JPH1093181A - 半導体レーザ制御装置 - Google Patents

半導体レーザ制御装置

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JPH1093181A
JPH1093181A JP15200797A JP15200797A JPH1093181A JP H1093181 A JPH1093181 A JP H1093181A JP 15200797 A JP15200797 A JP 15200797A JP 15200797 A JP15200797 A JP 15200797A JP H1093181 A JPH1093181 A JP H1093181A
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width modulation
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JP15200797A
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Masaaki Ishida
雅章 石田
Hidetoshi Ema
秀利 江間
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Ricoh Co Ltd
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Ricoh Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 全体構成の1チップ化を実現するための有利
な構成を明らかにする。 【解決手段】 例えば、パルス幅変調・強度変調信号生
成部11中の発光指令信号生成部22の電流は直流的に
は受光素子2のモニタ電流であるので、集積回路20の
内部の温度変化の影響を受けない電流とするため、発光
指令信号生成部22の電流値を設定する外付け素子を備
え、この外付け素子を調整することにより半導体レーザ
1及び受光素子2の特性に合わせて所望の光出力が得ら
れるようにモニタ電流を安定させることが可能となり、
支障なく全体の集積化を図れる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザプリンタ、
デジタル複写機、光ディスク装置、光通信装置等におけ
る光源として用いられる半導体レーザを駆動制御するた
めの半導体レーザ制御装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体レーザは極めて小型であって、か
つ、駆動電流により高速に直接変調を行うことができる
ので、近年、レーザプリンタ等の光源として広く使用さ
れている。
【0003】しかし、半導体レーザの駆動電流と光出力
との関係は、温度により著しく変化するので、半導体レ
ーザの光強度を所望の値に設定しようとする場合に問題
となる。この問題を解決して半導体レーザの利点を活か
すために、従来、様々なAPC(Automatic Power C
ontrol)回路が提案されている。
【0004】このAPC回路は以下の〜の3つの方
式に大別される。 半導体レーザの光出力を受光素子によりモニタし、
この受光素子に発生する半導体レーザの光出力に比例す
る受光電流に比例する信号と、発光レベル指令信号とが
等しくなるように、常時、半導体レーザの順方向電流を
制御する光・電気負帰還ループにより半導体レーザの光
出力を所望の値に制御する方式。 パワー設定期間内には半導体レーザの光出力を受光
素子によりモニタし、この受光素子に発生する受光電流
(半導体レーザの光出力に比例する)に比例する信号
と、発光レベル指令信号とが等しくなるように半導体レ
ーザの順方向電流を制御し、パワー設定期間外にはパワ
ー設定期間中に設定した半導体レーザの順方向の値を保
持することにより、半導体レーザの光出力を所望の値に
制御するとともに、パワー設定期間外にはパワー設定期
間中に設定した半導体レーザの順方向電流を情報に基づ
いて変調することにより半導体レーザの光出力に情報を
載せる方式。 半導体レーザの温度を測定し、その測定した温度信
号によって半導体レーザの順方向電流を制御したり、又
は、半導体レーザの温度を一定とするように制御するこ
とで、半導体レーザの光出力を所望の値に制御する方
式。
【0005】半導体レーザの光出力を所望の値とするた
めには、の方式が望ましい。しかし、受光素子の動作
速度や、光・電気負帰還ループを構成している増幅素子
の動作速度等の限界により制御速度に限界が生じる。例
えば、制御速度の目安として、光・電気負帰還ループの
開ループでの交叉周波数を考慮した場合、この交叉周波
数をf0 としたとき、半導体レーザの光出力のステップ
応答特性は、 Pout =P0{1−exp(−2πf0t)} Pout ;半導体レーザの光出力 P0 ;半導体レーザの設定された光強度 t ;時間 により近似される。
【0006】半導体レーザの多くの使用目的では、半導
体レーザの光出力を変化させた直後から、設定された時
間τ0 が経過するまでの全光量(光出力の積分値∫P
out・dt)が所定の値となることが必要とされ、 ∫Pout ・dt=P0・τ0{1−(1/2πf0τ0 )
[1−exp(−2πf0τ0 )]} のような式で表される。
【0007】仮に、τ0 =50ns、誤差の許容範囲を
0.4%とした場合、f0 >800MHzとしなければ
ならず、これは極めて困難である。
【0008】また、の方式では、の方式による上記
のような問題は発生せず、半導体レーザを高速に変調す
ることが可能であるので多用されている。しかし、この
の方式によると、半導体レーザの光出力を常時制御し
ている訳ではないので、外乱等により容易に半導体レー
ザの光量変動を生じてしまう。外乱としては、例えば、
半導体レーザのドゥループ特性があり、半導体レーザの
光量はこのドゥループ特性により容易に数%程度の誤差
を生じてしまう。半導体レーザのドゥループ特性を抑制
する試みとして、半導体レーザの熱時定数に半導体レー
ザ駆動電流の周波数特性を合わせて補償する方法などが
提案されているが、半導体レーザの熱時定数は各半導体
レーザ毎に個別にばらつきがあり、また、半導体レーザ
の周囲環境により異なる等の問題がある。
【0009】このような点を考慮した改良方式が、例え
ば、特開平2−205086号公報により提案されてい
る。同公報によれば、図17に示すように、半導体レー
ザ1の光出力を受光素子2によりモニタし、その出力と
発光レベル指令信号(DATA)とが等しくなるように、常
時、半導体レーザ1の順方向電流を制御する光・電気負
帰還ループ3と、発光レベル指令信号(DATA)を半導体
レーザ1の順方向電流に変換する電流駆動部4とを有
し、光・電気負帰還ループ3の制御電流と電流駆動部4
により生成された駆動電流の和(又は、差)の電流によ
って半導体レーザ1の光出力を制御する方式が開示され
ている。図示例では、前記光・電気負帰還ループ3は半
導体レーザ1と受光素子2とIDA1 なる定電流源5と反
転増幅器6とにより構成され、この反転増幅器6の出力
により、抵抗Re とともに半導体レーザ1に直列に接続
された駆動トランジスタ7を駆動制御するように構成さ
れている。また、電流駆動部4はIDA2 なる定電流源8
により構成されている。
【0010】これによれば、半導体レーザ1を電流駆動
部4により直接駆動する電流に相当する光出力をPS
した場合、半導体レーザ1の光出力のステップ応答特性
は、 Pout =P0 +(PS −P0 ){1−exp(−2πf0
)} で近似される。PS ≒P0 であれば、瞬時に半導体レー
ザの光出力がP0 に等しくなるので、f0 の値は光・電
気負帰還ループ3のみの場合に比べて小さくてよい。図
18(a)が光・電気負帰還ループ3のみによる場合の
光出力の変化の様子を示すのに対し、図18(b)は電
流駆動部4による定電流分IDA2 が付加された場合の光
出力の変化の様子を示す。現実的には、f0 =40MH
z程度であればよく、この程度の交叉周波数であれば容
易に実現できる。
【0011】次に、レーザプリンタを例に採り、1ドッ
ト多値化技術の経緯について説明する。レーザプリンタ
は、当初、ラインプリンタに代わるノンインパクトプリ
ンタとして開発されたが、レーザプリンタの高速高解像
性からイメージプリンタとしての適用が早くから検討さ
れ、ディザ法をベースとした様々な記録方法が実用化さ
れている。また、近年の半導体技術の急速な進展によ
り、処理可能な情報量が急速に増大し、レーザプリンタ
においては、1ドット多値化技術が実用化され、より確
実にイメージプリンタとしての地位を固めつつある。し
かしながら、現行の多値化レベルはハイエンド機におい
ては8ビット相当の出力レベルを備えているが、ローエ
ンド機では高々数値程度に抑えられている。これは、一
因としては情報量の多さもあるが、主として、1ドット
多値化出力を実現する半導体レーザ制御変調部の回路規
模が大きく高価であることによる。
【0012】現在、1ドット多値化出力を行う半導体レ
ーザ制御変調方式としては、 A.光強度変調方式 B.パルス幅変調方式 C.パルス幅強度混合変調方式 が提案されている。
【0013】A.光強度変調方式(PM=Power Modu
lation) 光出力自身を変化させて記録する方式であり、中間露光
領域を利用して中間調記録を実現するため、印字プロセ
スの安定化が重要な要件であり、印字プロセスに対する
要求が厳しくなる。しかしながら、半導体レーザの制御
変調は容易となる。
【0014】B.パルス幅変調方式(PWM=Pulse
Width Modulation) 光出力レベルとしては2値であるが、その発光時間(つ
まり、パルス幅)を変化させて記録する方式であるの
で、PM方式と比較すると、中間露光領域の利用度が少
なく、さらに、隣接ドットを結合させることにより中間
露光領域を一層低減させることが可能となる(印字プロ
セス安定性に対する要求が低減する)。しかし、パルス
幅設定を8ビット、かつ、隣接ドット結合を実現する場
合には半導体レーザ制御変調部の構成は複雑となる。
【0015】C.パルス幅強度混合変調方式(PWM+
PM方式) PM方式では印字プロセスの安定化への要求が厳しくな
り、PWM方式では半導体レーザ制御変調部が複雑とな
る問題を有することから、これらのPM方式とPWM方
式とを組み合わせた方式であり、例えば、特開平6−3
47852号公報中に開示されている。
【0016】この変調方式は、基本的には2値記録方式
であり、印字プロセスに対して安定であるPWM方式を
基調とし、そのパルス間の移り変わり部をPM方式によ
り補完する方式である。この変調方式は、同じ階調数を
実現する場合、各々単独の変調方式に比較して、必要と
なるパルス幅数、パワー値数が組み合わせることにより
少なくなるので、各々の方式分の構成を容易に達成で
き、印字プロセスに対して安定であると同時に集積化に
適しており、小型化・低コスト化を図ることができる。
【0017】このような変調方式を実現するため、半導
体レーザ制御装置には、基本的には図19に示すような
画像データと画素クロックとを入力とするパルス幅生成
部及びデータ変調部11が設けられ、このパルス幅生成
部及びデータ変調部11が図17に例示したような回路
構成の半導体レーザ制御部及び半導体レーザ駆動部12
に対する発光レベル指令信号なるDATAを出力するように
構成されている。即ち、入力される画像データに従って
パルス幅生成部及びデータ変調部11によりPWM方式
を基調とし、その移り変わり部をPM方式により補完す
る。その半導体レーザの光出力波形の基本概念図を図2
0に示す。図20にはパルス幅3値、パワー6値の合計
18階調を出力する場合における半導体レーザの光出力
波形を模式的に示すものである。
【0018】この変調方式は、図示のように基本的には
PWM方式であるので、中間露光領域を利用するパワー
変調部は最小パルス幅で出力する必要がある。このよう
な光出力を得るためには、例えば、図21に示すように
パルス幅をPWMとすると、PWMOUT とPWMOUT
PMOUT(PMOUT は最小パルス幅)、又は、PWMOU
T とPMOUT (PMOUT は最小パルス幅)との2パルス
を生成すればよい。PWMOUT のパルスにおいて全ビッ
トをHレベルにし、PMOUT のパルスにおいてデータに
従って各ビットをオン・オフさせれば、図20や図21
に示すような光出力の波形を得ることができる。図20
中、上段が右寄せの右モード、下段が左寄せの左モード
を示す。
【0019】このような1ドット内でのパルス幅強度混
合変調方式をより具体的に実現するため、C‐MOSデ
バイスを用いたIC化によりパルス幅生成部を簡便に構
成し、バイポーラトランジスタを用いたIC化により光
・電気負帰還ループ部の設計を容易にする提案が、例え
ば特開平6−347852号公報等によりなされてい
る。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】ところが、この特開平
6−347852号公報に示される方式によっても、光
・電気負帰還ループによる制御量を少なくする電流加算
方式と、1ドット内でのパルス内でのパルス幅強度混合
変調方式とを、より小型で省電力化を達成し得るように
集積度を高めた1チップ化構成で実現し、より高速かつ
高精度に機能させる上では、まだ、改良の余地がある。
特に、プリンタや複写機への適用例において、これらの
機器に要求される機能、例えば、1ドット多値出力を実
現する上で不十分である。
【0021】例えば、半導体レーザの光出力をモニタす
る受光素子のモニタ電流のデバイス間ばらつきや温度特
性が考慮されていないとか、光・電気負帰還ループなる
制御系の設計の自由度に欠け、その制御速度を所望の値
に自在に設定できないとか、全体的な集積化を図った場
合のイニシャライズの高精度化が考慮されておらず、半
導体レーザの保護に欠ける、といったような不都合があ
る。
【0022】そこで、本発明は、全体構成を1チップで
実現するための構成例を提示し、プリンタや複写機等に
おける要求をより満足し得る半導体レーザ制御装置を提
供することを目的とする。
【0023】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
入力データをパルス幅変調データと強度変調データとに
変換するデータ変換手段と、パルス幅変調データに基づ
いてパルス幅変調した複数個のパルスを生成するパルス
幅変調手段と、これらのデータ変換手段とパルス幅変調
手段との出力に基づいて半導体レーザに対してパルス幅
変調と強度変調とを同時に行う発光指令信号生成部とを
有して、入力データに基づいて、前記入力データに対し
パルス幅変調と強度変調とを同時に行う発光指令信号を
生成するパルス幅変調・強度変調信号生成部と、半導体
レーザと、この半導体レーザの光出力をモニタする受光
素子と、ともに光・電気負帰還ループを形成して前記受
光素子から得られる前記半導体レーザの光出力に比例し
た受光信号と前記パルス幅変調・強度変調信号生成部か
ら与えられる発光指令信号とが等しくなるように前記半
導体レーザの順方向電流を制御する誤差増幅部と、前記
光・電気負帰還ループの制御電流との和又は差の電流に
より前記半導体レーザの駆動を制御するように生成され
て前記パルス幅変調・強度変調信号生成部から与えられ
る発光指令信号に応じた駆動電流を前記半導体レーザに
順方向電流として流す電流駆動部とを備え、これらのパ
ルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅部と電流駆
動部とが1チップの集積回路で形成され、前記発光指令
信号生成部の電流値を設定する外付け素子を有してい
る。
【0024】従って、発光指令信号生成部の電流は直流
的には受光素子のモニタ電流であるので、集積回路内部
の温度変化の影響を受けない電流とする必要があるが、
外付け素子を調整することにより半導体レーザ及び受光
素子の特性に合わせて所望の光出力が得られるようにモ
ニタ電流を安定化させることができ、よって、支障なく
集積化を図ることができる。また、広範囲なモニタ電流
に対応することも可能となる。
【0025】請求項2記載の発明は、請求項1記載の半
導体レーザ制御装置と同様のパルス幅変調・強度変調信
号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを備え、これらの
パルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅部と電流
駆動部とを1チップの集積回路で形成した上で、さら
に、光・電気負帰還ループの制御速度を設定する外付け
素子を有している。従って、制御系の設計の自由度が増
す上に、制御速度も所望の値に自在に設定でき、よっ
て、支障なく集積化を図ることができる。
【0026】請求項3記載の発明は、請求項1記載の半
導体レーザ制御装置と同様のパルス幅変調・強度変調信
号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを備えた上で、電
源投入時に電源電圧が所定電位に達した時点で動作開始
を許容するスタートアップ部をも備え、これらのパルス
幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅部と電流駆動部
とスタートアップ部とを1チップの集積回路で形成して
いる。従って、電源投入時に電源電圧が所定電位に達す
る前にイニシャライズ、電流駆動部等に対する設定動作
等が行われると半導体レーザの光出力が所望の値になら
なくなってしまう可能性があるが、スタートアップ部の
制御により電源電圧が所定電位に達してから動作開始が
許容されるので、集積回路のイニシャライズの高精度化
を図ることができ、立上り時の半導体レーザの保護を図
ることもできる。
【0027】請求項4記載の発明は、請求項1記載の半
導体レーザ制御装置と同様のパルス幅変調・強度変調信
号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを備えた上で、電
源投入時に電源電圧が所定電位に達するとともに発光指
令信号に対応する発光指令電流が所定電位に達した時点
で動作開始を許容するスタートアップ部をも備え、これ
らのパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅部と
電流駆動部とスタートアップ部とを1チップの集積回路
で形成し、かつ、前記スタートアップ部が前記集積回路
外の制御信号によりこの集積回路の初期化を行うリセッ
ト機能を有している。従って、リセット機能を利用する
ことで集積回路を再イニシャライズすることもでき、常
に良好なる光出力波形を得ることができる。
【0028】請求項5記載の発明は、請求項1記載の半
導体レーザ制御装置と同様の複数の発光指令信号生成部
を備えるパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅
部と電流駆動部とを備え、これらのパルス幅変調・強度
変調信号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを1チップ
の集積回路で形成した上で、さらに、光・電気負帰還ル
ープの制御速度を設定する外付け素子を有している。従
って、従って、パルス幅変調と強度変調とを同時に行う
発光指令信号を生成するパルス幅変調・強度変調信号生
成部の発光指令信号生成部が複数であり、広範囲のモニ
タ電流に対応可能となるため、半導体レーザや受光素子
の仕様の違いにも対処し得る。
【0029】請求項6記載の発明は、請求項1記載の半
導体レーザ制御装置と同様のパルス幅変調・強度変調信
号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを備え、これらの
パルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅部と電流
駆動部とを1チップの集積回路で形成した上で、前記発
光指令信号生成部の最大電流を可変させる外部制御電圧
の入力端子を有している。従って、外部制御電圧によっ
て発光指令信号生成部の最大電流をダイナミックに可変
することで、動作時のシェーディング補正や光量の微調
整が可能となる。
【0030】請求項7記載の発明は、請求項6記載の半
導体レーザ制御装置において、電源投入時に発光指令信
号に対応する発光指令電流が所定電流に達した時点で動
作開始を許容するスタートアップ部を備えている。従っ
て、請求項3記載の発明と同様に、集積回路のイニシャ
ライズの高精度化を図ることができ、立上り時の半導体
レーザの保護を図ることもできる。
【0031】請求項8記載の発明は、請求項6記載の半
導体レーザ制御装置において、発光指令信号に対応する
駆動電流を設定する加算電流設定部と、発光指令信号生
成部による最大電流とこの加算電流設定部による最大電
流とを連動させる連動部とを有している。従って、請求
項6記載の発明においてダイナミックにシェーディング
補正する時、加算電流設定部による最大電流も連動する
ので、光出力波形を理想の方形波に近付けることができ
る。
【0032】請求項9記載の発明は、請求項6記載の半
導体レーザ制御装置において、電源投入時に発光指令信
号に対応する発光指令電流が所定電流に達した時点で動
作開始を許容するスタートアップ部と、発光指令信号に
対応する駆動電流を設定する加算電流設定部と、発光指
令信号生成部による最大電流とこの加算電流設定部によ
る最大電流とを連動させる連動部とを有している。従っ
て、請求項7記載の発明においてダイナミックにシェー
ディング補正する時、加算電流設定部による最大電流も
連動するので、光出力波形を理想の方形波に近付けるこ
とができる。
【0033】請求項10記載の発明は、請求項1記載の
半導体レーザ制御装置と同様のパルス幅変調・強度変調
信号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを備えた上で、
半導体レーザの光出力を所望の最小値とするオフセット
電流を設定する外付け素子を有するオフセット設定部を
も備え、これらのパルス幅変調・強度変調信号生成部と
誤差増幅部と電流駆動部とオフセット設定部とを1チッ
プの集積回路で形成している。光・電気負帰還ループに
おいてリアルタイムで半導体レーザの光出力を制御する
ためには、半導体レーザの光出力を完全に0とすること
はできず、このため、半導体レーザの光出力を所望の最
小値とするオフセット電流を設定する必要があるが、外
付け素子を用いることによりオフセット設定部にて所望
のオフセット電流を簡単に設定できる。
【0034】請求項11記載の発明は、請求項1記載の
半導体レーザ制御装置と同様のパルス幅変調・強度変調
信号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを備えた上で、
発光指令信号生成部の最大電流と、半導体レーザの光出
力を最小値とするオフセット電流とを連動させて設定す
る外付け素子を有する連動設定部をも備え、これらのパ
ルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅部と電流駆
動部と連動設定部とを1チップの集積回路で形成してい
る。従って、オフセット電流の設定が発光指令信号生成
部の最大電流の設定に連動して行われるので、外付け素
子の値を変更しなくてもオフセット電流が一定となるよ
うに自動設定することができる。
【0035】請求項12記載の発明は、請求項1記載の
半導体レーザ制御装置と同様のパルス幅変調・強度変調
信号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを備えた上で、
前記半導体レーザの光出力を所望の最小値とするオフセ
ット電流を設定する外付け素子を有するオフセット設定
部と、発光指令信号生成部の最大電流と前記オフセット
電流とを連動させて設定する外付け素子を有する連動設
定部とを備え、これらのパルス幅変調・強度変調信号生
成部と誤差増幅部と電流駆動部とオフセット設定部と連
動設定部とを1チップの集積回路で形成している。従っ
て、請求項11記載の発明と同様に外付け素子の値を変
更しなくてもオフセット電流が一定となるように自動設
定し得る上に、オフセット設定部を利用することにより
所望の特性を自在に持たせることも可能となる。
【0036】請求項13記載の発明は、請求項1記載の
半導体レーザ制御装置と同様のパルス幅変調・強度変調
信号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを備えた上で、
前記半導体レーザの出力端子の異常を検出する異常検出
部をも備え、これらのパルス幅変調・強度変調信号生成
部と誤差増幅部と電流駆動部と異常検出部とを1チップ
の集積回路で形成している。従って、半導体レーザが劣
化する場合に多少の劣化であれば光・電気負帰還ループ
と電流駆動部の電流設定においてその値を検出すること
で設定し得るが、大幅に劣化し電流駆動部に大電流が流
れてしまう場合には集積回路の保護のためにも異常検出
が必要となるが、この異常検出部によってこの機能が果
たされる。
【0037】請求項14記載の発明は、請求項1記載の
半導体レーザ制御装置と同様のパルス幅変調・強度変調
信号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを備え、これら
のパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅部と電
流駆動部とを1チップの集積回路で形成した上で、前記
発光指令信号生成部は、基準となる電流に対してその基
準電流のベース電流を経由するスイッチトランジスタの
数だけベース電流を補償するベース電流補償部を有して
いる。従って、基準となる電流に対してその基準電流の
ベース電流を経由するスイッチトランジスタの数だけ加
算することにより、ベース電流による誤差電流の発生や
特性変化を抑制でき、発光指令信号生成部の電流を高精
度化することができる。
【0038】請求項15記載の発明は、請求項1記載の
半導体レーザ制御装置と同様のパルス幅変調・強度変調
信号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを備え、これら
のパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅部と電
流駆動部とを1チップの集積回路で形成した上で、前記
発光指令信号生成部は、基準となる電流に対してその基
準電流のベース電流を前記発光指令信号生成部の電流値
を設定する外付け素子を有するとともに、受光素子によ
り決定される絶対電流を流す発光指令信号生成部は、基
準となる電流に対してその基準電流のベース電流を経由
するスイッチトランジスタの数だけベース電流を補償す
るベース電流補償部を有している。従って、外付け素子
を調整することにより半導体レーザ及び受光素子の特性
に合わせて所望の光出力が得られるようにモニタ電流を
安定化させることができ、かつ、広範囲なモニタ電流に
対応することも可能となる上に、ベース電流による誤差
電流の発生や特性変化を抑制でき、発光指令信号生成部
の電流を高精度化することができる。
【0039】
【発明の実施の形態】本発明の実施の一形態を図1ない
し図15に基づいて説明する。本発明の半導体レーザ制
御装置は、例えば、レーザプリンタ等における光書込用
に用いられる半導体レーザの光出力を制御するための制
御装置として適用されている。ここに、本実施の形態に
あっても基本的には前述したようなパルス幅強度混合変
調方式や、光・電気負帰還ループの負担を軽減させる光
・電気負帰還ループ+加算電流値制御方式を踏襲してお
り、図17ないし図21で示した部分と同一部分は同一
符号を用いて示す。
【0040】即ち、本実施の形態における半導体レーザ
制御装置13は、概略的には、図19に示したように、
パルス幅生成部及びデータ変調部11と半導体レーザ制
御部及び半導体レーザ駆動部(以下、略して半導体レー
ザ制御部及び駆動部という)12とにより構成されてい
る。
【0041】図1に、本実施の形態における半導体レー
ザ制御装置13の、より詳細な構成例を示す。まず、本
実施の形態では、入力データをパルス幅変調データと強
度変調データとに変換した複数のパルスを生成するパル
ス幅生成部及びデータ変調部11と半導体レーザ制御部
及び駆動部12とが、その一部の構成要素を除く殆どの
要素に関して1チップの集積回路20として集積化され
て構成されている。より詳細には、一部の回路構成に関
して後述する如く、バイポーラトランジスタにより1チ
ップ化されている。ここに、パルス幅生成部及びデータ
変調部11に関しては、特に詳述しないが、例えば、タ
イミングの異なる複数のパルスを生成するPLL構成の
パルス生成手段と、入力された画像データをパルス幅変
調データと強度変調データとに変換する論理記述を含む
データ変換部と、このデータ変換部から得られるパルス
幅変調データに従ってパルス生成手段の出力中からパル
スを選択するパルス幅変調部等を備えて構成されるが、
これらの論理記述等を実行するバイポーラトランジスタ
による回路構成とされている。
【0042】以下では、半導体レーザ制御部及び駆動部
12側について説明する。まず、光・電気負帰還ループ
3は、発光指令信号設定部21と発光指令信号生成部2
2と誤差増幅器23(反転増幅器6に相当する)と電流
駆動部24と半導体レーザ1と受光素子2とにより構成
されている。前記発光指令信号生成部22は発光指令信
号生成部第1構成部(図面上は、「第1発光指令信号生
成部」と表記する)22aと発光指令信号生成部第1構
成部(図面上は、「第2発光指令信号生成部」と表記す
る)22bとにより構成されている。動作としては、変
調されたデータに従って発光指令信号生成部第1構成部
22aにて生成された電流と、半導体レーザ1の光出力
に比例して受光素子2より出力されるモニタ電流とを比
較し、その誤差分を誤差増幅器23及び電流駆動部24
を介して半導体レーザ1の順方向電流に変換することに
より光・電気負帰還ループ3を構成する。ここで、一般
に半導体レーザ1の微分量子効率や受光素子2の光・電
気変換受光感度には素子ばらつきがあるので、各々の特
性に合わせて、電流値を設定する必要がある。このよう
な素子ばらつきに関しては、前記発光指令信号設定部2
1において、半導体レーザ1が所望の光出力となるよう
に外部からの電流設定信号により電流値IDA1 、即ち、
直流動作的には受光素子2のモニタ電流値を設定するこ
とにより、個体差を吸収して半導体レーザ1が常に所望
の光出力となるように設定することが可能となる。
【0043】前記電流駆動部24は、例えば差動スイッ
チ構成で前記誤差増幅器23の出力を所望の電位分瞬時
に電圧シフトする高速電圧シフト部25として構成され
ている。この高速電圧シフト部25による電圧シフト
は、瞬時に半導体レーザ1の順方向電流となり、半導体
レーザ1の光出力の高速変調が可能とされている。特
に、光・電気負帰還ループ3なる制御系内にこの電流駆
動部24として機能する高速電圧シフト部25を有して
光・電気負帰還ループ3側と同一の出力部を持たせるこ
とにより、集積回路20を構成する上で、素子数の低減
と消費電力の低減とを図れる。
【0044】図2に誤差増幅器23及び高速電圧シフト
部25のバイポーラトランジスタを用いた回路構成例を
示す。まず、発光指令信号生成部22(発光指令信号生
成部第1構成部22a)にあるPD端子において、この
発光指令信号生成部22中の後述するD/A変換部によ
り入力されたデータを電流IDA1 に変換し、受光素子2
より半導体レーザ1の光出力に比例して流れるモニタ電
流IPDと比較し、その結果を発光指令信号生成部22中
のトランジスタQ1 のベースにおいて検出する。この結
果をトランジスタQ2 ,Q3 等で構成される差動アンプ
41に入力し、その出力を抵抗R1 を介してLD端子よ
り半導体レーザ1の順方向電流とする光・電気負帰還ル
ープ3を構成している。ここに、差動アンプ41よりL
D端子に至る間に、トランジスタQ4 ,Q5 ,抵抗R2
等で構成されて差動回路となる差動スイッチ42により
その出力を所望の電位分、瞬時に電圧シフトするように
高速電圧シフト部25が構成されている。この電圧シフ
トは、トランジスタQ6 〜Q8 等で構成されるエミッタ
フォロワ43を介して瞬時に半導体レーザ1の順方向電
流となる。ここに、本実施の形態においては、前述した
ように、最終的に半導体レーザ1を駆動する駆動トラン
ジスタ7と抵抗Re とを集積回路20に対して外付けと
しており、この駆動トランジスタ7と抵抗Re には、半
導体レーザ1を駆動するために数十〜数百mA程度の電
流を流す必要があるが、本実施の形態のような構成の場
合、半導体レーザ制御部及び駆動部12内部における電
流は、駆動部(駆動トランジスタ7)につながる出力部
においてもせいぜい数mAで十分であるので、消費電力
が低減し、集積化(LSIの開発)が容易となる。図2
に示す回路において、電流駆動部24の電圧シフト量を
決定しているのが、抵抗R2 ,R3 、トランジスタQ9
等であるが、上述したように半導体レーザ1の微分量子
効率には素子ばらつきがあり、また、経時変化による効
率劣化があるため、半導体レーザ1の微分量子効率を微
分量子効率検出部32で検出し、この電圧シフト量を設
定する構成とすることにより、前述した図18(b)に
示したような光出力PS が重畳された理想的な光出力を
得ることができる。また、図2に示す回路において、ト
ランジスタQ2 ,Q3 等で構成される差動アンプ41
は、抵抗R4 において電源電圧Vccよりの降下電圧とし
てその出力を構成しているが、光・電気負帰還ループ3
は半導体レーザ1の光出力をリアルタイムで制御してい
るので、電源電圧変動も同時に制御している。また、受
光素子2を経てPD端子(発光指令信号生成部第1構成
部22a中のトランジスタQ1 のベース電位)にて検出
した結果を、差動アンプ41に入力する過程で、トラン
ジスタQ10,Q11,抵抗R4 を介して帰還をかけてお
り、この差動アンプ41の電圧ゲインを抵抗R5 ,R6
の抵抗値により決定し、ゲインを小さくすることでこの
差動アンプ41の交叉周波数をより高くし制御速度を向
上させている。
【0045】ここに、半導体レーザ1の一般的な特性と
して温度による動作電流変化や、経時変化による動作電
流及び微分量子効率の変化(劣化)がある。図3は、経
時変化による動作電流及び微分量子効率の変化(劣化)
の特性を示す。温度による動作電流変化に関しては、光
・電気不帰還ループ3を常に作動させることにより発振
閾値電流Ithが温度により変化してもその変化に制御系
(光・電気負帰還ループ3)が追従するため常に制御系
が発振閾値電流Ithを半導体レーザ1の順方向電流に流
している。この際、光・電気負帰還ループ3を常に動作
させるためには、半導体レーザ1の光出力を完全にはオ
フにはさせず、僅かに光らせるオフセット発光が必要で
あり、実際には半導体レーザ1の光出力は設定した最大
発光と後述するようなオフセット発光との間を光・電気
負帰還ループ3により制御されている。
【0046】また、図3に示すように半導体レーザ1が
劣化する場合に多少の劣化であれば、光・電気負帰還ル
ープ3と後述する電流駆動部24の電流設定においてそ
の値を検出することで設定し得るが、大幅に劣化し、駆
動部に大電流が流れてしまう場合には、集積回路20
(LSI)の保護のために劣化検出部が必要である。こ
のため、本実施の形態では、請求項13にいう異常検出
部となる半導体レーザ劣化検出部62が設けられてい
る。図4に半導体レーザ劣化検出部62のバイポーラト
ランジスタによる構成例を示す。この回路の動作として
は、半導体レーザ1につながるLD端子の電位VLDを常
に監視し、ある比較電位を超えたらエラー端子LDERR端
子 よりエラー信号を外部に出力する。図示例の回路で
は、差動アンプ64を構成するトランジスタQ57,Q58
のうち、トランジスタQ59に与えられる比較電位は後述
する電源部61より生成し、トランジスタQ58に与えら
れるLD端子の電位VLDがこの電位を超えるとトランジ
スタQ57がオンとなり、LDERR端子 より電流を引き込む
オープンコレクタ出力となっている。
【0047】これにより、半導体レーザ1が劣化したり
故障した場合には、半導体レーザ劣化検出部62によっ
て未然に検出してエラー信号を出力させることができる
ので、そのままの状態で使用が継続されることがなく、
危険防止を図ることができる。
【0048】一方、半導体レーザ1の微分量子効率を検
出し、電圧シフト量を設定する機能を実現するためのブ
ロックが、図1中では、タイミング生成部31、微分量
子効率検出部32、メモリ部33及び加算電流設定部3
4により構成されている。これにより、概略的には、タ
イミング生成部31において誤差増幅器23の制御速度
より十分遅いタイミング信号を生成し、そのタイミング
において半導体レーザ1の微分量子効率を微分量子効率
検出部32により検出し、その検出結果をメモリ部33
に記録し、そのメモリ部33のデータに従い、加算電流
設定部34の電流値を設定する。この動作は電源投入時
若しくはリセット時(半導体レーザ1の光出力オフ時)
といった所定のイニシャライズ時だけイニシャライズ動
作として行われ、通常動作時には、加算電流設定部34
の電流値を保持する。
【0049】また、前記集積回路20中にはタイミング
生成部31に接続されたスタートアップ部35とともに
電源部61が設けられている。
【0050】図5に電源部61のバイポーラトランジス
タを用いた回路構成例を示す。この電源部61において
は、Q51,Q52,R21,R22,R23等で構成される回路
においてバンドギャップリファレンスを形成し、 V=(Q53のエミッタ電位−Vbe) Vbe;トランジスタのベース・エミッタ間電圧 が温度によりなるべく変化しないようにトランジスタの
エミッタ面積や抵抗値を決定する。その結果、トランジ
スタQ54,Q55,Q56の各々のエミッタ電位が温度特性
を持たない安定電位となる。図5に示す回路構成の場
合、トランジスタQ54のエミッタに抵抗R24を接続する
ことにより流れる電流をカレントミラー回路63で折り
返すことにより集積回路20内で用いる電流源を生成す
る。つまり、集積回路20中、後述するスタートアップ
部35中等におけるVBBP端子をベース電位とするPNP
トランジスタを流れる電流は全て定電流源となり、VBBN
端子をベース電位とするNPNトランジスタを流れる電
流は全て定電流源となり、各々のトランジスタのエミッ
タに接続される抵抗によりその電流値が決定される。
【0051】次に、スタートアップ部35について説明
する。このスタートアップ部35は、電源投入時に電源
電圧Vccがまだ所定の値に達するまでの期間に、半導体
レーザ1に過大電流が流れることにより発生する半導体
レーザ1の劣化や破損からの保護と、前記タイミング生
成部31において必要なイニシャライズ開始信号の生成
を行う役目を担う。このスタートアップ部35は図6に
示すように第1のスタートアップ部35aと第2のスタ
ートアップ部35bとにより構成されている。なお、第
2のスタートアップ部35bに関しては、発光指令信号
設定部21とともに後述する。まず、第1のスタートア
ップ部35aでは、トランジスタQ61,Q62で構成され
る差動スイッチ65において、電源電圧Vccが0Vより
或る設定電位まではトランジスタQ62がオンしており、
電源電圧Vccが或る設定電位を超えて所定の電位となる
範囲ではトランジスタQ61がオンするように抵抗R31
37等を設定する。この場合、或る設定電位は、なるべ
く電源電圧Vccの所定の電位に近い電位に設定される。
例えば、電源電圧の所定の電位が5.0Vの場合におい
て、或る設定電位が2〜3V程度に設定した場合にはま
だ回路全体が所望の動作をしているとはいえないが、
4.5V程度に設定すればほぼ回路全体が所望の動作を
していると考えてよく、より安全に半導体レーザ1の保
護とイニシャライズ開始信号の生成とを行うことができ
る。この第1のスタートアップ部35aが請求項3にい
うスタートアップ部に相当する。
【0052】詳細には、トランジスタQ62のベース電位
はトランジスタQ63のコレクタ電位をエミッタフォロワ
66を介して電圧シフトしているだけであり、トランジ
スタQ62のベース電位はトランジスタQ63のコレクタ電
位により決定される。また、同様にトランジスタQ61
ベース電位はトランジスタQ64がオフしている限りトラ
ンジスタQ65のコレクタ電位により決定される。トラン
ジスタQ63のコレクタ電位は、トランジスタQ66と抵抗
33とで構成される電流源の電流と電源電圧とより決定
され、トランジスタQ66と抵抗R33とで構成される電流
源の電流をI1、電源電圧をVccとすると、トランジス
タQ63のコレクタ電位Vq63cは、 Vq63c=Vcc−I1 *R31 となる。ここで、電流I1 はVBBNをベース電位とする定
電流源であるので、I1*R31は一定電位となる。本
来、電源部61も電源電圧より構成されているので、電
源電圧が0Vであれば電流I1 も0となるが、或る設定
電位はなるべく電源電圧の所定の電位に近い電位に設定
するので、このトランジスタQ61,Q62で構成される差
動スイッチ65がスイッチングする状態(時間)におい
ては、十分、電源部61は機能しており、電流I1 も定
電流になっているものとする。すると、Vq63cは電源電
圧Vccに従い変化する。
【0053】トランジスタQ65のコレクタ電位V
q65cは、上式と同様に、トランジスタQ67と抵抗R34
で構成される電流源の電流をI2 とすると、 Vq65c=Vcc−I2 *R32 となる。ここで、抵抗R34,R35が等しい抵抗値を有す
るものとして抵抗R36を流れる電流を考えると、 Vcc=(I2 +I3 )*R36+Vbe+I2*R35 となる。ここで、電流I3 はトランジスタQ68と抵抗R
37とで構成される定電流源の電流値、Vbeはトランジス
タのベース・エミッタ間電圧である。
【0054】上式より、 Vq65c=I3*R36+Vbe+I2*(R36+R35−R32) となる。ここで、I3*R36 は電流I1 と同様に一定電
位となり、Vbeもほぼ一定電位となるので、 R36+R35=R32 であれば、トランジスタQ65のコレクタ電位Vq65cは電
源電圧に依存しない一定電位にすることができる。つま
り、トランジスタQ65のコレクタ電位Vq65cは一定電位
であり、トランジスタQ63のコレクタ電位Vq63cは電源
電圧Vccに従い変化するので、双方の電位を適当に設定
することにより、電源投入時に電源電圧の変化に応じて
トランジスタQ61,Q62で構成される差動スイッチ65
を適当なタイミングでスイッチングさせることが可能と
なる。その結果、電源電圧Vccが0Vより或る設定電位
まで、つまり、トランジスタQ62がオンしている状態で
は、トランジスタQ62を流れるコレクタ電流はカレント
ミラー回路67により反転され、トランジスタQ69,Q
70がオンとなり、TDSTART端子 とPD端子との電位を強制
的にほぼVccと同電位にする。具体的制御としては、受
光素子2のPD端子の電位を強制的にHレベルとするこ
とにより誤差増幅器23の出力が強制的なLレベルとさ
れ、半導体レーザ1の順方向電流が流れないように抑制
することで半導体レーザ1の保護を行う。また、同時
に、後述するように、TDSTART端子 の電位を強制的にH
レベルとすることで、タイミング生成部31における発
振回路を強制的に発振しないように抑制する。そして、
電源電圧Vccが或る設定電位以上になる、つまり、トラ
ンジスタQ61がオン状態に変化すると、半導体レーザ1
の保護を解除して通常動作状態とし、かつ、前記タイミ
ング生成部31における発振回路の発振抑制を解除する
ことにより発振開始信号とする。同時に、前記タイミン
グ生成部31の電流源を生成するVPTDSTART端子電位 を
出力する。
【0055】ここに、前記トランジスタQ61のベースに
接続された前記トランジスタQ64のベースは集積回路2
0外のリセット端子に接続され、このリセット端子に与
えられる制御信号であるRESET信号 によりオン・オフ制
御されるように構成されている。これにより、リセット
端子にRESET信号 が与えられるとトランジスタQ64がオ
ンして前述したスタートアップ部35aのスタートアッ
プ動作が中断して、強制的に集積回路20の初期化が行
われる。このような機能が請求項4記載の発明にいうリ
セット機能に相当する。これにより、任意の時点で集積
回路20の再イニシャライズ化が可能となり、半導体レ
ーザ1の保護等を確実に図ることができる。
【0056】前記タイミング生成部31は、例えば、遅
延回路を用いて構成することも可能であるが、本実施の
形態では、発振回路36とバイアス回路(図示せず)と
ラッチ回路37とにより構成されている。概略的には、
発振回路36において生成された発振信号をラッチ回路
37にてラッチし、ラッチしたデータを次段に順次伝達
することにより、例えば、T0〜T5なる6個のタイミ
ング信号を生成し、最終タイミングと同時に前記発振回
路36を強制的に発振しないように抑制する構成とされ
ている。前記微分量子効率検出部32は、例えば、前記
誤差増幅器23の誤差出力中のピーク値を検出するサン
プルホールド回路38と、このサンプルホールド回路3
8の出力値を所定値と比較する比較器39とにより構成
されている。前記メモリ部33は、前記比較器39の比
較結果を前記タイミング生成部31により生成されるタ
イミングT1〜T5に同期して保持する機能を有する。
前記加算電流設定部34は、例えば、5ビットのD/A
変換器により構成されている。これらのタイミング生成
部31、微分量子効率検出部32、メモリ部33及び加
算電流設定部34も各々バイポーラトランジスタにより
集積化されて構成されている。
【0057】そこで、まず、前記タイミング生成部31
における前記発振回路36のバイポーラトランジスタに
よる回路構成例を図7に示す。また、イニシャライズ時
の概略動作を図10に示す。トランジスタQ22のコレク
タ電位VQ22Cが図10中の発振動作として表され、この
トランジスタQ22のコレクタ電流が、トランジスタ
24,Q25で構成される差動スイッチ46によりオン、
オフし、トランジスタQ22のコレクタ電流がオンの時に
トランジスタQ21のコレクタ電流よりも大きい場合に
は、トランジスタQ22のコレクタ電位VQ22Cは、各々の
電流がコンデンサC1へのチャージ、ディスチャージを
繰り返すことにより発振する。
【0058】まず、図10中に示すタイミング0、即
ち、電源投入時より、前記スタートアップ部35から発
振開始タイミング信号TSが送られてくるまでの間は、
TDSTART 端子の電位は強制的にHレベル(殆どVccと同
電位)であり、また、VPTDSTART 端子は0Vであるの
で、VPTDSTART 端子より生成されるトランジスタQ23
コレクタ電流は0であり、差動スイッチ46もトランジ
スタQ25がLレベルであるが、トランジスタQ23のコレ
クタ電流が0であるので、トランジスタQ22のコレクタ
電流も0となっている。
【0059】ここに、ラッチ回路37の最終段の構成を
示す図9を参照すると、VPTDSTART端子の電位は0V、
トランジスタQ31のコレクタ電流は0Aである。この結
果、トランジスタQ23のベース電位はVccであり、トラ
ンジスタQ23のコレクタ電流は0Aとなる。また、差動
スイッチ46において、トランジスタQ23のコレクタ電
流が0Aであり、トランジスタQ25のベース電位がLレ
ベルであるので、トランジスタQ22のコレクタ電流は0
Aとなる。
【0060】その後、発振開始タイミング信号TSを過
ぎると、トランジスタQ22のコレクタ電流が流れ始め、
差動スイッチ46においてトランジスタQ25がLレベル
であるので、トランジスタQ23のコレクタ電流がトラン
ジスタQ22,Q26によるカレントミラー回路47により
折り返され、トランジスタQ22のコレクタ電流となる。
このタイミングTSでは、電源部61の電流は0である
ので、トランジスタQ22のコレクタ電流がトランジスタ
21のコレクタ電流より大きい場合にはトランジスタQ
22のコレクタ電位VQ22C、即ち、TDSTART端子電位 は、
徐々に低下する。そして、トランジスタQ24のベース電
位がトランジスタQ25のべース電位と同電位若しくはよ
り低下する瞬間に、差動スイッチ46が動作し、トラン
ジスタQ24がオンとなりトランジスタQ26のコレクタ電
流、従って、トランジスタQ22のコレクタ電流がオフと
なり、トランジスタQ25のベース電位はトランジスタQ
24のコレクタ電流と抵抗R11とで決まる電位分上昇す
る。この瞬間が、タイミングT0である。
【0061】タイミングT0を過ぎると、トランジスタ
22のコレクタ電流がオフとなるので、トランジスタQ
22のコレクタ電位VQ22C、即ち、TDSTART端子電位 は、
徐々に上昇する。そして、トランジスタQ24のベース電
位がトランジスタQ25のベース電位と同電位若しくはよ
り上昇する瞬間に、差動スイッチ46が反転し、トラン
ジスタQ22のコレクタ電流がオンとなる発振動作を繰り
返す。この発振の振幅は、トランジスタQ24のコレクタ
電流と抵抗R11とで決まる電位で決定され、周期はトラ
ンジスタQ21のコレクタ電流、トランジスタQ22のコレ
クタ電流、コンデンサC1 の容量により決定され、これ
らの値を適正に決定することにより所望のタイミング信
号を得ることができる。
【0062】このような動作において、トランジスタQ
22のコレクタ電流がトランジスタQ21のコレクタ電流の
丁度2倍の時、トランジスタQ21のコレクタ電流と、
(トランジスタQ22のコレクタ電流)−(トランジスタ
21のコレクタ電流)なる電流とが等しくなり、コンデ
ンサC1 にチャージ、ディスチャージされる単位時間当
たりの電荷量が等しくなるので、図10中に示すよう
な、立上り時間と立下り時間とが等しい三角波となる。
【0063】このような発振回路36の発振出力として
トランジスタQ25のベースに方形波が得られ、電圧シフ
ト、スイング量調整、反転なる処理がなされた後、図1
0中に示すトランジスタQX のエミッタ電位VQXE の出
力波形が得られる。
【0064】次に、前記ラッチ回路37の1構成単位と
なるラッチ回路48の回路構成例を図8に示す。前記ラ
ッチ回路37は、本実施の形態においては、タイミング
信号T0〜T5を生成するため、ラッチ回路48が6段
に接続されて構成されるが、図8にその1構成単位とな
りタイミング信号T0生成用のラッチ回路48を示す。
図示例にあっては、複数のトランジスタ、抵抗を構成要
素として構成されており、この内、トランジスタQ31
33で1つのスイッチ49aを形成し、また、トランジ
スタQ34〜Q36で1つのスイッチ49bを形成してい
る。前記スイッチ49aにおいては、前記トランジスタ
33のコレクタ電流がオンの時、トランジスタQ31のベ
ース電位、即ち、データをトランジスタQ37のベース電
位及びエミッタ電位に反転して出力する。また、スイッ
チ49bにおいては、トランジスタQ36のコレクタ電流
がオンの時、トランジスタQ34のベースがトランジスタ
37のエミッタに接続されるので、出力をそのまま保持
する動作となる。
【0065】トランジスタQ33のベースをCLK 、トラン
ジスタQ36のベースを/CLK (信号に関して、“/”は
反転を示す)、トランジスタQ31のベースをDATA0 、ト
ランジスタQ37のエミッタを出力Qとして、これらの関
係を論理式で表すと、 Q=CLK・DATA0 +/CLK・Q となる。
【0066】ここで、前述したようにトランジスタQX
(図10参照)のエミッタ電位VQX E 、つまり、トラン
ジスタQ36のベース/CLK は、タイミングTSよりタイ
ミングT0までHレベルで出力保持状態にあり、また、
トランジスタQ38,Q39等で構成される電流源50は、
スタートアップ部35からのVPTDSTART をベース電位と
することにより、タイミングTSまでは電流が0でタイ
ミングTSとなる瞬間より電流が流れるので、出力Qは
タイミングT0までHレベルとなっている。タイミング
T0となると、出力Qが初めてLレベルとなり、タイミ
ングT0以降、トランジスタQ31のベース(入力デー
タ)がLレベルであるので、出力QはLレベルの状態を
保持する。この状態を、図10中のトランジスタQ37
エミッタ電位VQ37E(タイミング信号T0)の波形とし
て示す。
【0067】図示しない次段では、CLK を反転入力し、
トランジスタQ37のエミッタ電位VQ37EをDATA1 とする
と、 Q′=/CLK・DATA1 +CLK・Q′ とすることで、図10中にVQ37(1)Eで示すタイミング
信号T1を得ることができる。
【0068】以下、同様にタイミング信号T2〜T5を
得ることができる。図10中のVQ3 7(n)E における
“n”は段数1〜5を示す。
【0069】さらに、図9に示すように、タイミング信
号T5を生成する最終段のラッチ回路48L において、
トランジスタQ31のコレクタ電流は発振回路36中のト
ランジスタQ23のベースに与えられており、発振回路3
6を駆動させる電圧とされている。従って、トランジス
タQ23のベース電位はタイミングTSからタイミングT
5までの間、供給される。しかし、トランジスタQ23
ベース電位は、タイミングT5となる瞬間にトランジス
タQ23のコレクタ電流をオフさせると供給されない。
【0070】つまり、必要なタイミング信号を生成する
間のみ発振し、所望のタイミング信号を生成し終わると
同時に発振を停止することで、発振回路36の発振動作
が他の回路に雑音や電流変動等の悪影響を及ぼさない回
路構成とされている。また、前述したようなタイミング
信号T0〜T5を生成するためには遅延回路等を用いて
構成することも可能であるが、本実施の形態のように、
発振回路36を用いて構成することにより、唯一、コン
デンサC1 をLSI(集積回路20)外の外付け素子と
することで多数のタイミング信号を生成する場合であっ
ても、発振回路36のタイミングを自在に設定すること
ができる。もっとも、タイミング生成部31を遅延回路
を用いて構成した場合、タイミングを自在に設定するた
めには各々のタイミングを決定する外付け素子を必要と
するが、必要とするタイミング数が少ない場合には遅延
回路を用いるほうがラッチ回路を必要としない利点があ
る。何れにしても、光・電気負帰還ループ3の制御速度
を自由に設定できる上に、半導体レーザ1・受光素子2
の周波数特性の影響を受けない光出力波形を得ることも
でき、集積回路20のイニシャライズ時間を最適化を図
る上で都合がよい。
【0071】また、一般に、半導体レーザ1・受光素子
2間には、周波数特性が存在し、この周波数特性が、上
述の制御系(光・電気負帰還ループ3)の動作や上述の
タイミング設定に影響を及ぼさない良好な特性である場
合には問題はないが、この周波数特性がよくない場合に
は、もし、上述のタイミングが一定である場合には、こ
の半導体レーザ1・受光素子2間の周波数特性を補償す
るための回路を追加するか、或いは、上述のタイミング
を十分遅くなるように設定する必要がある。しかし、こ
のようなタイミングを十分に遅く設定すると、それだけ
イニシャライズの時間が長くなってしまい、かといっ
て、周波数特性補償回路を付加すると素子数が増えてし
まい、何れにしても好ましくない。この点、本実施の形
態のように、タイミング生成部31を発振回路36を用
いて構成することにより、コンデンサC1 の容量を変更
するだけで周波数特性を補償するための回路を必要とせ
ず、かつ、全てのイニシャライズ時間が長くなることも
ないので、素子数を低減させつつ効率的なイニシャライ
ズを行わせることができる。さらに、このような発振回
路36を用いてタイミング信号を生成する場合、通常
は、フリップフロップを用いるが、本実施の形態のよう
に必要段数のラッチ回路48を組み合わせたラッチ回路
37を用いることにより、素子数を低減させ得る。
【0072】次に、これらのタイミング信号により制御
されるイニシャライズ時の概略動作を図10のタイムチ
ャート、図11に示す微分量子効率検出部32の回路構
成例を参照して説明する。まず、半導体レーザ1の光出
力を、タイミングTSに強制的なオフ状態より所望の最
大発光状態とする。この最大発光値は、発光指令電流生
成部22において既に設定されているものとする。そし
て、タイミングT0に入力データを全て0としてオフセ
ット発光状態とし、この状態をタイミングT5まで維持
した後、タイミングT5以降を本来の入力データを受け
付ける通常動作状態とする。光・電気負帰還ループ3を
動作させるためには、半導体レーザ1の光出力を完全に
オフにはさせず、わずかに光らせるオフセット発光が必
要であり、実際には、半導体レーザ1の光出力は、設定
した最大発光とオフセット発光との間で光・電気負帰還
ループ3により制御される。
【0073】半導体レーザ1の光出力は、イニシャライ
ズ時、即ち、電源投入時やリセット解除時において、必
ず、図10に示すようなシーケンス動作を実行すること
により微分量子効率をその度に検出し、適切な加算電流
値を設定する。
【0074】図10中に示すような最大発光とオフセッ
ト発光との差分、即ち、動作電流Iop−発振閾値電流I
thが微分量子効率であるので、微分量子効率検出部32
中のサンプルホールド回路38においてこの差分を検出
する。概略的には、この差分は、最大発光時とオフセッ
ト発光時との間における、抵抗Re (図2参照)の端子
間電位の差に相当する。電流駆動部24なる電圧シフト
部25が動作していない状態においては、この差分は、
電流駆動部24のトランジスタQ9 (図2参照)の2つ
のケースにおけるエミッタ電位の差に依存する。そこ
で、最大発光時のこのトランジスタQ9 のエミッタ電位
をサンプルホールドし、タイミングT0においては0で
あった電圧シフト部25の電位シフト量を加算電流設定
部34により徐々に変化させて、前記差分を、電圧シフ
ト部25における抵抗Re の電位変化とすることにより
微分量子効率を検出する。
【0075】詳細には、図10に示すようにトランジス
タQ9 のエミッタ電位、即ち、VCOMP 端子はトランジス
タQ42のエミッタフォロワ51を介してトランジスタQ
43のベース電位となる。このトランジスタQ43のベース
電位はトランジスタQ45等で構成される電流源52の電
流が流れている間は、トランジスタQ41,Q46,Q47
48等で構成されるボルテージフォロワ53によりトラ
ンジスタQ44のベース電位と同電位となる。タイミング
T0で電流源52の電流をオフさせると、トランジスタ
43のベース電位の変化はVCOMP 端子の電位変化をその
まま示すが、トランジスタQ44のベース電位はコンデン
サC2 の容量が大きいほど変化せず、タイミングT0に
おけるトランジスタQ43のベース電位、つまり、最大発
光時のトランジスタQ9 (図2参照)のエミッタ電位を
サンプルホールドすることが可能となる。図10中の下
部にこれらのトランジスタQ43,Q44によりサンプルホ
ールドされる概略波形を示す。
【0076】サンプルホールドされたこれらのトランジ
スタQ43,Q44のベース電位をトランジスタQ49,Q50
等による比較器39に入力してその大小を比較し、比較
結果をタイミング信号T1〜T5に同期してメモリ部3
3にて保持する。従って、このメモリ部33は、特に構
成例を図示しないが、比較器39の比較出力をタイミン
グ信号T1〜T5に同期して保持し得る機能を有してい
ればよく、例えば、タイミング生成部31で用いたよう
な5段のラッチ回路で構成し、比較器39の比較におい
てトランジスタQ43側のベース電位がトランジスタQ44
側のベース電位よりも高い場合にLレベルを出力するよ
うに構成すればよい。
【0077】加算電流設定部34は、2段の差動スイッ
チで構成される5個のスイッチと、これらのスイッチ部
の電流源に電流を供給するカレントミラー回路と、各ス
イッチ部の出力を加算して電流駆動部(高速電圧シフト
部25)の出力とするカレントミラー回路とにより構成
されている。ここに、5個のスイッチ部により基本的に
5ビットのD/A変換器が構成され、これらのスイッチ
部の電流源は、最小ビット電流をI1 とすると、次のビ
ットのスイッチ部では2*I1 、さらに上位ビットのス
イッチ部毎に4*I1 ,8*I1 ,16*I1 となるよ
うに設定されている。これにより、スイッチ部全体の出
力電流としては最大31*I1 となり、この時に、電流
駆動部(電圧シフト部25)において設定される最大電
流(最大電圧)が、前述した(動作電流Iop)−(発振
閾値電流Ith)の最大値よりも大きくなるように設定す
る。
【0078】ここで、タイミングT0に、図10に示す
ように半導体レーザ1の光出力を最大発光状態よりオフ
セット発光状態とすると同時にスイッチ部の最上位ビッ
トの電流を強制的に出力する。この状態では、最大発光
状態からオフセット状態となって最上位ビットのスイッ
チ部の電流を強制的に出力することにより電圧シフト部
の端子間電位にも電位変化を生ずるので、光・電気負帰
還ループ3なる制御系により半導体レーザ1の光出力が
オフセット発光状態となるように制御が働くので、これ
らの電位変化の差分を補うように変化する。このような
変化分を微分量子効率検出部32において検出しその出
力を最大発光状態と比較し、その比較結果をメモリ部3
3に格納する。メモリ部33ではこの結果をタイミング
T1においてラッチし、加算電流設定部34の最上位ビ
ットのスイッチ部を再設定し、最大発光状態の電位より
大きい場合にはオフ、小さい場合にはオンとする。ここ
で、タイミングT1−T0は、この間に光・電気負帰還
ループ3なる制御系が十分収束する時間に設定する必要
がある。
【0079】タイミングT1においてもタイミングT0
の場合と同様に、上位2ビット目を強制的に出力させ、
タイミングT2にてその結果を再設定する。本実施の形
態では、微分量子効率を5ビット分のD/Aの精度で検
出しているので、5ビット分、同様に繰り返して行う。
この時のベース電位の変化の様子を図示すると、図10
中の下部に示すトランジスタQ44のベース電位の場合と
同様になる。この場合の図示例は、下位ビットより順に
1,1,1,0,1となった場合の波形を示している。
【0080】本実施の形態では、微分量子効率検出部3
2及び加算電流設定部34の検出精度を5ビットとして
いるが、さらにビット数を増やして検出精度を上げれ
ば、図18(b)に示す光出力波形において、PS 分の
光出力分が所望の光出力となり、光・電気負帰還ループ
3なる制御系による光出力の制御分が少なくなり、光出
力波形がより理想的な方形波に近付く。
【0081】次いで、発光指令信号設定部21及び発光
指令信号生成部22のバイポーラトランジスタを用いた
回路構成例を図12ないし図14に示す。図12が発光
指令信号設定部21、図13が発光指令信号生成部第1
構成部22a、図14が発光指令信号生成部第2構成部
22bを示す。
【0082】まず、発光指令信号設定部21の構成とし
ては、発光指令信号生成部22の電流設定、加算電流設
定部34の電流設定、発光指令信号生成部22の電流の
ベース電流補償部、及び、発光指令信号生成部22の電
流と加算電流設定部34の電流とを連動させて外部信号
より調整する部分により構成されており、各々の部分を
図12に示す回路例により説明する。
【0083】発光指令信号生成部22の電流設定は、ト
ランジスタQ71のエミッタ電位と抵抗R41とにより行わ
れる。ここに、前記発光指令信号生成部22の電流は、
直流的には受光素子2のモニタ電流であるので、集積回
路20(LSI)内部の温度変化の影響を受けない電流
とする必要がある。つまり、トランジスタQ71のエミッ
タ電位は安定な電位、抵抗R41は絶対精度の要求される
抵抗である必要がある。このため、トランジスタQ71
エミッタ電位は電源部61において生成した安定電位で
あるVREF11端子電位をトランジスタQ72〜Q75等で構成
されるボルテージフォロワ71を介して生成し、この端
子を外部端子として、抵抗R41を絶対精度、温度特性の
良好な外付け抵抗若しくは可変抵抗とする。ここに、抵
抗R41が請求項2又は11記載の発明にいう外付け素子
に相当する。この抵抗R41の抵抗値を変化させることに
より半導体レーザ1及び受光素子2の特性に合わせて所
望の光出力を得るための調整が可能となる。
【0084】加算電流設定部34の電流設定はトランジ
スタQ71のエミッタ電位を基準にトランジスタQ71,Q
76,Q77を介してトランジスタQ71のエミッタ電位とほ
ぼ同電位となるトランジスタQ78のエミッタ電位と抵抗
42とにより決定し、IDA2SET 端子より加算電流設定部
34へ出力する。
【0085】発光指令信号生成部22の電流のベース電
流補償部は、トランジスタQ77のベース電流により行
う。発光指令信号生成部22の電流は、上述したように
外部の受光素子2により決定される絶対電流である必要
があるが、例えば、図12に示す回路構成例の場合、ト
ランジスタQ71のエミッタ電位と抵抗R41とで決定され
る基準電流は絶対電流であるがその電流がカレントミラ
ー回路72で反転された後、例えば、最下位ビットを流
れる発光指令信号生成部22での電流は、スイッチトラ
ンジスタQ81〜Q83を経由してPD端子より電流を引く
ので、これらのスイッチトランジスタを3個経由してい
ることによる各々のトランジスタのベース電流誤差が発
生している。最下位ビットだけでなく、他のビットに関
しても同様である。このようなベース電流誤差を補償す
るためにトランジスタQ77のベース電流量を調整する。
【0086】最下位ビットの場合を例にとり、具体的に
式で表現するため、トランジスタQ71のエミッタ電流を
ref 、トランジスタQ77のベース電流をIq77b、トラ
ンジスタQ81のベース電流をIq81b、トランジスタQ82
の最下位ビット電流に相当するベース電流をIq82b5
トランジスタQ83の最下位ビット電流に相当するベース
電流をIq83b5 とし、この経路に最下位ビット電流が流
れている状態においては、カレントミラー回路72で電
流が理想的に反転されているとすれば、最下位ビット電
流に相当する発光指令信号生成部22の電流I
DA1 5は、 IDA1 5=(Iref+Iq77b)/4−Iq81b−Iq82b5
q83b5 となる。ここで、トランジスタQ81〜Q83に流れるコレ
クタ電流Ic は、上記のように、 Ic =(Iref+Iq77b)/4 と近似できる。また、ベース電流Ib とコレクタ電流I
c との関係は、電流増幅率をhfeとすると、 Ic =hfe・Ib であるので、Iq81b=Iq82b5 =Iq83b5 と近似する
と、 IDA1 5=(Iref+Iq77b)/4−(3/hfe)(Iref
+Iq77b)/4 となる。ここで、 (3/hfe)(Iq77b/4)=(3/hfe)(1/4)(Ic
/hfe) となり、Ic に対して十分小さいとすると、 IDA1 5=(Iref+Iq77b)/4−(3/hfe)(Iref
/4) となる。ここで、 IDA1 5=Iref/4 となるためには、 Iq77b/4=(3/hfe)(Iref/4) となる必要がある。つまり、トランジスタQ77のエミッ
タ電流をトランジスタQ71のエミッタ電流Iref の3倍
流すことにより、 IDA1 5≒Iref/4 とすることができる。よって、経由するスイッチトラン
ジスタのベース電流補償を行うことができる。
【0087】また、この補償により、全てのビットに関
して同時にベース電流補償されている。例えば、次は最
上位ビットを考え、トランジスタQ84のベース電流をI
q84b、トランジスタQ82の最上位ビット電流に相当する
ベース電流をIq82b1 、トランジスタQ83の最上位ビッ
ト電流に相当するベース電流をIq83b1 とすると、 IDA1 1=(Iref+Iq77b)・4−Iq84b−Iq82b1
q83b1 となり、上記の場合と同様にIq84b=Iq82b1 =I
q83b1 と近似すると、 Iq77b・4=(3/hfe)・Iref・4 となり、やはり、トランジスタQ77のエミッタ電流をト
ランジスタQ71のエミッタ電流Iref の3倍流すことに
より、 IDA1 1≒Iref・4 とすることができ、経由するスイッチトランジスタのベ
ース電流補償を行えることが分かる。つまり、本実施の
形態の回路構成の場合、基準となる電流に対してその基
準電流のベース電流を経由するスイッチトランジスタの
数だけ加算することにより、ベース電流による誤差電流
の発生や特性変化を抑制することが可能となり、容易に
ベース電流補償を行える。このような機能を果たすベー
ス電流補償部73が請求項14又は15記載の発明にい
うベース電流補償部に相当する。
【0088】次に、発光指令信号生成部22の電流と加
算電流設定部34の電流とを連動して外部信号より調整
する部分について説明する。前述したように、発光指令
信号生成部22の電流設定と加算電流設定部34の電流
設定とはトランジスタQ71のエミッタ電位と抵抗R41
により決定され、また、上述したようにトランジスタQ
71のエミッタ電位はVREF11端子電位を入力とし、トラン
ジスタQ72〜Q75等で構成されるボルテージフォロワ7
1の出力となっているが、VREF11端子と並列に抵抗
43,R44、トランジスタQ79を介してVCONT 端子より
制御電圧を入力させる構成とすることにより、この制御
電圧によってトランジスタQ71のエミッタ電位を変化さ
せる。つまり、発光指令信号生成部22の電流と加算電
流設定部34の電流とを連動させて増減させることが可
能となる。
【0089】例えば、抵抗R44,R45の抵抗値が等しい
場合には、VREF11端子の電位VVREF 11とVCONT 端子の電
位VVCONT とは等価となり、トランジスタQ71のエミッ
タ電位Vq71eは、 Vq71e=(VVREF11+VVCONT )/2 となる。例えば、電位VVREF11を1〔V〕とし、電位V
VCONT を0〜2〔V〕動かすとトランジスタQ71のエミ
ッタ電位Vq71eは0.5〔V〕〜1.5〔V〕動かすこ
とが可能となる。
【0090】この場合の概略波形を図15に示す。一般
に、レーザプリンタ等において、半導体レーザ1の光出
力をポリゴンミラー等を介して感光体等にスキャニング
露光する場合に、感光体までの距離や収束しているビー
ムの形状の変化などの影響により、所謂光学系における
シェーディングを生じ、その補正等をするために半導体
レーザ1の光出力をダイナミックに微調整し、若しく
は、光量設定時に微調整する等のニーズがある。図15
(a)は初期状態の光出力波形を示し、図15(b)
(c)に動作時において発光指令信号生成部21の電流
を変化させた場合の光出力波形を示し、何れにしても定
常出力としては制御系(光・電気負帰還ループ3)によ
る制御により所望の光出力が得られるが、立上り時に
は、発光指令信号生成部22の電流を大きくしただけの
場合には図15(b)に示すように鈍った波形となる
(発光指令信号生成部22の電流を小さくしただけの場
合にはオーバシュート波形となってしまう)。この点、
上記のように発光指令信号生成部22の電流と加算電流
設定部34の電流とを連動させて増減させた場合には、
図15(c)に示すようになる。即ち、その加算電流設
定部34における電流設定値が連動して変化するので、
上述したシェーディング補正や半導体レーザ1の光出力
の微調整時にも、どのようにVCONT 端子を動かしても常
に図15(c)に示すような制御系の制御量が小さくな
り、理想的な方形波を得ることができる。
【0091】ところで、発光指令信号生成部21との関
連で前記第2のスタートアップ部35aについて説明す
る。前述したようにトランジスタQ71のエミッタ電位V
q71eはボルテージフォロワ71の出力であり、その制御
速度や安定性をコンデンサC3 (図12参照)により制
御しているが、電源投入時、電源がこのボルテージフォ
ロワ71より高速に立上るとすると、トランジスタQ71
のエミッタ電位が所望の値となる以前に加算電流設定部
34の設定等が行われることになり、半導体レーザ1の
光出力が所望の値や光出力とならなくなってしまう可能
性がある。この第2のスタートアップ部35aはこの課
題を解決するためのものであり、トランジスタQ71のエ
ミッタ電位、即ち、VR端子の電位が或る設定電位を超え
る(ボルテージフォロワ71が動作状態となる)まで、
第1のスタートアップ部35aと同様にタイミング生成
部31を起動せず、トランジスタQ71のエミッタ電位VR
が或る設定電位に達して初めてタイミング生成部31を
起動させるように構成されている。このような第2のス
タートアップ部35bが請求項7又は9記載の発明にい
うスタートアップ部に相当する。なお、図6に示すスタ
ートアップ部35においては、第1のスタートアップ部
35aと第2のスタートアップ部35bとが論理積(A
ND)接続されており、電源電圧Vccと発光指令信号生
成部21の電流との両方がともに所望の状態となって初
めてイニシャライズ及び全回路動作を開始させる構成と
されている。
【0092】次いで、発光指令信号生成部22について
説明する。この発光指令信号生成部22は5ビット(b
0,b1,b2,b3,b4)のD/A変換器と電流加
算駆動部とを含み、さらに発光指令信号生成部22用の
電流補償部、オフセット電流生成部を含んで構成されて
いる。発光指令信号生成部22は、2つの5ビットD/
A構成を並列に持ち、前述したような発光指令信号生成
部第1構成部22aと発光指令信号生成部第2構成部2
2bとにより構成されている。
【0093】もっとも、発光指令信号生成部第1構成部
22aに関して、より高精度に光出力を設定したい場合
であれば、D/A変換器のビット数を増やしてもよい。
或いは、パルス幅変調を主体とする場合であれば、D/
A変換器のビット数を減らしてもよい。さらには、その
電流生成法に関しても、図示例のようにカレントミラー
回路による電流の反転と抵抗ラダー型D/Aを組合せて
もよい。
【0094】電流加算駆動部は、電流IDA1 とその反転
電流とを各々トランジスタQ81,Q82のエミッタ電位で
検出し、エミッタフォロワQ83,Q84を介した後、誤差
増幅器23及び電流駆動部24中の差動スイッチ42を
構成するトランジスタQ4 ,Q5 のベースに入力する。
トランジスタQ81,Q82のエミッタ電位は、IDA1 の電
流値をそのまま反映した電位となるので、トランジスタ
4 ,Q5 で構成される差動スイッチ42においてもオ
ン・オフの2値出力ではなく、D/Aを5ビットで構成
した場合には5ビットの電流駆動出力を高速に得ること
ができる。
【0095】また、発光指令信号生成部第2構成部22
bは、発光指令信号生成部第1構成部22aと同じ5ビ
ットD/A構成であり、その電流源を決定する最低電位
をDA1GND端子として外部に出力している。これは、通常
はD/Aは発光指令信号生成部第1構成部22aのみの
1個で十分であるので、DA1GND端子をオープン(開放)
として5ビット構成の発光指令信号生成部第2構成部2
2bを動作させない。若しくは、最初からこの発光指令
信号生成部第2構成部22bはなくてもよいが、受光素
子2のモニタ電流のばらつき範囲が大きい、若しくは、
いろいろな受光素子2(或いは、半導体レーザ1)にも
利用したく発光指令信号生成部22で設定する電流範囲
が大きい場合には、あまり大きな電流変化を1つのD/
Aで行うと、D/Aのリニアリティが悪くなったり、誤
差電流が発生する不都合がある。このため、5ビットの
発光指令信号生成部第2構成部22bが付加されてい
る。さらに、より一層のダイナミックレンジが要求され
る場合には、3個以上のD/A構成を並列接続して設け
るようにしてもよい。ここに、請求項5記載の発明が構
成されている。
【0096】次に、発光指令信号生成部22における電
流補償部について説明する。この電流補償部は発光指令
信号設定部21中の電流補償部(電流IDA1 から差し引
かれる電流を補償する)とは異なり、電流IDA1 に加算
される電流を補償する。即ち、トランジスタQ1 ,Q83
のベース電流補償である。トランジスタQ1 を例に採れ
ば、トランジスタQ1 のエミッタ電位はその下の電流源
をなすトランジスタQ85のコレクタ電流であるので、ト
ランジスタQ1 のベース電流はトランジスタQ85のベー
ス電流とほぼ同じであり、このトランジスタQ85のベー
ス電流を、トランジスタQ86,Q87等で構成されるカレ
ントミラー回路81により反転してPD端子に流し込
む。
【0097】これらの関係を式を用いて表現すると、N
PNトランジスタの電流増幅率をhfen 、PNPトラン
ジスタの電流増幅率をhfep 、トランジスタQ1 のベー
ス電流をib 、トランジスタQ87のコレクタ電流をIと
すれば、まず、トランジスタQ1 のエミッタ電流i1
は、 i1 =(1+hfen )・ib であり、トランジスタQ85のベース電流i2 は、 i2 =(1+hfen)・ib /hfen となる。この電流がトランジスタQ86,Q87等で構成さ
れるカレントミラー回路81を経ることにより、トラン
ジスタQ87のコレクタ電流は I=ib /{1+(2/hfep) となる。例えば、電流増幅率hfep が100であれば、
I≒0.98ib となるので、補償回路がない場合のI
DA1 の電流誤差がib であることを考慮すれば、誤差が
1/50となることが分かる。トランジスタQ83のベー
ス電流についても同様のの回路構成で補償できる。
【0098】さらに、補償の精度を上げたい場合であれ
ば、ベース電流補償型カレントミラー回路を用いれば、 I=ib /{1+(2/hfep 2) となるので、誤差をさらに1/50(hfep が100の
場合)に減らすことが可能となる。
【0099】さらに、オフセット電流生成部について説
明する。前述したように、光・電気負帰還ループ3にお
いてリアルタイムで半導体レーザ1の光出力を制御する
ためにはこの半導体レーザ1の光出力を完全に0にする
ことはできず、このため、半導体レーザ1の光出力の最
小値を設定する必要がある。この最小値の設定を行うの
がオフセット電流生成部であり、図5に示した電源部6
1中、図14に示した発光指令信号生成部第2構成部2
2b中に、オフセット電流を設定するオフセット電流生
成部82,83が各々設けられている。これらのオフセ
ット電流生成部82,83により生成されたオフセット
電流は、PD端子において受光素子2のモニタ電流と比
較され、誤差増幅器23により半導体レーザ1の順方向
電流となり、その電流値で半導体レーザ1のオフセット
発光量を設定することができる。
【0100】まず、図5に示す電源部61におけるオフ
セット電流生成部82は、トランジスタQ56と抵抗R25
とにより構成されており、トランジスタQ56のエミッタ
電位は電源部61において説明したように集積回路20
(LSI)内における安定電位であり、抵抗R25を外付
け抵抗若しくは可変抵抗とすることにより、所望の電流
を外部より設定することができる。この抵抗R25が請求
項10又は12記載の発明にいう外付け素子に該当す
る。
【0101】また、発光指令信号生成部第2構成部22
b中のオフセット電流生成部83は、トランジスタQ88
と抵抗R51とで構成されており、抵抗R51を外付け抵抗
若しくは可変抵抗とすることにより、所望の電流を外部
より設定することができる。この抵抗R51も請求項10
又は12記載の発明にいう外付け素子に該当する。トラ
ンジスタQ88のベース電位は、発光指令信号生成部22
中の電流設定部により受光素子2のモニタ電流特性等に
合わせて予め設定された電位であるので、モニタ電流の
大きい受光素子の場合にはこのオフセット電流生成部8
3で生成されるオフセット電流も大きくなり、モニタ電
流の小さい受光素子の場合にはこのオフセット電流生成
部83で生成されるオフセット電流も小さくなるよう
に、発光指令信号生成部22中の電流設定部と連動して
オフセット電流を設定することができる。このような機
能が、請求項11又は12記載の発明にいう連動設定部
に相当し、発光指令信号生成部22の最大電流とオフセ
ット電流とが連動して設定される。
【0102】このように、2つのオフセット電流生成部
82,83で生成される電流を加算した電流がオフセッ
ト電流となるので、各々の外付け抵抗R25,R51を予め
適当な抵抗値に設定することにより、受光素子2のモニ
タ電流特性に合わせてその都度オフセット電流を設定し
なくても、所望の半導体レーザのオフセット発光を得る
ことができ、よって、調整工程を自動化することができ
る。
【0103】なお、本実施の形態では、電流駆動部24
を電圧シフト部25として光・電気負帰還ループ3経路
上の誤差増幅部23内に組み込んだ例で説明したが、図
15に示すように、電流駆動部24を光・電気負帰還ル
ープ3とは別経路上に設けた構成例にも同様に適用でき
る。
【0104】また、本実施の形態では、半導体レーザ制
御装置13の大半をバイポーラトランジスタを用いた集
積回路20として集積化した例で説明したが、必ずしも
バイポーラトランジスタにより集積化したものに限ら
ず、C‐MOSトランジスタを用いたもの、両者を組み
合わせたもの等であってもよく、さらには、集積化され
ていない構成にも適用し得る。
【0105】
【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、入力デー
タをパルス幅変調データと強度変調データとに変換する
データ変換手段と、パルス幅変調データに基づいてパル
ス幅変調した複数個のパルスを生成するパルス幅変調手
段と、これらのデータ変換手段とパルス幅変調手段との
出力に基づいて半導体レーザに対してパルス幅変調と強
度変調とを同時に行う発光指令信号生成部とを有して、
入力データに基づいて、前記入力データに対しパルス幅
変調と強度変調とを同時に行う発光指令信号を生成する
パルス幅変調・強度変調信号生成部と、半導体レーザ
と、この半導体レーザの光出力をモニタする受光素子
と、ともに光・電気負帰還ループを形成して前記受光素
子から得られる前記半導体レーザの光出力に比例した受
光信号と前記パルス幅変調・強度変調信号生成部から与
えられる発光指令信号とが等しくなるように前記半導体
レーザの順方向電流を制御する誤差増幅部と、前記光・
電気負帰還ループの制御電流との和又は差の電流により
前記半導体レーザの駆動を制御するように生成されて前
記パルス幅変調・強度変調信号生成部から与えられる発
光指令信号に応じた駆動電流を前記半導体レーザに順方
向電流として流す電流駆動部とを備え、これらのパルス
幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅部と電流駆動部
とが1チップの集積回路で形成され、前記発光指令信号
生成部の電流値を設定する外付け素子を有しているの
で、外付け素子を調整することにより半導体レーザ及び
受光素子の特性に合わせて所望の光出力が得られるよう
にモニタ電流を安定化させることができ、よって、支障
なく集積化を図ることができ、かつ、広範囲なモニタ電
流に対応することも可能となる。
【0106】請求項2記載の発明によれば、請求項1記
載の半導体レーザ制御装置と同様のパルス幅変調・強度
変調信号生成部と発光指令信号生成部と誤差増幅部と電
流駆動部とを備え、これらのパルス幅変調・強度変調信
号生成部と発光指令信号生成部と誤差増幅部と電流駆動
部とを1チップの集積回路で形成した上で、さらに、光
・電気負帰還ループの制御速度を設定する外付け素子を
有しているので、制御系の設計の自由度が増す上に、制
御速度も所望の値に自在に設定でき、よって、支障なく
集積化を図ることができる。
【0107】請求項3記載の発明によれば、請求項1記
載の半導体レーザ制御装置と同様のパルス幅変調・強度
変調信号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを備えた上
で、電源投入時に電源電圧が所定電位に達した時点で動
作開始を許容するスタートアップ部をも備え、これらの
パルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅部と電流
駆動部とスタートアップ部とを1チップの集積回路で形
成しており、スタートアップ部の制御により電源電圧が
所定電位に達してから動作開始が許容されるので、集積
回路のイニシャライズの高精度化を図ることができ、立
上り時の半導体レーザの保護を図ることもできる。
【0108】請求項4記載の発明によれば、請求項1記
載の半導体レーザ制御装置と同様のパルス幅変調・強度
変調信号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを備えた上
で、電源投入時に電源電圧が所定電位に達するとともに
発光指令信号に対応する発光指令電流が所定電位に達し
た時点で動作開始を許容するスタートアップ部をも備
え、これらのパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差
増幅部と電流駆動部とスタートアップ部とを1チップの
集積回路で形成し、かつ、前記スタートアップ部が前記
集積回路外の制御信号によりこの集積回路の初期化を行
うリセット機能を有しているので、リセット機能を利用
することで集積回路を再イニシャライズすることもで
き、常に良好なる光出力波形を得ることができる。
【0109】請求項5記載の発明によれば、請求項1記
載の半導体レーザ制御装置と同様の複数の発光指令信号
生成部を備えるパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤
差増幅部と電流駆動部とを備え、これらのパルス幅変調
・強度変調信号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを1
チップの集積回路で形成した上で、さらに、光・電気負
帰還ループの制御速度を設定する外付け素子を有してい
るので、発光指令信号生成部が複数であり、広範囲のモ
ニタ電流に対応可能となるため、半導体レーザや受光素
子の仕様の違いにも対処し得る。
【0110】請求項6記載の発明によれば、請求項1記
載の半導体レーザ制御装置と同様のパルス幅変調・強度
変調信号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを備え、こ
れらのパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅部
と電流駆動部とを1チップの集積回路で形成した上で、
発光指令信号生成部の最大電流を可変させる外部制御電
圧の入力端子を有しているので、外部制御電圧によって
発光指令信号生成部の最大電流をダイナミックに可変す
ることで、動作時のシェーディング補正や光量の微調整
が可能となる。
【0111】請求項7記載の発明によれば、請求項6記
載の半導体レーザ制御装置において、電源投入時に発光
指令信号に対応する発光指令電流が所定電流に達した時
点で動作開始を許容するスタートアップ部を備えている
ので、請求項3記載の発明と同様に、集積回路のイニシ
ャライズの高精度化を図ることができ、立上り時の半導
体レーザの保護を図ることもできる。
【0112】請求項8記載の発明によれば、請求項6記
載の半導体レーザ制御装置において、発光指令信号に対
応する駆動電流を設定する加算電流設定部と、発光指令
信号生成部による最大電流とこの加算電流設定部による
最大電流とを連動させる連動部とを有しているので、請
求項6記載の発明においてダイナミックにシェーディン
グ補正する時、加算電流設定部による最大電流も連動す
るので、光出力波形を理想の方形波に近付けることがで
きる。
【0113】請求項9記載の発明によれば、請求項6記
載の半導体レーザ制御装置において、電源投入時に発光
指令信号に対応する発光指令電流が所定電流に達した時
点で動作開始を許容するスタートアップ部と、発光指令
信号に対応する駆動電流を設定する加算電流設定部と、
発光指令信号生成部による最大電流とこの加算電流設定
部による最大電流とを連動させる連動部とを有している
ので、請求項7記載の発明においてダイナミックにシェ
ーディング補正する時、加算電流設定部による最大電流
も連動するので、光出力波形を理想の方形波に近付ける
ことができる。
【0114】請求項10記載の発明によれば、請求項1
記載の半導体レーザ制御装置と同様のパルス幅変調・強
度変調信号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを備えた
上で、半導体レーザの光出力を所望の最小値とするオフ
セット電流を設定する外付け素子を有するオフセット設
定部をも備え、これらのパルス幅変調・強度変調信号生
成部と誤差増幅部と電流駆動部とオフセット設定部とを
1チップの集積回路で形成している。光・電気負帰還ル
ープにおいてリアルタイムで半導体レーザの光出力を制
御するためには、半導体レーザの光出力を完全に0とす
ることはできず、このため、半導体レーザの光出力を所
望の最小値とするオフセット電流を設定する必要がある
が、外付け素子を用いることによりオフセット設定部に
て所望のオフセット電流を簡単に設定できる。
【0115】請求項11記載の発明によれば、請求項1
記載の半導体レーザ制御装置と同様のパルス幅変調・強
度変調信号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを備えた
上で、発光指令信号生成部の最大電流と、半導体レーザ
の光出力を最小値とするオフセット電流とを連動させて
設定する外付け素子を有する連動設定部をも備え、これ
らのパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅部と
電流駆動部と連動設定部とを1チップの集積回路で形成
しているので、オフセット電流の設定が発光指令信号生
成部の最大電流の設定に連動して行われるので、外付け
素子の値を変更しなくてもオフセット電流が一定となる
ように自動設定することができる。
【0116】請求項12記載の発明によれば、請求項1
記載の半導体レーザ制御装置と同様のパルス幅変調・強
度変調信号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを備えた
上で、前記半導体レーザの光出力を所望の最小値とする
オフセット電流を設定する外付け素子を有するオフセッ
ト設定部と、発光指令信号生成部の最大電流と前記オフ
セット電流とを連動させて設定する外付け素子を有する
連動設定部とを備え、これらのパルス幅変調・強度変調
信号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とオフセット設定
部と連動設定部とを1チップの集積回路で形成している
ので、請求項11記載の発明と同様に外付け素子の値を
変更しなくてもオフセット電流が一定となるように自動
設定し得る上に、オフセット設定部を利用することによ
り所望の特性を自在に持たせることも可能となる。
【0117】請求項13記載の発明によれば、請求項1
記載の半導体レーザ制御装置と同様のパルス幅変調・強
度変調信号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを備えた
上で、前記半導体レーザの出力端子の異常を検出する異
常検出部をも備え、これらのパルス幅変調・強度変調信
号生成部と誤差増幅部と電流駆動部と異常検出部とを1
チップの集積回路で形成しているので、半導体レーザが
劣化する場合に多少の劣化であれば光・電気負帰還ルー
プと電流駆動部の電流設定においてその値を検出するこ
とで設定し得るが、大幅に劣化し電流駆動部に大電流が
流れてしまう場合には集積回路の保護のためにも異常検
出が必要となるが、この異常検出部によってこの機能が
果たされる。
【0118】請求項14記載の発明によれば、請求項1
記載の半導体レーザ制御装置と同様のパルス幅変調・強
度変調信号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを備え、
これらのパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅
部と電流駆動部とを1チップの集積回路で形成した上
で、前記発光指令信号生成部は、基準となる電流に対し
てその基準電流のベース電流を経由するスイッチトラン
ジスタの数だけベース電流を補償するベース電流補償部
を有しているので、基準となる電流に対してその基準電
流のベース電流を経由するスイッチトランジスタの数だ
け加算することにより、ベース電流による誤差電流の発
生や特性変化を抑制でき、発光指令信号生成部の電流を
高精度化することができる。
【0119】請求項15記載の発明によれば、請求項1
記載の半導体レーザ制御装置と同様のパルス幅変調・強
度変調信号生成部と誤差増幅部と電流駆動部とを備え、
これらのパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅
部と電流駆動部とを1チップの集積回路で形成した上
で、前記発光指令信号生成部は、基準となる電流に対し
てその基準電流のベース電流を前記発光指令信号生成部
の電流値を設定する外付け素子を有するとともに、受光
素子により決定される絶対電流を流す発光指令信号生成
部は、基準となる電流に対してその基準電流のベース電
流を経由するスイッチトランジスタの数だけベース電流
を補償するベース電流補償部を有しているので、外付け
素子を調整することにより半導体レーザ及び受光素子の
特性に合わせて所望の光出力が得られるようにモニタ電
流を安定化させることができ、かつ、広範囲なモニタ電
流に対応することも可能となる上に、ベース電流による
誤差電流の発生や特性変化を抑制でき、発光指令信号生
成部の電流を高精度化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の一形態を示す概略ブロック図で
ある。
【図2】誤差増幅部及び電圧シフト部の構成例を示す回
路図である。
【図3】半導体レーザの経時変化による動作電流及び微
分量子効率の変化の様子を示す特性図である。
【図4】半導体劣化検出部の構成例を示す回路図であ
る。
【図5】電源部の構成例を示す回路図である。
【図6】スタートアップ部の構成例を示す回路図であ
る。
【図7】発振回路の構成例を示す回路図である。
【図8】ラッチ回路の構成例を示す回路図である。
【図9】最終段のラッチ回路の構成例を示す回路図であ
る。
【図10】各部の波形を示すタイムチャートである。
【図11】微分量子効率検出部の構成例を示す回路図で
ある。
【図12】発光指令信号設定部の構成例を示す回路図で
ある。
【図13】第1の発光指令信号生成部の構成例を示す回
路図である。
【図14】第2の発光指令信号生成部の構成例を示す回
路図である。
【図15】連動の有無による光出力制御例を示す特性図
である。
【図16】変形例を示すブロック図である。
【図17】従来の電流駆動部によるIDA2 加算方式を示
す回路図である。
【図18】IDA2 に伴うPS の有無による光出力制御例
を示す特性図である。
【図19】パルス幅強度混合方式用の構成例を示すブロ
ック図である。
【図20】パルス幅強度混合方式の光出力とドットイメ
ージとの関係を示す模式図である。
【図21】その波形生成法を示すタイムチャートであ
る。
【符号の説明】
1 被駆動半導体レーザ 2 受光素子 3 光・電気負帰還ループ 20 集積回路 22 発光指令信号生成部 23 誤差増幅部 24 電流駆動部 34 加算電流設定部 35 スタートアップ部 35a 第1のスタートアップ部 35b 第2のスタートアップ部 62 異常検出部 73 ベース電流補償部 82,83 オフセット設定部 91 発光指令信号生成部 R25,R41,R51 外付け素子

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 入力データをパルス幅変調データと強度
    変調データとに変換するデータ変換手段と、パルス幅変
    調データに基づいてパルス幅変調した複数個のパルスを
    生成するパルス幅変調手段と、これらのデータ変換手段
    とパルス幅変調手段との出力に基づいて半導体レーザに
    対してパルス幅変調と強度変調とを同時に行う発光指令
    信号生成部とを有して、入力データに基づいて、前記入
    力データに対しパルス幅変調と強度変調とを同時に行う
    発光指令信号を生成するパルス幅変調・強度変調信号生
    成部と、 半導体レーザと、この半導体レーザの光出力をモニタす
    る受光素子と、ともに光・電気負帰還ループを形成して
    前記受光素子から得られる前記半導体レーザの光出力に
    比例した受光信号と前記パルス幅変調・強度変調信号生
    成部から与えられる発光指令信号とが等しくなるように
    前記半導体レーザの順方向電流を制御する誤差増幅部
    と、 前記光・電気負帰還ループの制御電流との和又は差の電
    流により前記半導体レーザの駆動を制御するように生成
    されて前記パルス幅変調・強度変調信号生成部から与え
    られる発光指令信号に応じた駆動電流を前記半導体レー
    ザに順方向電流として流す電流駆動部とを備え、 これらのパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅
    部と電流駆動部とが1チップの集積回路で形成され、前
    記発光指令信号生成部の電流値を設定する外付け素子を
    有することを特徴とする半導体レーザ制御装置。
  2. 【請求項2】 入力データに基づいて、前記入力データ
    に対しパルス幅変調と強度変調とを同時に行う発光指令
    信号を生成するパルス幅変調・強度変調信号生成部と、 半導体レーザと、この半導体レーザの光出力をモニタす
    る受光素子と、ともに光・電気負帰還ループを形成して
    前記受光素子から得られる前記半導体レーザの光出力に
    比例した受光信号と前記パルス幅変調・強度変調信号生
    成部から与えられる発光指令信号とが等しくなるように
    前記半導体レーザの順方向電流を制御する誤差増幅部
    と、 前記光・電気負帰還ループの制御電流との和又は差の電
    流により前記半導体レーザの駆動を制御するように生成
    されて前記パルス幅変調・強度変調信号生成部から与え
    られる発光指令信号に応じた駆動電流を前記半導体レー
    ザに順方向電流として流す電流駆動部とを備え、 これらのパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅
    部と電流駆動部とが1チップの集積回路で形成され、前
    記光・電気負帰還ループの制御速度を設定する外付け素
    子を有することを特徴とする半導体レーザ制御装置。
  3. 【請求項3】 入力データに基づいて、前記入力データ
    に対しパルス幅変調と強度変調とを同時に行う発光指令
    信号を生成するパルス幅変調・強度変調信号生成部と、 半導体レーザと、この半導体レーザの光出力をモニタす
    る受光素子と、ともに光・電気負帰還ループを形成して
    前記受光素子から得られる前記半導体レーザの光出力に
    比例した受光信号と前記パルス幅変調・強度変調信号生
    成部から与えられる発光指令信号とが等しくなるように
    前記半導体レーザの順方向電流を制御する誤差増幅部
    と、 前記光・電気負帰還ループの制御電流との和又は差の電
    流により前記半導体レーザの駆動を制御するように生成
    されて前記パルス幅変調・強度変調信号生成部から与え
    られる発光指令信号に応じた駆動電流を前記半導体レー
    ザに順方向電流として流す電流駆動部と、 電源投入時に電源電圧が所定電位に達した時点で動作開
    始を許容するスタートアップ部とを備え、 これらのパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅
    部と電流駆動部とスタートアップ部とが1チップの集積
    回路で形成されていることを特徴とする半導体レーザ制
    御装置。
  4. 【請求項4】 入力データに基づいて、前記入力データ
    に対しパルス幅変調と強度変調とを同時に行う発光指令
    信号を生成するパルス幅変調・強度変調信号生成部と、 半導体レーザと、この半導体レーザの光出力をモニタす
    る受光素子と、ともに光・電気負帰還ループを形成して
    前記受光素子から得られる前記半導体レーザの光出力に
    比例した受光信号と前記パルス幅変調・強度変調信号生
    成部から与えられる発光指令信号とが等しくなるように
    前記半導体レーザの順方向電流を制御する誤差増幅部
    と、 前記光・電気負帰還ループの制御電流との和又は差の電
    流により前記半導体レーザの駆動を制御するように生成
    されて前記パルス幅変調・強度変調信号生成部から与え
    られる発光指令信号に応じた駆動電流を前記半導体レー
    ザに順方向電流として流す電流駆動部と、 電源投入時に電源電圧が所定電位に達するとともに発光
    指令信号に対応する発光指令電流が所定電位に達した時
    点で動作開始を許容するスタートアップ部とを備え、 これらのパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅
    部と電流駆動部とスタートアップ部とが1チップの集積
    回路で形成され、前記スタートアップ部が前記集積回路
    外の制御信号によりこの集積回路の初期化を行うリセッ
    ト機能を有することを特徴とする半導体レーザ制御装
    置。
  5. 【請求項5】 入力データに基づいて、前記入力データ
    に対しパルス幅変調と強度変調とを同時に行う発光指令
    信号を生成する複数の発光指令信号生成部を備えるパル
    ス幅変調・強度変調信号生成部と、 半導体レーザと、この半導体レーザの光出力をモニタす
    る受光素子と、ともに光・電気負帰還ループを形成して
    前記受光素子から得られる前記半導体レーザの光出力に
    比例した受光信号と前記パルス幅変調・強度変調信号生
    成部から与えられる発光指令信号とが等しくなるように
    前記半導体レーザの順方向電流を制御する誤差増幅部
    と、 前記光・電気負帰還ループの制御電流との和又は差の電
    流により前記半導体レーザの駆動を制御するように生成
    されて前記パルス幅変調・強度変調信号生成部から与え
    られる発光指令信号に応じた駆動電流を前記半導体レー
    ザに順方向電流として流す電流駆動部とを備え、 これらのパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅
    部と電流駆動部とが1チップの集積回路で形成されてい
    ることを特徴とする半導体レーザ制御装置。
  6. 【請求項6】 入力データをパルス幅変調データと強度
    変調データとに変換するデータ変換手段と、パルス幅変
    調データに基づいてパルス幅変調した複数個のパルスを
    生成するパルス幅変調手段と、これらのデータ変換手段
    とパルス幅変調手段との出力に基づいて半導体レーザに
    対してパルス幅変調と強度変調とを同時に行う発光指令
    信号生成部とを有して、入力データに基づいて、前記入
    力データに対しパルス幅変調と強度変調とを同時に行う
    発光指令信号を生成するパルス幅変調・強度変調信号生
    成部と、 半導体レーザと、この半導体レーザの光出力をモニタす
    る受光素子と、ともに光・電気負帰還ループを形成して
    前記受光素子から得られる前記半導体レーザの光出力に
    比例した受光信号と前記パルス幅変調・強度変調信号生
    成部から与えられる発光指令信号とが等しくなるように
    前記半導体レーザの順方向電流を制御する誤差増幅部
    と、 前記光・電気負帰還ループの制御電流との和又は差の電
    流により前記半導体レーザの駆動を制御するように生成
    されて前記パルス幅変調・強度変調信号生成部から与え
    られる発光指令信号に応じた駆動電流を前記半導体レー
    ザに順方向電流として流す電流駆動部とを備え、 これらのパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅
    部と電流駆動部とが1チップの集積回路で形成され、前
    記発光指令信号生成部の最大電流を可変させる外部制御
    電圧の入力端子を有することを特徴とする半導体レーザ
    制御装置。
  7. 【請求項7】 電源投入時に発光指令信号に対応する発
    光指令電流が所定電流に達した時点で動作開始を許容す
    るスタートアップ部を備えることを特徴とする請求項6
    記載の半導体レーザ制御装置。
  8. 【請求項8】 発光指令信号に対応する駆動電流を設定
    する加算電流設定部と、発光指令信号生成部による最大
    電流とこの加算電流設定部による最大電流とを連動させ
    る連動部とを有することを特徴とする請求項6記載の半
    導体レーザ制御装置。
  9. 【請求項9】 電源投入時に発光指令信号に対応する発
    光指令電流が所定電流に達した時点で動作開始を許容す
    るスタートアップ部と、発光指令信号に対応する駆動電
    流を設定する加算電流設定部と、発光指令信号生成部に
    よる最大電流とこの加算電流設定部による最大電流とを
    連動させる連動部とを有することを特徴とする請求項6
    記載の半導体レーザ制御装置。
  10. 【請求項10】 入力データに基づいて、前記入力デー
    タに対しパルス幅変調と強度変調とを同時に行う発光指
    令信号を生成するパルス幅変調・強度変調信号生成部
    と、 半導体レーザと、この半導体レーザの光出力をモニタす
    る受光素子と、ともに光・電気負帰還ループを形成して
    前記受光素子から得られる前記半導体レーザの光出力に
    比例した受光信号と前記パルス幅変調・強度変調信号生
    成部から与えられる発光指令信号とが等しくなるように
    前記半導体レーザの順方向電流を制御する誤差増幅部
    と、 前記光・電気負帰還ループの制御電流との和又は差の電
    流により前記半導体レーザの駆動を制御するように生成
    されて前記パルス幅変調・強度変調信号生成部から与え
    られる発光指令信号に応じた駆動電流を前記半導体レー
    ザに順方向電流として流す電流駆動部と、 半導体レーザの光出力を所望の最小値とするオフセット
    電流を設定する外付け素子を有するオフセット設定部と
    を備え、 これらのパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅
    部と電流駆動部とオフセット設定部とが1チップの集積
    回路で形成されていることを特徴とする半導体レーザ制
    御装置。
  11. 【請求項11】 入力データをパルス幅変調データと強
    度変調データとに変換するデータ変換手段と、パルス幅
    変調データに基づいてパルス幅変調した複数個のパルス
    を生成するパルス幅変調手段と、これらのデータ変換手
    段とパルス幅変調手段との出力に基づいて半導体レーザ
    に対してパルス幅変調と強度変調とを同時に行う発光指
    令信号生成部とを有して、入力データに基づいて、前記
    入力データに対しパルス幅変調と強度変調とを同時に行
    う発光指令信号を生成するパルス幅変調・強度変調信号
    生成部と、 半導体レーザと、この半導体レーザの光出力をモニタす
    る受光素子と、ともに光・電気負帰還ループを形成して
    前記受光素子から得られる前記半導体レーザの光出力に
    比例した受光信号と前記パルス幅変調・強度変調信号生
    成部から与えられる発光指令信号とが等しくなるように
    前記半導体レーザの順方向電流を制御する誤差増幅部
    と、 前記光・電気負帰還ループの制御電流との和又は差の電
    流により前記半導体レーザの駆動を制御するように生成
    されて前記パルス幅変調・強度変調信号生成部から与え
    られる発光指令信号に応じた駆動電流を前記半導体レー
    ザに順方向電流として流す電流駆動部と、 前記発光指令信号生成部の最大電流と、半導体レーザの
    光出力を最小値とするオフセット電流とを連動させて設
    定する外付け素子を有する連動設定部とを備え、 これらのパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅
    部と電流駆動部と連動設定部とが1チップの集積回路で
    形成されていることを特徴とする半導体レーザ制御装
    置。
  12. 【請求項12】 入力データをパルス幅変調データと強
    度変調データとに変換するデータ変換手段と、パルス幅
    変調データに基づいてパルス幅変調した複数個のパルス
    を生成するパルス幅変調手段と、これらのデータ変換手
    段とパルス幅変調手段との出力に基づいて半導体レーザ
    に対してパルス幅変調と強度変調とを同時に行う発光指
    令信号生成部とを有して、入力データに基づいて、前記
    入力データに対しパルス幅変調と強度変調とを同時に行
    う発光指令信号を生成するパルス幅変調・強度変調信号
    生成部と、 半導体レーザと、この半導体レーザの光出力をモニタす
    る受光素子と、ともに光・電気負帰還ループを形成して
    前記受光素子から得られる前記半導体レーザの光出力に
    比例した受光信号と前記パルス幅変調・強度変調信号生
    成部から与えられる発光指令信号とが等しくなるように
    前記半導体レーザの順方向電流を制御する誤差増幅部
    と、 前記光・電気負帰還ループの制御電流との和又は差の電
    流により前記半導体レーザの駆動を制御するように生成
    されて前記パルス幅変調・強度変調信号生成部から与え
    られる発光指令信号に応じた駆動電流を前記半導体レー
    ザに順方向電流として流す電流駆動部と、 前記半導体レーザの光出力を所望の最小値とするオフセ
    ット電流を設定する外付け素子を有するオフセット設定
    部と、 前記発光指令信号生成部の最大電流と前記オフセット電
    流とを連動させて設定する外付け素子を有する連動設定
    部とを備え、 これらのパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅
    部と電流駆動部とオフセット設定部と連動設定部とが1
    チップの集積回路で形成されていることを特徴とする半
    導体レーザ制御装置。
  13. 【請求項13】 入力データに基づいて、前記入力デー
    タに対しパルス幅変調と強度変調とを同時に行う発光指
    令信号を生成するパルス幅変調・強度変調信号生成部
    と、 半導体レーザと、この半導体レーザの光出力をモニタす
    る受光素子と、ともに光・電気負帰還ループを形成して
    前記受光素子から得られる前記半導体レーザの光出力に
    比例した受光信号と前記パルス幅変調・強度変調信号生
    成部から与えられる発光指令信号とが等しくなるように
    前記半導体レーザの順方向電流を制御する誤差増幅部
    と、 前記光・電気負帰還ループの制御電流との和又は差の電
    流により前記半導体レーザの駆動を制御するように生成
    されて前記パルス幅変調・強度変調信号生成部から与え
    られる発光指令信号に応じた駆動電流を前記半導体レー
    ザに順方向電流として流す電流駆動部と、 前記半導体レーザの出力端子の異常を検出する異常検出
    部とを備え、 これらのパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅
    部と電流駆動部と異常検出部とが1チップの集積回路で
    形成されていることを特徴とする半導体レーザ制御装
    置。
  14. 【請求項14】 入力データをパルス幅変調データと強
    度変調データとに変換するデータ変換手段と、パルス幅
    変調データに基づいてパルス幅変調した複数個のパルス
    を生成するパルス幅変調手段と、これらのデータ変換手
    段とパルス幅変調手段との出力に基づいて半導体レーザ
    に対してパルス幅変調と強度変調とを同時に行う発光指
    令信号生成部とを有して、入力データに基づいて、前記
    入力データに対しパルス幅変調と強度変調とを同時に行
    う発光指令信号を生成するパルス幅変調・強度変調信号
    生成部と、 半導体レーザと、この半導体レーザの光出力をモニタす
    る受光素子と、ともに光・電気負帰還ループを形成して
    前記受光素子から得られる前記半導体レーザの光出力に
    比例した受光信号と前記パルス幅変調・強度変調信号生
    成部から与えられる発光指令信号とが等しくなるように
    前記半導体レーザの順方向電流を制御する誤差増幅部
    と、 前記光・電気負帰還ループの制御電流との和又は差の電
    流により前記半導体レーザの駆動を制御するように生成
    されて前記パルス幅変調・強度変調信号生成部から与え
    られる発光指令信号に応じた駆動電流を前記半導体レー
    ザに順方向電流として流す電流駆動部とを備え、 これらのパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅
    部と電流駆動部とが1チップの集積回路で形成され、前
    記発光指令信号生成部は、基準となる電流に対してその
    基準電流のベース電流を経由するスイッチトランジスタ
    の数だけベース電流を補償するベース電流補償部を有す
    ることを特徴とする半導体レーザ制御装置。
  15. 【請求項15】 入力データをパルス幅変調データと強
    度変調データとに変換するデータ変換手段と、パルス幅
    変調データに基づいてパルス幅変調した複数個のパルス
    を生成するパルス幅変調手段と、これらのデータ変換手
    段とパルス幅変調手段との出力に基づいて半導体レーザ
    に対してパルス幅変調と強度変調とを同時に行う発光指
    令信号生成部とを有して、入力データに基づいて、前記
    入力データに対しパルス幅変調と強度変調とを同時に行
    う発光指令信号を生成するパルス幅変調・強度変調信号
    生成部と、 半導体レーザと、この半導体レーザの光出力をモニタす
    る受光素子と、ともに光・電気負帰還ループを形成して
    前記受光素子から得られる前記半導体レーザの光出力に
    比例した受光信号と前記パルス幅変調・強度変調信号生
    成部から与えられる発光指令信号とが等しくなるように
    前記半導体レーザの順方向電流を制御する誤差増幅部
    と、 前記光・電気負帰還ループの制御電流との和又は差の電
    流により前記半導体レーザの駆動を制御するように生成
    されて前記パルス幅変調・強度変調信号生成部から与え
    られる発光指令信号に応じた駆動電流を前記半導体レー
    ザに順方向電流として流す電流駆動部とを備え、 これらのパルス幅変調・強度変調信号生成部と誤差増幅
    部と電流駆動部とが1チップの集積回路で形成され、前
    記発光指令信号生成部は、基準となる電流に対してその
    基準電流のベース電流を前記発光指令信号生成部の電流
    値を設定する外付け素子を有するとともに、受光素子に
    より決定される絶対電流を流す発光指令信号生成部は、
    基準となる電流に対してその基準電流のベース電流を経
    由するスイッチトランジスタの数だけベース電流を補償
    するベース電流補償部を有することを特徴とする半導体
    レーザ制御装置。
JP15200797A 1996-07-26 1997-06-10 半導体レーザ制御装置 Pending JPH1093181A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2011061024A (ja) * 2009-09-10 2011-03-24 Ricoh Co Ltd 半導体装置

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