moved above the transfer position of the substrate W by the driving of the motor 18, and as shown by a solid line in FIG. 2, the support member 35a attached to the first arm 30a is viewed in plan. It stops in a state located between the two transport rollers 12. At this time, the arms 30a and 30b are in an open state separated from each other.
[0025]
Next, by driving the air cylinder 33, the pair of arms 30a, 30b is lowered via the support 31. Thereby, as shown by a two-dot chain line in FIG. 3, the convex portions 36 of the support members 35 a and 35 b move below the lower surface of the substrate W supported by the support wheels 25 of the transport roller 12. At this time, since the support member 35a is located between the two transport rollers 12 in a plan view, the support member 35a and the transport roller 12 do not interfere.
[0026]
In this state, by driving the air cylinders 32a and 32b, the pair of arms 30a and 30b are moved in directions approaching each other, as shown by a two-dot chain line in FIG. As a result, the convex portions 36 of the support members 35a and 35b enter below the both ends of the substrate W. Then, by driving the air cylinder 33, the pair of arms 30a through the support 31, by increasing the 30b, both end portions of the lower surface support member 35a of the substrate W, Ru is supported by the convex portion 36 of 35b. At this time, since both ends of the substrate W are sandwiched by the support members 35a and 35b attached to the pair of arms 30a and 30b, there is no occurrence of a transport error due to a displacement or the like of the substrate W.
[0027]
Subsequently, the pair of positioning arms 37a, 37b are driven by driving the air cylinders 39a, 39b, and the positioning members 38a, 38b attached to the positioning arms 37a, 37b are moved in directions approaching each other. With this operation, the substrate W is positioned in a direction perpendicular to the direction of conveyance by the conveyance roller 12.
[0028]
Then, the first chuck 16 is moved in the horizontal direction by the drive of the motor 18, thereby transporting the substrate W to a position above the spin chuck 13 in the substrate drying unit 3. Then, the substrate W is placed on the spin chuck 13 by an operation reverse to the above-described operation.
[0029]
In parallel with the process in which the first chuck 16 transports the substrate W from the substrate loading unit 2 to the substrate drying unit 3, the second chuck 17 that moves in synchronization with the first chuck 16 is a first chuck. By performing the same operation as in step 16, the substrate W that has been subjected to the drying process is transported from the substrate drying unit 3 to the substrate unloading unit 4.
[0030]
By repeating the above operation, the substrate W is sequentially transported to the substrate carry-in unit 2, the substrate drying unit 3, and the substrate carry-out unit 4, and the drying process is performed.
[0031]
In the above-described embodiment, the case where the edge of the substrate W is transported while being supported by the support wheel 25 of the transport roller 12 has been described, but the transport roller 12 may transport the substrate W while supporting the entire back surface of the substrate W. Alternatively, an O-ring or the like may be stretched between the transport rollers 12, and the O-ring may be used to support and transport the back surface of the substrate W. Further, it is also possible to carry the substrate W while supporting the back surface of the substrate W with a transport belt instead of the transport roller 12.
[0032]
Further, in the above embodiment, the case where the present invention is applied to the rotary substrate drying apparatus has been described. However, the first transport mechanism for transporting the substrate in the horizontal direction and the substrate transported by the first transport mechanism are used. The present invention can be applied to various types of substrate processing apparatuses having a second transport mechanism for supporting and transporting.
[0033]
【The invention's effect】
According to the first and second aspects of the present invention, the substrate on the first transfer mechanism can be directly supported and transferred by the support member attached to the pair of arms, so that the substrate is moved up and down by the pin. Therefore, it is not necessary to raise the substrate, and the substrate can be reliably transported and positioned. Therefore, even when the substrate to which the processing liquid is adhered is transported, there is no occurrence of a substrate transport error. Also, since the lifting pins do not come into contact with the back surface of the substrate, the substrate is not damaged or damaged.
[0034]
Further , according to the first and second aspects of the present invention, it is possible to transport the substrate with the support member entering between the transport rollers without causing interference between the transport rollers and the support member.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view of a rotary substrate drying apparatus to which a substrate transfer device according to the present invention is applied.
FIG. 2 is a plan view of the substrate loading section 2.
FIG. 3 is a side view of FIG. 2; FIG. 4 is a perspective view showing an outline of a first chuck 16;
[Explanation of symbols]
2 Substrate carry-in section 3 Substrate drying section 4 Substrate carry-out section 5 Substrate transport section 12 Transport roller 16 First chuck 17 Second chuck 18 Motor 24 Motor 25 Support wheels 30a, 30b Arms 32a, 32b Air cylinder 33 Air cylinder 35a 35b Support member 36 Convex part

Claims (2)

基板を水平方向に搬送する第1の搬送機構と、前記第1の搬送機構により搬送された基板を支持して搬送する第2の搬送機構とを有する基板搬送装置であって、
前記第1の搬送機構は、互いに同期して回転する複数の搬送ローラより構成され、
前記第2の搬送機構は、
一対のアームと、
前記各アームに付設され、前記基板の両端部の下面を支持するための支持部材と、
前記支持部材の下端部が前記第1の搬送機構により搬送される基板の下面より上方に位置する第1の位置と第1の搬送機構により搬送される基板の下面より下方に位置する第2の位置との間で、前記一対のアームを上下方向に昇降させる昇降手段と、
前記一対のアームが第2の位置に位置する状態において、前記各アームを、前記搬送ローラによる基板の搬送方向と平行な方向で、かつ、互いに近接する方向に移動させることにより、前記基板を前記支持部材により支持させる移動手段とを備えるとともに、
前記第2の搬送機構は、前記一対のアームのうちの少なくとも一方のアームに付設された支持部材が平面視において前記複数の搬送ローラのうちの隣接する2本のローラの間に位置する状態で、前記支持部材が前記第1の位置と前記第2の位置との間を移動するように、前記一対のアームを上下方向に昇降させることを特徴とする基板搬送装置。
A substrate transport device having a first transport mechanism for transporting a substrate in a horizontal direction, and a second transport mechanism for supporting and transporting the substrate transported by the first transport mechanism,
The first transport mechanism includes a plurality of transport rollers that rotate in synchronization with each other,
The second transport mechanism includes:
A pair of arms,
A support member attached to each of the arms, for supporting lower surfaces of both ends of the substrate,
A first position in which the lower end of the support member is located above the lower surface of the substrate transported by the first transport mechanism, and a second position located below the lower surface of the substrate transported by the first transport mechanism. Lifting means for raising and lowering the pair of arms in a vertical direction,
In a state where the pair of arms is located at the second position, the substrate is moved by moving each arm in a direction parallel to a direction in which the substrate is transported by the transport roller and in a direction close to each other. And moving means for supporting by a support member,
The second transport mechanism is configured such that a support member attached to at least one of the pair of arms is located between two adjacent rollers of the plurality of transport rollers in plan view. A substrate transport apparatus for vertically moving the pair of arms so that the support member moves between the first position and the second position .
基板を水平方向に搬送する第1の搬送機構と、前記第1の搬送機構により搬送された基板を支持して搬送する第2の搬送機構とを有し、前段の処理液を使用した処理工程より、処理液が付着した基板を基板乾燥装置に搬入するための基板搬送装置であって、
前記第1の搬送機構は、互いに同期して回転する複数の搬送ローラより構成され、
前記第2の搬送機構は、
一対のアームと、
前記各アームに付設され、前記基板の両端部の下面を支持するための支持部材と、
前記支持部材の下端部が前記第1の搬送機構により搬送される基板の下面より上方に位置する第1の位置と第1の搬送機構により搬送される基板の下面より下方に位置する第2の位置との間で、前記一対のアームを上下方向に昇降させる昇降手段と、
前記一対のアームが第2の位置に位置する状態において、前記各アームを、前記搬送ローラによる基板の搬送方向と平行な方向で、かつ、互いに近接する方向に移動させることにより、前記基板を前記支持部材により支持させる移動手段とを備えるとともに、
前記第2の搬送機構は、前記一対のアームのうちの少なくとも一方のアームに付設された支持部材が平面視において前記複数の搬送ローラのうちの隣接する2本のローラの間に位置する状態で、前記支持部材が前記第1の位置と前記第2の位置との間を移動するように、前記一対のアームを上下方向に昇降させることを特徴とする基板搬送装置。
A first transport mechanism for transporting the substrate in the horizontal direction, and a second transport mechanism for supporting and transporting the substrate transported by the first transport mechanism, wherein a processing step using a processing liquid in the preceding stage A substrate transport device for carrying a substrate to which a processing liquid is attached to a substrate drying device,
The first transport mechanism includes a plurality of transport rollers that rotate in synchronization with each other,
The second transport mechanism includes:
A pair of arms,
A support member attached to each of the arms, for supporting lower surfaces of both ends of the substrate,
A first position in which the lower end of the support member is located above the lower surface of the substrate transported by the first transport mechanism, and a second position located below the lower surface of the substrate transported by the first transport mechanism. Lifting means for raising and lowering the pair of arms in a vertical direction,
In a state where the pair of arms is located at the second position, the substrate is moved by moving each arm in a direction parallel to a direction in which the substrate is transported by the transport roller and in a direction close to each other. And moving means for supporting by a support member,
The second transport mechanism is configured such that a support member attached to at least one of the pair of arms is located between two adjacent rollers of the plurality of transport rollers in plan view. A substrate transport apparatus for vertically moving the pair of arms so that the support member moves between the first position and the second position .
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