JPH10116707A - Chip type thermistor and its manufacturing method - Google Patents

Chip type thermistor and its manufacturing method

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JPH10116707A
JPH10116707A JP8270760A JP27076096A JPH10116707A JP H10116707 A JPH10116707 A JP H10116707A JP 8270760 A JP8270760 A JP 8270760A JP 27076096 A JP27076096 A JP 27076096A JP H10116707 A JPH10116707 A JP H10116707A
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JP
Japan
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layer
thermistor
chip
forming
external electrode
Prior art date
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Application number
JP8270760A
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Japanese (ja)
Inventor
Masami Koshimura
正己 越村
Koji Yotsumoto
孝二 四元
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Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
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Publication date
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  • Thermistors And Varistors (AREA)
  • Details Of Resistors (AREA)
  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
  • Non-Adjustable Resistors (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance reliability in mechanical strength or temperature cycle performance, etc., by a method wherein, in an external electrode, a conductive metal layer is brought into contact with an end face of a chip-like thermistor element, a conductive resin layer is formed on the conductive metal layer, and a metal plating layer is formed on the conductive resin layer. SOLUTION: A chip type thermistor 10A is formed with an external electrode 2 at both end faces of a rectangular parallelepiped chip-like thermistor element 1 composed of a ceramic sintered body, and an insulation inorganic substance layer of a glass layer 3, etc., is provided so as to cover two opposite side faces having a larger area among four side faces other than these both end faces. In an external electrode 2, a conductive metal layer 2a is brought into contact with an end face of the chip-like thermistor element 1, and a conductive resin layer 2b is formed thereon. A metal plating layer 2c is formed on the conductive resin layer 2b, and is a two-layer structure of a Ni plating layer 2d and a solder plating layer 2e. Thereby, it is possible to enhance mechanical strength and cycle performance, etc.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント基板等に
表面実装されるチップ型サーミスタ及びその製造方法に
係り、特に、温度の上昇により抵抗値が減少する負特性
サーミスタであって、機械的強度に優れかつ信頼性の高
いチップ型サーミスタ及びこのようなチップ型サーミス
タを低コストで製造する方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chip type thermistor surface-mounted on a printed circuit board or the like and a method of manufacturing the same, and more particularly to a negative temperature coefficient thermistor whose resistance value decreases with a rise in temperature, and which has a mechanical strength The present invention relates to a chip-type thermistor having excellent reliability and high reliability and a method for manufacturing such a chip-type thermistor at low cost.

【0002】[0002]

【従来の技術】プリント回路基板等に表面実装されるチ
ップ型サーミスタの代表的な製品として、図7に示す如
く、チップ状サーミスタ素体1の両端面に外部電極2と
して、はんだ耐熱性、はんだ付着性を向上させるために
焼き付け端子電極2Aとその表面を被覆するめっき層2
Bを形成し、この外部電極2が形成面されていないサー
ミスタ素体1の4側面のうちの対向する2側面をガラス
層3等の絶縁性の無機物層で被覆した構造のものが提供
されている。
2. Description of the Related Art As a typical product of a chip type thermistor surface-mounted on a printed circuit board or the like, as shown in FIG. Baking terminal electrode 2A and plating layer 2 covering its surface to improve adhesion
B is formed, and two opposing sides of the four sides of the thermistor body 1 on which the external electrode 2 is not formed are covered with an insulating inorganic layer such as a glass layer 3. I have.

【0003】従来、このようなチップ型サーミスタ4
は、次のようにして製造されている。即ち、まず、セラ
ミックス焼結体よりなる薄板状サーミスタ素体(サーミ
スタウェハ)の両主板面にガラスペーストを印刷塗布し
て焼成することにより絶縁性のガラス層を形成する。次
に、両主板面がガラス層で被覆されたサーミスタウェハ
を短冊状に切り出し、対向する2側面にガラス層を有す
る角柱状サーミスタ素体を得る。この角柱状サーミスタ
素体のガラス層未被覆の2側面に導電性ペーストを塗布
・焼成して焼き付け端子電極を形成する。更に、この端
子電極の表面にめっき層を形成して外部電極層を形成す
る。その後、長手方向に直交する方向(前記切断面と垂
直な方向)に切断して図7に示すチップ型サーミスタ4
を得る。
Conventionally, such a chip type thermistor 4
Is manufactured as follows. That is, first, an insulating glass layer is formed by printing and applying a glass paste on both main plate surfaces of a thin plate thermistor element body (thermistor wafer) made of a ceramic sintered body and firing it. Next, a thermistor wafer whose both main plate surfaces are covered with a glass layer is cut into strips, and a prismatic thermistor body having glass layers on two opposing side surfaces is obtained. A conductive paste is applied and baked on two side surfaces of the prismatic thermistor body not covered with the glass layer to form baked terminal electrodes. Further, a plating layer is formed on the surface of the terminal electrode to form an external electrode layer. Then, the chip type thermistor 4 shown in FIG. 7 is cut in a direction orthogonal to the longitudinal direction (a direction perpendicular to the cut surface).
Get.

【0004】また、上記チップ型サーミスタにおいて、
チップ状サーミスタ素体の側面に抵抗値調整用の表面電
極を形成したものも提供されており、このようなチップ
型サーミスタは、予め、サーミスタウェハの両主板面に
導電性ベーストを塗布して抵抗値調整用の表面電極を形
成しておくこと以外は上記と同様の方法で製造される。
In the above chip type thermistor,
There is also provided a chip thermistor element in which surface electrodes for adjusting a resistance value are formed on side surfaces of the chip thermistor body. Such a chip thermistor is prepared by applying a conductive base to both main plate surfaces of a thermistor wafer in advance. It is manufactured by the same method as described above except that a surface electrode for adjusting a value is formed.

【0005】このように外部電極層を形成した角柱状サ
ーミスタ素体を切断加工して多数個のチップ型サーミス
タを製造する方法は、得られるチップ型サーミスタの2
側面のみがガラス層で被覆され、残る2側面は素体表面
が露出しているため耐環境性の面で若干信頼性に欠ける
ものの、量産性に優れる上に、工程数が少なく、低コス
トで工業的に有利な方法である。
[0005] A method of manufacturing a large number of chip-type thermistors by cutting the prism-shaped thermistor element body on which the external electrode layer is formed as described above is based on a method of manufacturing a chip-type thermistor.
Only the side surface is covered with a glass layer, and the remaining two side surfaces are slightly unreliable in terms of environmental resistance because the surface of the body is exposed. However, it is excellent in mass productivity and requires a small number of processes and low cost. This is an industrially advantageous method.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記従来の製造方法で
製造されたチップ型サーミスタのチップ状サーミスタ素
体は、切断加工により作製されるため、その4側面と両
端面との頂角部が尖った角錐状となる。このため回路基
板に実装した場合、基板の切断時等におけるたわみから
くる機械的応力、或いは温度サイクル時にサーミスタ素
体、電極、はんだ、基板などの熱膨張係数の違いから来
る熱応力が外部電極を通してチップ素体の該頂角部に集
中しクラックが発生し易くなる。
Since the chip-shaped thermistor body of the chip-type thermistor manufactured by the above-mentioned conventional manufacturing method is manufactured by cutting, the apex corners of its four side surfaces and both end surfaces are sharp. It becomes a pyramid shape. For this reason, when mounted on a circuit board, the mechanical stress resulting from bending when the board is cut or the like, or the thermal stress resulting from the difference in the coefficient of thermal expansion of the thermistor body, electrodes, solder, board, etc. during a temperature cycle passes through the external electrodes. The chip concentrates on the apical corner of the chip body, and cracks are likely to occur.

【0007】特に、2側面にガラス層が形成された角柱
状サーミスタ素体の残る2側面に外部電極層を形成した
ものを切断する、即ち、ガラス層の無機材料、サーミス
タ素体の半導体セラミック材料及び外部電極層の金属材
料という異なる材料を同時に切断するため、素体の露出
面に応力が集中し易く、とりわけその頂角部にマイクロ
クラックが発生し易い。
In particular, a prismatic thermistor element having a glass layer formed on two side surfaces and an external electrode layer formed on the remaining two side surfaces is cut, ie, an inorganic material for the glass layer and a semiconductor ceramic material for the thermistor element. In addition, since different materials such as a metal material for the external electrode layer are cut at the same time, stress is easily concentrated on the exposed surface of the element body, and particularly, microcracks are easily generated at the apex corners.

【0008】本発明は上記従来の問題点を解決し、機械
的強度や温度サイクル性能等の信頼性に優れたチップ型
サーミスタを安価にかつ量産性良く提供することを目的
とするものである。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems and to provide a chip thermistor excellent in reliability such as mechanical strength and temperature cycle performance at low cost and with good mass productivity.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明のチップ型サーミ
スタは、セラミックス焼結体よりなる直方体形状のチッ
プ状サーミスタ素体と、該チップ状サーミスタ素体の両
端面に形成された外部電極と、該両端面以外の4側面の
うちの対向する2側面を被覆する絶縁性無機物よりなる
被覆層とを有するチップ型サーミスタにおいて、該外部
電極は、チップ状サーミスタ素体の端面に接する導電性
金属層と、該導電性金属層上に形成された導電性樹脂層
と、該導電性樹脂層上に形成された金属めっき層とを備
えてなることを特徴とする。
According to the present invention, there is provided a chip-type thermistor according to the present invention, comprising: a rectangular parallelepiped chip-shaped thermistor element made of a ceramic sintered body; external electrodes formed on both end surfaces of the chip-shaped thermistor element; A chip-type thermistor having a coating layer made of an insulating inorganic material covering two opposing side surfaces of the four side surfaces other than the both end surfaces, wherein the external electrode is a conductive metal layer in contact with an end surface of the chip-like thermistor body. And a conductive resin layer formed on the conductive metal layer, and a metal plating layer formed on the conductive resin layer.

【0010】本発明のチップ型サーミスタでは、回路基
板に実装した場合、基板の切断時などのたわみからくる
機械的応力、或いは温度サイクル時にサーミスタ素体、
電極、はんだ、基板などの熱膨張係数の違いからくる熱
応力が外部電極に伝わった際、外部電極の中間層にある
柔軟性を有する導電性樹脂層によりこれらの応力が緩和
される。このため、これらの応力によるチップ状サーミ
スタ素体のクラック発生が防止される。
In the chip type thermistor of the present invention, when mounted on a circuit board, mechanical stress caused by bending when the board is cut, or thermistor element during a temperature cycle,
When thermal stresses due to differences in the coefficients of thermal expansion of the electrodes, solder, substrate, etc., are transmitted to the external electrodes, these stresses are relieved by the flexible conductive resin layer in the intermediate layer of the external electrodes. For this reason, generation of cracks in the chip-shaped thermistor body due to these stresses is prevented.

【0011】外部電極の下部電極層としての導電性金属
層は、サーミスタ素体との十分な電気的接続並びにサー
ミスタ素体及びガラス等の無機物被覆層との強固な機械
的接続に有効である。導電性金属層及び導電性樹脂層は
極めて低抵抗であるため両者の電気的接続も良好であ
る。
The conductive metal layer as the lower electrode layer of the external electrode is effective for sufficient electrical connection with the thermistor body and strong mechanical connection with the thermistor body and an inorganic coating layer such as glass. Since the conductive metal layer and the conductive resin layer have extremely low resistance, their electrical connection is also good.

【0012】金属めっき層はニッケルめっき層と、この
ニッケルめっき層上に形成されたはんだめっき層とから
なることが基板への実装時に必要なはんだ濡れ性、耐熱
性の観点から好ましいが、ニッケルめっき層がなくとも
導電性樹脂層がはんだ喰われに充分耐えることができ
る。このため、ニッケルめっき層を省くことができ、製
品価格を廉価なものにすることができる。
The metal plating layer preferably comprises a nickel plating layer and a solder plating layer formed on the nickel plating layer from the viewpoints of solder wettability and heat resistance required for mounting on a substrate. Even without a layer, the conductive resin layer can sufficiently withstand solder erosion. Therefore, the nickel plating layer can be omitted, and the product price can be reduced.

【0013】本発明のチップ型サーミスタは、セラミッ
クス焼結体よりなる薄板状サーミスタ素体の表裏の主板
面に絶縁性の無機物層を形成する工程、絶縁性の無機物
層を形成した薄板状サーミスタウェハを短冊状に切断し
て角柱状サーミスタ素体を形成する工程、該角柱状サー
ミスタ素体の長手方向に延在する4側面のうち、絶縁性
の無機物層が形成されておらず素体が露出した2側面に
外部電極層を形成する工程、及び、該外部電極層を形成
した角柱状サーミスタ素体を長手方向と直交する方向に
チップ状に切断してチップ型サーミスタを得る工程を有
するチップ型サーミスタの製造方法において、該外部電
極層の形成に当り、素体が露出した該2側面に焼結によ
り導電性金属層を形成した後、該導電性金属層上に導電
性樹脂層を形成し、次いで、導電性樹脂層上に金属めっ
き層を形成することにより、少ない製造工程数で安価に
製造することができる。
The chip type thermistor according to the present invention is a step of forming an insulating inorganic layer on the front and back main plate surfaces of a thin plate thermistor element made of a ceramic sintered body, and a thin plate thermistor wafer having an insulating inorganic layer formed thereon. To form a prismatic thermistor body by cutting into a strip shape, and among the four side surfaces extending in the longitudinal direction of the prismatic thermistor body, the body is exposed because no insulating inorganic layer is formed. Forming an external electrode layer on the two side surfaces, and cutting the prism-shaped thermistor element body formed with the external electrode layers into chips in a direction orthogonal to the longitudinal direction to obtain a chip-type thermistor. In the method for manufacturing a thermistor, a conductive metal layer is formed on the two side surfaces where the element body is exposed by sintering, and then a conductive resin layer is formed on the conductive metal layer. Then, by forming a metal plating layer on the conductive resin layer, it can be manufactured at low cost with a small number of manufacturing steps.

【0014】また、本発明のチップ型サーミスタは、チ
ップ状サーミスタ素体の両端面以外の側面に抵抗値調整
用の表面電極が形成されているものであっても良く、こ
のようなチップ型サーミスタは、セラミックス焼結体よ
りなる薄板状サーミスタ素体の表裏の主板面に抵抗値調
整用の表面電極を形成した後、絶縁性の無機物層を形成
する工程、絶縁性の無機物層を形成した薄板状サーミス
タ素体を短冊状に切断して角柱状サーミスタ素体を形成
する工程、該角柱状サーミスタ素体の長手方向に延在す
る4側面のうち、絶縁性の無機物層が形成されておらず
素体が露出した2側面に外部電極層を形成する工程、及
び、該外部電極層を形成した角柱状サーミスタ素体を長
手方向と直交する方向にチップ状に切断してチップ型サ
ーミスタを得る工程を有するチップ型サーミスタの製造
方法において、該外部電極層の形成に当り、素体が露出
した該2側面に焼結により導電性金属層を形成した後、
該導電性金属層上に導電性樹脂層を形成し、次いで、導
電性樹脂層上に金属めっき層を形成することにより製造
することができる。
The chip-type thermistor according to the present invention may be one in which surface electrodes for adjusting a resistance value are formed on side surfaces other than both end surfaces of the chip-like thermistor body. Forming a surface electrode for resistance adjustment on the front and back main plate surfaces of a thin plate thermistor body made of a ceramic sintered body, and then forming an insulating inorganic layer, the thin plate having the insulating inorganic layer formed thereon Forming a prismatic thermistor body by cutting the prismatic thermistor body into strips, and, among the four side surfaces extending in the longitudinal direction of the prismatic thermistor body, an insulating inorganic layer is not formed Forming an external electrode layer on the two side surfaces where the element body is exposed, and cutting the prism-shaped thermistor element body formed with the external electrode layer into chips in a direction orthogonal to the longitudinal direction to obtain a chip-type thermistor. The method of manufacturing a chip-type thermistor having, per the formation of the external electrode layer, after forming a conductive metal layer by sintering the two sides body is exposed,
It can be manufactured by forming a conductive resin layer on the conductive metal layer and then forming a metal plating layer on the conductive resin layer.

【0015】本発明において、金属めっき層がニッケル
めっき層と、このニッケルめっき層上に形成されたはん
だめっき層とからなるものであっても良く、はんだめっ
き層のみからなるものであっても良い。
In the present invention, the metal plating layer may be composed of a nickel plating layer and a solder plating layer formed on the nickel plating layer, or may be composed of only the solder plating layer. .

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明のチ
ップ型サーミスタ及びその製造方法を詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A chip type thermistor and a method for manufacturing the same according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0017】図1〜4は各々本発明のチップ型サーミス
タの一実施例を示す断面図であり、図1〜4において、
図7に示す部材と同一機能を奏する部材には同一符号を
付してある。
1 to 4 are cross-sectional views showing one embodiment of the chip type thermistor of the present invention.
Members having the same functions as the members shown in FIG. 7 are denoted by the same reference numerals.

【0018】図1に示すチップ型サーミスタ10Aは、
セラミックス焼結体よりなる直方体状のチップ状サーミ
スタ素体1と、このチップ状サーミスタ素体1の両端面
に形成された外部電極2と、この両端面以外の4側面の
うち、面積の大きい対向2側面(主面)を被覆するよう
に設けられたガラス層3等の絶縁性の無機物層とを有す
る。
The chip type thermistor 10A shown in FIG.
A rectangular parallelepiped chip-shaped thermistor element 1 made of a ceramic sintered body, an external electrode 2 formed on both end faces of the chip-shaped thermistor element 1, and four opposing side faces other than both end faces facing each other having a large area An insulating inorganic layer such as a glass layer 3 provided so as to cover two side surfaces (main surfaces).

【0019】本発明において、外部電極2は、チップ状
サーミスタ素体の端面に接する導電性金属層2aと、導
電性金属層2a上に形成された導電性樹脂層2bと、導
電性樹脂層2b上に形成された金属めっき層2cとで構
成される。図1の実施例では、金属めっき層2cはNi
めっき層2dとはんだめっき層2eとの2層構造となっ
ている。
In the present invention, the external electrode 2 includes a conductive metal layer 2a in contact with the end face of the chip-shaped thermistor body, a conductive resin layer 2b formed on the conductive metal layer 2a, and a conductive resin layer 2b. And a metal plating layer 2c formed thereon. In the embodiment of FIG. 1, the metal plating layer 2c is made of Ni.
It has a two-layer structure of a plating layer 2d and a solder plating layer 2e.

【0020】図2〜4に示すチップ型サーミスタ10
B,10C,10Dは抵抗値調整用の表面電極がチップ
状サーミスタ素体1のガラス層3被覆側面に形成された
ものであり、図2に示すチップ型サーミスタ10Bは、
両端の外部電極2にそれぞれ接続する表面電極6A,6
B,6C,6Dがチップ状サーミスタ素体1の対向する
2側面に設けられ、その上にガラス層3等の絶縁性無機
物層が設けられたものである。
The chip type thermistor 10 shown in FIGS.
B, 10C, and 10D each have a surface electrode for adjusting a resistance value formed on the side surface of the chip-shaped thermistor body 1 covered with the glass layer 3. The chip-type thermistor 10B shown in FIG.
Surface electrodes 6A, 6 respectively connected to external electrodes 2 at both ends
B, 6C, and 6D are provided on two opposing side surfaces of the chip-like thermistor body 1, and an insulating inorganic layer such as a glass layer 3 is provided thereon.

【0021】図3のチップ型サーミスタ10Cは、両端
の外部電極2にそれぞれ接続する表面電極6E,6Fが
チップ状サーミスタ素体1の対向する2側面に設けら
れ、その上にガラス層3等の絶縁性無機物層が設けられ
たものである。
In the chip type thermistor 10C shown in FIG. 3, surface electrodes 6E and 6F connected to the external electrodes 2 at both ends are provided on two opposing side surfaces of the chip-shaped thermistor body 1, and a glass layer 3 or the like is formed thereon. This is provided with an insulating inorganic layer.

【0022】表面電極6Eは、図の左側の外部電極にの
み接続され、表面電極6Fは、図の右側の外部電極にの
み接続されている。
The surface electrode 6E is connected only to the external electrode on the left side of the figure, and the surface electrode 6F is connected only to the external electrode on the right side of the figure.

【0023】図4に示すチップ型サーミスタ10Dは外
部電極2に接続しない表面電極6G,6Hがチップ状サ
ーミスタ素体1の対向する2側面に設けられ、その上に
ガラス層3等の絶縁性無機物層が設けられたものであ
る。
In the chip type thermistor 10D shown in FIG. 4, surface electrodes 6G and 6H which are not connected to the external electrode 2 are provided on two opposing side surfaces of the chip type thermistor body 1, and an insulating inorganic material such as a glass layer 3 is formed thereon. A layer is provided.

【0024】図2〜4のチップ型サーミスタ10B,1
0C,10Dにおいて、その他の構成は図1に示すチッ
プ型サーミスタ10Aと同様である。
The chip thermistor 10B, 1 shown in FIGS.
Other configurations of the chip thermistors 10C and 10D are the same as those of the chip thermistor 10A shown in FIG.

【0025】以下に、このような本発明のチップ型サー
ミスタ10A〜Dを、本発明の方法に従って製造する方
法について、図5,6を参照して説明する。
Hereinafter, a method for manufacturing the chip thermistors 10A to 10D of the present invention according to the method of the present invention will be described with reference to FIGS.

【0026】チップ型サーミスタ10Aの製造に当って
は、まず、図5(a)に示すセラミックス焼結体よりな
る薄板状サーミスタウェハ11の表裏の主板面11A、
11Bに図5(b)に示す如く、ガラス層12を形成す
る。
In manufacturing the chip type thermistor 10A, first, the main plate surfaces 11A on the front and back of the thin plate thermistor wafer 11 made of a ceramic sintered body shown in FIG.
11B, a glass layer 12 is formed as shown in FIG.

【0027】このガラス層の形成には、適当な粘度に調
整したガラス粉末ペーストをサーミスタウェハの両主板
面11A、11Bに印刷塗布し、その後乾燥した後、焼
付けを行う。
To form the glass layer, a glass powder paste adjusted to an appropriate viscosity is printed and applied to both main plate surfaces 11A and 11B of the thermistor wafer, dried, and baked.

【0028】次いで、ガラス層12を形成したサーミス
タウェハ11を、短冊状に切断して図5(c)に示す角
柱状サーミスタ素体13とする。そして、この角柱状サ
ーミスタ素体13の長手方向に延在する4側面のうち、
ガラス層未被覆の2側面13A、13B及びこの2側面
寄りの他の2側面のガラス層12上に、図5(d)に示
す如く、外部電極層14を形成する。
Next, the thermistor wafer 11 on which the glass layer 12 is formed is cut into strips to obtain a prismatic thermistor body 13 shown in FIG. Then, of the four side surfaces extending in the longitudinal direction of the prismatic thermistor body 13,
As shown in FIG. 5D, an external electrode layer 14 is formed on the two side surfaces 13A and 13B that are not covered with the glass layer and on the other two side surfaces of the glass layer 12 near the two side surfaces.

【0029】次いで、外部電極層14を形成した角柱状
サーミスタ素体13を図5(e)に示す如く、その長手
方向と直交する方向に切断してチップ型サーミスタ10
Aとする。
Next, as shown in FIG. 5 (e), the prism-shaped thermistor element body 13 on which the external electrode layer 14 is formed is cut in a direction orthogonal to the longitudinal direction thereof so that the chip type thermistor 10 is formed.
A.

【0030】表面電極を有するチップ型サーミスタ10
B,10C,10Dを製造するには、まず、セラミック
ス焼結体よりなる薄板状サーミスタ素体(サーミスタウ
ェハ)11の両主板面11A、11Bに、図6(a)に
示す如く、導電性ペーストを用いてスクリーン印刷法等
により、適当な間隔を設けて帯状のパターンを印刷し、
乾燥後焼き付けて表面電極層15を形成する。そして、
表面電極層15を形成したサーミスタウェハ11の両主
板面上に上記と同様にしてガラス層を全面に形成した
後、短冊状に切断して図6(b)に示す角柱状サーミス
タ素体13’とする(ただし、図6(b)において、ガ
ラス層は図示略)。
Chip type thermistor 10 having surface electrodes
In order to manufacture B, 10C, and 10D, first, as shown in FIG. 6A, a conductive paste is applied to both main plate surfaces 11A and 11B of a thin plate thermistor body (thermistor wafer) 11 made of a ceramic sintered body. By printing a belt-shaped pattern at appropriate intervals by screen printing method using
After drying, baking is performed to form the surface electrode layer 15. And
A glass layer is formed on both surfaces of the thermistor wafer 11 on which the surface electrode layer 15 is formed, in the same manner as described above, and then cut into strips to form a prismatic thermistor body 13 'shown in FIG. 6B. (However, the glass layer is not shown in FIG. 6B).

【0031】このようにして表面電極15及びガラス層
を形成した角柱状サーミスタ素体13’のガラス層未被
覆の2側面に上記と同様にして外部電極層の形成及び切
断を行ってチップ型サーミスタ10B,10C,10D
を得る。
The external electrode layer is formed and cut in the same manner as described above on the two side surfaces of the prismatic thermistor element body 13 'on which the surface electrode 15 and the glass layer are formed without coating the glass layer. 10B, 10C, 10D
Get.

【0032】次に、本発明のチップ型サーミスタの導電
性金属層、導電性樹脂層及び金属めっき層よりなる外部
電極の好適な形成方法について説明する。
Next, a preferred method for forming an external electrode comprising a conductive metal layer, a conductive resin layer, and a metal plating layer of the chip-type thermistor of the present invention will be described.

【0033】導電性金属層は、Ag,Ag−Pd等の導
電性金属粉末とガラスフリットを含む導電性ベーストを
塗布して焼成することにより形成する。この導電性金属
層は、例えば、最終製品のチップが1.6mm程度の長
さである場合、厚さ5〜80μm程度に形成するのが好
ましい。導電性金属層の厚さが5μm未満では、外部電
極とチップ及びガラス層等の無機物被覆層との接着強度
や電気的接続が不足し、80μmを超えると、その上部
に形成される導電性樹脂層の厚さも加えると、チップ寸
法にばらつきが生じ、チップ部品をテーピングで包装で
きない。或いは、基板への実装時に装置の稼働率が低下
する。なお、チップサイズが大きくなれば、上限値はこ
れに伴って大きくしても良い。
The conductive metal layer is formed by applying and firing a conductive base containing a conductive metal powder such as Ag or Ag-Pd and a glass frit. This conductive metal layer is preferably formed to a thickness of about 5 to 80 μm, for example, when the final product chip has a length of about 1.6 mm. When the thickness of the conductive metal layer is less than 5 μm, the adhesive strength and electrical connection between the external electrode and the inorganic coating layer such as the chip and the glass layer are insufficient, and when the thickness exceeds 80 μm, the conductive resin formed on the upper portion thereof When the thickness of the layer is added, the chip dimensions vary, and the chip components cannot be packaged by taping. Alternatively, the operation rate of the device during mounting on a substrate is reduced. Note that if the chip size increases, the upper limit may be increased accordingly.

【0034】この導電性金属層上の導電性樹脂層は、導
電性金属粉末と熱硬化型樹脂とを有機溶剤でペースト化
した導電性樹脂ペーストを塗布して乾燥、加熱硬化する
ことにより形成する。
The conductive resin layer on the conductive metal layer is formed by applying a conductive resin paste obtained by forming a conductive metal powder and a thermosetting resin into a paste with an organic solvent, followed by drying and heat curing. .

【0035】ここで使用される導電性樹脂ペーストの金
属粉末と熱硬化型樹脂との割合は、電極層としての導電
性と柔軟性とを確保するために金属粉末70〜95重量
%に対して熱硬化型樹脂30〜5重量%であることが好
ましい。金属粉末の割合が70重量%未満であると下部
の導電性金属層との電気的接続が不十分となり、また電
解めっき法でめっき被膜を形成する際、表面の導電性が
低下し、めっき被膜の形成が困難になる。金属粉末の割
合が95重量%を超えると、応力の緩和効果も小さくな
るため好ましくない。
The ratio between the metal powder of the conductive resin paste and the thermosetting resin used here is 70 to 95% by weight of the metal powder in order to secure conductivity and flexibility as an electrode layer. The thermosetting resin is preferably 30 to 5% by weight. When the proportion of the metal powder is less than 70% by weight, the electrical connection with the lower conductive metal layer becomes insufficient, and when the plating film is formed by the electrolytic plating method, the conductivity of the surface decreases, and the plating film is reduced. Formation becomes difficult. If the proportion of the metal powder exceeds 95% by weight, the effect of relieving stress is reduced, which is not preferable.

【0036】なお、金属粉末としては、Ag,Pd等の
貴金属粉末やNi粉末等を用いることができ、また、熱
硬化性樹脂としては、エポキシ、フェノール、キシレ
ン、ウレタン樹脂などが挙げられる。
As the metal powder, a noble metal powder such as Ag or Pd or Ni powder can be used. As the thermosetting resin, epoxy, phenol, xylene, urethane resin and the like can be mentioned.

【0037】このようにして形成される導電性樹脂層の
厚さは、例えば、最終製品のチップが1.6mm程度の
長さである場合、10〜100μmであることが好まし
い。導電性樹脂層の厚さが10μm未満では、導電性樹
脂層を形成することによる応力緩和効果が十分ではな
く、また、100μmを超えると上記導電性金属層の厚
さの上限値の場合と同様、チップ寸法のばらつきの問題
が起こる。なお、チップサイズが大きくなれば、上限値
はこれに伴って大きくしても良い。
The thickness of the conductive resin layer formed in this manner is preferably 10 to 100 μm, for example, when the chip of the final product has a length of about 1.6 mm. If the thickness of the conductive resin layer is less than 10 μm, the effect of stress relaxation by forming the conductive resin layer is not sufficient, and if it exceeds 100 μm, it is the same as the case of the upper limit of the thickness of the conductive metal layer. This causes a problem of variation in chip dimensions. Note that if the chip size increases, the upper limit may be increased accordingly.

【0038】この導電性樹脂層上に形成する金属めっき
層は、Niめっき層と、このNiめっき層上に形成され
たはんだめっき層とからなることが基板への実装時に必
要なはんだ濡れ性、耐熱性の観点からより好ましいが、
Niめっき層がなくとも導電性樹脂層がはんだ喰われに
充分耐えることができるため、Niめっき層を省くこと
ができる。金属めっき層として、Niめっき層とはんだ
めっき層とを形成する場合、その厚さはNiめっき層1
〜5μm、はんだめっき層2〜10μmとするのが好ま
しい。Niめっき層を省く場合、はんだめっき層の厚さ
は3〜10μmとするのが好ましい。
The metal plating layer formed on the conductive resin layer is composed of a Ni plating layer and a solder plating layer formed on the Ni plating layer. More preferred from the viewpoint of heat resistance,
Even if there is no Ni plating layer, the conductive resin layer can sufficiently withstand solder erosion, so that the Ni plating layer can be omitted. When a Ni plating layer and a solder plating layer are formed as metal plating layers, the thickness of the Ni plating layer is
It is preferable to set the thickness to 5 μm and the solder plating layer to 2 to 10 μm. When the Ni plating layer is omitted, the thickness of the solder plating layer is preferably 3 to 10 μm.

【0039】本発明のチップ型サーミスタでは、回路基
板に実装した場合、基板の切断時などのたわみからくる
機械的応力、或いは温度サイクル時にサーミスタ素体、
電極、はんだ、基板などの熱膨張係数の違いからくる熱
応力が外部電極に伝わった際、外部電極の中間層にある
柔軟性を有する導電性樹脂層によりこれらの応力が緩和
される。このため、これらの応力によるチップ状サーミ
スタ素体のクラック発生が防止される。
In the chip type thermistor of the present invention, when mounted on a circuit board, mechanical stress caused by bending when the board is cut, or thermistor body during a temperature cycle,
When thermal stresses due to differences in the coefficients of thermal expansion of the electrodes, solder, substrate, etc., are transmitted to the external electrodes, these stresses are relieved by the flexible conductive resin layer in the intermediate layer of the external electrodes. For this reason, generation of cracks in the chip-shaped thermistor body due to these stresses is prevented.

【0040】また、下部電極層として、導電性ペースト
を、ガラス層未被覆の角柱状サーミスタ素体の2側面及
びこの2側面寄りの他の2側面のガラス層上に塗布し、
これを高温で焼結して形成することで、サーミスタ素体
との充分な電気的接続とサーミスタ素体及びガラス層と
の強固な機械的接続が得られる。そして、サーミスタ素
体がガラス層及び金属層のいずれも高温で焼結されたも
ので覆われるため、高精度でかつ耐環境性に優れるもの
となる。なお、導電性金属層及び導電性樹脂層は極めて
低抵抗なため両者間の電気的接続が問題なることはな
い。
As a lower electrode layer, a conductive paste is applied to two side surfaces of the prism-shaped thermistor body not covered with the glass layer and the other two side glass layers near the two side surfaces,
By forming this by sintering at a high temperature, a sufficient electrical connection with the thermistor element and a strong mechanical connection with the thermistor element and the glass layer can be obtained. And since both the glass layer and the metal layer are covered with what was sintered at high temperature, the thermistor body becomes highly accurate and excellent in environmental resistance. Since the conductive metal layer and the conductive resin layer have extremely low resistance, there is no problem in electrical connection between them.

【0041】また、本発明のチップ型サーミスタは、サ
ーミスタウェハへのガラス層の形成、切断、外部電極の
形成及び切断という少ない工程数で製造可能であるた
め、製造効率の向上及びコストの低減を図ることができ
るが、更に、前述の如く、金属めっき層のうち、ニッケ
ルめっき層を省くことができるため、製造価格をより一
層抑えることができる。
Further, the chip-type thermistor of the present invention can be manufactured in a small number of steps of forming and cutting a glass layer on a thermistor wafer, and forming and cutting external electrodes. However, as described above, the nickel plating layer can be omitted from the metal plating layer, so that the production cost can be further reduced.

【0042】[0042]

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
The present invention will be described more specifically below with reference to examples and comparative examples.

【0043】実施例1 図5に示す本発明の方法に従って、図1に示すチップ型
サーミスタを製造した。
Example 1 According to the method of the present invention shown in FIG. 5, the chip thermistor shown in FIG. 1 was manufactured.

【0044】市販の炭酸マンガン、炭酸ニッケル、炭酸
コバルト及び酸化銅を出発原料とし、これらを金属原子
比が所定の割合になるようにそれぞれ秤量し、ボールミ
ルで16時間均一に混合した後脱水乾燥した。次にこの
混合物を大気圧下、900℃で2時間仮焼し、この仮焼
物を再びボールミルで粉砕して脱水乾燥した。粉砕物に
有機系結合剤等を加え、スプレードライヤーにより粒径
が60μm程度になるように造粒し、油圧プレスにより
直方体に圧縮成形した。この成形物を大気圧下、120
0℃で4時間焼成し、縦35mm、横50mm、厚さ1
0mmのサーミスタ焼結ブロックを作製した。次に、こ
のブロックをバンドソーで薄板状に切断し、縦35m
m、横50mm、厚さ0.80mmのサーミスタウェハ
を得た(図5(a))。
Commercially available manganese carbonate, nickel carbonate, cobalt carbonate and copper oxide were used as starting materials, each of which was weighed so that the metal atomic ratio became a predetermined ratio, uniformly mixed in a ball mill for 16 hours, and then dehydrated and dried. . Next, this mixture was calcined at 900 ° C. under atmospheric pressure for 2 hours, and the calcined product was again pulverized by a ball mill and dehydrated and dried. An organic binder and the like were added to the pulverized product, granulated to have a particle size of about 60 μm by a spray drier, and compression-molded into a rectangular parallelepiped by a hydraulic press. This molded product is subjected to 120 atmospheric pressure.
Bake at 0 ° C for 4 hours, length 35mm, width 50mm, thickness 1
A 0 mm thermistor sintered block was made. Next, this block was cut into a thin plate with a band saw,
A thermistor wafer having a width of 50 mm, a width of 50 mm, and a thickness of 0.80 mm was obtained (FIG. 5A).

【0045】このサーミスタウェハの両主板面に、印刷
可能な粘度に調整したガラス粉末ペーストを印刷後乾燥
し、これを850℃で約10分間焼成して焼付けること
により、厚さ約20μmのSiO2 ,Al2 3 ,Mg
O,ZrO2 等の酸化物からなる絶縁性のガラス層を形
成した(図5(b))。そして、このガラス層を形成し
たサーミスタウェハをダイシングマシンにより幅0.8
0mmの短冊状に切断し(図5(c))、得られた角柱
状サーミスタ素体のガラス層未被覆の2側面に、以下の
方法により外部電極を形成した。
A glass powder paste adjusted to a printable viscosity is printed on both main plate surfaces of the thermistor wafer, dried, baked at 850 ° C. for about 10 minutes, and baked to obtain a SiO 2 having a thickness of about 20 μm. 2 , Al 2 O 3 , Mg
An insulating glass layer made of an oxide such as O or ZrO 2 was formed (FIG. 5B). Then, the thermistor wafer on which the glass layer is formed is 0.8 mm wide by a dicing machine.
It was cut into strips of 0 mm (FIG. 5 (c)), and external electrodes were formed on the two side surfaces of the obtained prism-shaped thermistor body, which were not covered with a glass layer, by the following method.

【0046】まず、角柱状サーミスタ素体の該2側面に
ディッピング法により導電性ペースト(ガラスフリット
を含む市販のAgペースト)を付着させ、大気圧下、8
20℃に10分間保持して焼き付けた。形成された導電
性金属層の厚さは30μm程度である。次に、この導電
性金属層の上に、Ag粉末を含む導電性樹脂ペースト
(Ag粉末:エポキシ系樹脂=85:15(重量%),
これに有機溶剤を10重量%添加したもの)をディッピ
ング法により塗布し、180℃で10分間乾燥した後、
220℃で2時間加熱硬化させた。形成された導電性樹
脂層の厚さは50μm程度である。
First, a conductive paste (a commercially available Ag paste containing a glass frit) is adhered to the two side surfaces of the prism-shaped thermistor body by dipping, and the pressure is reduced to 8 at atmospheric pressure.
It was kept at 20 ° C. for 10 minutes and baked. The thickness of the formed conductive metal layer is about 30 μm. Next, on this conductive metal layer, a conductive resin paste containing Ag powder (Ag powder: epoxy resin = 85: 15 (% by weight),
An organic solvent was added thereto by 10% by weight), applied by dipping, and dried at 180 ° C. for 10 minutes.
The composition was cured by heating at 220 ° C. for 2 hours. The thickness of the formed conductive resin layer is about 50 μm.

【0047】次いで、この導電性樹脂層を形成した角柱
状サーミスタ素体をめっき浴に浸漬し、この導電性樹脂
層の表面に厚さ約2μmのNiめっき層を形成し、その
上に厚さ約5μmのはんだめっき層を形成した(図5
(d))。
Next, the prismatic thermistor body having the conductive resin layer formed thereon is immersed in a plating bath, and a Ni plating layer having a thickness of about 2 μm is formed on the surface of the conductive resin layer. A solder plating layer of about 5 μm was formed (FIG. 5).
(D)).

【0048】その後、ダイシングマシンにより長さ1.
5mmのチップ形状に切断し(図5(e))、チップ型
サーミスタを得た。
Thereafter, the length 1.
It was cut into a chip shape of 5 mm (FIG. 5E) to obtain a chip type thermistor.

【0049】このように作製されたチップ型サーミスタ
について、耐基板曲げ性試験及び温度サイクル試験を行
い、結果を表1に示した。
The chip type thermistor thus manufactured was subjected to a substrate bending resistance test and a temperature cycle test, and the results are shown in Table 1.

【0050】比較例1 実施例1において、外部電極の形成に当り、導電性樹脂
層を形成しなかったこと以外は同様にしてチップ型サー
ミスタを作製し、このチップ型サーミスタについて耐基
板曲げ性試験及び温度サイクル試験を行い、結果を表1
に示した。
Comparative Example 1 A chip thermistor was prepared in the same manner as in Example 1 except that the conductive resin layer was not formed when forming the external electrodes. The chip thermistor was subjected to a board bending resistance test. And a temperature cycle test, and the results are shown in Table 1.
It was shown to.

【0051】[0051]

【表1】 [Table 1]

【0052】表1の結果から、耐基板曲げ性、温度サイ
クル試験(−40℃と+85℃で各30分、気中100
サイクル)について、従来例のチップ型サーミスタに比
較して本発明のチップ型サーミスタは特性が向上してい
ることがわかる。
From the results shown in Table 1, the substrate bending resistance and the temperature cycle test (at -40.degree. C. and + 85.degree.
With respect to the cycle, it can be seen that the chip thermistor of the present invention has improved characteristics as compared with the chip thermistor of the conventional example.

【0053】実施例2 実施例1において、サーミスタウェハの両主板面に、図
6(a)に示す如く、幅0.6mmで幅方向の間隔1.
0mmのパターンを用いて、ウェハの両主板面で電極が
互いに対抗するようにAgペーストを印刷した後、乾燥
し、次いで、このウェハを820℃で10分焼成し、厚
さ約10μmの多数列の抵抗値調整用表面電極を形成し
たこと以外は同様にして図2に示すチップ型サーミスタ
10Bを作製した(なお、角柱状サーミスタ素体の切り
出しに当っては、表面電極の中心線に沿って切断し
た。)。
Embodiment 2 In Embodiment 1, as shown in FIG. 6 (a), both the main plate surfaces of the thermistor wafer have a width of 0.6 mm and an interval in the width direction.
Using a 0 mm pattern, the Ag paste was printed so that the electrodes oppose each other on both main plate surfaces of the wafer, dried, and then baked at 820 ° C. for 10 minutes to form a multi-row of about 10 μm in thickness. The chip type thermistor 10B shown in FIG. 2 was manufactured in the same manner except that the surface electrode for adjusting the resistance value was formed. (Note that the cut-out of the prismatic thermistor body was performed along the center line of the surface electrode. Cut.)

【0054】このチップ型サーミスタについても実施例
1及び比較例1と同様にして、外部電極の導電性樹脂層
の有無による特性の差異を調べたところ、導電性樹脂層
を有する本発明のチップ型サーミスタは、従来のチップ
型サーミスタに比べて特性が向上していることが確認さ
れた。
The chip type thermistor was also examined for the difference in characteristics depending on the presence or absence of the conductive resin layer of the external electrode in the same manner as in Example 1 and Comparative Example 1. It has been confirmed that the thermistor has improved characteristics as compared with the conventional chip thermistor.

【0055】実施例3,4 実施例2において、表面電極の形成パターンを変えたこ
と以外は同様にして図3に示すチップ型サーミスタ10
C及び図4に示すチップ型サーミスタ10Dをそれぞれ
作製した。
Examples 3 and 4 The chip type thermistor 10 shown in FIG. 3 was manufactured in the same manner as in Example 2 except that the formation pattern of the surface electrode was changed.
C and a chip type thermistor 10D shown in FIG. 4 were produced.

【0056】これらのチップ型サーミスタについても実
施例1及び比較例1と同様にして、外部電極の導電性樹
脂層の有無による特性の差異を調べたところ、導電性樹
脂層を有する本発明のチップ型サーミスタは、従来のチ
ップ型サーミスタに比べて特性が向上していることが確
認された。
With respect to these chip-type thermistors, the difference in characteristics depending on the presence or absence of the conductive resin layer of the external electrode was examined in the same manner as in Example 1 and Comparative Example 1, and the chip of the present invention having the conductive resin layer was examined. It was confirmed that the type thermistor had improved characteristics as compared with the conventional chip type thermistor.

【0057】実施例5 実施例1において、Niめっき層を形成しなかったこと
以外は同様にしてチップ型サーミスタを作製して性能を
評価したところ、このチップ型サーミスタは、耐基板曲
げ性、温度サイクル試験において、実施例1のものと同
様の性能を示すと同時に、はんだ濡れ性、耐熱性につい
ても問題がないことが確認された。
Example 5 A chip-type thermistor was fabricated in the same manner as in Example 1 except that the Ni plating layer was not formed, and the performance was evaluated. In the cycle test, it was confirmed that the same performance as that of Example 1 was exhibited, and that there was no problem in solder wettability and heat resistance.

【0058】[0058]

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明のチップ型サ
ーミスタ及びその製造方法によれば、機械的強度や温度
サイクル性能等の信頼性にも優れたチップ型サーミスタ
を安価にかつ量産性良く提供することができる。
As described above in detail, according to the chip-type thermistor and the method of manufacturing the same according to the present invention, a chip-type thermistor having excellent reliability such as mechanical strength and temperature cycle performance can be manufactured at low cost and with good mass productivity. Can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のチップ型サーミスタの一実施例を示す
断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing one embodiment of a chip type thermistor of the present invention.

【図2】本発明のチップ型サーミスタの他の実施例を示
す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing another embodiment of the chip type thermistor of the present invention.

【図3】本発明のチップ型サーミスタの別の実施例を示
す断面図である。
FIG. 3 is a sectional view showing another embodiment of the chip thermistor of the present invention.

【図4】本発明のチップ型サーミスタの異なる実施例を
示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing another embodiment of the chip type thermistor of the present invention.

【図5】本発明のチップ型サーミスタの製造方法の一例
を説明する斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view illustrating an example of a method for manufacturing a chip thermistor of the present invention.

【図6】本発明のチップ型サーミスタの製造方法の一例
を説明する斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view illustrating an example of a method for manufacturing a chip thermistor of the present invention.

【図7】従来のチップ型サーミスタを示す断面図であ
る。
FIG. 7 is a sectional view showing a conventional chip thermistor.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 チップ状サーミスタ素体 2 外部電極 2a 導電性金属層 2b 導電性樹脂層 2c 金属めっき層 2d Niめっき層 2e はんだめっき層 3 ガラス層 6,6A,6B,6C,6D,6E,6F,6G,6H
表面電極 10A,10B,10C,10D チップ型サーミスタ 11 サーミスタウェハ 12 ガラス層 13,13’ 角柱状サーミスタ素体 14 外部電極層 15 表面電極層
1 chip-shaped thermistor element 2 external electrode 2a conductive metal layer 2b conductive resin layer 2c metal plating layer 2d Ni plating layer 2e solder plating layer 3 glass layer 6,6A, 6B, 6C, 6D, 6E, 6F, 6G, 6H
Surface electrode 10A, 10B, 10C, 10D Chip type thermistor 11 Thermistor wafer 12 Glass layer 13, 13 'Prismatic thermistor element 14 External electrode layer 15 Surface electrode layer

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 セラミックス焼結体よりなる直方体形状
のチップ状サーミスタ素体と、該チップ状サーミスタ素
体の両端面に形成された外部電極と、該両端面以外の4
側面のうちの対向する2側面を被覆する絶縁性無機物よ
りなる被覆層とを有するチップ型サーミスタにおいて、 該外部電極は、チップ状サーミスタ素体の端面に接する
導電性金属層と、該導電性金属層上に形成された導電性
樹脂層と、該導電性樹脂層上に形成された金属めっき層
とを備えてなることを特徴とするチップ型サーミスタ。
1. A rectangular parallelepiped chip-shaped thermistor element made of a ceramic sintered body, external electrodes formed on both end faces of the chip-shaped thermistor element, and four electrodes other than the both end faces.
A chip-type thermistor having a coating layer made of an insulating inorganic material covering two opposing side surfaces of the side surfaces, wherein the external electrode comprises: a conductive metal layer in contact with an end surface of the chip-shaped thermistor body; A chip thermistor comprising: a conductive resin layer formed on a layer; and a metal plating layer formed on the conductive resin layer.
【請求項2】 請求項1において、チップ状サーミスタ
素体の前記被覆層が形成された側面に抵抗値調整用の表
面電極が形成されていることを特徴とするチップ型サー
ミスタ。
2. The chip thermistor according to claim 1, wherein a surface electrode for adjusting a resistance value is formed on a side surface of the chip-shaped thermistor element body on which the coating layer is formed.
【請求項3】 請求項1又は2において、金属めっき層
がニッケルめっき層と、このニッケルめっき層上に形成
されたはんだめっき層とからなることを特徴とするチッ
プ型サーミスタ。
3. The chip thermistor according to claim 1, wherein the metal plating layer comprises a nickel plating layer and a solder plating layer formed on the nickel plating layer.
【請求項4】 請求項1又は2において、金属めっき層
がはんだめっき層からなることを特徴とするチップ型サ
ーミスタ。
4. The chip thermistor according to claim 1, wherein the metal plating layer comprises a solder plating layer.
【請求項5】 セラミックス焼結体よりなる薄板状サー
ミスタウェハの表裏の主板面に絶縁性の無機物層を形成
する工程、 絶縁性の無機物層を形成した薄板状サーミスタウェハを
短冊状に切断して角柱状サーミスタ素体を形成する工
程、 該角柱状サーミスタ素体の長手方向に延在する4側面の
うち、絶縁性の無機物層が形成されておらず素体が露出
した2側面に外部電極層を形成する工程、及び、 該外部電極層を形成した角柱状サーミスタ素体を長手方
向と直交する方向にチップ状に切断してチップ型サーミ
スタを得る工程を有するチップ型サーミスタの製造方法
において、 該外部電極層の形成に当り、素体が露出した該2側面に
焼結により導電性金属層を形成した後、該導電性金属層
上に導電性樹脂層を形成し、次いで、導電性樹脂層上に
金属めっき層を形成することを特徴とするチップ型サー
ミスタの製造方法。
5. A step of forming an insulating inorganic layer on the front and back main plate surfaces of a thin sheet thermistor wafer made of a ceramic sintered body, and cutting the thin sheet thermistor wafer having the insulating inorganic layer formed thereon into strips. Forming a prismatic thermistor element; and, among the four side faces extending in the longitudinal direction of the prismatic thermistor element, external electrode layers on two side faces where the insulating body is not formed and the element body is exposed. And a method of manufacturing a chip-type thermistor having a step of obtaining a chip-type thermistor by cutting the prism-shaped thermistor body on which the external electrode layer is formed into chips in a direction orthogonal to the longitudinal direction. In forming the external electrode layer, a conductive metal layer is formed on the two side surfaces where the element body is exposed by sintering, and then a conductive resin layer is formed on the conductive metal layer. Up Method of manufacturing a chip-type thermistor, and forming a metal plating layer.
【請求項6】 セラミックス焼結体よりなる薄板状サー
ミスタウェハの表裏の主板面に抵抗値調整用の表面電極
層を形成した後、絶縁性の無機物層を形成する工程、 絶縁性の無機物層を形成した薄板状サーミスタウェハを
短冊状に切断して角柱状サーミスタ素体を形成する工
程、 該角柱状サーミスタ素体の長手方向に延在する4側面の
うち、絶縁性の無機物層が形成されておらず素体が露出
した2側面に外部電極層を形成する工程、及び、 該外部電極層を形成した角柱状サーミスタ素体を長手方
向と直交する方向にチップ状に切断してチップ型サーミ
スタを得る工程を有するチップ型サーミスタの製造方法
において、 該外部電極層の形成に当り、素体が露出した該2側面に
焼結により導電性金属層を形成した後、該導電性金属層
上に導電性樹脂層を形成し、次いで、導電性樹脂層上に
金属めっき層を形成することを特徴とするチップ型サー
ミスタの製造方法。
6. A step of forming a surface electrode layer for adjusting a resistance value on the front and back main plate surfaces of a thin plate thermistor wafer made of a ceramic sintered body, and then forming an insulating inorganic layer. A step of cutting the formed thin plate thermistor wafer into strips to form a prismatic thermistor body; and forming an insulating inorganic layer among four side surfaces extending in the longitudinal direction of the prismatic thermistor body. Forming an external electrode layer on the two side surfaces where the element body is exposed, and cutting the prism-shaped thermistor element formed with the external electrode layer into chips in a direction perpendicular to the longitudinal direction to form a chip-type thermistor. In the method of manufacturing a chip-type thermistor having a step of obtaining, in forming the external electrode layer, a conductive metal layer is formed on the two side surfaces where the element body is exposed by sintering, and then a conductive layer is formed on the conductive metal layer. sex Forming a lipid layer, then fabrication method of a chip type thermistor and forming a metal plating layer on the conductive resin layer.
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