JPH1092711A - 周辺露光装置 - Google Patents
周辺露光装置Info
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- JPH1092711A JPH1092711A JP8239499A JP23949996A JPH1092711A JP H1092711 A JPH1092711 A JP H1092711A JP 8239499 A JP8239499 A JP 8239499A JP 23949996 A JP23949996 A JP 23949996A JP H1092711 A JPH1092711 A JP H1092711A
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- exposure
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板上の素子領域の外形に沿って階段状に高
精度で周辺露光を行うことができる周辺露光装置を提供
することである。 【解決手段】 基板回転部１０に保持した基板１の上方
にＣＣＤカメラ５１を配置し、基板１上の素子領域のパ
ターンを画像入力し、画像データに基づいて素子領域の
外形に沿った階段状の周辺露光領域の位置データを算出
する。画像入力および位置データの算出は基板１を４つ
に分割した分割領域ごとに行われる。光照射部２０は、
周辺露光領域の位置データに基づいて基板１の周縁領域
を露光し、基板１の周縁部に素子領域の外形に沿った階
段状の周辺露光領域を形成する。
精度で周辺露光を行うことができる周辺露光装置を提供
することである。 【解決手段】 基板回転部１０に保持した基板１の上方
にＣＣＤカメラ５１を配置し、基板１上の素子領域のパ
ターンを画像入力し、画像データに基づいて素子領域の
外形に沿った階段状の周辺露光領域の位置データを算出
する。画像入力および位置データの算出は基板１を４つ
に分割した分割領域ごとに行われる。光照射部２０は、
周辺露光領域の位置データに基づいて基板１の周縁領域
を露光し、基板１の周縁部に素子領域の外形に沿った階
段状の周辺露光領域を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ等の
基板の表面に塗布された感光膜の周縁部（周辺部）を露
光する周辺露光装置に関する。
基板の表面に塗布された感光膜の周縁部（周辺部）を露
光する周辺露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体デバイスの製造工程では、半導体
ウエハ等の基板上にレジスト液を回転塗布し、所定のパ
ターンに現像してレジストマスクを形成した後、このレ
ジストマスクを用いて薄膜パターンを形成することが行
われている。
ウエハ等の基板上にレジスト液を回転塗布し、所定のパ
ターンに現像してレジストマスクを形成した後、このレ
ジストマスクを用いて薄膜パターンを形成することが行
われている。
【０００３】レジスト液が回転塗布された基板は、その
周縁部を把持されて種々の基板装置間を搬送される。レ
ジスト液は回転塗布によって基板の周縁部にまで塗り広
げられている。したがって、基板の周縁部を把持する
と、周縁部のレジストが剥離して飛散し、基板中央部の
レジスト膜表面を汚染したり、他の基板の表面を汚染し
たりして基板処理の歩留りを低下させてしまう場合があ
る。
周縁部を把持されて種々の基板装置間を搬送される。レ
ジスト液は回転塗布によって基板の周縁部にまで塗り広
げられている。したがって、基板の周縁部を把持する
と、周縁部のレジストが剥離して飛散し、基板中央部の
レジスト膜表面を汚染したり、他の基板の表面を汚染し
たりして基板処理の歩留りを低下させてしまう場合があ
る。
【０００４】このために、ポジ型のレジストの場合に
は、周辺露光装置を用いて予め基板の周縁部のレジスト
を露光しておき、レジストパターンの現像時に同時に基
板周縁部の不要なレジストを除去する処理が行われてい
る。
は、周辺露光装置を用いて予め基板の周縁部のレジスト
を露光しておき、レジストパターンの現像時に同時に基
板周縁部の不要なレジストを除去する処理が行われてい
る。
【０００５】従来の周辺露光装置では、基板の外縁から
一定幅の領域を環状に露光する方法が行われていた。こ
のような露光方法は、例えば、特開平２−２８８２２１
号公報あるいは特公平６−１２７５６号公報に開示され
ている。前者の周辺露光装置では、基板の外周縁に接触
させたカムを用いて機械的に基板のオリエンテーション
フラット（以下、オリフラと称す）またはノッチの位置
を検出し、これを基準として基板の周縁部に一定幅の周
辺露光領域を環状に形成している。
一定幅の領域を環状に露光する方法が行われていた。こ
のような露光方法は、例えば、特開平２−２８８２２１
号公報あるいは特公平６−１２７５６号公報に開示され
ている。前者の周辺露光装置では、基板の外周縁に接触
させたカムを用いて機械的に基板のオリエンテーション
フラット（以下、オリフラと称す）またはノッチの位置
を検出し、これを基準として基板の周縁部に一定幅の周
辺露光領域を環状に形成している。
【０００６】また、後者の周辺露光装置では、ラインセ
ンサを用いて光学的に基板のオリフラやノッチの位置を
検出し、これを基準として一定幅の周辺露光領域を環状
に形成している。
ンサを用いて光学的に基板のオリフラやノッチの位置を
検出し、これを基準として一定幅の周辺露光領域を環状
に形成している。
【０００７】ところが、近年では、レジストから発生す
るパーティクルによる汚染を確実に防止するために、基
板周縁部の不要なレジストをより完全に除去する要望が
高まってきた。
るパーティクルによる汚染を確実に防止するために、基
板周縁部の不要なレジストをより完全に除去する要望が
高まってきた。
【０００８】基板上には矩形の素子が複数形成されるた
め、整列した複数の素子（素子領域）の外形は階段状に
形成されている。一方、基板はほぼ円形であるため、基
板の外周縁から一定幅の周辺露光領域を形成すると、階
段状の素子領域の外形部分との間に不要なレジストが残
存する領域が生じる。
め、整列した複数の素子（素子領域）の外形は階段状に
形成されている。一方、基板はほぼ円形であるため、基
板の外周縁から一定幅の周辺露光領域を形成すると、階
段状の素子領域の外形部分との間に不要なレジストが残
存する領域が生じる。
【０００９】そこで、最近では、階段状の素子領域の外
形に沿って周辺露光を行うことが可能な周辺露光装置が
提案されている。このような周辺露光装置は、例えば特
開平３−２４２９２２号公報に開示されている。図７
は、階段状周辺露光が可能な周辺露光装置の露光動作の
説明図である。図７において、基板１上には複数の素子
２が配列されており、各素子２間には各素子２を切断す
るためのスクライブライン３が形成されている。
形に沿って周辺露光を行うことが可能な周辺露光装置が
提案されている。このような周辺露光装置は、例えば特
開平３−２４２９２２号公報に開示されている。図７
は、階段状周辺露光が可能な周辺露光装置の露光動作の
説明図である。図７において、基板１上には複数の素子
２が配列されており、各素子２間には各素子２を切断す
るためのスクライブライン３が形成されている。
【００１０】この周辺露光装置では、基板１の周縁部に
形成すべき階段状の周辺露光領域５の寸法データが予め
記憶されている。そして、周辺露光処理では、まずフォ
トセンサ４５を用いて基板１のオリフラ部１ａを検出
し、オリフラ部１ａの位置に基づいて周辺露光の基準位
置を設定し、この基準位置から予め記憶した周辺露光領
域５の寸法データに従って基板１上のレジストの周辺露
光を行う。図７中の点線４ａは素子領域の外形線７から
一定距離隔てた位置に形成されるべき正規の周辺露光領
域５との境界線を示している。
形成すべき階段状の周辺露光領域５の寸法データが予め
記憶されている。そして、周辺露光処理では、まずフォ
トセンサ４５を用いて基板１のオリフラ部１ａを検出
し、オリフラ部１ａの位置に基づいて周辺露光の基準位
置を設定し、この基準位置から予め記憶した周辺露光領
域５の寸法データに従って基板１上のレジストの周辺露
光を行う。図７中の点線４ａは素子領域の外形線７から
一定距離隔てた位置に形成されるべき正規の周辺露光領
域５との境界線を示している。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】ところが、各素子２は
基板１に形成されたアライメントマーク（図示省略）を
基準に形成されており、基板１の外周縁あるいはオリフ
ラ部１ａを基準に形成されているものではない。このた
め、基板１の外周縁位置、例えばオリフラ部１ａの位置
を基準に上記の周辺露光を行うと、基板１の外周縁に対
する素子２の相対的な位置関係が基板ごとにばらつきを
生じ、図７中で実線４ｂで示すように、周辺露光領域５
の端縁位置が正規の位置（点線４ａ）からずれる場合が
生じる。この場合には、素子２上の必要なレジストの部
分までが露光されたり、あるいは本来周辺露光により除
去すべき部分が残存したりして周辺露光の不良が発生す
るという問題があった。また、周辺露光領域５の寸法デ
ータを予め記憶させておく作業は煩雑であり、操作者の
負担が大きいものであった。
基板１に形成されたアライメントマーク（図示省略）を
基準に形成されており、基板１の外周縁あるいはオリフ
ラ部１ａを基準に形成されているものではない。このた
め、基板１の外周縁位置、例えばオリフラ部１ａの位置
を基準に上記の周辺露光を行うと、基板１の外周縁に対
する素子２の相対的な位置関係が基板ごとにばらつきを
生じ、図７中で実線４ｂで示すように、周辺露光領域５
の端縁位置が正規の位置（点線４ａ）からずれる場合が
生じる。この場合には、素子２上の必要なレジストの部
分までが露光されたり、あるいは本来周辺露光により除
去すべき部分が残存したりして周辺露光の不良が発生す
るという問題があった。また、周辺露光領域５の寸法デ
ータを予め記憶させておく作業は煩雑であり、操作者の
負担が大きいものであった。
【００１２】本発明の目的は、基板上の素子領域の外形
に沿って階段状に高精度で周辺露光を行うことができる
周辺露光装置を提供することである。
に沿って階段状に高精度で周辺露光を行うことができる
周辺露光装置を提供することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る周辺露光装置は、基板上に塗布された感光膜
の内、基板の素子領域の外側にある周辺露光領域を素子
領域の外形に沿って階段状に露光する周辺露光装置であ
って、基板を保持する基板保持手段と、基板の素子領域
の形状を画像情報として入力する画像入力手段と、画像
入力手段から入力された画像情報に基づいて素子領域の
外形に沿った周辺露光領域の位置データを算出する画像
処理手段と、感光膜に光を照射する光照射手段と、画像
処理手段によって算出された周辺露光領域の位置データ
に基づいて感光膜の周辺露光領域が露光されるように光
照射手段を制御する制御手段とを備えたものである。
発明に係る周辺露光装置は、基板上に塗布された感光膜
の内、基板の素子領域の外側にある周辺露光領域を素子
領域の外形に沿って階段状に露光する周辺露光装置であ
って、基板を保持する基板保持手段と、基板の素子領域
の形状を画像情報として入力する画像入力手段と、画像
入力手段から入力された画像情報に基づいて素子領域の
外形に沿った周辺露光領域の位置データを算出する画像
処理手段と、感光膜に光を照射する光照射手段と、画像
処理手段によって算出された周辺露光領域の位置データ
に基づいて感光膜の周辺露光領域が露光されるように光
照射手段を制御する制御手段とを備えたものである。
【００１４】第２の発明に係る周辺露光装置は、第１の
発明に係る周辺露光装置の構成において、画像入力手段
が基板の素子領域よりも小さい画像入力範囲を有し、基
板保持手段が、画像入力手段の画像入力範囲に応じて所
定角度ずつ基板を回転させる基板回転部を有するもので
ある。
発明に係る周辺露光装置の構成において、画像入力手段
が基板の素子領域よりも小さい画像入力範囲を有し、基
板保持手段が、画像入力手段の画像入力範囲に応じて所
定角度ずつ基板を回転させる基板回転部を有するもので
ある。
【００１５】第３の発明に係る周辺露光装置は、第２の
発明に係る周辺露光装置の構成において、光照射手段お
よび画像入力手段が、光照射手段の露光範囲と画像入力
手段の画像入力範囲とが重複するように配置されている
ものである。
発明に係る周辺露光装置の構成において、光照射手段お
よび画像入力手段が、光照射手段の露光範囲と画像入力
手段の画像入力範囲とが重複するように配置されている
ものである。
【００１６】第４の発明に係る周辺露光装置は、第２の
発明に係る周辺露光装置の構成において、光照射手段お
よび画像入力手段が、光照射手段の露光範囲と画像入力
手段の画像入力範囲とが重ならないように配置されてい
るものである。
発明に係る周辺露光装置の構成において、光照射手段お
よび画像入力手段が、光照射手段の露光範囲と画像入力
手段の画像入力範囲とが重ならないように配置されてい
るものである。
【００１７】第５の発明に係る周辺露光装置は、第１の
発明に係る周辺露光装置の構成において、画像入力手段
が基板の素子領域より大きい画像入力範囲を有し、光照
射手段が光を照射する光照射部と光照射部を基板の全面
に亘って移動させる移動部とを備えたものである。
発明に係る周辺露光装置の構成において、画像入力手段
が基板の素子領域より大きい画像入力範囲を有し、光照
射手段が光を照射する光照射部と光照射部を基板の全面
に亘って移動させる移動部とを備えたものである。
【００１８】第６の発明に係る周辺露光装置は、第１の
発明に係る周辺露光装置の構成において、基板保持手段
が、基板を回転させる基板回転部を有しており、基板の
端縁位置を検出する検出手段と、検出手段の検出結果か
ら基板の周縁部の露光位置を算出する露光位置算出手段
と、基板の周縁部の露光幅を設定する露光幅設定手段と
をさらに備え、制御手段が露光位置算出手段によって算
出された露光位置のデータと露光幅設定手段によって設
定された露光幅のデータとに基づいて基板の周縁部に環
状の周辺露光領域を形成するように光照射手段を制御す
るものである。
発明に係る周辺露光装置の構成において、基板保持手段
が、基板を回転させる基板回転部を有しており、基板の
端縁位置を検出する検出手段と、検出手段の検出結果か
ら基板の周縁部の露光位置を算出する露光位置算出手段
と、基板の周縁部の露光幅を設定する露光幅設定手段と
をさらに備え、制御手段が露光位置算出手段によって算
出された露光位置のデータと露光幅設定手段によって設
定された露光幅のデータとに基づいて基板の周縁部に環
状の周辺露光領域を形成するように光照射手段を制御す
るものである。
【００１９】第１〜第６の発明に係る周辺露光装置にお
いては、画像入力手段が基板の素子領域の形状を画像情
報として入力し、この画像情報に基づいて周辺露光領域
の位置データが直接算出される。このため、基板の外周
縁の基準位置から素子領域の外形位置を推測して間接的
に周辺露光領域の位置データを算出する従来の装置に比
べ、周辺露光領域の位置データの精度が向上する。そし
て、この高精度の周辺露光領域の位置データに基づいて
周辺露光処理を行うことにより、素子領域の外形に沿っ
た階段状の周辺露光領域を高精度に形成することができ
る。
いては、画像入力手段が基板の素子領域の形状を画像情
報として入力し、この画像情報に基づいて周辺露光領域
の位置データが直接算出される。このため、基板の外周
縁の基準位置から素子領域の外形位置を推測して間接的
に周辺露光領域の位置データを算出する従来の装置に比
べ、周辺露光領域の位置データの精度が向上する。そし
て、この高精度の周辺露光領域の位置データに基づいて
周辺露光処理を行うことにより、素子領域の外形に沿っ
た階段状の周辺露光領域を高精度に形成することができ
る。
【００２０】特に、第２の発明に係る周辺露光装置にお
いては、基板を所定角度ずつ回転させながら画像入力手
段が素子領域の画像データを順次入力することにより、
径の大きい基板に対しても周辺露光領域の位置データ検
出を高精度に行うことができる。
いては、基板を所定角度ずつ回転させながら画像入力手
段が素子領域の画像データを順次入力することにより、
径の大きい基板に対しても周辺露光領域の位置データ検
出を高精度に行うことができる。
【００２１】特に、第３の発明に係る周辺露光装置にお
いては、光照射手段の露光範囲と画像入力手段の画像入
力範囲とが重複するように光照射手段および画像入力手
段を配置したことにより、基板を静止した状態で画像入
力と露光処理とを行うことができ、これによって基板の
移動による基板の実際の位置と画像入力手段からの画像
情報入力に基づいて得られた周辺露光領域の位置データ
との間の誤差の発生が防止され、周辺露光領域を高精度
に形成することができる。
いては、光照射手段の露光範囲と画像入力手段の画像入
力範囲とが重複するように光照射手段および画像入力手
段を配置したことにより、基板を静止した状態で画像入
力と露光処理とを行うことができ、これによって基板の
移動による基板の実際の位置と画像入力手段からの画像
情報入力に基づいて得られた周辺露光領域の位置データ
との間の誤差の発生が防止され、周辺露光領域を高精度
に形成することができる。
【００２２】特に、第４の発明に係る周辺露光装置にお
いては、光照射手段の露光範囲と画像入力手段の画像入
力範囲とが重ならないように配置されているため、画像
入力処理と露光処理とを同時に行うことができ、周辺露
光処理の処理効率を向上することができる。
いては、光照射手段の露光範囲と画像入力手段の画像入
力範囲とが重ならないように配置されているため、画像
入力処理と露光処理とを同時に行うことができ、周辺露
光処理の処理効率を向上することができる。
【００２３】特に、第５の発明に係る周辺露光装置にお
いては、画像入力手段が一度に基板の素子領域全体の画
像を入力することができ、しかも光照射手段が基板の全
面に亘って移動可能に構成されているため、基板を静止
した状態で画像入力および周辺露光処理を行うことがで
き、周辺露光装置の構成および制御動作を簡素化するこ
とができる。
いては、画像入力手段が一度に基板の素子領域全体の画
像を入力することができ、しかも光照射手段が基板の全
面に亘って移動可能に構成されているため、基板を静止
した状態で画像入力および周辺露光処理を行うことがで
き、周辺露光装置の構成および制御動作を簡素化するこ
とができる。
【００２４】特に、第６の発明に係る周辺露光装置にお
いては、階段状に周辺露光を行うのみならず、露光位置
算出手段、露光幅設定手段および制御手段によって基板
の外周縁部に沿って環状の周辺露光領域を形成すること
ができる。これにより、基板上の素子領域の画像入力が
困難な場合においても、環状の周辺露光領域を形成する
ことで対応し、適応性に優れた周辺露光装置を得ること
ができる。
いては、階段状に周辺露光を行うのみならず、露光位置
算出手段、露光幅設定手段および制御手段によって基板
の外周縁部に沿って環状の周辺露光領域を形成すること
ができる。これにより、基板上の素子領域の画像入力が
困難な場合においても、環状の周辺露光領域を形成する
ことで対応し、適応性に優れた周辺露光装置を得ること
ができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の第１の実施例に
よる周辺露光装置の構成図である。周辺露光装置は、基
板１を保持して回転する基板回転部１０、基板の周縁部
に光線を照射して露光する光照射部２０、光照射部２０
からの光線の照射位置を移動させるための移動部３０お
よび基板の素子領域の画像を入力する画像入力部５０を
備えている。さらに、必要に応じて、基板の基準位置を
検出するＣＣＤラインセンサ４０を備えている。
よる周辺露光装置の構成図である。周辺露光装置は、基
板１を保持して回転する基板回転部１０、基板の周縁部
に光線を照射して露光する光照射部２０、光照射部２０
からの光線の照射位置を移動させるための移動部３０お
よび基板の素子領域の画像を入力する画像入力部５０を
備えている。さらに、必要に応じて、基板の基準位置を
検出するＣＣＤラインセンサ４０を備えている。
【００２６】基板回転部１０は、基板１の裏面を吸引し
て保持するスピンチャック１１とスピンチャック１１を
回転軸周りに回転させるモータ１２とから構成されてい
る。光照射部２０は、露光光線となる紫外線を発生する
ための露光光源２８と、露光光源２８からの紫外線を伝
達する光ファイバ２３と、光ファイバ２３の先端に取り
付けられかつ基板１の表面に紫外線を照射する照射端２
１とを備えている。また、露光光源２８は、水銀キセノ
ンランプ２５、楕円鏡２６、紫外線透過フィルタ２４お
よびシャッタ２７から構成されている。
て保持するスピンチャック１１とスピンチャック１１を
回転軸周りに回転させるモータ１２とから構成されてい
る。光照射部２０は、露光光線となる紫外線を発生する
ための露光光源２８と、露光光源２８からの紫外線を伝
達する光ファイバ２３と、光ファイバ２３の先端に取り
付けられかつ基板１の表面に紫外線を照射する照射端２
１とを備えている。また、露光光源２８は、水銀キセノ
ンランプ２５、楕円鏡２６、紫外線透過フィルタ２４お
よびシャッタ２７から構成されている。
【００２７】移動部３０は、照射端２１を支持する支持
アーム２２をＸ方向およびＹ方向にそれぞれ変位させる
ための半径方向変位部Ｍｘおよび接線方向変位部Ｍｙと
から構成される。半径方向変位部Ｍｘは、Ｘ方向に往復
移動可能なＸテーブル３１とＸテーブル３１を移動させ
るためのステッピングモータ３２およびボールねじとか
ら構成されている。さらに、接線方向変位部Ｍｙは、Ｙ
方向に移動可能なＹテーブル３３とＹテーブル３３を移
動させるためのステッピングモータ３４およびボールね
じとから構成されている。
アーム２２をＸ方向およびＹ方向にそれぞれ変位させる
ための半径方向変位部Ｍｘおよび接線方向変位部Ｍｙと
から構成される。半径方向変位部Ｍｘは、Ｘ方向に往復
移動可能なＸテーブル３１とＸテーブル３１を移動させ
るためのステッピングモータ３２およびボールねじとか
ら構成されている。さらに、接線方向変位部Ｍｙは、Ｙ
方向に移動可能なＹテーブル３３とＹテーブル３３を移
動させるためのステッピングモータ３４およびボールね
じとから構成されている。
【００２８】画像入力部５０は、基板１表面に形成され
る素子領域の形状を画像として入力するためのＣＣＤカ
メラ５１、カメラレンズ５２および基板１の表面を照明
するカメラ用照明器５３から構成されている。本実施例
によるＣＣＤカメラ５１に取り付けられたカメラレンズ
５２は、基板１の外周の１／４程度を一度に入力できる
画角を有している。したがって、このＣＣＤカメラ５１
は、基板１の表面領域を適宜分割し、基板１を回転させ
ながら分割領域ごとに画像を入力する。また、カメラ用
照明器１２は基板１表面の照度が不足する場合に使用す
る。
る素子領域の形状を画像として入力するためのＣＣＤカ
メラ５１、カメラレンズ５２および基板１の表面を照明
するカメラ用照明器５３から構成されている。本実施例
によるＣＣＤカメラ５１に取り付けられたカメラレンズ
５２は、基板１の外周の１／４程度を一度に入力できる
画角を有している。したがって、このＣＣＤカメラ５１
は、基板１の表面領域を適宜分割し、基板１を回転させ
ながら分割領域ごとに画像を入力する。また、カメラ用
照明器１２は基板１表面の照度が不足する場合に使用す
る。
【００２９】ＣＣＤラインセンサ４０は、基板１の上方
に配置される光源４１と、基板１の下方において光源４
１に対向して配置される受光部４２とを備えている。上
記の周辺露光装置の各部の動作は制御部により制御され
る。図２は、周辺露光装置の機能ブロック図である。制
御部Ｄは、回転角度演算手段Ａ、露光幅設定手段Ｂ、露
光量設定手段Ｃ、画像処理手段Ｅ、基板回転部１０、光
照射部２０、半径方向変位部Ｍｘおよび接線方向変位部
Ｍｙの各部の動作を制御する。ここで、制御部Ｄ、回転
角度演算手段Ａ、露光量設定手段Ｃはパーソナルコンピ
ュータから構成され、露光幅設定手段Ｂはディスプレイ
およびキーボードから構成され、画像処理手段Ｅは画像
処理基板から構成される。
に配置される光源４１と、基板１の下方において光源４
１に対向して配置される受光部４２とを備えている。上
記の周辺露光装置の各部の動作は制御部により制御され
る。図２は、周辺露光装置の機能ブロック図である。制
御部Ｄは、回転角度演算手段Ａ、露光幅設定手段Ｂ、露
光量設定手段Ｃ、画像処理手段Ｅ、基板回転部１０、光
照射部２０、半径方向変位部Ｍｘおよび接線方向変位部
Ｍｙの各部の動作を制御する。ここで、制御部Ｄ、回転
角度演算手段Ａ、露光量設定手段Ｃはパーソナルコンピ
ュータから構成され、露光幅設定手段Ｂはディスプレイ
およびキーボードから構成され、画像処理手段Ｅは画像
処理基板から構成される。
【００３０】なお、上記の構成において、基板回転部１
０が本発明の基板保持手段を構成し、画像入力部５０が
画像入力手段を構成し、画像処理手段Ｅが画像処理手段
を構成し、光照射部２０が光照射手段を構成し、制御部
Ｄが制御手段を構成する。さらに、ＣＣＤラインセンサ
４０が本発明の検出手段を構成し、回転角度演算手段Ａ
が露光位置算出手段を構成し、露光幅設定手段Ｂが露光
幅設定手段を構成する。
０が本発明の基板保持手段を構成し、画像入力部５０が
画像入力手段を構成し、画像処理手段Ｅが画像処理手段
を構成し、光照射部２０が光照射手段を構成し、制御部
Ｄが制御手段を構成する。さらに、ＣＣＤラインセンサ
４０が本発明の検出手段を構成し、回転角度演算手段Ａ
が露光位置算出手段を構成し、露光幅設定手段Ｂが露光
幅設定手段を構成する。
【００３１】本実施例における周辺露光装置は、階段状
の周辺露光と環状の周辺露光とを行う機能を有してい
る。図１および図２に示す構成において、画像入力部５
０および画像処理手段Ｅは階段状の周辺露光を行うため
に設けられており、ＣＣＤラインセンサ４０、回転角度
演算手段Ａおよび露光幅設定手段Ｂは主に環状の周辺露
光を行うために設けられている。
の周辺露光と環状の周辺露光とを行う機能を有してい
る。図１および図２に示す構成において、画像入力部５
０および画像処理手段Ｅは階段状の周辺露光を行うため
に設けられており、ＣＣＤラインセンサ４０、回転角度
演算手段Ａおよび露光幅設定手段Ｂは主に環状の周辺露
光を行うために設けられている。
【００３２】ここでは、まず階段状の周辺露光について
説明する。図３は、本実施例による周辺露光装置の露光
動作の説明図である。画像入力部５０のＣＣＤカメラ５
１は、基板１の略１／４の領域の画像を一度に入力する
ことができる。そこで、図３中の仮想線６で示すよう
に、基板１を４つの分割領域Ｓ１〜Ｓ４に分割し、基板
１を回転させて分割領域ごとに画像入力および周辺露光
処理が行われる。
説明する。図３は、本実施例による周辺露光装置の露光
動作の説明図である。画像入力部５０のＣＣＤカメラ５
１は、基板１の略１／４の領域の画像を一度に入力する
ことができる。そこで、図３中の仮想線６で示すよう
に、基板１を４つの分割領域Ｓ１〜Ｓ４に分割し、基板
１を回転させて分割領域ごとに画像入力および周辺露光
処理が行われる。
【００３３】まず、図１および図３に示すように、ＣＣ
Ｄカメラ５１の画像入力領域に基板１の分割領域Ｓ１が
位置するように基板１が保持される。なお、周辺露光装
置に想定されたＸ，Ｙ座標の基準位置に対するＣＣＤカ
メラ５１の画像入力領域の座標位置は予め定められてい
る。この状態で、カメラ用照明器５３から基板１表面に
照明光を照射しながらＣＣＤカメラ５１によって基板１
上の素子領域の画像が入力される。
Ｄカメラ５１の画像入力領域に基板１の分割領域Ｓ１が
位置するように基板１が保持される。なお、周辺露光装
置に想定されたＸ，Ｙ座標の基準位置に対するＣＣＤカ
メラ５１の画像入力領域の座標位置は予め定められてい
る。この状態で、カメラ用照明器５３から基板１表面に
照明光を照射しながらＣＣＤカメラ５１によって基板１
上の素子領域の画像が入力される。
【００３４】画像処理手段Ｅは、入力された画像領域Ｒ
内の画像データに基づいて、スクライブライン３あるい
はアライメントマーク（図示省略）を認識し、その座標
位置を算出する。そして、スクライブライン３あるいは
アライメントマークの位置に基づいて素子領域の外形線
７から所定幅だけ外方に広げられた周辺露光領域の境界
線４上の各露光基準点Ｐ1 〜Ｐ6 の座標位置を算出す
る。
内の画像データに基づいて、スクライブライン３あるい
はアライメントマーク（図示省略）を認識し、その座標
位置を算出する。そして、スクライブライン３あるいは
アライメントマークの位置に基づいて素子領域の外形線
７から所定幅だけ外方に広げられた周辺露光領域の境界
線４上の各露光基準点Ｐ1 〜Ｐ6 の座標位置を算出す
る。
【００３５】基板１上の分割領域Ｓ１における露光基準
点Ｐ1 〜Ｐ6 が求まると、制御部Ｄは露光基準点Ｐ1 〜
Ｐ6 の座標データを順次半径方向変位部Ｍｘおよび接線
方向変位部Ｍｙに出力する。半径方向変位部Ｍｘおよび
接線方向変位部Ｍｙは、この座標データに基づいて光照
射部２０をまず露光基準点Ｐ1 に移動させ、露光光源２
８のシャッタ２７を開放して露光を開始する。照射端２
１から照射されるレーザ光はスポット形状が矩形となる
ように設定される。そして、半径方向変位部Ｍｘおよび
接線方向変位部Ｍｙの制御に従って照射端２１が移動
し、露光基準点Ｐ 1 から露光基準Ｐ6 まで順次露光を行
う。このときの照射端２１の移動速度は、露光量設定手
段Ｃで設定されたデータを基に制御される。これによ
り、分割領域Ｓ１における周辺露光領域５ａの露光が終
了する。
点Ｐ1 〜Ｐ6 が求まると、制御部Ｄは露光基準点Ｐ1 〜
Ｐ6 の座標データを順次半径方向変位部Ｍｘおよび接線
方向変位部Ｍｙに出力する。半径方向変位部Ｍｘおよび
接線方向変位部Ｍｙは、この座標データに基づいて光照
射部２０をまず露光基準点Ｐ1 に移動させ、露光光源２
８のシャッタ２７を開放して露光を開始する。照射端２
１から照射されるレーザ光はスポット形状が矩形となる
ように設定される。そして、半径方向変位部Ｍｘおよび
接線方向変位部Ｍｙの制御に従って照射端２１が移動
し、露光基準点Ｐ 1 から露光基準Ｐ6 まで順次露光を行
う。このときの照射端２１の移動速度は、露光量設定手
段Ｃで設定されたデータを基に制御される。これによ
り、分割領域Ｓ１における周辺露光領域５ａの露光が終
了する。
【００３６】分割領域Ｓ１の周辺露光が終了すると、光
照射部２０の照射端２１がＣＣＤカメラ５１の画像領域
ＲからＸ方向に離れた位置に退避する。そして、基板回
転部１０が基板１をＺ方向に９０度回転させ、基板１の
次の分割領域Ｓ２をＣＣＤカメラ５１の直下に移動させ
る。さらに、上記の分割領域Ｓ１の場合と同様に、周辺
露光領域５ｂの露光処理が行われる。
照射部２０の照射端２１がＣＣＤカメラ５１の画像領域
ＲからＸ方向に離れた位置に退避する。そして、基板回
転部１０が基板１をＺ方向に９０度回転させ、基板１の
次の分割領域Ｓ２をＣＣＤカメラ５１の直下に移動させ
る。さらに、上記の分割領域Ｓ１の場合と同様に、周辺
露光領域５ｂの露光処理が行われる。
【００３７】以下、分割領域Ｓ３およびＳ４に対しても
同様の処理が行われ、これによって基板１の周辺部に階
段状の周辺露光領域５ａ〜５ｄが形成される。このよう
に、第１の実施例による周辺露光装置は、ＣＣＤカメラ
５１を用いて基板１上の素子領域の画像データから周辺
露光領域５ａ〜５ｄの位置を算出して露光処理を行って
いる。ところが基板１上に素子パターンの形成が行われ
ていない初期の製造段階では、素子領域の形状を画像デ
ータとしてＣＣＤカメラ５１により入力することが困難
である。
同様の処理が行われ、これによって基板１の周辺部に階
段状の周辺露光領域５ａ〜５ｄが形成される。このよう
に、第１の実施例による周辺露光装置は、ＣＣＤカメラ
５１を用いて基板１上の素子領域の画像データから周辺
露光領域５ａ〜５ｄの位置を算出して露光処理を行って
いる。ところが基板１上に素子パターンの形成が行われ
ていない初期の製造段階では、素子領域の形状を画像デ
ータとしてＣＣＤカメラ５１により入力することが困難
である。
【００３８】そこで、このような状況に対処するため
に、本実施例の周辺露光装置では、環状の周辺露光を行
う機能も有している。以下、環状の周辺露光のための構
成および動作について説明する。
に、本実施例の周辺露光装置では、環状の周辺露光を行
う機能も有している。以下、環状の周辺露光のための構
成および動作について説明する。
【００３９】図１および図２において、基板回転部１０
はモータ１２を駆動して基板１を回転させる。ＣＣＤラ
インセンサ４０は、基板１の端縁位置を検出する。回転
角度演算手段Ａは、ＣＣＤラインセンサ４０からの端縁
位置の変化の情報と、基板回転部１０のモータ１２の回
転量データとから基板１のオリフラ部１ａの位置を算出
する。そして、制御部Ｃは、オリフラ部１ａの位置情報
に基づいて基板回転部１０の回転動作を制御し、基板１
のオリフラ部１ａがＹ方向に平行となる位置を露光開始
の基準位置に設定し、この基準位置から基板１を回転さ
せる。そして、半径方向変位部Ｍｘおよび接線方向変位
部Ｍｙを駆動し、露光幅設定手段Ｂにより設定された露
光幅データに基づいて光照射部２０の照射端２１から紫
外線を照射し、基板１の周縁部を一定の露光幅で環状に
露光する。
はモータ１２を駆動して基板１を回転させる。ＣＣＤラ
インセンサ４０は、基板１の端縁位置を検出する。回転
角度演算手段Ａは、ＣＣＤラインセンサ４０からの端縁
位置の変化の情報と、基板回転部１０のモータ１２の回
転量データとから基板１のオリフラ部１ａの位置を算出
する。そして、制御部Ｃは、オリフラ部１ａの位置情報
に基づいて基板回転部１０の回転動作を制御し、基板１
のオリフラ部１ａがＹ方向に平行となる位置を露光開始
の基準位置に設定し、この基準位置から基板１を回転さ
せる。そして、半径方向変位部Ｍｘおよび接線方向変位
部Ｍｙを駆動し、露光幅設定手段Ｂにより設定された露
光幅データに基づいて光照射部２０の照射端２１から紫
外線を照射し、基板１の周縁部を一定の露光幅で環状に
露光する。
【００４０】このような環状の周辺露光機能は、ＣＣＤ
カメラ５１を用いた画像入力による階段状の周辺露光機
能が適用できない場合の補償として設けられているもの
である。したがって、前述した階段状の周辺露光が可能
な場合には、この環状の周辺露光に関する構成は必要で
ない。
カメラ５１を用いた画像入力による階段状の周辺露光機
能が適用できない場合の補償として設けられているもの
である。したがって、前述した階段状の周辺露光が可能
な場合には、この環状の周辺露光に関する構成は必要で
ない。
【００４１】このように、本実施例による周辺露光装置
では、基板の画像情報に基づいて自動的に階段状の周辺
露光領域の座標値を認識することができる。したがっ
て、従来のように周辺露光領域の座標値を入力する方法
に比べ、操作者の作業が簡素化され、処理効率が向上す
る。また、周辺露光領域の座標値は、基板上の素子領域
の画像情報から直接算出されるため、従来のように基板
のオリフラ部１ａ等から推定した素子領域の座標に基づ
いて周辺露光領域の位置が算出される場合に比べて高精
度で周辺露光を行うことができる。しかも、周辺露光領
域の座標値を算出した位置に基板１を静止した状態で周
辺露光処理が行われるので、さらに高精度で周辺露光を
行うことができる。
では、基板の画像情報に基づいて自動的に階段状の周辺
露光領域の座標値を認識することができる。したがっ
て、従来のように周辺露光領域の座標値を入力する方法
に比べ、操作者の作業が簡素化され、処理効率が向上す
る。また、周辺露光領域の座標値は、基板上の素子領域
の画像情報から直接算出されるため、従来のように基板
のオリフラ部１ａ等から推定した素子領域の座標に基づ
いて周辺露光領域の位置が算出される場合に比べて高精
度で周辺露光を行うことができる。しかも、周辺露光領
域の座標値を算出した位置に基板１を静止した状態で周
辺露光処理が行われるので、さらに高精度で周辺露光を
行うことができる。
【００４２】図４は、本発明の第２の実施例による周辺
露光装置の構成図である。また、図５は、第２の実施例
の周辺露光装置による周辺露光動作の説明図である。第
２の実施例による周辺露光装置は、第１の実施例による
周辺露光装置に対し、基板１の上方における画像入力部
５０と光照射部２０、特に照射端２１とが基板１の回転
方向に沿って互いに９０度ずれた位置に設定されている
点が異なっている。これにより、画像入力部５０のＣＣ
Ｄカメラ５１の画像領域内に光照射部２０の照射端２１
が重複しないように構成されている。
露光装置の構成図である。また、図５は、第２の実施例
の周辺露光装置による周辺露光動作の説明図である。第
２の実施例による周辺露光装置は、第１の実施例による
周辺露光装置に対し、基板１の上方における画像入力部
５０と光照射部２０、特に照射端２１とが基板１の回転
方向に沿って互いに９０度ずれた位置に設定されている
点が異なっている。これにより、画像入力部５０のＣＣ
Ｄカメラ５１の画像領域内に光照射部２０の照射端２１
が重複しないように構成されている。
【００４３】図５に示すように、基板１の表面領域を４
つの分割領域Ｓ１〜Ｓ４に分割した場合を想定すると、
２つの異なる分割領域において周辺露光領域の位置検出
と周辺露光処理とを同時に行うことができる。例えば分
割領域Ｓ２において、画像入力部５０により周辺露光領
域５ｂの露光基準点Ｐ1 〜Ｐ6 の位置座標の検出が行わ
れる。同時に、分割領域Ｓ１では、画像入力部５０によ
り既に求められた露光基準点Ｐ1 〜Ｐ6 の位置情報に従
って光照射部２０による周辺露光処理が行われる。
つの分割領域Ｓ１〜Ｓ４に分割した場合を想定すると、
２つの異なる分割領域において周辺露光領域の位置検出
と周辺露光処理とを同時に行うことができる。例えば分
割領域Ｓ２において、画像入力部５０により周辺露光領
域５ｂの露光基準点Ｐ1 〜Ｐ6 の位置座標の検出が行わ
れる。同時に、分割領域Ｓ１では、画像入力部５０によ
り既に求められた露光基準点Ｐ1 〜Ｐ6 の位置情報に従
って光照射部２０による周辺露光処理が行われる。
【００４４】２つの処理が終了すると、基板回転部１０
は基板１を矢印Ｚ方向に９０度回転させる。そして、周
辺露光領域の位置検出が行われていた分割領域Ｓ２で
は、光照射部２０により周辺露光処理が行われ、未処理
の分割領域Ｓ３では、画像入力部５０による周辺露光領
域の位置検出が行われる。
は基板１を矢印Ｚ方向に９０度回転させる。そして、周
辺露光領域の位置検出が行われていた分割領域Ｓ２で
は、光照射部２０により周辺露光処理が行われ、未処理
の分割領域Ｓ３では、画像入力部５０による周辺露光領
域の位置検出が行われる。
【００４５】以下、同様の処理が行われ、すべての分割
領域Ｓ１〜Ｓ４に対して周辺露光処理が完了する。この
第２の実施例による周辺露光装置では、同時に周辺露光
領域の位置検出と周辺露光処理とを行うことができるた
め、処理効率が向上する。
領域Ｓ１〜Ｓ４に対して周辺露光処理が完了する。この
第２の実施例による周辺露光装置では、同時に周辺露光
領域の位置検出と周辺露光処理とを行うことができるた
め、処理効率が向上する。
【００４６】図６は、本発明の第３の実施例による周辺
露光装置の構成図である。第３の実施例による周辺露光
装置では、画像入力部５０のＣＣＤカメラ５１の画像入
力範囲が基板１全体を入力しうる大きさを有している。
また、半径方向変位部Ｍｘおよび接線方向Ｍｙのそれぞ
れの変位量が基板１全体を覆う範囲に設定されている。
したがって、基板１を回転させることなく周辺露光領域
の位置検出および階段状の周辺露光処理を行うことがで
きる。
露光装置の構成図である。第３の実施例による周辺露光
装置では、画像入力部５０のＣＣＤカメラ５１の画像入
力範囲が基板１全体を入力しうる大きさを有している。
また、半径方向変位部Ｍｘおよび接線方向Ｍｙのそれぞ
れの変位量が基板１全体を覆う範囲に設定されている。
したがって、基板１を回転させることなく周辺露光領域
の位置検出および階段状の周辺露光処理を行うことがで
きる。
【図１】本発明の第１の実施例による周辺露光装置の構
成図である。
成図である。
【図２】第１の実施例による周辺露光装置の制御ブロッ
ク図である。
ク図である。
【図３】第１の実施例による周辺露光装置の露光動作の
説明図である。
説明図である。
【図４】本発明の第２の実施例による周辺露光装置の構
成図である。
成図である。
【図５】第２の発明による周辺露光装置の露光動作の説
明図である。
明図である。
【図６】本発明の第３の実施例による周辺露光装置の構
成図である。
成図である。
【図７】従来の周辺露光装置による露光動作の説明図で
ある。
ある。
１ 基板 ２ 素子領域 ３ スクライブライン ５ａ〜５ｄ 周辺露光領域 １０ 基板回転部 ２０ 光照射部 ２１ 照射端 ３０ 移動部 ４０ ＣＣＤラインセンサ ５０ 画像入力部 ５１ ＣＣＤカメラ ５２ カメラレンズ ５３ カメラ用照明器
Claims (6)
- 【請求項１】 基板上に塗布された感光膜のうち、前記
基板の素子領域の外側にある周辺露光領域を前記素子領
域の外形に沿って階段状に露光する周辺露光装置であっ
て、 基板を保持する基板保持手段と、 前記基板の前記素子領域の形状を画像情報として入力す
る画像入力手段と、 前記画像入力手段から入力された前記画像情報に基づい
て前記素子領域の外形に沿った前記周辺露光領域の位置
データを算出する画像処理手段と、 前記感光膜に光を照射する光照射手段と、 前記画像処理手段によって算出された前記周辺露光領域
の位置データに基づいて前記感光膜の前記周辺露光領域
が露光されるように前記光照射手段を制御する制御手段
とを備えたことを特徴とする周辺露光装置。 - 【請求項２】 前記画像入力手段は、前記基板の前記素
子領域よりも小さい画像入力範囲を有し、 前記基板保持手段は、前記画像入力手段の前記画像入力
範囲に応じて所定角度ずつ前記基板を回転させる基板回
転部を有することを特徴とする請求項１記載の周辺露光
装置。 - 【請求項３】 前記光照射手段および前記画像入力手段
は、前記光照射手段の露光範囲と前記画像入力手段の画
像入力範囲とが重複するように配置されていることを特
徴とする請求項２記載の周辺露光装置。 - 【請求項４】 前記光照射手段および前記画像入力手段
は、前記光照射手段の露光範囲と前記画像入力手段の画
像入力範囲とが重ならないように配置されていることを
特徴とする請求項２記載の周辺露光装置。 - 【請求項５】 前記画像入力手段は、前記基板の前記素
子領域より大きい画像入力範囲を有し、 前記光照射手段は、光を照射する光照射部と前記光照射
部を前記基板の全面に亘って移動させる移動部とを備え
たことを特徴とする請求項１記載の周辺露光装置。 - 【請求項６】 前記基板保持手段は、前記基板を回転さ
せる基板回転部を有しており、 前記基板の端縁位置を検出する検出手段と、 前記検出手段の検出結果から前記基板の周縁部の露光位
置を算出する露光位置算出手段と、 前記基板の周縁部の露光幅を設定する露光幅設定手段と
をさらに備え、 前記制御手段は、前記露光位置算出手段によって算出さ
れた前記露光位置のデータと前記露光幅設定手段によっ
て設定された露光幅のデータとに基づいて前記基板の周
縁部に環状の周辺露光領域を形成するように前記光照射
手段を制御することを特徴とする請求項１記載の周辺露
光装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23949996A JP3383166B2 (ja) | 1996-09-10 | 1996-09-10 | 周辺露光装置 |
| KR1019970022142A KR100257279B1 (ko) | 1996-06-06 | 1997-05-30 | 주변노광장치 및 방법 |
| US08/868,382 US5982474A (en) | 1996-06-06 | 1997-06-03 | Periphery exposing apparatus and method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23949996A JP3383166B2 (ja) | 1996-09-10 | 1996-09-10 | 周辺露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1092711A true JPH1092711A (ja) | 1998-04-10 |
| JP3383166B2 JP3383166B2 (ja) | 2003-03-04 |
Family
ID=17045699
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23949996A Expired - Fee Related JP3383166B2 (ja) | 1996-06-06 | 1996-09-10 | 周辺露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3383166B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013142777A (ja) * | 2012-01-11 | 2013-07-22 | Ushio Inc | 露光方法 |
| JP2016157841A (ja) * | 2015-02-25 | 2016-09-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 周辺露光装置、周辺露光方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02288326A (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | ウエハの周辺部露光装置 |
| JPH03195011A (ja) * | 1989-12-25 | 1991-08-26 | Hitachi Ltd | 露光位置検出制御方法およびそれに用いる露光装置 |
| JPH03242922A (ja) * | 1990-02-21 | 1991-10-29 | Ushio Inc | ウエハ周辺露光方法及びウエハ周辺露光装置 |
| JPH053153A (ja) * | 1991-06-24 | 1993-01-08 | Ushio Inc | ウエハ上の不要レジスト露光装置 |
| JPH06109446A (ja) * | 1992-09-30 | 1994-04-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 配線パターン検査装置 |
| JPH06224117A (ja) * | 1993-01-21 | 1994-08-12 | Sony Corp | 半導体装置の製造方法 |
| JPH07142332A (ja) * | 1993-06-29 | 1995-06-02 | Hiroshima Nippon Denki Kk | 半導体装置の製造装置 |
-
1996
- 1996-09-10 JP JP23949996A patent/JP3383166B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02288326A (ja) * | 1989-04-28 | 1990-11-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | ウエハの周辺部露光装置 |
| JPH03195011A (ja) * | 1989-12-25 | 1991-08-26 | Hitachi Ltd | 露光位置検出制御方法およびそれに用いる露光装置 |
| JPH03242922A (ja) * | 1990-02-21 | 1991-10-29 | Ushio Inc | ウエハ周辺露光方法及びウエハ周辺露光装置 |
| JPH053153A (ja) * | 1991-06-24 | 1993-01-08 | Ushio Inc | ウエハ上の不要レジスト露光装置 |
| JPH06109446A (ja) * | 1992-09-30 | 1994-04-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 配線パターン検査装置 |
| JPH06224117A (ja) * | 1993-01-21 | 1994-08-12 | Sony Corp | 半導体装置の製造方法 |
| JPH07142332A (ja) * | 1993-06-29 | 1995-06-02 | Hiroshima Nippon Denki Kk | 半導体装置の製造装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013142777A (ja) * | 2012-01-11 | 2013-07-22 | Ushio Inc | 露光方法 |
| JP2016157841A (ja) * | 2015-02-25 | 2016-09-01 | 東京エレクトロン株式会社 | 周辺露光装置、周辺露光方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3383166B2 (ja) | 2003-03-04 |
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