JPH1094756A - 超音波励振装置及びこれを具備した超音波洗浄装置 - Google Patents

超音波励振装置及びこれを具備した超音波洗浄装置

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JPH1094756A
JPH1094756A JP11335697A JP11335697A JPH1094756A JP H1094756 A JPH1094756 A JP H1094756A JP 11335697 A JP11335697 A JP 11335697A JP 11335697 A JP11335697 A JP 11335697A JP H1094756 A JPH1094756 A JP H1094756A
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ultrasonic vibration
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Katsuhiro Koyama
克宏 小山
Yoshiki Hashimoto
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 洗浄用流体が減少した際の空焚きを確実に防
止した超音波洗浄装置及び超音波励振装置を提供するこ
と。 【解決手段】 減少が想定される洗浄用流体に相応した
音響インピーダンスを有する導波体を設け、以て、上記
の効果を得ている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば工業用とし
てシリコンウェーハ等の洗浄に供されて好適で特に駆動
周波数を約500KHz以上とした超音波励振装置に関
し、又、該装置を具備した超音波洗浄装置に関する。
【0002】
【従来の技術】かかる高い周波数帯域を利用した超音波
洗浄装置は、サブミクロンのパーティクル(parti
cle)の除去が可能である点、キャビテーションが発
生しないために被洗浄物へのダメージがない点、波長が
短いために定在波の影響がなく斑のない洗浄効果が得ら
れる点等々、超精密洗浄を可能とすることから従来より
開発が進められ、実用段階に入って久しい。
【0003】従来、この種の超音波洗浄装置として、図
10に示す洗浄槽タイプのものが知られている。
【0004】図示のように、当該超音波洗浄装置は、洗
浄用流体として例えば純水101を貯留すると共に被洗
浄物を収容し得る処理槽103と、該処理槽103の底
部に装着、例えば接着された振動子105とを備えてい
る。
【0005】上記振動子105はPZT(piezoe
lectric:圧電)素子等からなり、図示しない発
振器によって所定周波数の電圧を印加され、この周波数
の超音波振動を発する。該超音波振動によって純水10
1が励振され、該純水101中に浸漬されている被洗浄
物、例えばシリコンウェーハ(図示せず)が洗浄され
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述した超音波洗浄装
置は、これを使用することによって超精密洗浄を可能と
するものであり、例えば半導体産業において多用されて
いる。ところが、従来の装置では下記の問題を擁してい
る。
【0007】すなわち、処理槽103内の純水101が
何等かの原因により不足してその液面が大きく下がって
しまうことが想定される。この場合、振動子105の上
方に外部負荷としての純水101が存在しないことか
ら、装置全体としての音響インピーダンスがその分低下
し、その結果、当該超音波洗浄装置の実効出力が著しく
増大することが懸念される。
【0008】つまり、振動子105の振幅が大きくなっ
て発熱量が増え、加熱し、熱による不都合を来す虞があ
る。具体的には、振動子105を処理槽103の底面に
固着している接着剤が劣化して剥離したり、該振動子1
05自体が割れを生ずること等である。このような事象
を空焚きと称している。
【0009】上述した実効出力増大の作用は、次の式か
ら明らかである。 Pa=Va2/Rma Rma=Rma1+Rma2 但し、Pa:実効出力 Va:印加電圧(一定) Rma:洗浄装置全体(純水101を含む)としての音
響インピーダンス Rma1:振動子105の音響インピーダンス Rma2:純水101の音響インピーダンス
【0010】なお、現状では、上記の空焚き状態を防止
するために、純水101の液位を監視するセンサー等の
インターロック設備を付設し、以て、液面が下がったと
きに発振器(図示せず)の作動を停止せしめることを行
っている。しかし、コスト面もさる事ながら、該インタ
ーロック設備そのものの故障の可能性を考えれば必ずし
も確実ではなく、更にはその保守も煩雑であるという問
題を擁している。
【0011】本発明は上記した点に鑑みてなされたもの
であって、その目的とするところは、洗浄用流体が減少
した際の実効出力の増大を確実に抑え得、且つ、保守な
どもほとんど必要としない超音波洗浄装置を提供するこ
と、又、該超音波洗浄装置に装備されるべき超音波励振
装置を提供することである。
【0012】また、本発明は、該超音波励振装置につい
て、更に他の効果をも奏し得るものを提供する。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明に係る装着タイプのの超音波励振装置は、
約500KHz以上の超音波振動を発する振動子と、該
振動子に結合されて超音波振動を導く導波体とを有し、
該導波体は、前記超音波振動の進行方向における寸法が
該超音波振動の半波長の略整数倍に設定され、前記振動
子、導波体及び外部負荷の各音響インピーダンスを夫々
Rm1、Rm2及びRm3としたときに次式を満足するよ
うに設定されているものである。 Rm1<Rm2<Rm3 また、同目的達成のため、本発明に係る洗浄槽タイプの
超音波洗浄装置は、洗浄用流体を貯留する処理層と、該
流体を励振する超音波励振装置とを備え、該超音波励振
装置は、約500KHz以上の超音波振動を発する振動
子と、該振動子に結合されて超音波振動を導く導波体と
を有し、該導波体は、前記超音波振動の進行方向におけ
る寸法が該超音波振動の半波長の略整数倍に設定され、
前記振動子、導波体及び流体の各音響インピーダンスを
夫々Rm1、Rm2及びRm3としたときに次式を満足す
るように設定されている。 Rm1<Rm2<Rm3 また、同じく、本発明に係るノズルシャワータイプの超
音波洗浄装置は、洗浄用流体をノズルを通じて供給する
シャワー装置と、該流体に超音波振動を付与する超音波
励振装置とを備え、該超音波励振装置は、約500KH
z以上の超音波振動を発する振動子と、該振動子に結合
されて超音波振動を導く導波体とを有し、該導波体は、
前記超音波振動の進行方向における寸法が該超音波振動
の半波長の略整数倍に設定され、前記振動子、導波体及
び流体の各音響インピーダンスを夫々Rm1、Rm2及び
Rm3としたときに次式を満足するように設定されてい
る。 Rm1<Rm2<Rm3 更に、同様に、本発明に係る投入タイプの超音波励振装
置は、約500KHz以上の超音波振動を発する振動子
と、該振動子に結合されて超音波振動を導く導波体と、
該振動子を囲繞する密閉ケースとを備え、該導波体は、
前記超音波振動の進行方向における寸法が該超音波振動
の半波長の略整数倍に設定され、前記振動子、導波体及
び外部負荷の各音響インピーダンスを夫々Rm1、Rm2
及びRm3としたときに次式を満足するように設定され
ている。 Rm1<Rm2<Rm3 加えて、上記装着タイプの超音波励振装置について、更
に他の種々の効果を得るために、下記の各構成が採用さ
れている。すなわち、前記超音波励振装置においては、
前記導波体の前記超音波振動の進行方向に対して直角な
方向における寸法が、該超音波振動の1波長の略3分の
1以上に設定されている。また、前記超音波励振装置で
は、前記導波体が、ジュラルミンを素材としてなる。ま
た、前記超音波励振装置においては、前記導波体を冷却
する冷却手段を有している。更に、前記超音波励振装置
では、前記冷却手段が、前記導波体に形成された貫通孔
と、該貫通孔に冷却流体を供給する供給手段とからな
る。
【0014】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施例を、添付図
面を参照しながら説明する。
【0015】まず、本発明に係る第1実施例としての洗
浄槽タイプの超音波洗浄装置(超音波励振装置を含む)
を、図1乃至図3に基づいて説明する。
【0016】図1に示すように、当該超音波洗浄装置
は、洗浄用流体として例えば純水1を貯留すると共に被
洗浄物を収容し得る処理槽3と、該処理槽3の底部に装
着された超音波振動発生部5とを備えている。
【0017】図2にも示すように、上記超音波振動発生
部5は、矩形板状に形成された振動子7と、略直方体状
に形成されてその片面にて該振動子7に接着剤等をもっ
て結合された導波体9とを有している。図1に示すよう
に、該超音波振動発生部5は、該導波体9が接液するよ
うに上側となされ、且つ、処理槽3の底部に形成された
開口部3aに挿通されている。そして、該導波体9の全
周に亘ってフランジ部9aが形成され、該フランジ部9
aと処理槽3の底部との間に液密作用と吸振作用をなす
パッキン14が介装されている。
【0018】上記振動子7は、図1に示す発振器12に
よって所定周波数の電圧を印加され、この周波数の超音
波振動を発する。導波体9は、この超音波振動に共振
し、純水1に導く作用をなす。該駆動周波数は極く高
く、具体的には約500KHz以上、例えば1MHzに
設定される。該振動子7及び導波体9からなる超音波振
動発生部5と、該発振器12とを、超音波励振装置と総
称する。
【0019】なお、本実施例の場合、導波体9は振動子
7からの超音波振動を純水1に伝達するのみにて、機械
的に増幅する作用はなさないが、形状等を適宜変えるこ
とで増幅機能をもたせてもよい。
【0020】上記導波体9の材質としてはジュラルミン
やステンレス鋼(SUS)が用いられる。本実施例の場
合、より好ましい例としてジュラルミンを使用するもの
とする。前述したように、該導波体9は振動子7から発
せられる超音波振動に共振する必要があることから、そ
の厚みH(図2参照)、すなわち、振動子7より発せら
れる超音波振動の進行方向における寸法が、該超音波振
動の半波長の略整数倍、理想的にはちょうど整数倍とな
されている。
【0021】ここで、上記半波長:λ/2は次のように
算出される。 λ/2=C/2f 但し、λ:1波長 C:ジュラルミンの音速=5.15×105mm f:周波数=106 故に、λ/2=2.6mmである。
【0022】上記厚みHは、本実施例では53mmに設
定されている。つまり、半波長λ/2(約2.6mm)
の約20倍となされている。発明者は、このように高い
周波数帯域の超音波振動によれば、導波体での超音波エ
ネルギーの浪費が少ないことを実験等にて見いだし、こ
れに着目してこの周波数帯域で導波体9の厚みHを上記
のように大きく設定した。このように厚みを大きくする
ことで、該導波体9が比較的大きな音響インピーダンス
を有することとなり、後述する作用効果が得られる。こ
の厚みHの値は、その上方に存在する外部負荷としての
純水1が有する音響インピーダンスとの関係や、伝達す
べき超音波エネルギーの大きさ等に応じて任意に変えら
れる。因に、従来、当業者間では、かかる高い周波数帯
域にては超音波エネルギーの浪費、つまり発熱量が大き
く、例えば半波長の2〜3倍の厚みとすることが限度で
あると常識的に認識されていた。
【0023】なお、導波体9の厚みHをこのように大き
くできたことは、上記の如き高い周波数帯域の超音波振
動を採用したことが最も大きな要因であるが、他の要因
として、導波体9の素材をジュラルミンとしたことも挙
げられる。
【0024】つまり、ジュラルミンは、その密度(ρ)
が約2.8g/cm3で、鉄やステンレス鋼と比較する
と約1/3であり、高い周波数の超音波振動に対して大
変ロスの少ない材質であることによる。但し、ジュラル
ミンの他に、導波体として適用可能にして同等又はそれ
以下の密度の材質であれば望ましいことは勿論である。
【0025】ところで、導波体9について、上記振動子
7からの超音波振動の進行方向(上記厚みHの方向)に
対して直角な方向における寸法、すなわち、長さL及び
幅W(共に図1に図示)については各々、136mm、
40mmに設定されている。この数値は、上記1波長λ
を単位として換算すると夫々、約53λ、約16λに相
当する。このことは、次のような意味を持つ。
【0026】すなわち、例えば約20KHzのように、
比較的低い周波数帯を使用するものと仮定すると、上記
長さL及び幅Wに関して、導波体9のポアソン(poi
sson)比の影響に基づく横振動の発生を抑えるべ
く、λ/3以下に設定するか、又、これらの寸法を大き
くせざるを得ないものについてはλ/3以下のピッチに
てスリットを形成して、あたかもλ/3以下の寸法の小
さな導波体が互いに振動の影響を及ぼし合わないように
結合したような形態をとる必要がある。これは、無用な
横振動が発生することによって該導波体自体で振動エネ
ルギーが無駄に消費されぬようにすると共に、横振動が
伴わないきれいな縦振動を純水1に付与するためであ
る。
【0027】発明者は、実験及びその結果の解析に基づ
き、本発明で用いられる約500KHz以上の周波数帯
においては上記のようなポアソン比の悪影響、つまり、
横振動の発生がないことに想い至った。つまり、導波体
9の長さL及び幅Wについて、理論的には、スリットを
形成することなく無制限に大きくしようとも横振動は乗
らずに常に縦振動のみが発生することである。よって、
被洗浄物や上記処理槽3の容量の大きさ等に応じて任意
に可変である。
【0028】一方、上記導波体9を励振せしめる振動子
7に関しては次のように構成されている。
【0029】図2から明らかなように、該振動子7の長
さ及び幅は、導波体9の長さL、幅Wとほぼ等しくなさ
れている。そして、厚みtは例えば約2mmに設定され
ている。
【0030】図3は、上記振動子7及び導波体9の相互
結合部の一部を拡大して示すものであるが、この図から
明らかなように、振動子7は、PZT(piezoel
ectric:圧電)素子16(細かな点によるハッチ
ングで示している)と、該PZT素子16の上下両面に
全面に亘って貼着された電極板17及び18とを有して
いる。該PZT素子16は、チタン酸バリウム系やチタ
ン酸ジルコン酸鉛系の圧電セラミックスからなり、該電
極板17、18については、例えば銅版の表面に銀めっ
き等を施してなる。
【0031】同じく図3に示すように、該PZT素子1
6と上側の電極板17の一つの角部が切除されており、
この切除部分で下側の電極板18が上側に折り返され、
該折返し部18aが上側の電極板17と面一となされて
いる。そして、該折返し部18aと上側の電極板7との
間に弧状の隙間20が設けられ、相互に接触しないよう
になされている。
【0032】上記の構成に基づき、図1及び図2から明
らかなように、発振器12(図1参照)からの給電用ケ
ーブル22(図1参照)に含まれるプラス、マイナスの
2条の送電ワイヤ22a、22bのいずれか一方ずつが
上記上側電極板17の所要部位、折返し部18a(下側
電極18)に接続されている。
【0033】なお、図1と図2に示すように、発振器1
2からの給電用ケーブル22は、導波体9の端部に設け
られた小ブラケット23上のソケット25を通じて上記
送電ワイヤ22a、22bに分岐される。
【0034】上述した構成の超音波洗浄装置において
は、図1に示す発振器12より印加される高周波の電圧
により振動子7が励振され、超音波振動が発せられる。
そして、この超音波振動は導波体9を介して純水1に伝
達され、該純水中に浸漬されている被洗浄物、例えばシ
リコンウェーハ等(図示せず)が洗浄される。
【0035】ここで、上記導波体9の厚みHを前述のよ
うに大きくしてその音響インピーダンスを比較的大きく
設定した点に関して詳述する。
【0036】導波体9の音響インピーダンスは、具体的
には次のように設定されている。
【0037】すなわち、上記振動子7、該導波体9、外
部負荷として該導波体9の上方に存在する純水1の各音
響インピーダンスを夫々Rm1、Rm2及びRm3とした
ときに次式を満足するように設定されている。 Rm1<Rm2<Rm3・・・(1) この構成は、下記の事態を想定して採られたものであ
る。
【0038】つまり、通常は純水1の液面1aが、洗浄
を行うに足る所定位置に達している状態にあるが、何等
かの原因によって純水1が不足して液面1aが図1で二
点鎖線にて示す位置、つまり、導波体9の上面よりも下
に下がってしまうことが考えられる。この場合、導波体
9の上方に外部負荷としての純水1が存在しないことか
ら、洗浄装置全体としての音響インピーダンスがその分
低下し、当該超音波洗浄装置の実効出力が増大する。
【0039】該実効出力を記号Pで表すと、振動体7に
印加される電圧V(一定)と当該洗浄装置全体(純水1
を含む)としての音響インピーダンスRmとの関係が次
式で示される。 P=V2/Rm・・・(2) ここで、 Rm=Rm1+Rm2+Rm3・・・(3)
【0040】上記の各式(1)、(2)、(3)から明
らかなように、本実施例の如く上記導波体9の音響イン
ピーダンスRm2を所要の大きさに設定しておくことに
より、純水1が無くなってその音響インピーダンスRm
3がほとんどゼロになろうとも、実効出力Pはそれほど
増大しない。
【0041】従って、空焚き状態、すなわち、振動子7
の振幅が大きくなることによる発熱が抑えられ、振動子
7を導波体9に固着している接着剤が熱により劣化して
剥離することや、該振動子7自体が熱によって割れを生
ずる事態が防止される。因に、該振動子7が有する上記
PZT素子16の材質では、例えば150℃程度までは
耐えられ、これ以上に加熱されることは好ましくないと
されている。
【0042】また、かかる構成では、空焚き防止のため
に従来設けられていたセンサー等のインターロック設備
は無用であるから、該インターロック設備の故障に基づ
く空焚きの可能性も払拭され、保守などもほとんど必要
とせず、実用上極めて有用である。但し、純水1が減っ
てしまったことを作業者に知らしめるための警報用ブザ
ー又はランプなどは設けておくことが望ましい。
【0043】更に、上記構成によれば、上記導波体9に
ついて、その音響インピーダンスを、外部負荷たる純水
1及び振動子7の各音響インピーダンスの中間値に設定
し(上記式[1]参照)、以て、その寸法を無用に大き
くすること無く必要最小限としている。故に、装置の小
型化が図られる。
【0044】ところで、当該超音波洗浄装置において
は、上述の構成に、更に以下の構成が付加されている。
【0045】つまり、上記導波体9を冷却する手段であ
り、下記のように構成されている。
【0046】図1及び図2に示すように、導波体9、具
体的にはそのフランジ部9aに、例えば該導波体9の長
手方向に沿う2条の貫通孔9cが形成されている。これ
らの貫通孔9cは、その両端にニップル28a、28b
が螺合され、片側のニップル28aにつながれた2本の
チューブ30を通じて冷却流体として例えば純水が供給
される。そして、他側のニップル28bに、冷却に供さ
れた後の純水を排出するために2本のチューブ31が接
続されている。
【0047】なお、給水側の各チューブ30は分配ソケ
ット33から分岐し、より太いホース34を経て給水源
より供給される純水を導き、排水側のチューブ31は同
様のソケット36にてまとめられて他のホース37に排
水する。この排水側のチューブ31は設けずともよく、
その場合、貫通孔9cから排出される純水は処理槽3内
に注がれ、該処理槽3の上縁からいわゆるオーバーフロ
ー方式にて徐々に排水する際に他の給水設備を設ける必
要がなく、好適である。
【0048】かかる冷却手段は、上記導波体9が自ら共
振することによって、高熱とはならないながらもある程
度は熱を帯びることに対して設けられたものであり、振
動子7に悪影響を与える熱を可能な限り除去することを
目的としている。
【0049】この冷却の構成について、どの程度の効果
が得られるかを実験により確認したので、その結果を図
4に示す。この実験は、前述した構成の超音波励振装置
(振動子7と導波体9の結合体及び発振器12)を処理
槽3から外してそのまま用い、室温(18℃)にて行っ
た。導波体9に形成された貫通孔9cに通す冷却流体と
しては市水を用いた。
【0050】図4に示すように、1分間当たり400c
c又は800ccの冷却水を供給する場合について電力
を100W、200Wと切り換えて2回ずつ行い、冷却
水を全く流さない場合について100Wをかけて1回行
った。測定した部位は、図2において参照符号40で示
す位置である。
【0051】上記の結果から、給水をなさないときは約
70℃(室温18℃+測定値52℃)に達し、冷却水を
供給したときには高くとも37℃までの上昇に留まっ
た。
【0052】なお、冷却用の構成は、上述の冷却水を用
いた構成に限らず、例えば、導波体9にフィンを形成す
るなど種々のものが考えられ、且つ適用可能である。但
し、冷却水を使用する上記構成のものでは、構成が比較
的簡単であり、しかも、冷却効果が大きい。
【0053】
【実施例】続いて、上記第1実施例のものと同様の実効
出力増大抑止効果等を奏し得る、第2実施例としてのノ
ズルシャワータイプの超音波洗浄装置を、図5及び図6
に基づいて説明する。但し、この第2実施例に関し、上
述した第1実施例の超音波洗浄装置の構成部分と同一又
は対応する構成部分については同じ参照符号を用いて示
し、該部分についての説明は重複する故に省略し、要部
のみの説明に止める。この点は後述する第3実施例の説
明に関しても同様である。
【0054】図5及び図6に示すように、当該超音波洗
浄装置では、そのカバー45内に超音波振動発生部5が
内蔵されている。このカバー45の内部空間は隔壁45
aによって上下2層に隔てられ、該超音波振動発生部5
が含む振動子7が上層47側に、又、下層48側に導波
体9が位置せしめられている。隔壁45aと導波体9と
の間にはパッキン14が介装され、このパッキン14は
該上層47側の液密性を確保すると共に吸振作用をな
す。
【0055】上記下層48には、カバー45の側部に設
けられたソケット50を通じて洗浄用流体である純水1
が連続的に注入され、この注入された純水1に対し、上
記導波体9より超音波振動が付与される。
【0056】超音波振動が乗せられた純水1は、矢印F
にて示すように、カバー45に設けられたノズル45b
を通じてシャワーとして供給される。該ノズル45bを
含むカバー45と、該カバー45内に純水1を連続的に
供給するポンプ等(図示せず)とを、シャワー装置と総
称する。
【0057】かかる構成の超音波洗浄装置においては、
被洗浄物としての例えばシリコンウェーハが上記のシャ
ワーに曝され、洗浄される。
【0058】当該超音波洗浄装置においても、当該洗浄
装置全体(純水1を含む)の音響インピーダンスをRm
とし、振動子7、導波体9、純水1の各音響インピーダ
ンスを夫々Rm1、Rm2、Rm3としたときに、前述の
各式(1)、(2)、(3)を満足するようになされて
いる。
【0059】つまり、当該超音波洗浄装置の場合、何ら
かの原因によって上記純水1が供給されない場合は勿論
のこと、図5及び図6に示すように導波体9の下面、す
なわち発振面に沿って泡53が溜まってしまったときも
外部負荷としての純水1の音響インピーダンスRm3
ほとんどゼロの状態となる。そこで、導波体9の音響イ
ンピーダンスRm2を所定の大きさになし、上述の各式
を満たす設定をなすことで、実効出力の増大を抑えてい
る。
【0060】次に、上記第1及び第2実施例のものと同
様に実効出力増大抑止効果が得られる第3実施例として
の投入タイプの超音波励振装置を、図7に基づいて説明
する。
【0061】図示のように、当該超音波励振装置におい
ては、振動子7及び導波体9からなる超音波振動発生部
5の下半部分、すなわち、振動子7を含む部分を、液密
性を有する密閉ケース55で囲繞してなる。該導波体9
の発振面は該ケース外に露出している。
【0062】この超音波励振装置は、図示のように処理
槽3に満たされた例えば純水1中に投入されて使用され
る。つまり、被洗浄物としてのシリコンウェーハ等がこ
の純水1に浸漬され、導波体9を通じて発せられる超音
波振動によって該純水1が励振されることで洗浄され
る。
【0063】当該超音波励振装置においても、振動子
7、導波体9及び純水1の各音響インピーダンスをRm
1、Rm2、Rm3としたときに、前述の各式(1)、
(2)及び(3)を満足するようになされている。
【0064】すなわち、第1実施例と同様に、何かの不
都合で処理槽3内の純水1がほとんど無くなってしまっ
た場合、該純水の音響インピーダンスRm3がゼロとな
る。よって、導波体9の音響インピーダンスRm2を所
要値に設定し、且つ上記各式を満たすようになし、以
て、実効出力の増大を抑止している。
【0065】なお、上述した各実施例においては、導波
体9について、そのフランジ部9aを超音波振動の進行
方向における略中央に形成しているが、この他、図8、
図9に示すように上端及びその近傍に設けるなど、必要
に応じてその位置を変えることが行われる。
【0066】また、図示した導波体9は略直方体状に形
成されているが、この他、例えば円盤上など、設置され
るスペースの形態等に応じて種々の形状が選択されるの
は勿論である。
【0067】更に、各実施例においては、洗浄用流体と
して純水を用いているが、洗浄対象に適した流体が適宜
選定される。
【0068】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
洗浄用流体が減少した際でも、導波体が有する音響イン
ピーダンスによって実効出力の増大、すなわち空焚き状
態が抑えられ、振動子の剥離や割れを防止することがで
きる。また、かかる構成では、空焚き防止のために従来
設けられていたセンサー等のインターロック設備は無用
であるから、該インターロック設備の故障に基づく空焚
きの可能性も無く、保守などもほとんど必要とせず、実
用上極めて有用である。更に、上記導波体について、そ
の音響インピーダンスを、外部負荷たる洗浄用流体及び
振動子の各音響インピーダンスの中間値に設定し、以
て、その寸法を無用に大きくすることなく必要最小限と
している。故に、装置の小型化が図られる。また、約5
00KH以上の高い周波数帯域を使用しているため、エ
ロージョンが生じず、半永久的に使用できるものであ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の第1実施例である洗浄槽タイ
プの超音波洗浄装置の縦断面図である。
【図2】図2は、図1に示した超音波洗浄装置が具備す
る超音波振動発生部の、一部断面を含む斜視図である。
【図3】図3は、図2に示した超音波振動発生部の一部
の拡大図である。
【図4】図4は、図2に示した超音波振動発生部が含む
導波体について、これを冷却する実験を行った結果を示
す図である。
【図5】図5は、本発明の第2実施例であるノズルシャ
ワータイプの超音波洗浄装置の、一部断面を含む正面図
である。
【図6】図6は、図5に示した超音波洗浄装置の、一部
断面を含む側面図である。
【図7】図7は、本発明の第3実施例としての超音波励
振装置を処理槽の中に投入した状態を示す縦断面図であ
る。
【図8】図8は、導波体の変形例を示す、一部断面を含
む斜視図である。
【図9】図9は、導波体の他の変形例を示す、一部断面
を含む斜視図である。
【図10】図10は、従来の超音波洗浄装置の縦断面図
である。
【符号の説明】
1 純水(洗浄用流体) 3 処理槽 5 超音波振動発生部 7 振動子 9 導波体 9a (導波体9のフランジ部) 9c (導波体9の貫通孔) 12 発振器 16 PZT素子 17、18 電極板 22 給電用ケーブル 45 カバー 45b ノズル 55 密閉ケース

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 約500KHz以上の超音波振動を発す
    る振動子と、 該振動子に結合されて超音波振動を導く導波体とを有す
    る超音波励振装置であって、 前記導波体は、前記超音波振動の進行方向における寸法
    が該超音波振動の半波長の略整数倍に設定され、 前記振動子、導波体及び外部負荷の各音響インピーダン
    スを夫々Rm1、Rm2及びRm3としたときに次式を満
    足するように設定されていることを特徴とする超音波励
    振装置。 Rm1<Rm2<Rm3
  2. 【請求項2】 前記導波体の前記超音波振動の進行方向
    に対して直角な方向における寸法が、該超音波振動の1
    波長の略3分の1以上に設定されていることを特徴とす
    る請求項1記載の超音波励振装置。
  3. 【請求項3】 前記導波体は、ジュラルミンを素材とし
    てなることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の超
    音波励振装置。
  4. 【請求項4】 前記導波体を冷却する冷却手段を有する
    ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のうちいずれか
    1記載の超音波励振装置。
  5. 【請求項5】 前記冷却手段は、前記導波体に形成され
    た貫通孔と、該貫通孔に冷却流体を供給する供給手段と
    からなることを特徴とする請求項4記載の超音波励振装
    置。
  6. 【請求項6】 洗浄用流体を貯留する処理槽と、 該流体を励振する超音波励振装置とを備えた超音波洗浄
    装置であって、 該超音波励振装置は、約500KHz以上の超音波振動
    を発する振動子と、 該振動子に結合されて超音波振動を導く導波体とを有
    し、 該導波体は、前記超音波振動の進行方向における寸法が
    該超音波振動の半波長の略整数倍に設定され、 前記振動子、導波体及び流体の各音響インピーダンスを
    夫々Rm1、Rm2及びRm3としたときに次式を満足す
    るように設定されていることを特徴とする超音波洗浄装
    置。 Rm1<Rm2<Rm3
  7. 【請求項7】 洗浄用流体をノズルを通じて供給するシ
    ャワー装置と、 該流体に超音波振動を付与する超音波励振装置とを備え
    た超音波洗浄装置であって、 該超音波励振装置は、約500KHz以上の超音波振動
    を発する振動子と、 該振動子に結合されて超音波振動を導く導波体とを有
    し、 該導波体は、前記超音波振動の進行方向における寸法が
    該超音波振動の半波長の略整数倍に設定され前記振動
    子、導波体及び流体の各音響インピーダンスを夫々Rm
    1、Rm2及びRm3としたときに次式を満足するように
    設定されていることを特徴とする超音波洗浄装置。 Rm1<Rm2<Rm3
  8. 【請求項8】 約500KHz以上の超音波振動を発す
    る振動子と、 該振動子に結合されて超音波振動を導く導波体と、 該振動子を囲繞する密閉ケースとを備えた超音波励振装
    置であって、 前記導波体は、前記超音波振動の進行方向における寸法
    が該超音波振動の半波長の略整数倍に設定され前記振動
    子、導波体及び外部負荷の各音響インピーダンスを夫々
    Rm1、Rm2及びRm3としたときに次式を満足するよ
    うに設定されていることを特徴とする超音波励振装置。 Rm1<Rm2<Rm3
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