JPH1092312A - 感光性エレメント、これを用いた蛍光体パターンの製造法、蛍光体パターン及びプラズマディスプレイパネル用背面板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 高精度で均一な形状の蛍光体パターンを作業
性良く形成できる感光性エレメント、これを用いてパタ
ーンを形成できる蛍光体パターンの製造法、及びこの蛍
光体パターンを備えたプラズマディスプレイパネル用背
面板を提供する。 【解決手段】 支持体フィルム上に、熱可塑性樹脂層
３、その上に蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層４を
有してなる感光性エレメント、（Ｉ）前記感光性エレメ
ントを、凹凸を有する基板の凹凸表面上に、蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層が接するように加熱圧着する
工程、（II）感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照
射する工程、（III）現像により感光性樹脂組成物層を
選択的に除去してパターンを形成する工程及び（IV）前
記パターンから焼成により不要分を除去して蛍光体パタ
ーンを形成する工程の各工程を含む蛍光体パターンの製
造法、及び前記蛍光体パターンを備えてなるプラズマデ
ィスプレイパネル用背面板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性エレメン
ト、これを用いた蛍光体パターンの製造法、蛍光体パタ
ーン及びプラズマディスプレイパネル用背面板に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来より、平板ディスプレイの１つとし
て、プラズマ放電により発光する蛍光体を設けることに
よって多色表示を可能にしたプラズマディスプレイパネ
ル（以下ＰＤＰと記す）が知られている。ＰＤＰは、ガ
ラスからなる平板状の前面板と背面板とが互いに平行に
かつ対向して配設され、両者はその間に設けられたバリ
アリブにより一定の間隔に保持されており、前面板、背
面板及びバリアリブに囲まれた空間で放電する構造にな
っている。このような空間には、表示のための蛍光体が
塗布され、放電によって封入ガスから発生する紫外線に
よって蛍光体が発光させられ、この光を観察者が視認で
きるようになっている。

【０００３】従来、この蛍光体を設ける方法としては、
各色蛍光体を分散させたスラリー液もしくはペーストを
スクリーン印刷等の印刷方法によって塗布する方法が提
案されており、特開平１−１１５０２７号公報、特開平
１−１２４９２９号公報、特開平１−１２４９３０号公
報、特開平２−１５５１４２号公報等に開示されてい
る。しかし、上記の蛍光体分散スラリー液は液状である
ため、蛍光体の沈澱等による分散不良が生じやすく、ま
たスラリー液に液状の感光性レジストを用いた場合に
は、暗反応の促進等により保存安定性が乏しくなる等の
欠点を有する。さらにスクリーン印刷等の印刷方法は印
刷精度に劣るため、将来的なＰＤＰの大画面化への対応
は困難である等の問題がある。

【０００４】これらの問題点の解決には、蛍光体を含有
させた感光性エレメント（感光性フィルムともいう）を
用いる方法が提案されている（特開平６−２７３９２５
号公報）。感光性エレメントを用いる方法とは、蛍光体
を含有する感光性樹脂層と支持体フィルムよりなる感光
性エレメントの蛍光体を含有する感光性樹脂層を、加熱
圧着（ラミネート）により前記ＰＤＰ用基板の空間に埋
め込み、次に、ネガフィルムを用いて、写真法により紫
外線等の活性光で像的に露光し、その後、アルカリ水溶
液等の現像液で、未露光部分を除去し、さらに、焼成に
より不必要な有機成分を取り除いて、必要な部分のみに
蛍光体パターンを形成するものである。従って、前記Ｐ
ＤＰ用基板の空間に蛍光体パターンを形成する際には、
蛍光体の分散性を確認する必要はなく、また、蛍光体分
散スラリー液若しくはペーストに比べて保存安定性にも
優れている。さらに、写真法を用いるため、精度良く蛍
光体パターンを形成することができる。

【０００５】しかし、従来の方法により感光性エレメン
トを使用して蛍光体を含有する感光性樹脂層を、ラミネ
ートにより前記ＰＤＰ用基板の空間（セル内）に埋め込
むと、バリアリブ壁面及び空間底面上に蛍光体パターン
を均一な層厚、形状で形成することが困難であった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】請求項１記載の発明
は、エッジフュージョンの抑制及びＰＤＰ用基板等の凹
凸を有する基板の空間への埋め込み性（ＰＤＰ用基板の
バリアリブ壁面及びセル底面上における蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層の形成性）が優れ、高精度で均一
な形状の蛍光体パターンを作業性良く形成できる感光性
エレメントを提供するものである。請求項２記載の発明
は、請求項１記載の発明の効果に加えて、より作業性に
優れる感光性エレメントを提供するものである。

【０００７】請求項３記載の発明は、作業性、環境安全
性及びＰＤＰ用基板等の凹凸を有する基板の空間への埋
め込み性（ＰＤＰ用基板のバリアリブ壁面及びセル底面
上における蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の形成
性）が優れ、高精度で均一な形状の蛍光体パターンを形
成できる蛍光体パターンの製造法を提供するものであ
る。請求項４記載の発明は、請求項３記載の発明の効果
に加えて、より作業性に優れる蛍光体パターンの製造法
を提供するものである。請求項５記載の発明は、請求項
３記載の発明の効果に加えて、さらに膜べりの抑制に優
れる蛍光体パターンの製造法を提供するものである。請
求項６記載の発明は、請求項３、４又は５記載の発明の
効果に加えて、より作業性に優れる蛍光体パターンの製
造法を提供するものである。請求項７記載の発明は、高
精度で均一な形状で輝度の優れた蛍光体パターンを提供
するものである。請求項８記載の発明は、高精度で均一
な形状で輝度の優れた蛍光体パターンを備えたプラズマ
ディスプレイパネル用背面板を提供するものである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、支持体フィル
ム上に、（Ａ）熱可塑性樹脂層を有し、その上に（Ｂ）
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を有してなる感光
性エレメントに関する。また、本発明は、（Ｂ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層が、（ａ）フィルム性付
与ポリマ、（ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性
不飽和化合物、（ｃ）活性光の照射により遊離ラジカル
を生成する光開始剤及び（ｄ）蛍光体を含むものである
前記感光性エレメントに関する。

【０００９】また、本発明は、（Ｉ）前記感光性エレメ
ントを、凹凸を有する基板の凹凸表面上に、（Ｂ）蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層が接するように加熱圧
着する工程、（II）感光性樹脂組成物層に活性光線を像
的に照射する工程、（III）現像により感光性樹脂組成
物層を選択的に除去してパターンを形成する工程及び
（IV）前記パターンから焼成により不要分を除去して蛍
光体パターンを形成する工程の各工程を含むことを特徴
とする蛍光体パターンの製造法に関する。また、本発明
は、（Ｉ）〜（III）の各工程を繰り返して、赤、緑及
び青に発色する蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層か
らなる多色のパターンを形成した後、（IV）の工程を行
ない多色の蛍光体パターンを形成する前記蛍光体パター
ンの製造法に関する。また、本発明は、（Ｉ）〜（IV）
の各工程を繰り返して、赤、緑及び青に発色する多色の
蛍光体パターンを形成する前記蛍光体パターンの製造法
に関する。また、本発明は、（III）現像により感光性
樹脂組成物層を選択的に除去してパターンを形成する工
程において、（Ａ）層及び（Ｂ）層が、同一の現像液を
使用して現像する前記蛍光体パターンの製造法に関す
る。

【００１０】また、本発明は、前記蛍光体パターンの製
造法により製造された蛍光体パターンに関する。また、
本発明は、プラズマディスプレイパネル用基板上に前記
蛍光体パターンを備えてなるプラズマディスプレイパネ
ル用背面板に関する。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明の感光性エレメントは、支
持体フィルム上に、（Ａ）熱可塑性樹脂層を有し、その
上に（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を有す
るものである。

【００１２】本発明における支持体フィルムとしては、
化学的及び熱的に安定であり、また、可とう性の物質で
構成された、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙
げられ、その中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンが好ましく、ポリエチレンテレフタレートが
より好ましい。支持体フィルムは、後に（Ａ）熱可塑性
樹脂層から除去可能でなくてはならないため、除去が不
可能となるような表面処理が施されたものであったり、
材質であったりしてはならない。支持体フィルムの厚さ
は、５〜１００μｍとすることが好ましく、１０〜８０
μｍとすることよりが好ましく、１０〜３０μｍとする
ことが特に好ましい。

【００１３】本発明における（Ａ）熱可塑性樹脂層を構
成する樹脂としては、加熱圧着時の温度で軟化するもの
であれば特に制限はなく、例えば、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリスチレン、ポリビニルトルエン、ポ
リアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、エ
チレンと酢酸ビニルの共重合体、エチレンとアクリル酸
エステルの共重合体、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合
体、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エ
ステルとの共重合体、ビニルトルエンとアクリル酸エス
テル又はメタクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニ
ルアルコール系樹脂（ポリアクリル酸エステル又はポリ
メタクリル酸エステルの加水分解物、ポリ酢酸ビニルの
加水分解物、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体の加水
分解物、エチレンとアクリル酸エステルとの共重合体の
加水分解物、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体の加
水分解物、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリ
ル酸エステルとの共重合体の加水分解物、ビニルトルエ
ンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの
共重合体の加水分解物等）、カルボキシアルキルセルロ
ースの水溶性塩、ヒドロキシプロピルセルロース等の水
溶性セルロース類、水溶性セルロースエーテル類、カル
ボキシアルキルでん粉の水溶性塩、ポリビニルピロリド
ン、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単
量体を共重合することにより得られるカルボキシル基を
有する樹脂などが挙げられる。

【００１４】また、本発明における（Ａ）熱可塑性樹脂
層は、混色防止、作業性の向上、膜べりの抑制等の点か
ら、（ｅ）熱可塑性樹脂、（ｆ）末端にエチレン性不飽
和基を有する光重合性不飽和化合物及び（ｇ）活性光の
照射により遊離ラジカルを生成する光開始剤を含有して
なる感光性樹脂組成物により構成することもできる。

【００１５】（ｅ）熱可塑性樹脂としては、前記した
（Ａ）熱可塑性樹脂層を構成する樹脂として使用可能な
樹脂及び後述する（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層を構成する感光性樹脂組成物に使用可能な（ａ）
フィルム性付与ポリマを使用することができる。

【００１６】（ｆ）末端にエチレン性不飽和基を有する
光重合性不飽和化合物としては、後述する（Ｂ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組
成物に使用可能な（ｂ）末端にエチレン性不飽和基を有
する光重合性不飽和化合物を使用することができる。

【００１７】（ｇ）活性光の照射により遊離ラジカルを
生成する光開始剤としては、後述する（Ｂ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物
に使用可能な（ｃ）活性光の照射により遊離ラジカルを
生成する光開始剤を使用することができる。

【００１８】（ｅ）成分の配合量は、（ｅ）成分及び
（ｆ）成分の総量が１００重量部として、１０〜９０重
量部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、１０重量部未満で
は、感光性エレメントとした場合に、感光性樹脂組成物
が流動によって端部からしみ出したり、フィルム形成性
が低下する等の傾向があり、９０重量部を超えると、感
度が不充分となる傾向がある。

【００１９】（ｆ）成分の配合量は、（ｅ）成分及び
（ｆ）成分の総量が１００重量部として、１０〜９０重
量部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、１０重量部未満で
は、感度が不充分となる傾向があり、９０重量部を超え
ると、感光性エレメントとした場合に、流動によって端
部からしみ出したり、フィルム形成性が低下する等の傾
向がある。

【００２０】（ｇ）成分の配合量は、（ｅ）成分及び
（ｆ）成分の総量１００重量部に対して、０．０１〜３
０重量部とすることが好ましく、０．１〜２０重量部と
することがより好ましい。この配合量が、０．０１重量
部未満では、感度が不充分となる傾向があり、３０重量
部を超えると、露光表面での活性光の吸収が増大して、
内部の光硬化が不充分となる傾向がある。

【００２１】また、（Ａ）熱可塑性樹脂層は、後述する
現像工程において、（Ａ）熱可塑性樹脂層及び（Ｂ）蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層が、同一の現像液を
使用して現像できるものであることが、工程を少なくで
きる点から好ましい。同一の現像液で現像できるものと
しては、水又はアルカリ水溶液に可溶なものが挙げられ
る。

【００２２】水又はアルカリ水溶液に可溶な（Ａ）熱可
塑性樹脂層を構成する樹脂としては、例えば、ポリビニ
ルアルコール系樹脂（ポリアクリル酸エステル又はポリ
メタクリル酸エステルの加水分解物、ポリ酢酸ビニルの
加水分解物、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体の加水
分解物、エチレンとアクリル酸エステルとの共重合体の
加水分解物、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体の加
水分解物、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリ
ル酸エステルとの共重合体の加水分解物、ビニルトルエ
ンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの
共重合体の加水分解物等）、カルボキシアルキルセルロ
ースの水溶性塩、ヒドロキシプロピルセルロース等の水
溶性セルロース類、水溶性セルロースエーテル類、カル
ボキシアルキルでん粉の水溶性塩、ポリビニルピロリド
ン、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単
量体を共重合することにより得られるカルボキシル基を
有する樹脂などが挙げられる。

【００２３】不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂としては、例えば、不飽和カルボン
酸（アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸等）と、後述する（Ｂ）蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層を構成する（ａ）フィルム性付与
ポリマに使用可能なビニル単量体とを共重合して得られ
るビニル共重合体などを使用することが好ましい。不飽
和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単量体を共
重合することにより得られるカルボキシル基を有する樹
脂は、重量平均分子量が、５，０００〜３００，０００
とすることが好ましく、２０，０００〜１５０，０００
とすることがより好ましい。この重量平均分子量が、
５，０００未満では、感光性エレメントとした場合にフ
ィルム形成性及び可とう性が低下する傾向があり、３０
０，０００を超えると、現像性（不要部が現像により、
容易に除去できる性質）が低下する傾向がある。なお、
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラ
フィー法により測定し、標準ポリスチレン検量線を用い
て換算した値である。

【００２４】また、アルカリ水溶液に可溶な（Ａ）熱可
塑性樹脂層として、公知の各種現像液により現像可能と
なるように、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂のカルボキシル基含有率（酸価（mg
KOH/g）で規定できる）を適宜調整することができる。
例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ水
溶液を用いて現像する場合には、酸価が、９０〜２６０
とすることが好ましい。この酸価が、９０未満では、現
像が困難となる傾向があり、２６０を超えると、耐現像
液性（現像により除去されずに残りパターンとなる部分
が、現像液によって侵されない性質）が低下する傾向が
ある。また、アルカリ水溶液と一種以上の有機溶剤とか
らなる水系現像液を用いて現像する場合には、酸価を、
１６〜２６０とすることが好ましい。この酸価が、１６
未満では、現像が困難となる傾向があり、２６０を超え
ると、耐現像液性が低下する傾向がある。また、水と水
に溶解しない一種以上の有機溶剤とからなるエマルジョ
ン現像液を用いて現像する場合及び１，１，１−トリク
ロロエタン等の有機溶剤現像液を用いる場合には、カル
ボキシル基を含有しなくてもよい。

【００２５】また、（Ａ）熱可塑性樹脂層のフィルム性
を良好なものとするために、上記した（Ａ）熱可塑性樹
脂層を構成する樹脂中に、可塑剤を添加することができ
る。可塑剤としては、ポリプロピレングリコール、ポリ
エチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチ
ルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォ
スフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフ
ェニルジフェニルフォスフェート等が挙げられる。

【００２６】また、一般式（Ｉ）

【化１】 （式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基を示し、Ｙ¹は水素
原子、置換基を有していてもよい飽和の炭化水素基又は
置換基を有していてもよいポリアルキレングリコール残
基を示し、Ｙ²は水酸基、置換基を有していてもよい飽
和の炭化水素基又は置換基を有していてもよいポリアル
キレングリコール残基を示し、ａは１〜２０の整数であ
る）で表される化合物等も可塑剤として使用することも
できる。

【００２７】本発明における支持体フィルム上に（Ａ）
熱可塑性樹脂層を設ける方法としては、前記（Ａ）熱可
塑性樹脂層を構成する樹脂を、これを溶解する溶剤に、
溶解又は混合させることにより、均一な溶液とし、前記
した支持体フィルム上に、ナイフコート法、ロールコー
ト法、スプレーコート法、グラビアコート法、バーコー
ト法、カーテンコート法等の公知の塗布方法を用いて、
塗布、乾燥することにより形成することができる。
（Ａ）熱可塑性樹脂層を構成する樹脂を溶解する溶剤と
しては、例えば、水、トルエン、アセトン、メチルエチ
ルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、γ−ブチルラクトン、Ｎ−メチ
ルピロリドン、ジメチルホルムアミド、テトラメチルス
ルホン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノブチルエーテル、クロロホルム、
塩化メチレン、メチルアルコール、エチルアルコール等
が挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合
わせて使用される。

【００２８】本発明における（Ａ）熱可塑性樹脂層の厚
さは、特に制限はないが、凹凸を有する基板の凹部内面
への埋め込み性等の点から、１０〜２００μｍとするこ
とが好ましく、２０〜１００μｍとすることがより好ま
しい。本発明における（Ａ）熱可塑性樹脂層は、１００
℃での粘度が１〜１×１０⁷Pa・secであることが好まし
く、２〜１×１０⁶Pa・secであることがより好ましく、
５〜１×１０⁵Pa・secであることが特に好ましく、１０
〜１×１０⁴Pa・secであることが極めて好ましい。この
１００℃での粘度が、１Pa・sec未満では、室温での粘度
が低くなりすぎてフィルムとした場合に、（Ａ）熱可塑
性樹脂層が流動により端部から滲み出す傾向があり、フ
ィルム形成性が低下する傾向がある。また、１×１０⁷P
a・secを超えると、後述する凹凸を有する基板の凹部内
面への（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の形
成性が低下する傾向がある。

【００２９】本発明における（Ｂ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層としては、蛍光体を必須成分とする感
光性樹脂組成物を含む層であれば特に制限はないが、作
業性の点から、例えば、（ａ）フィルム性付与ポリマ、
（ｂ）末端にエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽
和化合物、（ｃ）活性光の照射により遊離ラジカルを生
成する光開始剤及び（ｄ）蛍光体を含む層等が好ましい
ものとして挙げられる。

【００３０】本発明における（ａ）フィルム性付与ポリ
マとしては、ビニル共重合体が好ましく、ビニル共重合
体に用いられるビニル単量体としては、例えば、アクリ
ル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン
酸、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル
酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピ
ル、メタクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸iso−プロ
ピル、メタクリル酸iso−プロピル、アクリル酸ｎ−ブ
チル、メタクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸iso−ブチ
ル、メタアクリル酸iso−ブチル、アクリル酸sec−ブチ
ル、メタクリル酸sec−ブチル、アクリル酸tert−ブチ
ル、メタクリル酸tert−ブチル、アクリル酸ペンチル、
メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、メタクリ
ル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メタクリル酸ヘプ
チル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸２
−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸
オクチル、アクリル酸ノニル、メタクリル酸ノニル、ア
クリル酸デシル、メタクリル酸デシル、アクリル酸ドデ
シル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸テトラデシ
ル、メタクリル酸テトラデシル、アクリル酸ヘキサデシ
ル、メタクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸オクタデシ
ル、メタクリル酸オクタデシル、アクリル酸エイコシ
ル、メタクリル酸エイコシル、アクリル酸ドコシル、メ
タクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロペンチル、メタ
クリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘキシル、
メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘプチ
ル、メタクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸ベンジ
ル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニル、メタ
クリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエチル、メタク
リル酸メトキシエチル、アクリル酸メトキシジエチレン
グリコール、メタクリル酸メトキシジエチレングリコー
ル、アクリル酸メトキシジプロピレングリコール、メタ
クリル酸メトキシジプロピレングリコール、アクリル酸
メトキシトリエチレングリコール、メタクリル酸メトキ
シトリエチレングリコール、アクリル酸２−ヒドロキシ
エチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル
酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノ
エチル、アクリル酸ジエチルアミノエチル、メタクリル
酸ジエチルアミノエチル、アクリル酸ジメチルアミノプ
ロピル、メタクリル酸ジメチルアミノプロピル、アクリ
ル酸２−クロロエチル、メタクリル酸２−クロロエチ
ル、アクリル酸２−フルオロエチル、メタクリル酸２−
フルオロエチル、アクリル酸２−シアノエチル、メタク
リル酸２−シアノエチル、スチレン、α−メチルスチレ
ン、ビニルトルエン、塩化ビニル、酢酸ビニル、Ｎ−ビ
ニルピロリドン、ブタジエン、イソプレン、クロロプレ
ン、アクリルアミド、メタクリルアミド、アクリロニト
リル、メタクリロニトリル等が挙げられる。これらは単
独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。

【００３１】また、本発明における（ａ）フィルム性付
与ポリマとしては、ポリビニルアルコール系樹脂（ポリ
アクリル酸エステル又はポリメタクリル酸エステルの加
水分解物、ポリ酢酸ビニルの加水分解物、エチレンと酢
酸ビニルとの共重合体の加水分解物、エチレンとアクリ
ル酸エステルとの共重合体の加水分解物、塩化ビニルと
酢酸ビニルとの共重合体の加水分解物、スチレンとアク
リル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの共重合体
の加水分解物、ビニルトルエンとアクリル酸エステル又
はメタクリル酸エステルとの共重合体の加水分解物
等）、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、ヒド
ロキシプロピルセルロース等の水溶性セルロース類、ヒ
ドロキシプロピレンオキシセルロース等の水溶性セルロ
ースエーテル類、カルボキシアルキルでん粉の水溶性
塩、ポリビニルピロリドン等を使用することもできる。

【００３２】本発明における（ａ）フィルム性付与ポリ
マの重量平均分子量は、５，０００〜３００，０００と
することが好ましく、２０，０００〜１５０，０００と
することがより好ましい。この重量平均分子量が、５，
０００未満では、感光性エレメントとした場合にフィル
ム形成性及び可とう性が低下する傾向があり、３００，
０００を超えると、現像性（不要部が現像により、容易
に除去できる性質）が低下する傾向がある。

【００３３】また、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層が、公知の各種現像液により現像可能となるよ
うに、（ａ）フィルム性付与ポリマのカルボキシル基含
有率（酸価（mgKOH/g）で規定できる）を適宜調整する
ことができる。例えば、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウ
ム等のアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価
を、９０〜２６とすることが好ましい。この酸価が、９
０未満では、現像が困難となる傾向があり、２６０を超
えると、耐現像液性（現像により除去されずに残りパタ
ーンとなる部分が、現像液によって侵されない性質）が
低下する傾向がある。また、水又はアルカリ水溶液と一
種以上の有機溶剤とからなる水系現像液を用いて現像す
る場合には、酸価を、１６〜２６０とすることが好まし
い。この酸価が、１６未満では、現像が困難となる傾向
があり、２６０を超えると、耐現像液性が低下する傾向
がある。さらに、水と水に溶解しない一種以上の有機溶
剤とからなる現像液（エマルジョン現像液）を用いて現
像する場合及び１，１，１−トリクロロエタン等の有機
溶剤現像液を用いる場合には、カルボキシル基を含有し
なくてもよい。

【００３４】本発明における（ｂ）エチレン性不飽和基
を有する光重合性不飽和化合物としては、従来、光重合
性多官能モノマとして知られているものを全て用いるこ
とができる。例えば、下記一般式（II）

【化２】 （式中、Ｒ²は水素原子又はメチル基を示し、ｋは１〜
１０の整数であり、Ｙ³は置換基を有していてもよい飽
和又は不飽和の炭化水素基又は複素環残基若しくはポリ
アルキレングリコール残基、

【化３】 （式中、Ｒ³及びＲ⁴は各々独立に水素原子、メチル基、
エチル基、プロピル基又はトリフルオロメチル基を示
し、Ｒ⁵及びＲ⁶は各々独立に炭素数１〜６のアルキレン
基を示し、ｍ及びｎは各々独立に１〜２０の整数を示
す）を示す）で表される化合物等が挙げられる。

【００３５】一般式（II）中、Ｙ³で示される置換基を
有していてもよい飽和又は不飽和の炭化水素残基又は複
素環残基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシ
ル基、アミノ基、カルボキシル基等の置換基を有してい
てもよい炭素数１〜２２の直鎖、分岐若しくは脂環状の
アルカン残基（メタン残基、エタン残基、プロパン残
基、シクロプロパン残基、ブタン残基、イソブタン残
基、シクロブタン残基、ペンタン残基、イソペンタン残
基、ネオペンタン残基、シクロペンタン残基、ヘキサン
残基、シクロヘキサン残基、ヘプタン残基、シクロヘプ
タン残基、オクタン残基、ノナン残基、デカン残基
等）、芳香族環残基（ベンゼン残基、ナフタレン残基、
アントラセン残基、ビフェニル残基、ターフェニル残基
等）、複素環残基（フラン残基、チオフェン残基、ピロ
ール残基、オキサゾール残基、チアゾール残基、イミダ
ゾール残基、ピリジン残基、ピリミジン残基、ピラジン
残基、トリアジン残基、キノリン残基、キノキサリン残
基等）などが挙げられる。

【００３６】具体的には、一個の不飽和結合を有する単
量体としては、例えば、アクリル酸又はメタクリル酸の
エステル系モノマ（アクリル酸メチル、メタクリル酸メ
チル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリ
ル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ｎ−プロピル、アクリ
ル酸iso−プロピル、メタクリル酸iso−プロピル、アク
リル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、アクリル
酸iso−ブチル、メタクリル酸iso−ブチル、アクリル酸
sec−ブチル、メタクリル酸sec−ブチル、アクリル酸te
rt−ブチル、メタクリル酸tert−ブチル、アクリル酸ペ
ンチル、メタクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、
メタクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メタクリ
ル酸ヘプチル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタク
リル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタ
クリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、メタクリル酸ノ
ニル、アクリル酸デシル、メタクリル酸デシル、アクリ
ル酸ドデシル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸テト
ラデシル、メタクリル酸テトラデシル、アクリル酸ヘキ
サデシル、メタクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸オク
タデシル、メタクリル酸オクタデシル、アクリル酸エイ
コシル、メタクリル酸エイコシル、アクリル酸ドコシ
ル、メタクリル酸ドコシル、アクリル酸シクロペンチ
ル、メタクリル酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸シク
ロヘプチル、メタクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸
ベンジル、メタクリル酸ベンジル、アクリル酸フェニ
ル、メタクリル酸フェニル、アクリル酸メトキシエチ
ル、メタクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ジメチル
アミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、ア
クリル酸ジメチルアミノプロピル、メタクリル酸ジメチ
ルアミノプロピル、アクリル酸２−クロロエチル、メタ
クリル酸２−クロロエチル、アクリル酸２−フルオロエ
チル、メタクリル酸２−フルオロエチル、アクリル酸２
−シアノエチル、メタクリル酸２−シアノエチル、アク
リル酸メトキシジエチレングリコール、メタクリル酸メ
トキシジエチレングリコール、アクリル酸メトキシジプ
ロピレングリコール、メタクリル酸メトキシジプロピレ
ングリコール、アクリル酸メトキシトリエチレングリコ
ール、メタクリル酸メトキシトリエチレングリコール
等）、スチレン系モノマ（スチレン、α−メチルスチレ
ン、ｐ−ｔ−ブチルスチレン等）、ポリオレフィン系モ
ノマ（ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等）、ビ
ニル系モノマ（塩化ビニル、酢酸ビニル等）、ニトリル
系モノマ（アクリロニトリル、メタクリロニトリル
等）、１−（メタクリロイロキシエトキシカルボニル）
−２−（３′−クロロ−２′−ヒドロキシプロポキシカ
ルボニル）ベンゼンなどが挙げられる。

【００３７】二個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、エチレングリコールジアクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコー
ルジアクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリエ
チレングリコールジメタクリレート、テトラエチレング
リコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ヘキサ
プロピレングリコールジアクリレート、ヘキサプロピレ
ングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタ
クリレート、ブチレングリコールジアクリレート、ブチ
レングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジメタク
リレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、
１，３−ブタンジオールジメタクリレート、１，４−ブ
タンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオール
ジメタクリレート、１，５−ペンタンジオールジアクリ
レート、１，５−ペンタンジオールジメタクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，６−ヘ
キサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルジアクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレ
ート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメ
チロールプロパンジメタクリレート、ビスフェノールＡ
ジアクリレート、ビスフェノールＡジメタクリレート、
２，２−ビス（４−アクリロキシエトキシフェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（４−メタクリロキシエトキシフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アクリロキシジ
エトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−メタ
クリロキシジエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（４−アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン
２，２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフェニ
ル）プロパン、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル
ジアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテ
ルジメタクリレート、ウレタンジアクリレート化合物等
が挙げられる。

【００３８】三個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリメタクリレート、エチレンオキシド変性トリメ
チロールプロパントリアクリレート、エチレンオキシド
変性トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリグリシジルエーテルトリアクリ
レート、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテ
ルトリメタクリレート等が挙げられる。四個の不飽和結
合を有する単量体としては、例えば、テトラメチロール
プロパンテトラアクリレート、テトラメチロールプロパ
ンテトラメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレ
ート等が挙げられる。

【００３９】五個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート等が
挙げられる。六個の不飽和結合を有する単量体として
は、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート等が
挙げられる。これらの末端にエチレン性不飽和結合を有
する単量体は、いずれにしても、光照射によりラジカル
重合するものであればよく、単独で又は２種類以上を組
み合わせて使用される。

【００４０】また、本発明における（Ｂ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層は、蛍光体パターンの作製時
に、焼成により不要分を除去する必要があるため、前記
した（ｂ）エチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和
化合物の中から、熱分解性が良好な、ポリエチレングリ
コールジメタクリレートがより好ましい。また、後述す
る蛍光体パターンの作製時に、焼成により不要成分を除
去する必要があるため、本発明における（Ｂ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成
物の内、後述する（ｄ）蛍光体及び結着剤以外の感光性
樹脂組成物は、熱分解性が良好なものである必要がある
ため、この（ｄ）蛍光体及び結着剤以外の感光性樹脂組
成物には、これを構成する元素として、炭素、水素、酸
素及び窒素以外のものを含まないことが好ましい。

【００４１】本発明における（ｃ）活性光の照射により
遊離ラジカルを生成する光開始剤としては、例えば、芳
香族ケトン（ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル
−４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケト
ン）、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベ
ンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベ
ンゾフェノン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェ
ニル−ケトン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−
エチルアントラキノン、フェナントレンキノン等）、ベ
ンゾインエーテル（ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル
等）、ベンゾイン（メチルベンゾイン、エチルベンゾイ
ン等）、ベンジル誘導体（２−ベンジル−２−ジメチル
アミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−
１、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）
−２−モルフォリノプロパノン−１、２，２−ジメトキ
シ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ベンジルジ
メチルケタール等）、２，４，５−トリアリールイミダ
ゾール二量体（２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−
ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェ
ニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾ
ール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−
フェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェ
ニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−
（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダ
ゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−
５−フェニルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメ
トキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二
量体等）、アクリジン誘導体（９−フェニルアクリジ
ン、１，７−ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン
等）などが挙げられる。これらは単独で又は２種類以上
を組み合わせて使用される。

【００４２】本発明における（ｄ）蛍光体としては、特
に限定はなく、通常の金属酸化物を主体とするものが使
用できる。赤色発色の蛍光体としては、例えば、Ｙ₂Ｏ₂
Ｓ：Ｅｕ、Ｚｎ₃(ＰＯ₄)₂：Ｍｎ、Ｙ₂Ｏ₃：Ｅｕ、ＹＶ
Ｏ₄：Ｅｕ、(Ｙ，Ｇｄ)ＢＯ₃：Ｅｕ、γ−Ｚｎ₃(ＰＯ₄)
₂：Ｍｎ、(ＺｎＣｄ)Ｓ：Ａｇ＋Ｉｎ₂Ｏ等が挙げられ
る。緑色発色の蛍光体としては、例えば、ＺｎＳ：Ｃ
ｕ、Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ、ＺｎＳ：Ｃｕ＋Ｚｎ₂Ｓｉ
Ｏ₄：Ｍｎ、Ｇｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、Ｙ₃Ａｌ₅Ｏ₁₂：Ｃｅ、
ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ、Ｙ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚｎ、
ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ＋Ｉｎ₂Ｏ₃、ＬａＰＯ₄：Ｃｅ，Ｔ
ｂ、ＢａＯ・６Ａｌ₂Ｏ₃：Ｍｎ等が挙げられる。青色発
色の蛍光体としては、例えば、ＺｎＳ：Ａｇ、ＺｎＳ：
Ａｇ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ｇａ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａ
ｇ，Ｃｕ，Ｇａ，Ｃｌ、ＺｎＳ：Ａｇ＋Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｃａ
₂Ｂ₅Ｏ₉Ｃｌ：Ｅｕ²⁺、(Ｓｒ，Ｃａ，Ｂａ，Ｍｇ)₁₀(Ｐ
Ｏ₄)₆Ｃｌ₂：Ｅｕ²⁺、Ｓ₁₀(ＰＯ₄)₆Ｃｌ₂：Ｅｕ²⁺、Ｂ
ａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ²⁺、ＢａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅｕ
²⁺、ＢａＭｇＡｌ₁₆Ｏ₂₆：Ｅｕ²⁺等が挙げられる。

【００４３】本発明における（ｄ）蛍光体の粒径は、
０．１〜２０μｍであることが好ましく、１〜１５μｍ
であることがより好ましく、２〜８μｍであることが特
に好ましい。この粒径が０．１μｍ未満では、発光効率
が低下する傾向があり、また、２０μｍを超えると、分
散性が低下する傾向がある。また、本発明における
（ｄ）蛍光体の形状としては、球形であることが好まし
く、その表面積はより小さい方が好ましい。

【００４４】本発明における（ａ）成分の配合量は、
（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量を１００重量部とし
て、１０〜９０重量部とすることが好ましく、２０〜８
０重量部とすることがより好ましい。この配合量が、１
０重量部未満では、感光性エレメントとしてロール状で
供給した場合、蛍光体含有感光性樹脂がロール端部から
しみ出す（以下エッジフュージョンと記す）ことによ
り、感光性エレメントのラミネート時にロールからの繰
り出しが困難となり、またしみ出した部分がＰＤＰ用基
板の空間に部分的に過剰に埋め込まれ、製造歩留りが著
しく低下する等の問題が生じたり、フィルム形成性が低
下する傾向があり、９０重量部を超えると、感度が不充
分となる傾向がある。

【００４５】本発明における（ｂ）成分の配合量は、
（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量を１００重量部とし
て、１０〜９０重量部とすることが好ましく、２０〜８
０重量部とすることがより好ましい。この配合量が、１
０重量部未満では、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
の感度が不充分となる傾向があり、９０重量部を超える
と、光硬化物が脆くなる傾向があり、また、感光性エレ
メントとした場合に、蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物が流動によって端部からしみ出したり、フィルム形成
性が低下する傾向がある。

【００４６】本発明における（ｃ）成分の配合量は、
（ａ）成分及び（ｂ）成分の総量１００重量部に対し
て、０．０１〜３０重量部とすることが好ましく、０．
１〜２０重量部とすることがより好ましい。この配合量
が、０．０１重量部未満では、蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物の感度が不充分となる傾向があり、３０重量
部を超えると、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物の露
光表面での活性光の吸収が増大して、内部の光硬化が不
充分となる傾向がある。

【００４７】本発明における（ｄ）成分の配合量は、
（ａ）成分、（ｂ）成分及び（ｃ）成分の総量１００重
量部に対して、１０〜３００重量部とすることが好まし
く、５０〜２５０重量部とすることがより好ましく、７
０〜２００重量部とすることが特に好ましい。この配合
量が、１０重量部未満では、ＰＤＰとして発光させた場
合に発光効率が低下する傾向があり、３００重量部を超
えると、感光性エレメントとした場合に、フィルム形成
性が低下したり、可とう性が低下する傾向がある。

【００４８】本発明における（Ｂ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物には、長
期間増粘を起こさず、貯蔵安定性を良好にするために、
カルボキシル基を有する化合物を含有させることができ
る。カルボキシル基を有する化合物としては、例えば、
飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸、脂肪族二塩基酸、芳香族二
塩基酸、脂肪族三塩基酸、芳香族三塩基酸等が挙げられ
る。

【００４９】具体的には、例えば、ぎ酸、酢酸、クロロ
酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、プロピオン酸、
カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、トリデカン
酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、ヘ
プタデカン酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキジ
ン酸、パルミトオレイン酸、オレイン酸、エライジン
酸、リノレン酸、リノール酸、しゅう酸、マロン酸、メ
チルマロン酸、エチルマロン酸、マロン酸モノメチル、
マロン酸モノエチル、こはく酸、メチルこはく酸、アジ
ピン酸、メチルアジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、
アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸、
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト
酸、クエン酸、サリチル酸、ピルビン酸、リンゴ酸等が
挙げられる。中でも、増粘を抑制する効果が高い点か
ら、しゅう酸、マロン酸、メチルマロン酸、エチルマロ
ン酸、クエン酸等が好ましく、しゅう酸、マロン酸、ク
エン酸等がより好ましい。これらは単独で又は２種類以
上組み合わせて使用される。

【００５０】カルボキシル基を有する化合物の配合量
は、（ａ）成分１００重量部に対して、０．０１〜３０
重量部とすることが好ましい。この配合量が、０．０１
重量部未満では、保存安定性の効果が低くなる傾向があ
り、３０重量部を超えると、感度が不充分となる傾向が
ある。

【００５１】本発明における（Ｂ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物には、蛍
光体の分散を良好とするために、分散剤を添加すること
が好ましい。分散剤としては、無機分散剤（シリカゲル
系、ベントナイト系、カオリナイト系、タルク系、ヘク
トライト系、モンモリロナイト系、サポナイト系、バイ
デライト系等）、有機分散剤（脂肪族アマイド系、脂肪
族エステル系、酸化ポリエチレン系、硫酸エステル系ア
ニオン活性剤、ポリカルボン酸アミン塩系、ポリカルボ
ン酸系、ポリアマイド系、高分子ポリエーテル系、アク
リル共重合物系、特殊シリコン系等）等が挙げられる。
これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用する
ことができる。

【００５２】分散剤の使用量としては、特に制限はな
く、（ａ）成分１００重量部に対して、０．０１〜１０
０重量部とすることが好ましい。この使用量が、０．０
１重量部未満では、添加効果が発現しない傾向があり、
１００重量部を超えると、パターン形成精度（蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物からなるパターンを、現像
後、寸法的に正確に、所望の形状で得られる性質）が低
下する傾向がある。

【００５３】本発明における（Ｂ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物には、焼
成後、ＰＤＰ用基板から蛍光体が剥離しないようにする
ために、結着剤を使用することが好ましい。結着剤とし
ては、例えば、低融点ガラス、金属アルコキシド、シラ
ンカップリング剤等が挙げられる。これらは単独で又は
２種類以上を組み合わせて使用される。結着剤の使用量
としては、特に制限はなく、（ｄ）成分１００重量部に
対して、０．０１〜１００重量部とすることが好まし
く、０．０５〜５０重量部とすることがより好ましく、
０．１〜３０重量部とすることが特に好ましい。この使
用量が、０．０１重量部未満では、蛍光体の結着効果が
発現しない傾向があり、１００重量部を超えると、発光
効率が低下する傾向がある。

【００５４】また、本発明における（Ｂ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物に
は、染料、発色剤、可塑剤、顔料、重合禁止剤、表面改
質剤、安定剤、密着性付与剤、熱硬化剤等を必要に応じ
て添加することができる。

【００５５】本発明の感光性エレメントは、（Ｂ）蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層を構成する前記各成分
を溶解又は分散可能な溶剤に、溶解又は混合させること
により、均一に分散した溶液とし、前記で設けた（Ａ）
熱可塑性樹脂層の上に、塗布、乾燥することにより得る
ことができる。（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層を構成する前記各成分を溶解又は分散可能な溶剤と
しては、例えば、トルエン、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロ
リドン、ジメチルホルムアミド、テトラメチルスルホ
ン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノブチルエーテル、クロロホルム、塩化
メチレン、メチルアルコール、エチルアルコール等があ
げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせ
て使用される。

【００５６】塗布方法としては、公知の方法を用いるこ
とができ、例えば、ナイフコート法、ロールコート法、
スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、
カーテンコート法等が挙げられる。乾燥温度は、６０〜
１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、３分〜１
時間とすることが好ましい。また、この塗布工程におい
て、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を構成
する前記各成分を溶解又は分散可能な溶剤に、溶解又は
混合させることにより、均一に分散した溶液と接触する
部分の塗布装置の材質は、非金属性の材質であることが
好ましい。この（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層を構成する溶液と接触する部分の塗布装置の材質が
金属である場合には、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層を構成する溶液中の蛍光体によって、これと
接触する塗布装置が研磨され、この研磨粉が（Ｂ）蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層を構成する溶液中に不
純物として混入する傾向がある。

【００５７】本発明における（Ｂ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の厚さは、特に制限はないが、１０〜
２００μｍとすることが好ましく、２０〜１２０μｍと
することがより好ましく、３０〜８０μｍとすることが
特に好ましい。この厚さが、１０μｍ未満では、後述す
る焼成後の蛍光体パターンが薄くなり、発光効率が低下
する傾向があり、２００μｍを超えると、焼成後の蛍光
体パターンが厚くなり、蛍光面の発光面積が縮小して発
光効率が低下する傾向がある。

【００５８】本発明における（Ｂ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層は、１００℃での粘度が１〜１×１０
⁹Pa・secであることが好ましく、１〜１×１０⁷Pa・secで
あることがより好ましく、２〜１×１０⁶Pa・secである
ことがより好ましく、５〜１×１０⁵Pa・secであること
が特に好ましく、１０〜１×１０⁴Pa・secであることが
極めて好ましい。この１００℃での粘度が、１Pa・sec未
満では、室温での粘度が低くなりすぎて感光性エレメン
トとした場合に、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層が流動により端部から滲み出す傾向があり、フィ
ルム形成性が低下する傾向がある。また、１×１０⁹Pa・
secを超えると、後述する凹凸を有する基板の凹部内面
への（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の形成
性が低下する傾向がある。

【００５９】また、本発明において、（Ｂ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層の感度は、２１段ステップタ
ブレットで１〜２１段であることが好ましく、１．５〜
１８段であることがより好ましく、２〜１５段であるこ
とが特に好ましい。また、本発明において、（Ｂ）蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層の解像度は、最小のラ
イン／スペースが、１mm／１mm以下であることが好まし
く、９００μｍ／９００μｍ以下であることがより好ま
しく、８００μｍ／８００μｍであることが特に好まし
い。また、本発明において、（Ｂ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の密着性は、最小のライン／スペース
が、４００μｍ／４００μｍ以下であることが好まし
く、３５０μｍ／４００μｍ以下であることがより好ま
しく、３００μｍ／４００μｍであることが特に好まし
い。ここで、感度、解像度及び密着性を上記の好ましい
範囲とすることは、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物の各成分の種類と量、活性光線の種類と照射量等
を調節することにより達成できる。

【００６０】本発明における（Ｂ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の上には、さらに剥離可能なカバーフ
ィルムを積層することができる。カバーフィルムとして
は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリカーボネート等が挙げられ、支持体フ
ィルムと（Ａ）熱可塑性樹脂層との接着力よりも、カバ
ーフィルムと（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層との接着力の方が小さいものであることが好ましい。
カバーフィルムの厚さは、特に制限はないが、５〜１０
０μｍとすることが好ましく、１０〜９０μｍとするこ
とがより好ましい。このようにして得られる本発明の感
光性エレメントは、ロール状に巻いて保管可能とするこ
とができる。

【００６１】また、本発明の感光性エレメントは、
（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を構成する
前記各成分を溶解又は分散可能な前記溶剤に、溶解又は
混合させることにより、均一に分散した溶液を、前記し
た支持体フィルム上に、ナイフコート法、ロールコート
法、スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート
法、カーテンコート法等の公知の塗布方法を用いて、塗
布、乾燥することにより（Ｂ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層を形成した後、この（Ｂ）蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層と前記支持体フィルム上に設けた
（Ａ）熱可塑性樹脂層が接するように張り合わせること
により得ることもできる。この時、（Ｂ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層の厚さは、特に制限はないが、
１０〜２００μｍとすることが好ましく、２０〜１２０
μｍとすることがより好ましく、３０〜８０μｍとする
ことが特に好ましい。この厚さが、１０μｍ未満では、
後述する焼成後の蛍光体パターンが薄くなり、発光効率
が低下する傾向があり、２００μｍを超えると、焼成後
の蛍光体パターンが厚くなり、蛍光面の発光面積が縮小
して発光効率が低下する傾向がある。

【００６２】また、（Ａ）熱可塑性樹脂層及び（Ｂ）蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層に使用するそれぞれ
の支持体フィルムは、（Ａ）熱可塑性樹脂層の支持体フ
ィルムと（Ａ）熱可塑性樹脂層との接着力よりも、
（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の支持体フ
ィルムと（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層と
の接着力の方が小さいものであることが好ましい。この
ようにして得られる本発明の感光性エレメントは、ロー
ル状に巻いて保管可能とすることができる。

【００６３】本発明の蛍光体パターンの製造法は、
（Ｉ）前記本発明の感光性エレメントを、凹凸を有する
基板の凹凸表面上に、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層が接するように加熱圧着する工程、（II）感
光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射する工程、
（III）現像により感光性樹脂組成物層を選択的に除去
してパターンを形成する工程及び（IV）前記パターンか
ら焼成により不要分を除去して蛍光体パターンを形成す
る工程の各工程を含むことを特徴とする。

【００６４】以下、本発明の蛍光体パターンの製造法の
各工程について、図１及び図２を用いて詳述する。な
お、図１及び図２は、本発明の蛍光体パターンの製造法
の各工程を示した模式図である。

【００６５】〔（Ｉ）前記本発明の感光性エレメント
を、凹凸を有する基板の凹凸表面上に、（Ｂ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層が接するように加熱圧着す
る工程〕バリアリブ２が形成されたプラズマディスプレ
イパネル用基板（ＰＤＰ用基板）１（凹凸を有する基
板）の凹凸表面上に、（Ａ）熱可塑性樹脂層３及び
（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層４を含む本
発明の感光性エレメントを、加熱ロール５を用いて加熱
圧着して積層させた状態を図１（Ｉ）に示した。

【００６６】本発明における凹凸を有する基板として
は、例えば、バリアリブが形成されたプラズマディスプ
レイパネル用基板（ＰＤＰ用基板）等が挙げられる。Ｐ
ＤＰ用基板としては、例えば、透明な接着のための表面
処理を施していてもよい、ガラス板、合成樹脂板等の基
板に、電極及びバリアリブが形成されたものなどが挙げ
られる。バリアリブの形成には、特に制限なく、公知の
材料を使用できるが、例えば、シリカ、熱硬化性樹脂、
低融点ガラス（酸化鉛等）、溶剤などを含むリブ材を用
いることができる。また、ＰＤＰ用基板には、電極及び
バリアリブの他に、必要に応じて、誘電膜、絶縁膜、補
助電極、抵抗体等が形成されていてもよい。これらのも
のを、基板へ形成する方法としては、特に制限はなく、
例えば、基板に、蒸着、スパッタリング、メッキ、塗
布、印刷等の方法で電極を形成することができ、印刷
法、サンドブラスト法、埋め込み法等の方法でバリアリ
ブを形成することができる。

【００６７】図６及び図７にバリアリブが形成されたＰ
ＤＰ用基板の一例の模式図を示した。バリアリブは、通
常、高さが２０〜５００μｍ、幅が２０〜２００μｍと
される。バリアリブで囲まれた放電空間の形状には、特
に制限はなく、格子状、ストライプ状、ハニカム状、３
角形状、楕円形状等が可能であるが、通常、図６及び図
７等に示すような、格子状又はストライプ状の放電空間
が形成される。図６及び図７において、基板１上にはバ
リアリブ２が形成されており、図６では格子状放電空間
９が、図７ではストライプ状放電空間１０が形成されて
いる。放電空間の大きさは、ＰＤＰの大きさと解像度に
よって決められ、通常、図６のような格子状放電空間で
あれば、縦及び横の長さは、５０μｍ〜１mmとなり、図
７のようなストライプ状放電空間であれば、間隔は、３
０μｍ〜１mmとなる。

【００６８】図１（Ｉ）の工程において、バリアリブ２
が形成されたＰＤＰ用基板１上に、（Ａ）熱可塑性樹脂
層３及び（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層４
を含む本発明の感光性エレメントを積層させる方法とし
ては、例えば、感光性エレメントにカバーフィルムが存
在しているときは、そのカバーフィルム（支持体フィル
ム上に（Ａ）熱可塑性樹脂層を形成したものと、支持体
フィルム上に（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層を形成したものを張り合わせて得られた感光性エレメ
ントをを使用する場合は、（Ｂ）蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層の支持体フィルム）を除去後、ＰＤＰ用
基板のバリアリブを形成した面に、（Ｂ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層４が接するように、加熱ロール
５で加熱圧着させること等により積層することができ
る。

【００６９】この時の圧着圧力は、１×１０²〜１×１
０⁷Paとすることが好ましく、５×１０²〜５×１０⁶Pa
とすることがより好ましく、１×１０⁴〜１×１０⁶Paと
することが特に好ましい。この圧着圧力が、１×１０²P
a未満では、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層５が、ＰＤＰ基板上に充分に密着できない傾向があ
り、１×１０⁷Paを超えると、ＰＤＰ用基板のバリアリ
ブが破壊される傾向がある。圧着装置としてラミネータ
（シリンダ加圧）を用いる場合、上記の加熱圧着時の圧
着圧力は、線圧に換算すると、線圧で線圧で２．４〜
２．４×１０⁵N/mとすることが好ましく、１２〜１．２
×１０⁵N/mとすることがより好ましく、２．４×１０²
〜２．４×１０⁴N/mとすることが特に好ましい。この圧
着圧力が、２．４N/m未満では、（Ｂ）蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層５のＰＤＰ基板の凹部空間への埋
め込み性が低下する傾向があり、２．４×１０⁵N/mを超
えると、ＰＤＰ用基板のバリアリブが破壊される傾向が
ある。例えば、ここで、線圧を５×１０³N/mとする方法
としては、シリンダ径が４０mmφのラミネータを用い、
厚さが３mm、縦１０cm×横１０cm（正方形）の基板を用
いて、ラミネータのシリンダ圧力（常圧１atmが０であ
る）を、２kgf/cm²とすることにより、線圧を５×１０³
N/mとする方法、シリンダ径が４０mmφのラミネータを
用い、厚さが３mm、縦２０cm×横２０cm（正方形）の基
板を用いて、ラミネータのシリンダ圧力（常圧１atmが
０である）を、４kgf/cm²とすることにより、線圧を５
×１０³N/mとする方法等が挙げられる。

【００７０】加熱圧着時の加熱温度は、１０〜１３０℃
とすることが好ましく、２０〜１２０℃とすることがよ
り好ましく、３０〜１１０℃とすることが特に好まし
い。この加熱温度が、１０℃未満では、（Ｂ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層４のＰＤＰ基板の空間への
埋め込み性が低下する傾向があり、１３０℃を超える
と、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層４が熱
硬化する傾向がある。

【００７１】（Ａ）熱可塑性樹脂層３及び（Ｂ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層４を含む本発明の感光性
エレメントを前記のように加熱すれば、ＰＤＰ用基板を
予熱処理することは必要ではないが、（Ｂ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層４の空間への埋め込み性をさ
らに向上させる点から、ＰＤＰ用基板を予熱処理するこ
とが好ましい。この時の予熱温度は、３０〜１３０℃と
することが好ましく、また、予熱時間は、０．５〜２０
分間とすることが好ましい。また、（Ｂ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層４の空間への埋め込み性をさら
に向上させる点から、上記圧着ロールの表面が、ゴム、
プラスチック等の柔軟性に富んだ材質のものを使用する
こともできる。なお、柔軟性に富んだ材質の層の厚さ
は、２００〜４００μｍとすることが好ましい。

【００７２】さらに、同様の目的で、４×１０³Pa以下
の減圧下で、上記した圧着及び加熱圧着の操作を行うこ
ともできる。また、積層が完了した後、３０〜１５０℃
の範囲で、１〜１２０分間加熱することもできる。この
時、（Ａ）熱可塑性樹脂層３の上に支持体フィルムが存
在する場合には、その支持体フィルムを必要に応じて除
去してもよい。また、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層４における（ｂ）エチレン性不飽和基を有す
る光重合性不飽和化合物又は（ｃ）活性光の照射により
遊離ラジカルを生成する光開始剤が、（Ａ）熱可塑性樹
脂層３へマイグレーションを起こしやすい場合には、こ
の現象を抑制するために、積層が完了した後、ＰＤＰ用
基板を冷却（通常、−５０〜５０℃の範囲）することも
できる。このようにして、（Ｂ）蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層４をＰＤＰ用基板の空間に均一に形成す
ることができる。

【００７３】また、前記した加熱圧着時の加熱条件、圧
着圧力条件及びＰＤＰ用基板の予備加熱条件や、（Ａ）
熱可塑性樹脂層３の膜厚等の各条件の組み合わせを変え
ることより、図３に示すような状態に積層することもで
きる。なお、図３は、本発明の蛍光体パターンの製造法
における、（Ｉ）工程終了後の一例である。

【００７４】なお、感光性エレメントを積層させる前の
ＰＤＰ用基板作製時において、加熱等により、ＰＤＰ用
基板の全体又は部分的な収縮が発生する場合と、ＰＤＰ
用基板の収縮がほとんど発生しない場合があり、ＰＤＰ
用基板の全体又は部分的な収縮が発生する場合において
は、後述する（II）感光性樹脂組成物層に活性光線を像
的に照射する工程においての位置合わせ精度の裕度を大
きくする点から、図１（Ｉ）に示すように凸部の上部に
感光性樹脂組成物層４がほとんど残存しないように凹部
内面に積層させることが好ましく、また、ＰＤＰ用基板
の収縮がほとんど発生しない場合においては、図１
（Ｉ）のように積層させてもよく、図３に示すように凸
部の上部に感光性樹脂組成物層４が残存する状態で積層
させてもよい。

【００７５】〔（II）感光性樹脂組成物層に活性光線を
像的に照射する工程〕活性光線７を像的に照射する状態
を図１（II）に示した。図１（II）の工程において、活
性光線７を像的に照射する方法としては、図１（Ｉ）の
状態の（Ａ）熱可塑性樹脂層３の上部に、ネガフィル
ム、ポジフィルム等のフォトマスク６を介して、活性光
線７を像的に照射することができる。この時、（Ａ）熱
可塑性樹脂層３の上に支持体フィルムが存在する場合
は、その支持体フィルムを積層したまま活性光線７を像
的に照射してもよく、また、支持体フィルムを除去した
後に活性光線７を像的に照射してもよい。なお、この
時、（Ａ）熱可塑性樹脂層３が、前記した感光性樹脂組
成物である場合には、（Ａ）熱可塑性樹脂層３及び
（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層４は、同時
に光硬化することとなる。

【００７６】また、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層４を溶解しない水、アルカリ水溶液、水系現像
液、有機溶剤等を用いて、（Ａ）熱可塑性樹脂層３を溶
解により除去するか（Ｂ）熱可塑性樹脂層を剥離して除
去した後、ネガフィルム、ポジフィルム等フォトマスク
６を介して、活性光線７を像的に照射することもでき
る。

【００７７】また、フォトマスク６の活性光線７の透過
幅は、通常、ＰＤＰ用基板の凹部の開口幅であるが、前
記（Ｉ）の工程において、図１（Ｉ）のように積層させ
た場合は、ＰＤＰ用基板の凹部の開口幅と同じ透過幅か
又はＰＤＰ用基板の凹部の開口幅よりも広い透過幅とす
ることが、位置合わせ精度の裕度を大きくできる点から
好ましい。

【００７８】活性光線７としては、公知の活性光源が使
用でき、例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、キ
セノンアーク、その他から発生する光等が挙げられる。
光開始剤の感受性は、通常、紫外線領域において最大で
あるので、その場合の活性光源は、紫外線を有効に放射
するものにすべきである。また、光開始剤が可視光線に
感受するもの、例えば、９、１０−フェナンスレンキノ
ン等である場合には、活性光線７としては、可視光が用
いられ、その光源としては、前記のもの以外に写真用フ
ラッド電球、太陽ランプ等も使用することができる。ま
た、活性光線７としては、平行光線、散乱光線等が挙げ
られ、平行光線及び散乱光線のどちらを使用してもよ
く、両方を同時に使用してもよく、別々に前後して使用
してもよい。活性光線７の照射量は、特に制限はない
が、光硬化性等の点から、５〜１０，０００mJ/cm²とす
ることが好ましく、７〜５，０００mJ/cm²とすることが
より好ましく、１０〜１０００mJ/cm²とすることが特に
好ましい。

【００７９】〔（III）現像により感光性樹脂組成物層
を選択的に除去してパターンを形成する工程〕現像によ
り不要部を除去した状態を図１（III）に示した。な
お、図１（III）において、４′は光硬化後の蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層である。図１（III）の工
程において、現像方法としては、例えば、図１（II）の
状態の後、（Ａ）熱可塑性樹脂層３の上に支持体フィル
ムが存在する場合には、これを除去した後、水、アルカ
リ水溶液、水系現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用
いて、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピ
ング等の公知方法により現像を行い、不要部を除去する
方法等が挙げられる。

【００８０】不要部を除去する場合には、まず、（Ｂ）
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層４を溶解しない
水、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等を用い
て、（Ａ）熱可塑性樹脂層３を溶解により除去した後
に、現像液を用いて、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層４の不要部を除去してもよく、また、（Ａ）
熱可塑性樹脂層３が、前記した（Ａ）熱可塑性樹脂層３
及び（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層４が、
同一の現像液を使用して現像できるものである場合に
は、その現像液を用いて、（Ａ）熱可塑性樹脂層３及び
（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層４をまとめ
て除去することもできる。また、（Ａ）熱可塑性樹脂層
３及び（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層４の
不要部を除去する方法として、ドライ現像で、別々に除
去することもできるし、まとめて除去することもでき
る。なお、この時、（Ａ）熱可塑性樹脂層３が、前記し
た感光性樹脂組成物である場合には、光硬化後の蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層４′の上部には、光硬化
後の熱可塑性樹脂層が残存することとなる。

【００８１】現像時間及び現像温度は、不要部を除去で
きるように適宜調節することができ、現像時間は、
（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層４の最小現
像時間（（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を
ＰＤＰ用基板の凹部内面に埋め込んだ後、（Ｂ）層が現
像によって除去される最短の時間）の１〜１０倍の時間
とすることが好ましく、現像温度は、１０〜６０℃とす
ることが好ましい。現像時間が、最小現像時間未満で
は、現像残りが発生する傾向があり、最小現像時間の１
０倍の時間を超えると、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層４の必要部まで除去される傾向がある。ま
た、現像温度が、１０℃未満では、現像性が低下する傾
向があり、６０℃を超えると、耐現像液性が低下する傾
向がある。

【００８２】アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化ア
ルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物
等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウ
ムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸
塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ
金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸
カリウム等）、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリ
エタノールアミンなどが挙げられ、中でも、炭酸ナトリ
ウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等が好ましいも
のとして挙げられる。現像に用いるアルカリ水溶液のpH
は、９〜１１とすることが好ましく、また、その温度
は、（Ａ）熱可塑性樹脂層３及び（Ｂ）蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層４の現像性に合わせて調整するこ
とができる。また、アルカリ水溶液中には、表面活性
剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等
を混入させることができる。

【００８３】水系現像液としては、アルカリ水溶液と一
種以上の有機溶剤とからなるものが挙げられる。ここ
で、アルカリ水溶液の塩基としては、前記物質以外に、
例えば、ホウ砂、メタケイ酸ナトリウム、エタノールア
ミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、２−
アミノ−２−ヒドロキシメチル−１、３−プロパンジオ
ール、１，３−ジアミノプロパノール−２−モルホリン
等が挙げられる。水系現像液のpHは、８〜１２とするこ
とが好ましく、９〜１０とすることがより好ましい。

【００８４】有機溶剤としては、例えば、三アセトンア
ルコール、アセトン、酢酸エチル、炭素数１〜４のアル
コキシ基をもつアルコキシエタノール、エチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル等が挙げられる。これらは単独で又は２
種類以上を組み合わせて使用される。

【００８５】水と一種以上の有機溶剤とからなる水系現
像液（有機溶剤が水に溶解しない場合はエマルジョン溶
液）で、有機溶剤としては、例えば、アセトンアルコー
ル、アセトン、酢酸エチル、炭素数１〜４のアルコキシ
基をもつアルコキシエタノール、エチルアルコール、イ
ソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコール
モノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチル
エーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノプロピルエーテル、３-メチル-
３-メトキシブチルアセテート、１，１，１−トリクロ
ロエタン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケト
ン、γ−ブチロラクトン等が挙げられる。これらは単独
で又は２種類以上を組み合わせて使用される。有機溶剤
の濃度は、通常、２〜９０重量％の範囲とされ、また、
その温度は、現像性にあわせて調整することができる。
また、水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量
混入することができる。

【００８６】単独で用いる有機溶剤現像液としては、例
えば、１，１，１−トリクロロエタン、Ｎ−メチルピロ
リドン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、シクロヘキサ
ノン、メチルイソブチルケトン、γ−ブチロラクトン等
が挙げられる。これらの有機溶剤は、引火防止のため、
１〜２０重量％の範囲で水を添加してもよい。また、
水、アルカリ水溶液、水系現像液（水と一種以上の有機
溶剤又はアルカリ水溶液と一種以上の有機溶剤とからな
るもの；これらは均一状態及びエマルジョンのどちらで
もよい）、有機溶剤等の公知の現像液中には、現像時の
蛍光体劣化防止の点で、アルカリ金属イオン以外の金属
イオン又はハロゲンイオンを含まないことが好ましい。

【００８７】また、現像後、蛍光体の劣化を防止する目
的で、光硬化後の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
４′及び（Ａ）熱可塑性樹脂層３が、前記した感光性樹
脂組成物である場合には、光硬化後の熱可塑性樹脂層に
残存したアルカリ水溶液の塩基を、有機酸、無機酸又は
これらの酸水溶液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブラ
ッシング、スクラッピング等の公知方法により酸処理
（中和処理）することができる。酸としては、例えば、
飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸、脂肪族二塩基酸、芳香族二
塩基酸、脂肪族三塩基酸、芳香族三塩基酸等の有機酸及
び無機酸が挙げられる。

【００８８】具体的な有機酸としては、例えば、ぎ酸、
酢酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、プ
ロピオン酸、カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、
トリデカン酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミ
チン酸、ヘプタデカン酸、ステアリン酸、ノナデカン
酸、アラキジン酸、パルミトオレイン酸、オレイン酸、
エライジン酸、リノレン酸、リノール酸、しゅう酸、マ
ロン酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、マロン酸モ
ノメチル、マロン酸モノエチル、こはく酸、メチルこは
く酸、アジピン酸、メチルアジピン酸、ピメリン酸、ス
ベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、イ
タコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ト
リメリト酸、クエン酸、サリチル酸、ピルビン酸、リン
ゴ酸等が挙げられる。また、具体的な無機酸としては、
例えば、硫酸、塩酸、硝酸等が挙げられる。これらのう
ち、中和の効果が高い点から、ぎ酸、しゅう酸、マロン
酸、クエン酸等が好ましいものとして挙げられる。

【００８９】酸処理に用いる酸水溶液のpHは、２〜６と
することが好ましく、酸水溶液のpH及び温度は、光硬化
後の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層４′、（Ａ）
熱可塑性樹脂層３が、前記した感光性樹脂組成物である
場合には、光硬化後の熱可塑性樹脂層及びＰＤＰ用基板
の耐酸性（酸に対して劣化しない耐久性）に合わせて調
整することができる。さらに、酸処理（中和処理）の
後、水洗する工程を行うこともできる。

【００９０】また、現像後、ＰＤＰ用基板の空間の表面
における蛍光体含有フォトレジストの密着性及び耐薬品
性等を向上させる目的で、高圧水銀ランプ等による紫外
線照射や加熱を行うこともできる。この時の、紫外線の
照射量は、通常、０．２〜１０J/cm²であり、照射の際
に、加熱を伴うこともできる。また、加熱時の温度は、
６０〜１８０℃とすることが好ましく、１００〜１８０
℃とすることがより好ましい。また、加熱時間は、１５
〜９０分間とすることが好ましい。これらの紫外線の照
射と加熱は、照射と加熱を別々に行ってもよく、どちら
を先に行ってもよい。

【００９１】なお、図３に示すように凸部の上部に
（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層４が残存す
る場合には、露光・現像条件及びフォトマスクの位置ず
れなどによって、本工程（（III）工程）を行なうこと
により、凹部内面以外に残存した光硬化後の蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層（不要部）及び（Ａ）熱可塑
性樹脂層が感光性樹脂組成物である場合には、光硬化後
の熱可塑性樹脂層（不要部）が残存する傾向がある。こ
の場合、凹部内面以外に残存した光硬化後の蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層（不要部）及び（Ａ）熱可塑
性樹脂層が感光性樹脂組成物である場合には、光硬化後
の熱可塑性樹脂層（不要部）を研磨等により完全に除去
することもできる。また、前記研磨の代わりに、前記不
要部に粘着テープを接着した後、これを剥がし、不要部
のみを物理的に除去することもできる。また、このよう
な場合を想定して、後述する赤、緑及び青に発色する蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層からなる多色のパタ
ーンを形成後、後述する焼成工程前に、凸部の上部に酸
化鉄、酸化クロム、酸化銅などの黒色無機顔料及び低融
点ガラスフリット等を含む黒色無機材料ペーストを塗布
又は印刷あるいは、黒色無機材料含有感光性エレメント
を用いてブラックストライプを形成した後に、後述する
焼成を行うことができる。

【００９２】〔（IV）前記パターンから焼成により不要
分を除去して蛍光体パターンを形成する工程〕焼成によ
り不要分を除去した後の蛍光体パターンを形成した状態
を図２（IV）に示した。なお、図２（IV）において、８
は蛍光体パターンである。図２（IV）の工程において、
焼成方法としては、特に制限はなく、公知の焼成方法を
使用し、蛍光体及び結着剤以外の不要物を除去し、蛍光
体パターンを形成することができる。この時の、焼成温
度は、３５０〜８００℃とすることが好ましく、４００
〜６００℃とすることがより好ましい。また、焼成時間
は、３〜１２０分間とすることが好ましく、５〜９０分
間とすることがより好ましい。この時の、昇温速度は、
０．５〜５０℃／分とすることが好ましく、１〜４５℃
／分とすることがより好ましい。また、最高焼成温度に
到達する前の３５０〜４５０℃の間に、その温度を保持
するステップを設けることができ、その保持時間は５〜
１００分間とすることが好ましい。

【００９３】本発明の蛍光体パターンの製造法は、工程
数を低減できる等の点から、前記本発明における（Ｉ）
〜（III）の各工程を１色毎に繰り返して、赤色、緑色
及び青色に発色する蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
からなる多色のパターンを形成した後、（IV）の工程を
行ない多色の蛍光体パターンを形成することが好まし
い。本発明において、赤色、青色、緑色に発色するそれ
ぞれの蛍光体を単独で有する（Ｂ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層４は、赤色、青色、緑色の各色につい
て、どの様な順番でも行うことができる。

【００９４】本発明における（Ｉ）〜（III）の各工程
を１色毎に繰り返して、赤色、緑色及び青色に発色する
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物からなる多色のパタ
ーンを形成した状態を図４に示した。なお、図４におい
て、４′ａは１色目のパターン、４′ｂは２色目のパタ
ーン及び４′ｃは３色目のパターンである。また、本発
明における（IV）の工程を行ない多色の蛍光体パターン
を形成した状態を図５に示した。なお、図５において、
８ａは１色目の蛍光体パターン、８ｂは２色目の蛍光体
パターン及び８ｃは３色目の蛍光体パターンである。

【００９５】また、本発明の蛍光体パターンの製造法
は、膜べりの抑制等の点から、前記本発明における
（Ｉ）〜（IV）の各工程を１色毎に繰り返して、赤色、
緑色及び青色に発色する多色の蛍光体パターンを形成す
ることが好ましい。本発明の蛍光体パターンは、バリア
リブの高さをＬ（μｍ）としたとき、０．９×Ｌの位置
のバリアリブ壁面に形成された蛍光体パターンの層厚ｘ
（μｍ）と０．４×Ｌの位置のバリアリブ壁面に形成さ
れた蛍光体パターンの層厚ｙ（μｍ）の層厚比ｘ／ｙ
が、ｘ／ｙ＝０．１〜１．５の範囲を満足するものであ
ることが輝度、光利用率等の点から好ましく、ｘ／ｙ＝
０．１５〜１．３の範囲であることがより好ましく、ｘ
／ｙ＝０．２〜１．２の範囲であることが特に好まし
い。ｘ／ｙが、０．１未満では、ＰＤＰとして発光させ
た場合に、広視野角からの視認における見かけの輝度が
低下する傾向があり、１．５を超えると、蛍光体が発光
した可視光の利用率が低下して、輝度が低下する傾向が
ある。

【００９６】また、ＰＤＰとして発光させた場合に、蛍
光体が発光した可視光の利用率を、向上できる点から、
ｘ／ｙが、ｘ／ｙ＝０．１〜０．５の範囲であることが
好ましく、ｘ／ｙ＝０．１５〜０．４５の範囲であるこ
とがより好ましく、ｘ／ｙ＝０．２〜０．４の範囲であ
ることが特に好ましい。また、ＰＤＰとして発光させた
場合に、広視野角からの視認における見かけの輝度の低
下を抑制できる点から、ｘ／ｙが、ｘ／ｙ＝０．５〜
１．５の範囲であることが好ましく、ｘ／ｙ＝０．５５
〜１．３の範囲であることがより好ましく、ｘ／ｙ＝
０．６〜１．２の範囲であることが特に好ましい。

【００９７】本発明のプラズマディスプレイパネル用背
面板は、上述のようにして得られた蛍光パターンを、プ
ラズマディスプレイパネル用基板上に備えてなるもので
ある。以下に、プラズマディスプレイパネル用背面板に
ついて、図８を用いて説明する。なお、図８は、プラズ
マディスプレイパネル（ＰＤＰ）の一例を示した模式図
であり、図８において１は基板、２はバリアリブ、１０
はストライプ状放電空間、８は蛍光体パターン、１１は
アドレス用電極、１２は保護膜、１３は誘電体層、１４
は表示用電極及び１５は前面板用基板である。図８にお
いて、基板１、バリアリブ２、蛍光体パターン８及びア
ドレス用電極１１を含む下部がＰＤＰ用背面板であり、
保護膜１２、誘電体層１３、表示用電極１４及び前面板
用基板１５を含む上部がＰＤＰ用前面板である。ＰＤＰ
は、電圧の印加方式から、ＡＣ（交流）型ＰＤＰ、ＤＣ
（直流）型ＰＤＰ等に分類でき、一例として示した図８
の模式図は、ＡＣ型ＰＤＰである。

【００９８】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。 製造例１ 〔フィルム性付与ポリマの溶液（ａ−１）の作製〕撹拌
機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えた
フラスコに、表１に示すを仕込み、窒素ガス雰囲気下
で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちなが
ら、表１に示すを４時間かけて均一に滴下した。の
滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分
子量が８０，０００、酸価が１３０mgKOH/gのフィルム
性付与ポリマの溶液（固形分４５．５重量％）（ａ−
１）を得た。

【００９９】

【表１】

【０１００】製造例２ 〔フィルム性付与ポリマの溶液（ａ−２）の作製〕製造
例１において、のメタクリル酸を４重量部に、メタク
リル酸メチルを８６重量部に、アクリル酸エチルを１０
重量部に代えた以外は、製造例１と同様にして、重量平
均分子量が８０，０００、酸価が２６mgKOH/gのフィル
ム性付与ポリマの溶液（固形分４５．５重量％）（ａ−
２）を得た。

【０１０１】製造例３ 〔（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−１）の作製〕表２
に示す材料を配合し、（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ
−１）を作製した。

【０１０２】

【表２】

【０１０３】製造例４ 〔（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−２）の作製〕表３
に示す材料を配合し、（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ
−２）を作製した。

【０１０４】

【表３】

【０１０５】製造例５ 〔（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−３）の作製〕表４
に示す材料を配合し、（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ
−３）を作製した。

【０１０６】

【表４】

【０１０７】製造例６ 〔（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−４）の作製〕表５
に示す材料を配合し、（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ
−４）を作製した。

【０１０８】

【表５】

【０１０９】製造例７ 〔（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層用溶液
（Ｂ−１）の作製〕表６に示す材料を、ライカイ機を用
いて１５分間混合し、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層用溶液（Ｂ−１）を作製した。

【０１１０】

【表６】

【０１１１】製造例８ 〔（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層用溶液
（Ｂ−２）の作製〕表７に示す材料を、ライカイ機を用
いて１５分間混合し、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層用溶液（Ｂ−２）を作製した。

【０１１２】

【表７】

【０１１３】製造例９ 〔（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層用溶液
（Ｂ−３）の作製〕表８に示す材料を、ライカイ機を用
いて１５分間混合し、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層用溶液（Ｂ−３）を作製した。

【０１１４】

【表８】

【０１１５】製造例１０ 〔（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層用溶液
（Ｂ−４）の作製〕表９に示す材料を、ライカイ機を用
いて１５分間混合し、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層用溶液（Ｂ−４）を作製した。

【０１１６】

【表９】

【０１１７】製造例１１ 〔（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層用溶液
（Ｂ−５）の作製〕表１０に示す材料を、ライカイ機を
用いて１５分間混合し、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層用溶液（Ｂ−５）を作製した。

【０１１８】

【表１０】

【０１１９】〔感光性エレメントの作製〕 実施例１ 製造例３で得られた（Ａ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−
１）を、２０μｍの厚さのポリエチレンテレフタレート
フィルム上に均一に塗布し、８０〜１１０℃の熱風対流
式乾燥機で１０分間乾燥して蒸留水を除去し、（Ａ）熱
可塑性樹脂層を形成した。得られた（Ａ）熱可塑性樹脂
層の乾燥後の厚さは、７０μｍであった。次いで、製造
例７で得られた（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層用溶液（Ｂ−１）を、（Ａ）熱可塑性樹脂層の上に
均一に塗布し、８０〜１１０℃の熱風対流式乾燥機で１
０分間乾燥して溶剤を除去し、（Ｂ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層を形成した。得られた（Ｂ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層の厚さは、６０μｍであ
った。次いで、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層の上に、さらに、２５μｍの厚さのポリエチレンフ
ィルムを、カバーフィルムとして張り合わせて、感光性
エレメント（ｉ）を作製した。

【０１２０】得られた感光性エレメント（ｉ）のエッジ
フュージョン性を下記の方法で評価し、結果を表１１に
示した。 〔エッジフュージョン性〕ロール状に巻き取られた長さ
９０ｍの感光性エレメント（ｉ）を、温度が２３℃、湿
度が６０％Ｒｈで保管し、ロール側面から感光層のしみ
出しの様子を、６カ月間にわたって目視で評価した。評
価基準は次の通りである。 ○：エッジフュージョン性が良好なもの（６カ月間でも
感光層のしみ出しがないもの） ×：エッジフュージョン性が不良なもの（６カ月間で感
光層のしみ出しが発生したもの）

【０１２１】実施例２ 実施例１において、製造例３で得られた（Ａ）熱可塑性
樹脂層用溶液（Ａ−１）を、製造例４で得られた（Ａ）
熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−２）に代えた以外は、実施
例１と同様にして、感光性エレメント（ii）を作製し
た。なお、感光性エレメント（ii）の（Ａ）熱可塑性樹
脂層の乾燥後の厚さは、７０μｍであり、（Ｂ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層の厚さは、６０μｍであ
った。得られた感光性エレメント（ii）のエッジフュー
ジョン性を、実施例１と同様にして評価し、結果を表１
１に示した。

【０１２２】実施例３ 実施例１において、製造例３で得られた（Ａ）熱可塑性
樹脂層用溶液（Ａ−１）を、製造例５で得られた（Ａ）
熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−３）に代えた以外は、実施
例１と同様にして、感光性エレメント（iii）を作製し
た。なお、感光性エレメント（iii）の（Ａ）熱可塑性
樹脂層の乾燥後の厚さは、７０μｍであり、（Ｂ）蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層の厚さは、６０μｍで
あった。得られた感光性エレメント（iii）のエッジフ
ュージョン性を、実施例１と同様にして評価し、結果を
表１１に示した。

【０１２３】実施例４ 実施例３において、製造例７で得られた（Ｂ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ−１）を、製造
例８で得られた（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層用溶液（Ｂ−２）に代えた以外は、実施例３と同様
にして、感光性エレメント（iv）を作製した。なお、感
光性エレメント（iv）の（Ａ）熱可塑性樹脂層の乾燥後
の厚さは、７０μｍであり、（Ｂ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の厚さは、６０μｍであった。得られ
た感光性エレメント（iv）のエッジフュージョン性を、
実施例１と同様にして評価し、結果を表１１に示した。

【０１２４】実施例５ 実施例１と同様にして、（Ａ）熱可塑性樹脂層の乾燥後
の厚さが４３μｍの感光性エレメント（ｖ）を作製し
た。なお、感光性エレメント（ｖ）の（Ｂ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層の厚さは、実施例１と同様に
６０μｍであった。得られた感光性エレメント（ｖ）の
エッジフュージョン性を、実施例１と同様にして評価
し、結果を表１１に示した。

【０１２５】実施例６ 実施例１において、製造例３で得られた（Ａ）熱可塑性
樹脂層用溶液（Ａ−１）を、製造例４で得られた（Ａ）
熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−２）に代え、製造例６で得
られた（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層用溶
液（Ｂ−１）を、製造例１０で得られた（Ｂ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ−４）に代えた
以外は、実施例１と同様にして、感光性エレメント（vi
ii）を作製した。なお、感光性エレメント（viii）の
（Ａ）熱可塑性樹脂層の乾燥後の厚さは、４３μｍであ
り、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の厚さ
は、６０μｍであった。得られた感光性エレメント（vi
ii）のエッジフュージョン性を、実施例１と同様にして
評価し、結果を表１１に示した。

【０１２６】実施例７ 実施例１において、製造例３で得られた（Ａ）熱可塑性
樹脂層用溶液（Ａ−１）を、製造例６で得られた（Ａ）
熱可塑性樹脂層用溶液（Ａ−４）に代え、製造例６で得
られた（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層用溶
液（Ｂ−１）を、製造例１１で得られた（Ｂ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ−５）に代えた
以外は、実施例１と同様にして、感光性エレメント（i
x）を作製した。なお、感光性エレメント（ix）の
（Ａ）熱可塑性樹脂層の乾燥後の厚さは、５０μｍであ
り、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の厚さ
は、６０μｍであった。得られた感光性エレメント（i
x）のエッジフュージョン性を、実施例１と同様にして
評価し、結果を表１１に示した。

【０１２７】比較例１ 実施例１において、製造例３で得られた（Ａ）熱可塑性
樹脂層用溶液（Ａ−１）を使用しなかった以外は、実施
例１と同様にして、感光性エレメント（vi）を作製し
た。なお、感光性エレメント（vi）の（Ｂ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層の厚さは、６０μｍであっ
た。得られた感光性エレメント（vi）のエッジフュージ
ョン性を、実施例１と同様にして評価し、結果を表１１
に示した。

【０１２８】比較例２ 比較例１において、製造例６で得られた（Ｂ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ−１）を、製造
例８で得られた（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物溶液（Ｂ−３）に代えた以外は、比較例１と同様にし
て、感光性エレメント（vii）を作製した。なお、感光
性エレメント（vii）の（Ｂ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層の厚さは、６０μｍであった。得られた感
光性エレメント（vii）のエッジフュージョン性を、実
施例１と同様にして評価し、結果を表１１に示した。

【０１２９】

【表１１】

【０１３０】〔蛍光体パターンの作製〕 実施例８ 〔（Ｉ）感光性エレメントを、凹凸を有する基板の凹凸
表面上に、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
が接するように加熱圧着する工程〕ＰＤＰ用基板（スト
ライプ状のバリアリブ、バリアリブ間の開口幅１５０μ
ｍ、バリアリブの幅７０μｍ、バリアリブの高さ１５０
μｍ：縦１０cm、横１０cm、厚さ３mm）のバリアリブが
形成された側に、実施例１で得られた感光性エレメント
（ｉ）のポリエチレンフィルムを剥がしながら、真空ラ
ミネータ（日立化成工業(株)製、商品名ＶＬＭ−１型）
を用いて、ヒートシュー温度が１１０℃、ラミネート速
度が０．５ｍ／分、気圧が４０００Pa以下、圧着圧力
（直径４０mmのシリンダ圧力）が４×１０⁵Pa（線圧
９．８×１０³N/m）で積層した。

【０１３１】〔（II）感光性樹脂組成物層に活性光線を
像的に照射する工程〕次に、感光性エレメント（ｉ）の
ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、試験用フォ
トマスクを密着させて、(株)オーク製作所製ＨＭＷ−５
９０型露光機を使用し、１００mJ/cm²で活性光線を像的
に照射した。

【０１３２】〔（III）現像感光性樹脂組成物層を選択
的に除去してパターンを形成する工程〕次に、活性光線
を照射後、常温で１時間放置した後、１重量％炭酸ナト
リウム水溶液を用いて３０℃で７０秒間スプレー現像し
た。現像後、８０℃で１０分間乾燥し、東芝電材(株)製
東芝紫外線照射装置を使用して、３J/cm²の紫外線照射
を行った。

【０１３３】〔（IV）焼成により不要分を除去する工
程〕次に、５５０℃で３０分間加熱処理（焼成）を行
い、不必要な樹脂成分を除去して、ＰＤＰ用基板の空間
に蛍光体パターンを形成させた。

【０１３４】〔蛍光体パターンの評価〕得られた蛍光体
パターンの断面を、実体顕微鏡及びＳＥＭにより目視に
て観察し、蛍光体パターンの形成状況を評価し、結果を
表１２に示した。評価基準は次の通りである。 ○：蛍光体パターンがＰＤＰ用基板の空間（バリアリブ
壁面及びセル底面上）に均一に形成されている ×：蛍光体パターンがＰＤＰ用基板の空間（バリアリブ
壁面及びセル底面上）に均一に形成されていない

【０１３５】実施例９及び実施例１０ 実施例８において、実施例１で得られた感光性エレメン
ト（ｉ）を、表９に示した感光性エレメントに代えた以
外は、実施例８と同様にして、蛍光体パターンを形成
し、得られた蛍光体パターンの形成状況を評価し、結果
を表１２に示した。

【０１３６】実施例１１ 実施例８において、実施例１で得られた感光性エレメン
ト（ｉ）を、表１２に示した感光性エレメントに代え、
（III）現像により不要部を除去する工程を、下記に示
すように代えた以外は、実施例８と同様にして、蛍光体
パターンを形成し、得られた蛍光体パターンの形成状況
を評価し、結果を表１２に示した。 〔（III）現像感光性樹脂組成物層を選択的に除去して
パターンを形成する工程〕１重量％炭酸ナトリウム水溶
液を用いて現像した後、さらに、５重量％のホウ砂、２
０重量％のブチルカルビトールの水溶液を用いて現像し
た。

【０１３７】実施例１２ 実施例８において、実施例１で得られた感光性エレメン
ト（ｉ）を、表１２に示した感光性エレメントに代え、
（Ｉ）感光性エレメントを、凹凸を有する基板の凹凸表
面上に、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層が
接するように加熱圧着する工程を、下記に示すように代
えた以外は、実施例８と同様にして、蛍光体パターンを
形成し、得られた蛍光体パターンの形成状況を評価し、
結果を表１２に示した。 〔（Ｉ）感光性エレメントを、凹凸を有する基板の凹凸
表面上に、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
が接するように加熱圧着する工程〕ＰＤＰ用基板（スト
ライプ状のバリアリブ、バリアリブ間の開口幅１５０μ
ｍ、バリアリブの幅７０μｍ、バリアリブの高さ１５０
μｍ：縦１０cm、横１０cm、厚さ３mm）をホットプレー
トにより８０℃で５分間加熱した後、バリアリブが形成
された側に、実施例５で得られた感光性エレメント
（ｖ）のポリエチレンフィルムを剥がしながら、ラミネ
ータ（日立化成工業(株)製、商品名ＨＬＭ−１５００
型）を用いて、ラミネート温度が１１０℃、ラミネート
速度が０．２ｍ／分、圧着圧力（直径４０mmのシリンダ
圧力）が４×１０⁵Pa（線圧９．８×１０³N/m）で積層
した。

【０１３８】実施例１３ 実施例１２において、実施例５で得られた感光性エレメ
ント（ｖ）を、表１２に示した感光性エレメントに代
え、（II）活性光線を像的に照射する工程、（III）現
像により不要部を除去する工程及び（IV）焼成により不
要分を除去する工程を、下記に示すように代えた以外
は、実施例１２と同様にして、蛍光体パターンを形成
し、得られた蛍光体パターンの形成状況を評価し、結果
を表１２に示した。 〔（II）感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射す
る工程〕次いで、感光性エレメント（viii）のポリエチ
レンテレフタレートフィルム上に、活性光線透過幅が１
３０μｍのフォトマスクをバリアリブ間の開口幅の中心
に、フォトマスクの活性光線透過幅の中心が位置するよ
うに密着させて、(株)オーク製作所製、ＨＭＷ−２０１
ＧＸ型露光機を使用し、５００mJ/cm²で活性光線を像的
に照射した。

【０１３９】〔（III）現像により感光性樹脂組成物層
を選択的に除去してパターンを形成する工程〕次いで、
活性光線の照射後、常温で１時間放置した後、１重量％
炭酸ナトリウム水溶液を用いて、３０℃で１００秒間ス
プレー現像した。現像後、８０℃で１０分間乾燥し、東
芝電材(株)製東芝紫外線照射装置を使用して、３J/cm²
の紫外線照射を行った。次いで、１５０℃で１時間、加
熱処理を行った。 〔（IV）前記パターンから焼成により不要分を除去して
蛍光体パターンを形成する工程〕次いで、電気炉にて５
℃／分の昇温速度で昇温し、４７０℃で２０分間加熱処
理（焼成）を行い、不必要な樹脂成分を除去し、ＰＤＰ
用基板の凹部内面に蛍光体パターンを形成させた。

【０１４０】実施例１４ 実施例１３において、実施例６で得られた感光性エレメ
ント（viii）を、表１２に示した感光性エレメントに代
え、（III）現像により不要部を除去する工程を、下記
に示すように代えた以外は、実施例１３と同様にして、
蛍光体パターンを形成し、得られた蛍光体パターンの形
成状況を評価し、結果を表１２に示した。 〔（III）現像により感光性樹脂組成物層を選択的に除
去してパターンを形成する工程〕次いで、活性光線の照
射後、常温で１時間放置した後、３−メチル−３−メト
キシブチルアセテートと水とからなるエマルジョン溶液
（３−メチル−３−メトキシブチルアセテート／水（重
量比）＝２５／７５）を用いて、３０℃で７０秒間スプ
レー現像した。現像後、８０℃で１０分間乾燥し、東芝
電材(株)製東芝紫外線照射装置を使用して、３J/cm²の
紫外線照射を行った。次いで、乾燥機中において、１５
０℃で１時間加熱処理を行った。

【０１４１】比較例３ 実施例８において、実施例１で得られた感光性エレメン
ト（ｉ）を、表１２に示した感光性エレメントに代えた
以外は、実施例８と同様にして、蛍光体パターンを形成
し、得られた蛍光体パターンの形成状況を評価し、結果
を表１２に示した。

【０１４２】

【表１２】

【０１４３】表１１及び表１２の結果から、（Ａ）熱可
塑性樹脂層を設けた本発明の感光性エレメントは、エッ
ジフュージョン性が良好であり、蛍光体パターンの形成
性（ＰＤＰ用基板のバリアリブ壁面及び空間底面上への
埋め込み性）においても良好であることがわかる。これ
と比較して、（Ａ）熱可塑性樹脂層を設けなかった感光
性エレメント（比較例１）は、エッジフュージョン性は
良好であったが、蛍光体パターンの形成性（ＰＤＰ用基
板のバリアリブ壁面及び空間底面上への埋め込み性）
は、劣るものであった。なお、（Ａ）熱可塑性樹脂層を
設けなかった感光性エレメント（比較例２）は、エッジ
フュージョン性が劣り、蛍光体パターンの形成には、不
適な感光性エレメントであった。

【０１４４】実施例１５ 製造例１０において、(Ｙ，Ｇｄ)ＢＯ₃：Ｅｕ １４０
重量部をＢａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅｕ²⁺ １２０重量部に
代えた以外は、製造例１０と同様にして（Ｂ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ−６）を作製し
た。次いで、実施例６において、製造例１０で得られた
（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ
−４）を、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
用溶液（Ｂ−６）に代えた以外は、実施例６と同様にし
て、感光性エレメント（ｘ）を作製した。なお、感光性
エレメント（ｘ）の（Ａ）熱可塑性樹脂層の乾燥後の厚
さは、４３μｍであり、（Ｂ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層の厚さは、６０μｍであった。

【０１４５】次に、製造例１０において、(Ｙ，Ｇｄ)Ｂ
Ｏ₃：Ｅｕ １４０重量部をＺｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ １２
０重量部に代えた以外は、製造例１０と同様にして
（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層用溶液（Ｂ
−７）を作製した。次いで、実施例６において、製造例
１０で得られた（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層用溶液（Ｂ−４）を、（Ｂ）蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層用溶液（Ｂ−７）に代えた以外は、実施
例６と同様にして、感光性エレメント（xi）を作製し
た。なお、感光性エレメント（xi）の（Ａ）熱可塑性樹
脂層の乾燥後の厚さは、４３μｍであり、（Ｂ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層の厚さは、６０μｍであ
った。

【０１４６】次に、実施例１３における（Ｉ）〜（II
I）の工程を行って得られた、１色目の赤色に発色する
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層が形成された基板
を用いて、実施例１３において、実施例６で得られた感
光性エレメント（viii）を感光性エレメント（ｘ）に代
えた以外は、実施例１３と同様にして（Ｉ）〜（III）
の工程を行って、２色目の青色に発色する蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層を形成し、次いで、実施例１３
において、実施例６で得られた感光性エレメント（vii
i）を感光性エレメント（xi）に代えた以外は、実施例
１３と同様にして（Ｉ）〜（III）の工程を行って、３
色目の緑色に発色する蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層を形成して多色のパターンを作製した。次に、得ら
れた多色のパターンを用いて、実施例１３における（I
V）の工程を行い、多色の蛍光体パターンが形成された
ＰＤＰ用背面板を作製した。得られた多色の蛍光体パタ
ーンの断面を、実体顕微鏡及びＳＥＭにより目視にて観
察し、多色の蛍光体パターンの形成状況を評価した結
果、赤、緑及び青に発色する多色の蛍光体パターンがＰ
ＤＰ用背面板の空間（バリアリブ壁面及びセル底面上）
に均一に形成されていることを確認した。

【０１４７】

【発明の効果】請求項１記載の感光性エレメントは、エ
ッジフュージョンの抑制が優れ、この感光性エレメント
を用いて、蛍光体パターンの製造する場合に、ＰＤＰ用
基板の空間への埋め込み性（ＰＤＰ用基板のバリアリブ
壁面及びセル底面上における蛍光体を含有する感光性樹
脂層の形成性）が優れ、高精度で均一な形状の蛍光体パ
ターンを作業性良く形成できるものである。請求項２記
載の感光性エレメントは、請求項１記載の感光性エレメ
ントの効果に加えて、より作業性に優れる。

【０１４８】請求項３記載の蛍光体パターンの製造法
は、作業性、環境安全性及びＰＤＰ用基板の空間への埋
め込み性（ＰＤＰ用基板のバリアリブ壁面及びセル底面
上における蛍光体を含有する感光性樹脂層の形成性）が
優れ、高精度で均一な形状の蛍光体パターンを形成でき
る。請求項４記載の蛍光体パターンの製造法は、請求項
３記載の蛍光体パターンの製造法の効果に加えて、より
作業性に優れる。請求項５記載の蛍光体パターンの製造
法は、請求項３記載の蛍光体パターンの製造法の効果に
加えて、さらに膜べりの抑制に優れる。請求項６記載の
蛍光体パターンの製造法は、請求項３、４又は５記載の
蛍光体パターンの製造法の効果に加えて、より作業性に
優れる。

【０１４９】請求項７記載の蛍光体パターンは、高精度
で均一な形状で輝度の優れたものである。請求項８記載
のプラズマディスプレイパネル用背面板は、高精度で均
一な形状で輝度の優れたものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の蛍光体パターンの製造法の各工程を示
した模式図である。

【図２】本発明の蛍光体パターンの製造法の各工程を示
した模式図である。

【図３】本発明の蛍光体パターンの製造法における、
（Ｉ）工程終了後の一例である。

【図４】蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層からなる
多色パターンを形成した状態を示した模式図である。

【図５】多色の蛍光体パターンを形成した状態を示した
模式図である。

【図６】バリアリブが形成さされたＰＤＰ用基板の一例
を示した模式図である。

【図７】バリアリブが形成さされたＰＤＰ用基板の一例
を示した模式図である。

【図８】本発明のプラズマディスプレイパネル用背面板
一例を示した模式図である。

【符号の説明】

１ …基板 ２ …バリアリブ ３ …熱可塑性樹脂層 ４ …蛍光体を有する感光性樹脂組成物層 ４′…光硬化後の蛍光体を有する感光性樹脂組成物層 ４′ａ…１色目のパターン ４′ｂ…２色目のパターン ４′ｃ…３色目のパターン ５ …加熱ロール ６ …フォトマスク ７ …活性光線 ８ …蛍光体パターン ８ａ…１色目の蛍光体パターン ８ｂ…２色目の蛍光体パターン ８ｃ…３色目の蛍光体パターン ９ …格子状放電空間 １０ …ストライプ状放電空間 １１ …アドレス用電極 １２ …保護膜 １３ …誘電体層 １４ …表示用電極 １５ …前面板用基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５１２ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５１２ 7/027 ５０２ 7/027 ５０２ 7/30 7/30 (72)発明者 田井 誠司 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 和田 有美子 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 丹野 清吉 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社山崎工場内 (72)発明者 角丸 肇 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社山崎工場内

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体フィルム上に、（Ａ）熱可塑性樹
   脂層を有し、その上に（Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹
   脂組成物層を有してなる感光性エレメント。
2. 【請求項２】 （Ｂ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
   物層が、（ａ）フィルム性付与ポリマ、（ｂ）エチレン
   性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、（ｃ）活性
   光の照射により遊離ラジカルを生成する光開始剤及び
   （ｄ）蛍光体を含むものである請求項１記載の感光性エ
   レメント。
3. 【請求項３】 （Ｉ）請求項１又は２記載の感光性エレ
   メントを、凹凸を有する基板の凹凸表面上に、（Ｂ）蛍
   光体を含有する感光性樹脂組成物層が接するように加熱
   圧着する工程、（II）感光性樹脂組成物層に活性光線を
   像的に照射する工程、（III）現像により感光性樹脂組
   成物層を選択的に除去してパターンを形成する工程及び
   （IV）前記パターンから焼成により不要分を除去して蛍
   光体パターンを形成する工程の各工程を含むことを特徴
   とする蛍光体パターンの製造法。
4. 【請求項４】 （Ｉ）〜（III）の各工程を繰り返し
   て、赤、緑及び青に発色する蛍光体を含有する感光性樹
   脂組成物層からなる多色のパターンを形成した後、（I
   V）の工程を行ない多色の蛍光体パターンを形成する請
   求項３記載の蛍光体パターンの製造法。
5. 【請求項５】 （Ｉ）〜（IV）の各工程を繰り返して、
   赤、緑及び青に発色する多色の蛍光体パターンを形成す
   る請求項３記載の蛍光体パターンの製造法。
6. 【請求項６】 （III）現像により感光性樹脂組成物層
   を選択的に除去してパターンを形成する工程において、
   （Ａ） 層及び（Ｂ）層が、同一の現像液を使用して現
   像する請求項３、４又は５記載の蛍光体パターンの製造
   法。
7. 【請求項７】 請求項１、２、３、４、５又は６記載の
   蛍光体パターンの製造法により製造された蛍光体パター
   ン。
8. 【請求項８】 プラズマディスプレイパネル用基板上に
   請求項７記載の蛍光体パターンを備えてなるプラズマデ
   ィスプレイパネル用背面板。