JP3248294B2 - Chip inductor and manufacturing method thereof - Google Patents
Chip inductor and manufacturing method thereofInfo
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は小型デジタル電子機器の
高密度実装回路基板に面実装するチップインダクタ及び
その製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chip inductor mounted on a high-density circuit board of a small digital electronic device and a method of manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、チップインダクタはノイズ対策部
品として、デジタル機器の小型・薄型化に伴う高密度実
装回路基板に数多く使用されている。2. Description of the Related Art In recent years, chip inductors are widely used as noise suppression components in high-density mounting circuit boards as digital devices become smaller and thinner.
【0003】図12は従来のチップインダクタの構造図
を示すものである。101は磁性体層、102は取り出
し用の端面電極、103は内部導体、104はアルミナ
基板である。以上のように構成された従来のチップイン
ダクタは、電気絶縁性の複数の磁性体層101とコイル
形成用の複数の内部導体103とを内部導体103の端
部が接続されるように交互に印刷積層し、焼成一体化す
ることにより焼結体を得、この焼結体の両側面に導電ペ
ーストを塗布した後焼き付けて端面電極102を形成す
ることにより製造している。このチップインダクタは、
印刷のみで積層体を形成することができ、一体焼成が可
能であることから安価に製造できるチップ部品として重
宝されている。FIG. 12 shows a structure diagram of a conventional chip inductor. 101 is a magnetic layer, 102 is an end face electrode for taking out, 103 is an internal conductor, and 104 is an alumina substrate. In the conventional chip inductor configured as described above, a plurality of electrically insulating magnetic layers 101 and a plurality of internal conductors 103 for forming a coil are alternately printed such that the ends of the internal conductors 103 are connected. A sintered body is obtained by laminating and firing and integrating, and a conductive paste is applied to both side surfaces of the sintered body and then baked to form an end face electrode 102, thereby producing the sintered body. This chip inductor is
Since a laminate can be formed only by printing and can be integrally fired, it is useful as a chip component that can be manufactured at low cost.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の構成では実装性および製品形状の面で大きな問題点
を有していた。すなわち、チップインダクタでは焼成に
よる収縮において、焼結体の上面端部に反りが発生する
ことから、チップの寸法精度が悪く、実装時のトラブル
の原因となっている。また、寸法ばらつきが大きいため
端面電極を塗布する工程においても電極の寸法ばらつき
が大きくなるという問題点を有していた。However, the above-mentioned conventional configuration has a serious problem in terms of mountability and product shape. That is, in the chip inductor, warpage occurs at the upper end of the sintered body during shrinkage due to firing, so that the dimensional accuracy of the chip is poor, which causes trouble during mounting. Further, there is a problem that the dimensional variation of the electrodes is large even in the step of applying the end face electrodes because the dimensional variations are large.
【0005】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、チップインダクタの上面を平坦化することにより優
れた実装性と製品形状のバラツキを小さくすることを目
的とする。An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, and it is an object of the present invention to flatten the upper surface of a chip inductor to reduce the variation in the shape of a product and excellent mountability.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
本発明のチップインダクタ及びその製造方法は角板状の
セラミック基板と、前記セラミック基板上に設けるとと
もに導体パターンを内設した磁性体層と、無機物質から
なり前記磁性体層上面に設けかつ焼成することにより磁
性体層が焼結する前に先に焼結膜を形成し、前記磁性体
層の収縮を抑制する収縮抑制層と、前記セラミック基板
および前記磁性体層および前記収縮抑制層の両端部に設
け前記導体パターンと電気的に接続する一対の外部電極
とから成るチップインダクタ。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve this problem, a chip inductor and a method of manufacturing the same according to the present invention comprise a square plate-shaped ceramic substrate, a magnetic layer provided on the ceramic substrate and having a conductor pattern provided therein. , magnetic by providing and fired on the magnetic layer upper surface an inorganic material
Before the sintering of the magnetic material layer, a sintered film is formed first,
A chip inductor comprising: a shrinkage suppression layer for suppressing shrinkage of a layer; and a pair of external electrodes provided at both ends of the ceramic substrate, the magnetic layer, and the shrinkage suppression layer and electrically connected to the conductor pattern.
【0007】[0007]
【作用】本発明のチップインダクタによれば、磁性体層
が焼結する前に、収縮抑制層が先に焼結膜を形成するた
め、この焼結膜が磁性体の焼成時の上部の収縮を抑制
し、磁性体層上部を平坦化することができるため、外形
寸法のばらつきを小さくすることができ、高密度実装に
使用可能となる。また、シート状のセラミック基板上に
磁性体層を形成していることから、角板型厚膜チップ抵
抗器と同様に、製造が容易で量産性に富んでいる。これ
らのことから、従来の厚膜チップインダクタでは実現で
きなかった、外形寸法のばらつきが小さく、優れた実装
性と量産性を有したチップインダクタを提供できる。According to the chip inductor of the present invention, the shrinkage suppressing layer forms the sintered film first before the magnetic material layer is sintered, so that the sintered film suppresses the shrinkage of the upper portion during firing of the magnetic material. In addition, since the upper portion of the magnetic layer can be flattened, variations in external dimensions can be reduced, and the magnetic layer can be used for high-density mounting. In addition, since the magnetic layer is formed on the sheet-like ceramic substrate, it is easy to manufacture and mass-produced similarly to the square plate type thick film chip resistor. From these facts, it is possible to provide a chip inductor which has small variations in external dimensions and has excellent mountability and mass productivity, which cannot be realized by the conventional thick film chip inductor.
【0008】[0008]
【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を参照
しながら説明する。An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0009】図1は本発明の一実施例におけるチップイ
ンダクタの内部構造を示した透視状態の斜視図である。
図2は図1のA−A’間の断面図である。FIG. 1 is a perspective view showing an internal structure of a chip inductor according to an embodiment of the present invention in a see-through state.
FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA ′ in FIG.
【0010】図1において、11はセラミック基板であ
り、このセラミック基板11上に磁性体12中にコイル
状の導体パターン13を内設した磁性体層14が形成さ
れている。さらに磁性体層14上には磁性体層14の収
縮を抑制するための収縮抑制層15が設けられている。
また、このようにして形成した積層体20の両端面に
は、セラミック基板11の裏面から収縮抑制層15の上
面にかけて、外部電極である端面電極16が形成されて
いる。In FIG. 1, reference numeral 11 denotes a ceramic substrate, on which a magnetic layer 14 having a coil-shaped conductor pattern 13 provided inside a magnetic body 12 is formed. Further, a shrinkage suppressing layer 15 for suppressing shrinkage of the magnetic layer 14 is provided on the magnetic layer 14.
Further, on both end surfaces of the laminate 20 formed in this way, end surface electrodes 16 as external electrodes are formed from the back surface of the ceramic substrate 11 to the upper surface of the shrinkage suppression layer 15.
【0011】以上のように構成されたチップインダクタ
について図を用いてその製造方法を説明する。まず、図
3に示すようにアルミナ系シート状のセラミック基板1
0の片面に、分割後の一個片が3.0×1.5mm角の角
板上のチップインダクタになるよう横方向に一次分割用
の溝17、縦方向に二次分割用の溝18を加工する。The manufacturing method of the chip inductor configured as described above will be described with reference to the drawings. First, as shown in FIG.
0, a primary dividing groove 17 in the horizontal direction and a secondary dividing groove 18 in the vertical direction so that each divided piece becomes a chip inductor on a square plate of 3.0 × 1.5 mm square. Process.
【0012】次に図4に示すように、セラミック基板1
0のほぼ全面にNi・Zn・Cu系の磁性体ペーストを
印刷し乾燥して磁性体12からなる第1層を形成する。Next, as shown in FIG.
A first layer made of the magnetic material 12 is formed by printing and drying a Ni—Zn—Cu-based magnetic paste on almost the entire surface of the “0”.
【0013】次に図5に示すようにコイル状の導体パタ
ーン13の巻き始めをAg・Pd系の導体ペーストで印
刷形成し、続いて図6に示すようにコイル状の導体パタ
ーン13をつなげるためのビアホール19を有するパタ
ーンでNi・Zn・Cu系の磁性体ペーストを印刷する
ことにより磁性体12からなるパターンを形成し、さら
に図7に示すようにビアホール19を介して図5の導体
パターン13の端部と接続するように導体パターン13
の巻き終わりをAg・Pd系の導体ペーストで印刷形成
することにより導体パターン13と磁性体パターン12
からなる第2層を形成する。Next, as shown in FIG. 5, the beginning of winding of the coil-shaped conductor pattern 13 is printed and formed with an Ag / Pd-based conductor paste, and then, as shown in FIG. 6, the coil-shaped conductor pattern 13 is connected. A pattern made of the magnetic material 12 is formed by printing a Ni—Zn—Cu-based magnetic paste with a pattern having the via hole 19, and furthermore, the conductor pattern 13 of FIG. Conductor pattern 13 so as to be connected to the end of
The end of winding is printed and formed with an Ag / Pd-based conductor paste to form a conductor pattern 13 and a magnetic pattern 12.
Is formed.
【0014】この後、図8に示すように図4と同様に基
板のほぼ全面を覆うように磁性体ペーストを印刷し磁性
体12からなる第3層を形成する。Thereafter, as shown in FIG. 8, similarly to FIG. 4, a magnetic material paste is printed so as to cover almost the entire surface of the substrate to form a third layer made of the magnetic material 12.
【0015】このようにして得られた積層体20の上部
に、図9に示すようにガラスあるいはガラスとアルミナ
を主成分とする結晶化ガラスのペースト、または磁性体
材料に低軟化点ガラスあるいは低軟化点ガラスとアルミ
ナの粉体を混合したペーストを印刷形成することにより
収縮抑制層15を形成する。As shown in FIG. 9, a paste of glass or crystallized glass containing glass and alumina as main components or a low softening point glass or low magnetic material is added to the magnetic material. The shrinkage suppression layer 15 is formed by printing and forming a paste in which a softening point glass and alumina powder are mixed.
【0016】次にダイシング装置により、溝幅200μ
m以下で、積層体20をセラミック基板上面から100
μm以下の厚みを残して切削する。これを800℃から
1100℃の高温で1時間焼成する。ついで図10に示
すように一次分割溝17に沿ってスティック状に分割
し、このように分割されたスティック状の積層体20の
両端面に導体パターン13に接続するようにAg系の厚
膜導体を形成し予備乾燥した後550℃から900℃で
15分焼成することによって端面電極16を形成し、最
後に図11に示すように二次分割溝18に沿って積層体
20を個々に分割してチップインダクタを得る。Next, the groove width is 200 μm by a dicing machine.
m or less, and the laminate 20 is 100
Cutting with a thickness of less than μm. This is fired at a high temperature of 800 ° C. to 1100 ° C. for one hour. Next, as shown in FIG. 10, a stick-like split is formed along the primary dividing groove 17, and an Ag-based thick film conductor is connected to the conductor pattern 13 on both end surfaces of the stick-like laminate 20 thus divided. After pre-drying, the resultant is baked at 550 ° C. to 900 ° C. for 15 minutes to form an end face electrode 16. Finally, as shown in FIG. To obtain a chip inductor.
【0017】このようにして得られたチップインダクタ
の反りの度合いを焼成後のチップインダクタのセラミッ
ク基板の底面からチップインダクタの上面までの距離の
最大値と最低値の比から得、その値を(表1)に示す。The degree of warpage of the chip inductor thus obtained is obtained from the ratio between the maximum value and the minimum value of the distance from the bottom surface of the ceramic substrate of the fired chip inductor to the top surface of the chip inductor, and the value is calculated as ( It is shown in Table 1).
【0018】[0018]
【表1】 ここで、(表1)に示す比較例は前記製造方法におい
て、図9の収縮抑制層の塗布工程を省き、図2から図
8、ダイシングによる切削を行った後、図10,図11
と工程を経て得られたチップインダクタである。これを
前記測定と同様に行った結果が(表1)に示す値であ
る。この(表1)から、本実施例によればチップインダ
クタは比較例のチップインダクタに比べ反りの小さいも
のが得られることがわかる。[Table 1] Here, in the comparative examples shown in (Table 1), in the above-mentioned manufacturing method, the application step of the shrinkage suppression layer in FIG. 9 was omitted, and FIGS.
And the chip inductor obtained through the steps. The result of performing this in the same manner as the above measurement is the value shown in (Table 1). From this (Table 1), it can be seen that according to the present embodiment, a chip inductor having a smaller warp than the chip inductor of the comparative example can be obtained.
【0019】また、従来のチップインダクタと本実施例
のチップインダクタを、チップ実装機によりプリント基
板上に実装しはんだ付けしてそれぞれの実装性を比較評
価したところ、本実施例のチップインダクタはチップの
吸着ミス、割れ、位置ずれ、はんだ不良が全く皆無であ
った。このように、本実施例によれば、実装性の点で優
れたチップインダクタが得られる。Further, the conventional chip inductor and the chip inductor of the present embodiment were mounted on a printed circuit board by a chip mounting machine and soldered, and their mountability was compared and evaluated. There were no suction errors, cracks, displacements, or solder defects. Thus, according to the present embodiment, a chip inductor excellent in mountability can be obtained.
【0020】さらに、本実施例のチップインダクタおよ
びその製造方法によれば、機械的強度が高く寸法精度の
高い焼結済みのシート状のセラミック基板11をベース
として磁性体層14を設けるため複数個の素子を効率良
く、しかも高精度に一括形成できる。Further, according to the chip inductor and the method of manufacturing the same of the present embodiment, since the magnetic layer 14 is provided on the basis of the sintered ceramic substrate 11 having high mechanical strength and high dimensional accuracy, a plurality of magnetic layers are provided. Can be collectively formed efficiently and with high precision.
【0021】以上のように本実施例によれば、焼結時に
発生する磁性体層14の反りを抑制することができ、製
品ばらつきが小さく、実装性と量産性に優れたチップイ
ンダクタができる。As described above, according to this embodiment, it is possible to suppress the warpage of the magnetic layer 14 generated at the time of sintering, to obtain a chip inductor with small product variation, and excellent in mountability and mass productivity.
【0022】なお、積層体に溝を入れる際に100μm
をこえる厚みを残した場合は、焼成後の基板のブレーク
性が悪くなることから基板から積層体を100μm以下
の厚みを残している。When a groove is formed in the laminated body, 100 μm
If the thickness is more than 3 mm, the breakability of the fired substrate is deteriorated, so that the thickness of the laminated body from the substrate is 100 μm or less.
【0023】[0023]
【発明の効果】以上のように本発明によれば、セラミッ
ク基板上に設けた導体パターンを内設した磁性体層上
に、収縮抑制層を形成しセラミック基板の裏面から収縮
抑制層の上面にかけて形成することにより、焼結時に発
生する磁性体層の反りを抑制し実装性と量産性に優れた
チップインダクタ及びその製造方法を実現できる。As described above, according to the present invention, a shrinkage suppression layer is formed on a magnetic layer having a conductor pattern provided on a ceramic substrate, and is formed from the back surface of the ceramic substrate to the upper surface of the shrinkage suppression layer. By forming the chip inductor, a warp of the magnetic material layer generated at the time of sintering is suppressed, and a chip inductor excellent in mountability and mass productivity and a manufacturing method thereof can be realized.
【図1】本発明の一実施例におけるチップインダクタの
内部構造を示す斜視図FIG. 1 is a perspective view showing an internal structure of a chip inductor according to an embodiment of the present invention.
【図2】図1のA−A’間の断面図FIG. 2 is a sectional view taken along the line A-A 'in FIG.
【図3】同実施例の製造工程におけるチップインダクタ
の平面図FIG. 3 is a plan view of the chip inductor in a manufacturing process according to the embodiment.
【図4】同実施例の製造工程におけるチップインダクタ
の平面図FIG. 4 is a plan view of the chip inductor in a manufacturing process according to the embodiment.
【図5】同実施例の製造工程におけるチップインダクタ
の平面図FIG. 5 is a plan view of the chip inductor in a manufacturing process according to the embodiment.
【図6】同実施例の製造工程におけるチップインダクタ
の平面図FIG. 6 is a plan view of the chip inductor in a manufacturing process according to the embodiment.
【図7】同実施例の製造工程におけるチップインダクタ
の平面図FIG. 7 is a plan view of the chip inductor in a manufacturing process according to the embodiment.
【図8】同実施例の製造工程におけるチップインダクタ
の平面図FIG. 8 is a plan view of the chip inductor in a manufacturing process according to the embodiment.
【図9】同実施例の製造工程におけるチップインダクタ
の平面図FIG. 9 is a plan view of the chip inductor in the manufacturing process of the embodiment.
【図10】同実施例の製造工程におけるチップインダク
タの平面図FIG. 10 is a plan view of the chip inductor in a manufacturing process according to the embodiment.
【図11】同実施例におけるチップインダクタの平面図FIG. 11 is a plan view of the chip inductor in the embodiment.
【図12】従来のチップインダクタの内部構造を示す斜
視図FIG. 12 is a perspective view showing the internal structure of a conventional chip inductor.
11 セラミック基板 12 磁性体 13 導体パターン 14 磁性体層 15 収縮抑制層 16 端面電極 17 一次分割溝 18 二次分割溝 20 積層体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Ceramic substrate 12 Magnetic body 13 Conductive pattern 14 Magnetic layer 15 Shrinkage suppression layer 16 End face electrode 17 Primary division groove 18 Secondary division groove 20 Laminate
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01C 7/00 H01G 4/30 H01F 17/00,41/04 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (58) Fields surveyed (Int. Cl. 7 , DB name) H01C 7/00 H01G 4/30 H01F 17/00, 41/04
Claims (5)
ック基板上に設けるとともに導体パターンを内設した磁
性体層と、無機物質からなり前記磁性体層上面に設けか
つ焼成することにより磁性体層が焼結する前に先に焼結
膜を形成し、前記磁性体層の収縮を抑制する収縮抑制層
と、前記セラミック基板および前記磁性体層および前記
収縮抑制層の両端部に設け前記導体パターンと電気的に
接続する一対の外部電極とから成るチップインダクタ。And 1. A rectangular plate-shaped ceramic substrate, said magnetic layer which is internally provided with conductor pattern is provided on a ceramic substrate, provided on the magnetic layer upper surface an inorganic material and a magnetic layer by baking Sintering first before sintering
A film is formed, and a shrinkage suppressing layer for suppressing shrinkage of the magnetic layer is provided on both ends of the ceramic substrate, the magnetic layer and the shrinkage suppressing layer, and is electrically connected to the conductor pattern. A chip inductor comprising a pair of external electrodes.
ることを特徴とする請求項1記載のチップインダクタ。2. The chip inductor according to claim 1, wherein the shrinkage suppression layer contains crystallized glass as a main component.
スとの混合物質からなることを特徴とする請求項1記載
のチップインダクタ。3. The chip inductor according to claim 1, wherein the shrinkage suppression layer is made of a mixed material of a magnetic material and a low softening point glass.
のほぼ全面に、磁性体からなる第1層と導体パターンと
磁性体パターンを交互に積層してなる第2層と磁性体か
らなる第3層とからなる磁性体層を形成した後、前記磁
性体層上に無機物質からなり磁性体層が焼結する前に先
に焼結膜を形成し、前記磁性体層の収縮を抑制する収縮
抑制層を積層して乾燥した後、前記収縮抑制層面より縦
横に細分割用の複数の溝を形成して一括焼成後、前記溝
に沿ってチップ状に細分割することを特徴とする請求項
1記載のチップインダクタの製造方法。4. A first layer made of a magnetic material, a second layer formed by alternately laminating a conductor pattern and a magnetic material pattern, and a first layer made of a magnetic material over substantially the entire surface of a sintered ceramic substrate in the form of a sheet. After forming the magnetic layer composed of three layers , first, before the magnetic layer composed of an inorganic substance is sintered on the magnetic layer,
Shrinkage to form a sintered film on the surface and to suppress shrinkage of the magnetic layer
After drying by laminating suppressing layer, claims, characterized in that the rear co-firing to form a plurality of grooves for subdivision vertically and horizontally than the shrinkage suppression layer surface, subdivided into chips along the grooves 2. A method for manufacturing the chip inductor according to 1.
上面から磁性体層を一部残して形成することを特徴とす
る請求項4記載のチップインダクタの製造方法。5. The method according to claim 4, wherein the plurality of subdivision grooves are formed while leaving a part of the magnetic layer from the upper surface of the ceramic substrate.
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