JPH1092606A - Chip thermistor and its manufacture - Google Patents

Chip thermistor and its manufacture

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JPH1092606A
JPH1092606A JP24333096A JP24333096A JPH1092606A JP H1092606 A JPH1092606 A JP H1092606A JP 24333096 A JP24333096 A JP 24333096A JP 24333096 A JP24333096 A JP 24333096A JP H1092606 A JPH1092606 A JP H1092606A
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JP
Japan
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chip
thermistor
layer
forming
shaped
Prior art date
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Application number
JP24333096A
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Japanese (ja)
Inventor
Masami Koshimura
正己 越村
Koji Yotsumoto
孝二 四元
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Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH1092606A publication Critical patent/JPH1092606A/en
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  • Thermistors And Varistors (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To inexpensively provide a chip thermistor which has high accuracy, a high environmental resistance, and highly reliable mechanical strength and temperature cycle performance, etc., at high mass-productivity. SOLUTION: External electrodes 2 on both end faces of a chip-like thermistor blank body 1 are respectively constituted in laminated structures of conductive metallic layers 2a, conductive resin layers 2b, and plated-meal layers 2c. After glass layers 3 are formed on the four side faces of a prism-like thermistor blank body obtained by cutting a thermistor wafer into strip-like bodies, the thermistor blank body 1 is obtained by cutting the prism-like blank body and the external electrodes 2 are formed on both end faces of the blank body 1. Therefore, the cracking of the blank body 1 is prevented, because the mechanical stress or thermal stress given to the electrodes 2 when the thermistor body 1 is mounted on a substrate or the blank body 1 is subjected to a temperature cycle can be relieved by means of the soft resin layers 2b.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント基板等に
表面実装されるチップ型サーミスタ及びその製造方法に
係り、特に、機械的強度に優れかつ高精度で信頼性の高
いチップ型サーミスタ及びこのようなチップ型サーミス
タを低コストで製造する方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chip type thermistor surface-mounted on a printed circuit board or the like and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a chip type thermistor having excellent mechanical strength, high accuracy and high reliability. The present invention relates to a method of manufacturing a simple chip thermistor at low cost.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント回路基板等に表面実装されるチ
ップ型サーミスタの代表的な製品として、図7に示す如
く、チップ状サーミスタ素体1の両端面に外部電極2と
して、はんだ耐熱性、はんだ付着性を向上させるために
焼き付け端子電極2Aとその表面を被覆するめっき層2
Bを形成し、この外部電極2形成面以外をガラス層3等
の絶縁性の無機物層で被覆した構造のものが提供されて
いる。
2. Description of the Related Art As a typical product of a chip type thermistor surface-mounted on a printed circuit board or the like, as shown in FIG. Baking terminal electrode 2A and plating layer 2 covering its surface to improve adhesion
B is formed, and a structure other than the surface on which the external electrodes 2 are formed is covered with an insulating inorganic layer such as a glass layer 3.

【0003】従来、このようなチップ型サーミスタ4
は、次のようにして製造されている。即ち、まず、セラ
ミックス焼結体よりなる薄板状サーミスタ素体(以下
「サーミスタウェハ」と称する場合がある。)の両板面
にガラスペーストを印刷塗布して焼成することにより絶
縁性のガラス層を形成する。次に、両板面がガラス層で
被覆されたサーミスタウェハを短冊状に切り出し、その
後、切断面にも前記と同様にガラスペーストを印刷塗布
して焼成することによりガラス層を形成する。このよう
にして得られた、4側面にガラス層を有する角柱状サー
ミスタ素体をその長手方向に直交する方向(前記切断面
と垂直な方向)に切断してチップ状サーミスタ素体を得
る。このチップ状サーミスタ素体の切断面(両端面)に
導電性ペーストを塗布・焼成して焼き付け端子電極を形
成する。更に、この端子電極の表面にめっき層を形成し
て図7に示すチップ型サーミスタ4を得る(特開平3−
250603号公報)。なお、4側面にガラス層を有す
る角柱状サーミスタ素体は、サーミスタウェハをそのま
ま短冊状に切り出した後、4側面にガラスペーストを塗
布、焼成することにより製造することもできる。
Conventionally, such a chip type thermistor 4
Is manufactured as follows. That is, first, a glass paste is printed and applied to both plate surfaces of a thin plate-shaped thermistor element body (hereinafter sometimes referred to as a “thermistor wafer”) made of a ceramic sintered body, and then fired to form an insulating glass layer. Form. Next, the thermistor wafer whose both surfaces are covered with the glass layer is cut out in a strip shape, and then the glass layer is formed on the cut surface by printing and applying a glass paste in the same manner as described above. The thus obtained prismatic thermistor body having glass layers on four sides is cut in a direction perpendicular to the longitudinal direction (a direction perpendicular to the cut surface) to obtain a chip-like thermistor body. A conductive paste is applied to the cut surfaces (both end surfaces) of the chip-shaped thermistor body and baked to form baked terminal electrodes. Further, a plating layer is formed on the surface of the terminal electrode to obtain a chip type thermistor 4 shown in FIG.
250603). The prism-shaped thermistor element having glass layers on the four sides can also be manufactured by cutting a thermistor wafer as it is into a strip shape, applying a glass paste on the four sides, and firing.

【0004】また、上記チップ型サーミスタにおいて、
チップ状サーミスタ素体の側面に抵抗値調整用の表面電
極を形成したものも提供されており、このようなチップ
型サーミスタは、予め、サーミスタウェハの両板面に導
電性ベーストを塗布して抵抗値調整用の表面電極を形成
しておくこと以外は上記と同様の方法で製造される(特
開平4−127401号公報)。
In the above chip type thermistor,
There is also provided a chip thermistor element in which a surface electrode for adjusting a resistance value is formed on a side surface of the chip thermistor body. Such a chip thermistor is prepared by applying a conductive base to both surfaces of a thermistor wafer in advance. It is manufactured by the same method as described above except that a surface electrode for adjusting the value is formed (Japanese Patent Laid-Open No. 4-127401).

【0005】このように、4側面をガラス層で被覆した
角柱状サーミスタ素体を切断加工して多数個のチップ状
サーミスタ素体を作製し、ディップ法などによりこれら
多数個のチップ状サーミスタ素体の両端切断面に同時に
電極形成用導電性ペーストを塗布、焼成する従来のチッ
プ型サーミスタの製造方法は、極めて量産性に優れる
上、得られる製品は、切断加工によりチップ状とするた
め寸法精度に優れる。また、電極の塗布形状にかかわら
ずサーミスタ素体と電極との接続面が加工時に予め設定
されているので抵抗値のばらつきもきわめて小さい。し
かも、素体の全面がガラス層と電極層で覆われているた
め耐環境特性にも優れるといった様々な利点を有する。
[0005] As described above, a plurality of chip-shaped thermistor bodies are manufactured by cutting the prism-shaped thermistor body whose four side surfaces are covered with a glass layer, and the chip-shaped thermistor body is manufactured by dipping or the like. The conventional method of manufacturing a chip-type thermistor, in which a conductive paste for forming an electrode is simultaneously applied to the cut surfaces at both ends and fired, is extremely excellent in mass productivity, and the obtained product is cut into chips to obtain dimensional accuracy. Excellent. In addition, since the connection surface between the thermistor element and the electrode is set in advance at the time of processing, irrespective of the coating shape of the electrode, variation in the resistance value is extremely small. Moreover, since the entire surface of the element body is covered with the glass layer and the electrode layer, there are various advantages such as excellent environmental resistance.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記従来の製造方法で
製造されたチップ型サーミスタのチップ状サーミスタ素
体は、切断加工により作製されるため、その4側面と両
端面との頂角部が尖った角錐状となる。このため回路基
板に実装した場合、基板の切断時等におけるたわみから
くる機械的応力、或いは温度サイクル時にサーミスタ素
体、電極、はんだ、基板などの熱膨張係数の違いから来
る熱応力が外部電極を通してチップ素体の該頂角部に集
中しクラックが発生し易くなる。
Since the chip-shaped thermistor body of the chip-type thermistor manufactured by the above-mentioned conventional manufacturing method is manufactured by cutting, the apex corners of its four side surfaces and both end surfaces are sharp. It becomes a pyramid shape. For this reason, when mounted on a circuit board, the mechanical stress resulting from bending when the board is cut or the like, or the thermal stress resulting from the difference in the coefficient of thermal expansion of the thermistor body, electrodes, solder, board, etc. during a temperature cycle passes through the external electrodes. The chip concentrates on the apical corner of the chip body, and cracks are likely to occur.

【0007】従来、サーミスタ素体に対するガラスなど
の無機物層の熱膨張係数の適切化により、その応力を軽
減する努力がなされてきているが、問題を完全に解決す
るには至っていない。また、後加工により、チップ状サ
ーミスタ素体の角部にまるみをつけることもなされてい
るが、この方法では、加工形状にばらつきが生じやすい
上に、加工によりチップサイズがより小型になるため、
製造コストが増加するという問題がある。
Conventionally, efforts have been made to reduce the stress by optimizing the coefficient of thermal expansion of an inorganic layer such as glass with respect to the thermistor body, but this has not been completely solved. In addition, it is also possible to round the corners of the chip-shaped thermistor body by post-processing, but in this method, the processing shape tends to vary, and the chip size becomes smaller due to processing,
There is a problem that the manufacturing cost increases.

【0008】本発明は上記従来の問題点を解決し、高精
度で耐環境性に優れかつ機械的強度や温度サイクル性能
等の信頼性にも優れたチップ型サーミスタを安価にかつ
量産性良く提供することを目的とするものである。
The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and provides a chip type thermistor having high accuracy, excellent environmental resistance, and excellent reliability such as mechanical strength and temperature cycle performance at low cost and with good productivity. It is intended to do so.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明のチップ型サーミ
スタは、セラミックス焼結体よりなる直方体形状のチッ
プ状サーミスタ素体と、該チップ状サーミスタ素体の両
端面に形成された外部電極と、該両端面以外の4側面を
被覆する絶縁性無機物よりなる被覆層とを有するチップ
型サーミスタにおいて、該外部電極は、チップ状サーミ
スタ素体の端面に接する導電性金属層と、該導電性金属
層上に形成された導電性樹脂層と、該導電性樹脂層上に
形成された金属めっき層とを備えてなることを特徴とす
る。
According to the present invention, there is provided a chip-type thermistor according to the present invention, comprising: a rectangular parallelepiped chip-shaped thermistor element made of a ceramic sintered body; external electrodes formed on both end surfaces of the chip-shaped thermistor element; In a chip-type thermistor having a coating layer made of an insulating inorganic material covering four side surfaces other than the both end surfaces, the external electrode includes a conductive metal layer in contact with an end surface of the chip-shaped thermistor body, and the conductive metal layer. It is characterized by comprising a conductive resin layer formed thereon and a metal plating layer formed on the conductive resin layer.

【0010】本発明のチップ型サーミスタでは、回路基
板に実装した場合、基板の切断時などのたわみからくる
機械的応力、或いは温度サイクル時にサーミスタ素体、
電極、はんだ、基板などの熱膨張係数の違いからくる熱
応力が外部電極に伝わった際、外部電極の中間層にある
柔軟性を有する導電性樹脂層によりこれらの応力が緩和
される。このため、これらの応力によるチップ状サーミ
スタ素体のクラック発生が防止される。
In the chip type thermistor of the present invention, when mounted on a circuit board, mechanical stress caused by bending when the board is cut, or thermistor element during a temperature cycle,
When thermal stresses due to differences in the coefficients of thermal expansion of the electrodes, solder, substrate, etc., are transmitted to the external electrodes, these stresses are relieved by the flexible conductive resin layer in the intermediate layer of the external electrodes. For this reason, generation of cracks in the chip-shaped thermistor body due to these stresses is prevented.

【0011】外部電極の下部電極層としての導電性金属
層は、サーミスタ素体との十分な電気的接続並びにサー
ミスタ素体及びガラス等の無機物被覆層との強固な機械
的接続に有効である。導電性金属層及び導電性樹脂層は
極めて低抵抗であるため両者の電気的接続も良好であ
る。
The conductive metal layer as the lower electrode layer of the external electrode is effective for sufficient electrical connection with the thermistor body and strong mechanical connection with the thermistor body and an inorganic coating layer such as glass. Since the conductive metal layer and the conductive resin layer have extremely low resistance, their electrical connection is also good.

【0012】金属めっき層はニッケルめっき層と、この
ニッケルめっき層上に形成されたはんだめっき層とから
なることが基板への実装時に必要なはんだ濡れ性、耐熱
性の観点から好ましいが、ニッケルめっき層がなくとも
導電性樹脂層がはんだ喰われに充分耐えることができ
る。このため、ニッケルめっき層を省くことができ、製
品価格を廉価なものにすることができる。
The metal plating layer preferably comprises a nickel plating layer and a solder plating layer formed on the nickel plating layer from the viewpoints of solder wettability and heat resistance required for mounting on a substrate. Even without a layer, the conductive resin layer can sufficiently withstand solder erosion. Therefore, the nickel plating layer can be omitted, and the product price can be reduced.

【0013】本発明のチップ型サーミスタは、セラミッ
クス焼結体よりなる角柱状サーミスタ素体の長手方向に
延在する4側面に絶縁性の無機物層を形成する工程、絶
縁性の無機物層を形成した角柱状サーミスタ素体を長手
方向と直交する方向に切断してチップ状サーミスタ素体
を形成する工程、及び、このチップ状サーミスタ素体の
無機物層未被覆の両端面に外部電極を形成する工程を有
するチップ型サーミスタの製造方法において、該外部電
極の形成に当り、チップ状サーミスタ素体の両端面に焼
結により導電性金属層を形成した後、該導電性金属層上
に導電性樹脂層を形成し、次いで、導電性樹脂層上に金
属めっき層を形成することにより製造することができ
る。
In the chip type thermistor of the present invention, a step of forming an insulating inorganic layer on four side surfaces extending in the longitudinal direction of a prismatic thermistor element made of a ceramic sintered body, and forming the insulating inorganic layer. Cutting the prism-shaped thermistor body in a direction perpendicular to the longitudinal direction to form a chip-shaped thermistor body, and forming external electrodes on both end surfaces of the chip-shaped thermistor body that are not covered with the inorganic layer. In the method of manufacturing a chip-type thermistor having, in forming the external electrode, after forming a conductive metal layer on both end surfaces of the chip-shaped thermistor body by sintering, forming a conductive resin layer on the conductive metal layer It can be manufactured by forming and then forming a metal plating layer on the conductive resin layer.

【0014】また、本発明のチップ型サーミスタは、チ
ップ状サーミスタ素体の両端面以外の側面に抵抗値調整
用の表面電極が形成されているものであっても良く、こ
のようなチップ型サーミスタは、セラミックス焼結体よ
りなる角柱状サーミスタ素体であって、長手方向に延在
する側面に表面電極が形成された角柱状サーミスタ素体
の4側面に絶縁性の無機物層を形成する工程、絶縁性の
無機物層を形成した角柱状サーミスタ素体を長手方向と
直交する方向に切断してチップ状サーミスタ素体を形成
する工程、及び、このチップ状サーミスタ素体の無機物
層未被覆の両端面に外部電極を形成する工程を有するチ
ップ型サーミスタの製造方法において、該外部電極の形
成に当り、チップ状サーミスタ素体の両端面に焼結によ
り導電性金属層を形成した後、該導電性金属層上に導電
性樹脂層を形成し、次いで、導電性樹脂層上に金属めっ
き層を形成することにより製造することができる。
The chip-type thermistor according to the present invention may be one in which surface electrodes for adjusting a resistance value are formed on side surfaces other than both end surfaces of the chip-like thermistor body. Is a step of forming an insulating inorganic layer on four side surfaces of a prismatic thermistor element body formed of a ceramic sintered body and having a surface electrode formed on a side surface extending in a longitudinal direction, A step of forming a chip-shaped thermistor body by cutting the prismatic thermistor body on which the insulating inorganic layer is formed in a direction perpendicular to the longitudinal direction, and both end faces of the chip-shaped thermistor body not covered with the inorganic layer In the method for manufacturing a chip-type thermistor having a step of forming an external electrode, a conductive metal layer is formed by sintering both end surfaces of the chip-shaped thermistor body in forming the external electrode After form, to form a conductive resin layer on the conductive metal layer, then it can be produced by forming a metal plating layer on the conductive resin layer.

【0015】本発明において、金属めっき層がニッケル
めっき層と、このニッケルめっき層上に形成されたはん
だめっき層とからなるものであっても良く、はんだめっ
き層のみからなるものであっても良い。
In the present invention, the metal plating layer may be composed of a nickel plating layer and a solder plating layer formed on the nickel plating layer, or may be composed of only the solder plating layer. .

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明のチ
ップ型サーミスタ及びその製造方法を詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A chip type thermistor and a method for manufacturing the same according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0017】図1〜4は各々本発明のチップ型サーミス
タの一実施例を示す断面図であり、図1〜4において、
図7に示す部材と同一機能を奏する部材には同一符号を
付してある。
1 to 4 are cross-sectional views showing one embodiment of the chip type thermistor of the present invention.
Members having the same functions as the members shown in FIG. 7 are denoted by the same reference numerals.

【0018】図1に示すチップ型サーミスタ10Aは、
セラミックス焼結体よりなる直方体状のチップ状サーミ
スタ素体1と、このチップ状サーミスタ素体1の両端面
に形成された外部電極2と、この両端面以外の4側面を
被覆するように設けられたガラス層3等の絶縁性の無機
物層とを有する。
The chip type thermistor 10A shown in FIG.
A rectangular parallelepiped chip-shaped thermistor body 1 made of a ceramic sintered body, external electrodes 2 formed on both end faces of the chip-shaped thermistor body 1, and four side faces other than the both end faces are provided. And an insulating inorganic layer such as a glass layer 3.

【0019】本発明において、外部電極2は、チップ状
サーミスタ素体の端面に接する導電性金属層2aと、導
電性金属層2a上に形成された導電性樹脂層2bと、導
電性樹脂層2b上に形成された金属めっき層2cとで構
成される。図1の実施例では、金属めっき層2cはNi
めっき層2dとはんだめっき層2eとの2層構造となっ
ている。
In the present invention, the external electrode 2 includes a conductive metal layer 2a in contact with the end face of the chip-shaped thermistor body, a conductive resin layer 2b formed on the conductive metal layer 2a, and a conductive resin layer 2b. And a metal plating layer 2c formed thereon. In the embodiment of FIG. 1, the metal plating layer 2c is made of Ni.
It has a two-layer structure of a plating layer 2d and a solder plating layer 2e.

【0020】図2〜4に示すチップ型サーミスタ10
B,10C,10Dは抵抗値調整用の表面電極がチップ
状サーミスタ素体1の側面に形成されたものであり、図
2に示すチップ型サーミスタ10Bは、両端の外部電極
2にそれぞれ接続する表面電極6A,6B,6C,6D
がチップ状サーミスタ素体1の対向する2側面又は4側
面に設けられたものである。
The chip type thermistor 10 shown in FIGS.
B, 10C, and 10D have surface electrodes for adjusting the resistance value formed on the side surfaces of the chip-shaped thermistor body 1, and the chip-type thermistor 10B shown in FIG. Electrodes 6A, 6B, 6C, 6D
Are provided on two or four opposing sides of the chip-like thermistor body 1.

【0021】図3のチップ型サーミスタ10Cは、両端
の外部電極2にそれぞれ接続する表面電極6E,6Fが
チップ状サーミスタ素体1の対向する2側面に設けられ
たものである。表面電極6Eは、図の左側の外部電極に
のみ接続され、表面電極6Fは、図の右側の外部電極に
のみ接続されている。
The chip-type thermistor 10C shown in FIG. 3 has surface electrodes 6E and 6F connected to the external electrodes 2 at both ends, respectively, provided on two opposite sides of the chip-like thermistor body 1. The surface electrode 6E is connected only to the external electrode on the left side of the figure, and the surface electrode 6F is connected only to the external electrode on the right side of the figure.

【0022】図4に示すチップ型サーミスタ10Dは外
部電極2に接続しない表面電極6G,6Hがチップ状サ
ーミスタ素体1の対向する2側面又は4側面に設けられ
たものである。
The chip-type thermistor 10D shown in FIG. 4 has surface electrodes 6G and 6H which are not connected to the external electrode 2 provided on two or four opposite sides of the chip-like thermistor body 1.

【0023】図2〜4のチップ型サーミスタ10B,1
0C,10Dにおいて、その他の構成は図1に示すチッ
プ型サーミスタ10Aと同様である。
The chip type thermistor 10B, 1 shown in FIGS.
Other configurations of the chip thermistors 10C and 10D are the same as those of the chip thermistor 10A shown in FIG.

【0024】以下に、このような本発明のチップ型サー
ミスタ10A〜Dを、本発明の方法に従って製造する方
法について、図5,6を参照して説明する。
Hereinafter, a method for manufacturing the chip thermistors 10A to 10D of the present invention according to the method of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0025】チップ型サーミスタ10Aの製造に当って
は、まず、図5(a)に示すセラミックス焼結体よりな
る薄板状サーミスタ素体(サーミスタウェハ)11を、
短冊状に切断して図5(b)に示す角柱状サーミスタ素
体12とする。次に、この角柱状サーミスタ素体12の
長手方向に延在する4側面(又は全面)にガラス層3を
形成する。
In manufacturing the chip-type thermistor 10A, first, a thin plate-like thermistor body (thermistor wafer) 11 made of a ceramic sintered body shown in FIG.
The rectangular thermistor body 12 shown in FIG. Next, the glass layer 3 is formed on four side surfaces (or the entire surface) extending in the longitudinal direction of the prismatic thermistor body 12.

【0026】このガラス層の形成には、吹き付け可能な
粘度に調整したガラス粉末ペーストを角柱状サーミスタ
素体の4側面又は全面に吹き付け、その後乾燥した後、
焼付けを行う。或いは、スパッタリング等の薄膜形成技
術を採用することができ、例えば、所定配合のガラスを
ターゲットとするスパッタリング装置内に、複数本の角
柱状サーミスタ素体を入れたステンレススチール製の籠
を設置し、この籠を揺動させて、角柱状サーミスタ素体
を回転させながらスパッタリングを行う。これにより、
図5(c)に示す如く、角柱状サーミスタ素体12の4
側面ないし全面にガラス層3を形成することもできる。
For the formation of this glass layer, a glass powder paste adjusted to a sprayable viscosity is sprayed on the four side surfaces or the entire surface of the prismatic thermistor body, and after drying,
Perform baking. Alternatively, a thin film forming technique such as sputtering can be adopted.For example, a stainless steel cage containing a plurality of prismatic thermistor bodies is installed in a sputtering apparatus targeting a glass of a predetermined composition, The basket is oscillated, and sputtering is performed while rotating the prismatic thermistor body. This allows
As shown in FIG. 5 (c), the prismatic thermistor body 12
The glass layer 3 can be formed on the side surface or the entire surface.

【0027】次いで、ガラス層3を形成した角柱状サー
ミスタ素体12をその長手方向と直交する方向に切断し
て図5(d)に示すチップ状サーミスタ素体1を形成
し、このチップ状サーミスタ素体のガラス層3未被覆の
両端面1Aに図5(e)に示す如く、外部電極2を形成
してチップ型サーミスタ10Aとする。
Next, the prism-shaped thermistor element body 12 on which the glass layer 3 is formed is cut in a direction orthogonal to the longitudinal direction to form a chip-shaped thermistor element body 1 shown in FIG. As shown in FIG. 5 (e), external electrodes 2 are formed on both end surfaces 1A of the element body not covered with the glass layer 3 to obtain a chip type thermistor 10A.

【0028】表面電極を有するチップ型サーミスタ10
B,10C,10Dを製造するには、まず、セラミック
ス焼結体よりなる薄板状サーミスタ素体(サーミスタウ
ェハ)11の両板面に、図6(a)に示す如く、導電性
ペーストを用いてスクリーン印刷法等により、適当な間
隔を設けて帯状のパターンを印刷し、乾燥後焼き付けて
表面電極6を形成する。そして、表面電極6を形成した
サーミスタウェハ11を、短冊状に切断して図6(b)
に示す角柱状サーミスタ素体13とする。表面電極を4
側面に形成する場合には、次に、この角柱状サーミスタ
素体13の長手方向に延在する4側面のうち、表面電極
6が形成されていない2側面にも、同様に表面電極を形
成する。
Chip type thermistor 10 having surface electrodes
In order to manufacture B, 10C, and 10D, first, as shown in FIG. 6A, a conductive paste is used on both plate surfaces of a thin thermistor body (thermistor wafer) 11 made of a ceramic sintered body. A band-shaped pattern is printed at appropriate intervals by a screen printing method or the like, dried and baked to form the surface electrode 6. Then, the thermistor wafer 11 on which the surface electrode 6 is formed is cut into strips, and FIG.
The thermistor body 13 shown in FIG. 4 surface electrodes
When formed on the side surfaces, the surface electrodes are similarly formed on the two side surfaces on which the surface electrode 6 is not formed among the four side surfaces extending in the longitudinal direction of the prismatic thermistor body 13. .

【0029】このようにして側面に表面電極6を形成し
た角柱状サーミスタ素体13を用いて、上記と同様にし
てガラス層の形成、切断によるチップ状サーミスタ素体
の作製、外部電極の形成を行ってチップ型サーミスタ1
0B,10C,10Dを得る。
Using the prismatic thermistor element 13 having the surface electrode 6 formed on the side surface in this manner, the formation and cutting of a chip-shaped thermistor element by cutting and cutting a glass layer and the formation of external electrodes are performed in the same manner as described above. Go to chip type thermistor 1
0B, 10C and 10D are obtained.

【0030】なお、上述の如く、角柱状サーミスタ素体
に対してガラス層の形成を行う場合には、ガラス層の形
成工程が1回のみでよいため、生産効率が向上し、低コ
ストで製造可能である。しかも、ガラス層の形成前に、
サーミスタウェハを短冊状に切断するため、切断時のマ
イクロクラック等の欠陥が防止され、高強度かつ高信頼
性のチップ型サーミスタを製造することができる。ただ
し、本発明のチップ型サーミスタは、サーミスタウェハ
の両板面にガラス層を形成した後切断して角柱状サーミ
スタ素体とし、この角柱状サーミスタ素体のガラス層で
被覆されていない側面にガラス層を形成することでガラ
ス被覆を行う方法でも製造可能である。
As described above, when a glass layer is formed on a prismatic thermistor body, the process of forming the glass layer only needs to be performed once, so that the production efficiency is improved and the manufacturing cost is reduced. It is possible. Moreover, before forming the glass layer,
Since the thermistor wafer is cut into strips, defects such as microcracks at the time of cutting are prevented, and a chip-type thermistor with high strength and high reliability can be manufactured. However, the chip-type thermistor of the present invention has a structure in which glass layers are formed on both plate surfaces of a thermistor wafer and then cut to form a prismatic thermistor body. It can also be manufactured by a method of performing glass coating by forming a layer.

【0031】次に、本発明のチップ型サーミスタの導電
性金属層、導電性樹脂層及び金属めっき層よりなる外部
電極の好適な形成方法について説明する。
Next, a preferred method for forming an external electrode comprising a conductive metal layer, a conductive resin layer, and a metal plating layer of the chip-type thermistor of the present invention will be described.

【0032】導電性金属層は、Ag,Ag−Pd等の導
電性金属粉末とガラスフリットを含む導電性ベーストを
塗布して焼成することにより形成する。この導電性金属
層は、例えば、チップが1.6mm程度の長さである場
合、厚さ5〜80μm程度に形成するのが好ましい。導
電性金属層の厚さが5μm未満では、外部電極とチップ
及びガラス層等の無機物被覆層との接着強度や電気的接
続が不足し、80μmを超えると、その上部に形成され
る導電性樹脂層の厚さも加えると、チップ寸法にばらつ
きが生じ、チップ部品をテーピングで包装できない。或
いは、基板への実装時に装置の稼働率が低下する。な
お、チップサイズが大きくなれば、上限値はこれに伴っ
て大きくしても良い。
The conductive metal layer is formed by applying and baking a conductive base containing a conductive metal powder such as Ag, Ag-Pd and glass frit. For example, when the chip has a length of about 1.6 mm, the conductive metal layer is preferably formed to have a thickness of about 5 to 80 μm. When the thickness of the conductive metal layer is less than 5 μm, the adhesive strength and electrical connection between the external electrode and the inorganic coating layer such as the chip and the glass layer are insufficient, and when the thickness exceeds 80 μm, the conductive resin formed on the upper portion thereof When the thickness of the layer is added, the chip dimensions vary, and the chip components cannot be packaged by taping. Alternatively, the operation rate of the device during mounting on a substrate is reduced. Note that if the chip size increases, the upper limit may be increased accordingly.

【0033】この導電性金属層上の導電性樹脂層は、導
電性金属粉末と熱硬化型樹脂とを有機溶剤でペースト化
した導電性樹脂ペーストを塗布して乾燥、加熱硬化する
ことにより形成する。
The conductive resin layer on the conductive metal layer is formed by applying a conductive resin paste obtained by forming a conductive metal powder and a thermosetting resin into a paste with an organic solvent, followed by drying and heat curing. .

【0034】ここで使用される導電性樹脂ペーストの金
属粉末と熱硬化型樹脂との割合は、電極層としての導電
性と柔軟性とを確保するために金属粉末70〜95重量
%に対して熱硬化型樹脂30〜5重量%であることが好
ましい。金属粉末の割合が70重量%未満であると下部
の導電性金属層との電気的接続が不十分となり、また電
解めっき法でめっき被膜を形成する際、表面の導電性が
低下し、めっき被膜の形成が困難になる。金属粉末の割
合が95重量%を超えると、応力の緩和効果も小さくな
るため好ましくない。
The ratio between the metal powder of the conductive resin paste and the thermosetting resin used here is 70 to 95% by weight of the metal powder in order to secure conductivity and flexibility as an electrode layer. The thermosetting resin is preferably 30 to 5% by weight. When the proportion of the metal powder is less than 70% by weight, the electrical connection with the lower conductive metal layer becomes insufficient, and when the plating film is formed by the electrolytic plating method, the conductivity of the surface decreases, and the plating film is reduced. Formation becomes difficult. If the proportion of the metal powder exceeds 95% by weight, the effect of relieving stress is reduced, which is not preferable.

【0035】なお、金属粉末としては、Ag,Pd等の
貴金属粉末やNi粉末等を用いることができ、また、熱
硬化性樹脂としては、エポキシ、フェノール、キシレ
ン、ウレタン樹脂などが挙げられる。
As the metal powder, a noble metal powder such as Ag or Pd or Ni powder can be used. As the thermosetting resin, epoxy, phenol, xylene, urethane resin and the like can be mentioned.

【0036】このようにして形成される導電性樹脂層の
厚さは、例えば、チップが1.6mm程度の長さである
場合、10〜100μmであることが好ましい。導電性
樹脂層の厚さが10μm未満では、導電性樹脂層を形成
することによる応力緩和効果が十分ではなく、また、1
00μmを超えると上記導電性金属層の厚さの上限値の
場合と同様、チップ寸法のばらつきの問題が起こる。な
お、チップサイズが大きくなれば、上限値はこれに伴っ
て大きくしても良い。
The thickness of the conductive resin layer formed as described above is preferably 10 to 100 μm when the chip has a length of about 1.6 mm, for example. If the thickness of the conductive resin layer is less than 10 μm, the effect of stress relaxation by forming the conductive resin layer is not sufficient.
If it exceeds 00 μm, a problem of chip size variation occurs as in the case of the upper limit of the thickness of the conductive metal layer. Note that if the chip size increases, the upper limit may be increased accordingly.

【0037】この導電性樹脂層上に形成する金属めっき
層は、Niめっき層と、このNiめっき層上に形成され
たはんだめっき層とからなることが基板への実装時に必
要なはんだ濡れ性、耐熱性の観点からより好ましいが、
Niめっき層がなくとも導電性樹脂層がはんだ喰われに
充分耐えることができるため、Niめっき層を省くこと
ができる。金属めっき層として、Niめっき層とはんだ
めっき層とを形成する場合、その厚さはNiめっき層1
〜5μm、はんだめっき層2〜10μmとするのが好ま
しい。Niめっき層を省く場合、はんだめっき層の厚さ
は3〜10μmとするのが好ましい。
The metal plating layer formed on the conductive resin layer is composed of a Ni plating layer and a solder plating layer formed on the Ni plating layer. More preferred from the viewpoint of heat resistance,
Even if there is no Ni plating layer, the conductive resin layer can sufficiently withstand solder erosion, so that the Ni plating layer can be omitted. When a Ni plating layer and a solder plating layer are formed as metal plating layers, the thickness of the Ni plating layer is
It is preferable to set the thickness to 5 μm and the solder plating layer to 2 to 10 μm. When the Ni plating layer is omitted, the thickness of the solder plating layer is preferably 3 to 10 μm.

【0038】本発明のチップ型サーミスタでは、回路基
板に実装した場合、基板の切断時などのたわみからくる
機械的応力、或いは温度サイクル時にサーミスタ素体、
電極、はんだ、基板などの熱膨張係数の違いからくる熱
応力が外部電極に伝わった際、外部電極の中間層にある
柔軟性を有する導電性樹脂層によりこれらの応力が緩和
される。このため、これらの応力によるチップ状サーミ
スタ素体のクラック発生が防止される。
In the chip-type thermistor of the present invention, when mounted on a circuit board, mechanical stress caused by bending when the board is cut, or a thermistor element during a temperature cycle,
When thermal stresses due to differences in the coefficients of thermal expansion of the electrodes, solder, substrate, etc., are transmitted to the external electrodes, these stresses are relieved by the flexible conductive resin layer in the intermediate layer of the external electrodes. For this reason, generation of cracks in the chip-shaped thermistor body due to these stresses is prevented.

【0039】また、下部電極層として、導電性ペースト
を、ガラス層未被覆のチップ状サーミスタ素体の両端面
及びこの両端面寄りの4側面のガラス層上に塗布し、こ
れを高温で焼結して形成することで、サーミスタ素体と
の充分な電気的接続とサーミスタ素体及びガラス層との
強固な機械的接続が得られる。そして、サーミスタ素体
がガラス層及び金属層のいずれも高温で焼結されたもの
で覆われるため、高精度でかつ耐環境性に優れるものと
なる。なお、導電性金属層及び導電性樹脂層は極めて低
抵抗なため両者間の電気的接続が問題なることはない。
また、本発明では、前述の如く、金属めっき層のうち、
ニッケルめっき層を省くことができるため、製造価格を
抑えることができる。
Further, as a lower electrode layer, a conductive paste is applied to both end surfaces of the chip-shaped thermistor element not covered with the glass layer and the four side glass layers near the both end surfaces, and sintered at a high temperature. By this, a sufficient electrical connection with the thermistor body and a strong mechanical connection with the thermistor body and the glass layer can be obtained. And since both the glass layer and the metal layer are covered with what was sintered at high temperature, the thermistor body becomes highly accurate and excellent in environmental resistance. Since the conductive metal layer and the conductive resin layer have extremely low resistance, there is no problem in electrical connection between them.
Further, in the present invention, as described above, among the metal plating layers,
Since the nickel plating layer can be omitted, the manufacturing cost can be reduced.

【0040】[0040]

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に
説明する。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples.

【0041】実施例1 図5に示す本発明の方法に従って、図1に示すチップ型
サーミスタを製造した。
Example 1 A chip-type thermistor shown in FIG. 1 was manufactured according to the method of the present invention shown in FIG.

【0042】市販の炭酸マンガン、炭酸ニッケル、炭酸
コバルト及び酸化銅を出発原料とし、これらを金属原子
比が所定の割合になるようにそれぞれ秤量し、ボールミ
ルで16時間均一に混合した後脱水乾燥した。次にこの
混合物を大気圧下、900℃で2時間仮焼し、この仮焼
物を再びボールミルで粉砕して脱水乾燥した。粉砕物に
有機系結合剤等を加え、スプレードライヤーにより粒径
が60μm程度になるように造粒し、油圧プレスにより
直方体に圧縮成形した。この成形物を大気圧下、120
0℃で4時間焼成し、縦35mm、横50mm、厚さ1
0mmのサーミスタ焼結ブロックを作製した。次に、こ
のブロックをバンドソーで薄板状に切断し、縦35m
m、横50mm、厚さ0.80mmのサーミスタウェハ
を得た(図5(a))。
Commercially available manganese carbonate, nickel carbonate, cobalt carbonate and copper oxide were used as starting materials, each of which was weighed so that the metal atomic ratio became a predetermined ratio, uniformly mixed in a ball mill for 16 hours, and then dehydrated and dried. . Next, this mixture was calcined at 900 ° C. under atmospheric pressure for 2 hours, and the calcined product was again pulverized by a ball mill and dehydrated and dried. An organic binder and the like were added to the pulverized product, granulated to have a particle size of about 60 μm by a spray drier, and compression-molded into a rectangular parallelepiped by a hydraulic press. This molded product is subjected to 120 atmospheric pressure.
Bake at 0 ° C for 4 hours, length 35mm, width 50mm, thickness 1
A 0 mm thermistor sintered block was made. Next, this block was cut into a thin plate with a band saw,
A thermistor wafer having a width of 50 mm, a width of 50 mm, and a thickness of 0.80 mm was obtained (FIG. 5A).

【0043】このサーミスタウェハをダイシングマシン
により幅0.80mmの短冊状に切断し(図5
(b))、得られた角柱状サーミスタ素体の4側面に、
吹き付け可能な粘度に調整したガラス粉末ペーストを吹
き付けた後乾燥し、これを850℃で約10分間焼成し
て焼付けることにより、厚さ約20μmのSiO2 ,A
2 3 ,MgO,ZrO2 等の酸化物からなる絶縁性
のガラス層を形成した(図5(c))。そして、このガ
ラス層を被覆形成した角柱状サーミスタ素体を長さ1.
5mmのチップ形状にダイシングマシンにより切り出し
た(図5(d))。
This thermistor wafer was cut into strips having a width of 0.80 mm by a dicing machine (FIG. 5).
(B)) on the four side surfaces of the obtained prismatic thermistor body,
A glass powder paste adjusted to a viscosity that can be sprayed is sprayed, dried and fired at 850 ° C. for about 10 minutes, and baked to obtain SiO 2 , A having a thickness of about 20 μm.
An insulating glass layer made of an oxide such as l 2 O 3 , MgO, ZrO 2 was formed (FIG. 5C). Then, the prism-shaped thermistor element body formed by coating the glass layer was formed with a length of 1.
It was cut out into a chip shape of 5 mm by a dicing machine (FIG. 5D).

【0044】更に、以下の方法によりチップ状サーミス
タ素体の両端面に外部電極を形成した。まず、チップ状
サーミスタ素体の両端面にディッピング法により導電性
ベースト(ガラスフリットを含む市販のAgペースト)
を付着させ、大気圧下、820℃に10分間保持して焼
き付けた。形成された導電性金属層の厚さは30μm程
度である。次に、この導電性金属層の上に、Ag粉末を
含む導電性樹脂ペースト(Ag粉末:エポキシ系樹脂=
85:15(重量%),これに有機溶剤を10重量%添
加したもの)をディッピング法により塗布し、180℃
で10分間乾燥した後、220℃で2時間加熱硬化させ
た。形成された導電性樹脂層の厚さは50μm程度であ
る。
Further, external electrodes were formed on both end surfaces of the chip-shaped thermistor body by the following method. First, a conductive base (a commercially available Ag paste containing a glass frit) is applied to both end surfaces of the chip-like thermistor body by dipping.
And baked at 820 ° C. for 10 minutes under atmospheric pressure. The thickness of the formed conductive metal layer is about 30 μm. Next, on this conductive metal layer, a conductive resin paste containing Ag powder (Ag powder: epoxy resin =
85:15 (% by weight) to which an organic solvent was added at 10% by weight) by a dipping method.
, And then heat-cured at 220 ° C. for 2 hours. The thickness of the formed conductive resin layer is about 50 μm.

【0045】次いで、電解バレル法でこの導電性樹脂層
の表面に厚さ約2μmのNiめっき層を形成し、その上
に厚さ約5μmのはんだめっき層を形成した(図5
(e))。
Then, a Ni plating layer having a thickness of about 2 μm was formed on the surface of the conductive resin layer by an electrolytic barrel method, and a solder plating layer having a thickness of about 5 μm was formed thereon (FIG. 5).
(E)).

【0046】このように作製されたチップ型サーミスタ
について、耐基板曲げ性試験及び温度サイクル試験を行
い、結果を表1に示した。
The chip type thermistor thus manufactured was subjected to a substrate bending resistance test and a temperature cycle test, and the results are shown in Table 1.

【0047】比較例1 実施例1において、外部電極の形成に当り、導電性樹脂
層を形成しなかったこと以外は同様にしてチップ型サー
ミスタを作製し、このチップ型サーミスタについて耐基
板曲げ性試験及び温度サイクル試験を行い、結果を表1
に示した。
Comparative Example 1 A chip-type thermistor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the conductive resin layer was not formed when forming the external electrodes. And a temperature cycle test, and the results are shown in Table 1.
It was shown to.

【0048】[0048]

【表1】 [Table 1]

【0049】表1の結果から、耐基板曲げ性、温度サイ
クル試験(−55℃と125℃で各30分、気中500
サイクル)について、従来例のチップ型サーミスタに比
較して本発明のチップ型サーミスタは特性が向上してい
ることがわかる。
From the results shown in Table 1, the substrate bending resistance and the temperature cycle test (at -55 ° C. and 125 ° C. for 30 minutes each, air 500
With respect to the cycle, it can be seen that the chip thermistor of the present invention has improved characteristics as compared with the chip thermistor of the conventional example.

【0050】実施例2 実施例1において、サーミスタウェハの両板面に、図6
(a)に示す如く、幅0.6mmで幅方向の間隔1.4
mmのパターンを用いて、ウェハの両板面の電極が互い
に対抗するようにAgペーストを印刷した後、乾燥し、
次いで、このウェハを820℃で10分焼成し、厚さ約
10μmの多数列の抵抗値調整用表面電極を形成したこ
と以外は同様にして図2に示すチップ型サーミスタ10
Bを作製した(なお、角柱状サーミスタ素体の切り出し
に当っては、表面電極の中心線に沿って切断した。)。
Example 2 In Example 1, both the surfaces of the thermistor wafer were
As shown in (a), the width is 0.6 mm and the interval in the width direction is 1.4.
Using a pattern of mm, the Ag paste was printed so that the electrodes on both sides of the wafer face each other, and then dried,
Then, the wafer was baked at 820 ° C. for 10 minutes to form a chip type thermistor 10 shown in FIG. 2 in the same manner except that a large number of rows of surface electrodes for resistance adjustment having a thickness of about 10 μm were formed.
B was prepared (the prism-shaped thermistor body was cut along the center line of the surface electrode).

【0051】このチップ型サーミスタについても実施例
1及び比較例1と同様にして、外部電極の導電性樹脂層
の有無による特性の差異を調べたところ、導電性樹脂層
を有する本発明のチップ型サーミスタは、従来のチップ
型サーミスタに比べて特性が向上していることが確認さ
れた。
With respect to this chip-type thermistor, the difference in characteristics due to the presence or absence of the conductive resin layer of the external electrode was examined in the same manner as in Example 1 and Comparative Example 1, and the chip-type thermistor of the present invention having a conductive resin layer was examined. It has been confirmed that the thermistor has improved characteristics as compared with the conventional chip thermistor.

【0052】実施例3,4 実施例2において、表面電極の形成パターンを変えたこ
と以外は同様にして図3に示すチップ型サーミスタ10
C及び図4に示すチップ型サーミスタ10Dをそれぞれ
作製した。
Examples 3 and 4 The chip type thermistor 10 shown in FIG. 3 was manufactured in the same manner as in Example 2 except that the pattern for forming the surface electrodes was changed.
C and a chip type thermistor 10D shown in FIG. 4 were produced.

【0053】これらのチップ型サーミスタについても実
施例1及び比較例1と同様にして、外部電極の導電性樹
脂層の有無による特性の差異を調べたところ、導電性樹
脂層を有する本発明のチップ型サーミスタは、従来のチ
ップ型サーミスタに比べて特性が向上していることが確
認された。
With respect to these chip-type thermistors, the difference in characteristics depending on the presence or absence of the conductive resin layer of the external electrode was examined in the same manner as in Example 1 and Comparative Example 1, and the chip of the present invention having the conductive resin layer was examined. It was confirmed that the type thermistor had improved characteristics as compared with the conventional chip type thermistor.

【0054】実施例5 実施例1において、Niめっき層を形成しなかったこと
以外は同様にしてチップ型サーミスタを作製して性能を
評価したところ、このチップ型サーミスタは、耐基板曲
げ性、温度サイクル試験において、実施例1のものと同
様の性能を示すと同時に、はんだ濡れ性、耐熱性につい
ても問題がないことが確認された。
Example 5 A chip-type thermistor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the Ni plating layer was not formed, and the performance was evaluated. In the cycle test, it was confirmed that the same performance as that of Example 1 was exhibited, and that there was no problem in solder wettability and heat resistance.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明のチップ型サ
ーミスタ及びその製造方法によれば、高精度で耐環境性
に優れかつ機械的強度や温度サイクル性能等の信頼性に
も優れたチップ型サーミスタを安価にかつ量産性良く提
供することができる。
As described in detail above, according to the chip-type thermistor and the method of manufacturing the same according to the present invention, a chip having high accuracy, excellent environmental resistance, and excellent reliability such as mechanical strength and temperature cycle performance. A mold thermistor can be provided at low cost and with good mass productivity.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のチップ型サーミスタの一実施例を示す
断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing one embodiment of a chip type thermistor of the present invention.

【図2】本発明のチップ型サーミスタの他の実施例を示
す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing another embodiment of the chip type thermistor of the present invention.

【図3】本発明のチップ型サーミスタの別の実施例を示
す断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing another embodiment of the chip thermistor of the present invention.

【図4】本発明のチップ型サーミスタの異なる実施例を
示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing another embodiment of the chip type thermistor of the present invention.

【図5】本発明のチップ型サーミスタの製造方法の一例
を説明する斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view illustrating an example of a method for manufacturing a chip thermistor of the present invention.

【図6】本発明のチップ型サーミスタの製造方法の一例
を説明する斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view illustrating an example of a method for manufacturing a chip thermistor of the present invention.

【図7】従来のチップ型サーミスタを示す断面図であ
る。
FIG. 7 is a sectional view showing a conventional chip thermistor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 チップ状サーミスタ素体 2 外部電極 2a 導電性金属層 2b 導電性樹脂層 2c 金属めっき層 2d Niめっき層 2e はんだめっき層 3 ガラス層 6,6A,6B,6C,6D,6E,6F,6G,6H
表面電極 10A,10B,10C,10D チップ型サーミスタ 11 サーミスタウェハ 12,13 角柱状サーミスタ素体
1 chip-shaped thermistor element 2 external electrode 2a conductive metal layer 2b conductive resin layer 2c metal plating layer 2d Ni plating layer 2e solder plating layer 3 glass layer 6,6A, 6B, 6C, 6D, 6E, 6F, 6G, 6H
Surface electrode 10A, 10B, 10C, 10D Chip type thermistor 11 Thermistor wafer 12, 13 Prismatic thermistor body

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 セラミックス焼結体よりなる直方体形状
のチップ状サーミスタ素体と、該チップ状サーミスタ素
体の両端面に形成された外部電極と、該両端面以外の4
側面を被覆する絶縁性無機物よりなる被覆層とを有する
チップ型サーミスタにおいて、 該外部電極は、チップ状サーミスタ素体の端面に接する
導電性金属層と、該導電性金属層上に形成された導電性
樹脂層と、該導電性樹脂層上に形成された金属めっき層
とを備えてなることを特徴とするチップ型サーミスタ。
1. A rectangular parallelepiped chip-shaped thermistor element made of a ceramic sintered body, external electrodes formed on both end faces of the chip-shaped thermistor element, and four electrodes other than the both end faces.
A chip-type thermistor having a coating layer made of an insulating inorganic material covering a side surface, wherein the external electrode comprises: a conductive metal layer in contact with an end face of the chip-shaped thermistor body; and a conductive layer formed on the conductive metal layer. A chip thermistor comprising: a conductive resin layer; and a metal plating layer formed on the conductive resin layer.
【請求項2】 請求項1において、チップ状サーミスタ
素体の前記両端面以外の側面に抵抗値調整用の表面電極
が形成されていることを特徴とするチップ型サーミス
タ。
2. The chip thermistor according to claim 1, wherein a surface electrode for adjusting a resistance value is formed on a side surface other than the both end surfaces of the chip-shaped thermistor body.
【請求項3】 請求項1又は2において、金属めっき層
がニッケルめっき層と、このニッケルめっき層上に形成
されたはんだめっき層とからなることを特徴とするチッ
プ型サーミスタ。
3. The chip thermistor according to claim 1, wherein the metal plating layer comprises a nickel plating layer and a solder plating layer formed on the nickel plating layer.
【請求項4】 請求項1又は2において、金属めっき層
がはんだめっき層からなることを特徴とするチップ型サ
ーミスタ。
4. The chip thermistor according to claim 1, wherein the metal plating layer comprises a solder plating layer.
【請求項5】 セラミックス焼結体よりなる角柱状サー
ミスタ素体の長手方向に延在する4側面に絶縁性の無機
物層を形成する工程、絶縁性の無機物層を形成した角柱
状サーミスタ素体を長手方向と直交する方向に切断して
チップ状サーミスタ素体を形成する工程、及び、このチ
ップ状サーミスタ素体の無機物層未被覆の両端面に外部
電極を形成する工程を有するチップ型サーミスタの製造
方法において、 該外部電極の形成に当り、チップ状サーミスタ素体の両
端面に焼結により導電性金属層を形成した後、該導電性
金属層上に導電性樹脂層を形成し、次いで、導電性樹脂
層上に金属めっき層を形成することを特徴とするチップ
型サーミスタの製造方法。
5. A step of forming an insulating inorganic layer on four side surfaces extending in the longitudinal direction of a prism-shaped thermistor element made of a ceramic sintered body, comprising: forming a prism-shaped thermistor element having an insulating inorganic layer formed thereon; Production of a chip-type thermistor having a step of forming a chip-shaped thermistor body by cutting in a direction orthogonal to the longitudinal direction, and a step of forming external electrodes on both end surfaces of the chip-shaped thermistor body that are not coated with an inorganic material layer In the method, in forming the external electrode, after forming a conductive metal layer by sintering on both end surfaces of the chip-shaped thermistor element body, forming a conductive resin layer on the conductive metal layer, A method for producing a chip-type thermistor, comprising forming a metal plating layer on a conductive resin layer.
【請求項6】 セラミックス焼結体よりなる角柱状サー
ミスタ素体であって、長手方向に延在する側面に表面電
極が形成された角柱状サーミスタ素体の4側面に絶縁性
の無機物層を形成する工程、絶縁性の無機物層を形成し
た角柱状サーミスタ素体を長手方向と直交する方向に切
断してチップ状サーミスタ素体を形成する工程、及び、
このチップ状サーミスタ素体の無機物層未被覆の両端面
に外部電極を形成する工程を有するチップ型サーミスタ
の製造方法において、 該外部電極の形成に当り、チップ状サーミスタ素体の両
端面に焼結により導電性金属層を形成した後、該導電性
金属層上に導電性樹脂層を形成し、次いで、導電性樹脂
層上に金属めっき層を形成することを特徴とするチップ
型サーミスタの製造方法。
6. A prismatic thermistor element made of a ceramic sintered body, wherein insulating inorganic layers are formed on four side faces of a prismatic thermistor element body having surface electrodes formed on side faces extending in a longitudinal direction. Step, forming a chip-shaped thermistor body by cutting the prismatic thermistor body formed with an insulating inorganic layer in a direction perpendicular to the longitudinal direction, and
In a method for manufacturing a chip-type thermistor having a step of forming external electrodes on both end surfaces of the chip-shaped thermistor element body that are not covered with the inorganic layer, sintering is performed on both end surfaces of the chip-shaped thermistor element body in forming the external electrode. Forming a conductive metal layer on the conductive metal layer, forming a conductive resin layer on the conductive metal layer, and then forming a metal plating layer on the conductive resin layer. .
JP24333096A 1996-09-13 1996-09-13 Chip thermistor and its manufacture Pending JPH1092606A (en)

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