JPH1087622A - 置換−2−スルホニルピリジンの製造方法 - Google Patents

置換−2−スルホニルピリジンの製造方法

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JPH1087622A
JPH1087622A JP23895696A JP23895696A JPH1087622A JP H1087622 A JPH1087622 A JP H1087622A JP 23895696 A JP23895696 A JP 23895696A JP 23895696 A JP23895696 A JP 23895696A JP H1087622 A JPH1087622 A JP H1087622A
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JP
Japan
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substituted
sulfonylpyridine
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JP23895696A
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English (en)
Inventor
Tomoya Kuwayama
知也 桑山
Takashi Hamazaki
高史 濱崎
Goro Asanuma
五朗 浅沼
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Kuraray Co Ltd
Original Assignee
Kuraray Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 医薬、農薬の合成中間体として有用な置換−
2−スルホニルピリジンを工業的に有利に製造する方法
を提供する。 【解決手段】 一般式(I) 【化1】 で示されるスルホニルシアニドと一般式(II) 【化2】 で示されるジエン化合物とを、連続的に反応管中へフィ
ードしながら反応させることを特徴とする一般式(III) 【化3】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、医薬、農薬の合成中間
体として有用な置換−2−スルホニルピリジンの製造方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】置換−2−スルホニルピリジンの製造方
法としては、p−トルエンスルホニルシアニドと1−エ
トキシ−2−メチルブタジエンとを反応させる方法[シ
ンセシス(Synthesis)、8巻、623頁(1989年)
参照]が知られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記の方法はバッチ式
で実施されている。しかしながら、かかる反応は非常に
激しい発熱を伴う反応であるため、バッチ式での反応
は、スケールアップした場合に反応熱の制御が極めて困
難となり、収率低下をきたすという問題点がある。した
がって、上記の方法は、置換−2−スルホニルピリジン
の工業的に優れた製造方法であるとは言い難い。しかし
て、本発明の目的は、極めて大きな発熱反応を制御しな
がら、置換−2−スルホニルピリジンを簡便に、高純度
かつ高収率で工業的に有利に製造する方法を提供するこ
とにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、上記の
目的は、一般式(I)
【0005】
【化4】
【0006】(式中、R1 はアルキル基、シクロアルキ
ル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換
基を有していてもよいアラルキル基を表す。)で示され
るスルホニルシアニド(以下、スルホニルシアニド
(I)と略記する)と一般式(II)
【0007】
【化5】
【0008】(式中、R2 はアシロキシ基、アルコキシ
基または三置換シリルオキシ基を表し、R3 は水素原子
またはアルキル基を表す。)で示されるジエン化合物
(以下、ジエン化合物(II)と略記する)とを、連続的
に反応管中へフィードしながら反応させることを特徴と
する一般式(III)
【0009】
【化6】
【0010】(式中、R1 およびR3 は前記定義のとお
りである。)で示される置換−2−スルホニルピリジン
(以下、置換−2−スルホニルピリジン(III)と略記す
る)の製造方法を提供することにより達成される。
【0011】
【発明の実施の形態】上記一般式中、R1 が表すアルキ
ル基は直鎖状、分岐鎖状のいずれでもよく、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基などが挙げられ
る。R1 が表すシクロアルキル基としては、例えばシク
ロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、
シクロオクチル基などが挙げられる。また、R1 が表す
アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基な
どが挙げられ、アラルキル基としては、例えばベンジル
基、フェネチル基などが挙げられる。これらのアリール
基およびアラルキル基は、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、tert−ブチル基などのアルキル基;メトキシ
基、エトキシ基、プロポキシ基などのアルコキシ基;フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子;メ
トキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキ
シカルボニル基などのアルコキシカルボニル基;シアノ
基;ニトロ基などの置換基を有していてもよい。
【0012】上記一般式中、R2 が表すアシロキシ基と
しては、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ブタノ
イルオキシ基、ピバロイルオキシ基などの脂肪族アシロ
キシ基;ベンゾイルオキシ基などの芳香族アシロキシ基
などが挙げられる。R2 が表すアルコキシ基としては、
メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基な
どが挙げられる。また、三置換シリルオキシ基として
は、トリメチルシリルオキシ基、トリエチルシリルオキ
シ基、トリイソプロピルシリルオキシ基、tert−ブ
チルジメチルシリルオキシ基、tert−ブチルジフェ
ニルシリルオキシ基などが挙げられる。
【0013】上記一般式中、R3 が表すアルキル基とし
ては、R1 が表すと同様の基が挙げられる。
【0014】本発明の反応は、溶媒の存在下または不存
在下にて行うことができる。使用する溶媒としては、反
応に悪影響を与えない限り特に限定されるものではない
が、例えばジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭
素、1,2−ジクロロエタン、1,1,2,2−テトラ
クロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水
素;ベンゼン、トルエン、キシレン、クメン、ヘプタ
ン、オクタンなどの炭化水素;ジエチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジメトキシエタンなどのエーテ
ル;酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル;アセトニ
トリル、プロピオニトリルなどのニトリル;ジメチルホ
ルムアミドなどのアミドなどが挙げられる。溶媒の使用
量はスルホニルシアニド(I)に対して0.5〜10重
量倍の範囲が好ましく、0.5〜1.0重量倍の範囲が
より好ましい。
【0015】本発明の反応は、重合禁止剤の存在下また
は不存在下に行うことができる。重合禁止剤としては、
4−メトキシフェノール、2,6−ジ−tert−ブチ
ル−4−メチルフェノールなどのフェノール;ヒドロキ
ノン、ジ−tert−ブチルヒドロキノンなどのヒドロ
キノン;1−ナフトール、2−ナフトールなどのナフト
ール;カテコール、p−tert−ブチルカテコールな
どのカテコール;フェノチアジン、ジフェニルアミン、
4−アセトキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジンなどのアミンなどが使用される。重合禁止剤の添加
量はジエン化合物(II)の重量の10ppm〜2000
ppmの範囲が好ましく、100ppm〜500ppm
の範囲がより好ましい。
【0016】本発明の反応は、反応管にスルホニルシア
ニド(I)およびジエン化合物(II)をフィードするこ
とにより行う。ジエン化合物(II)の使用量は、スルホ
ニルシアニド(I)1モルに対して0.5〜3モルの範
囲が好ましい。
【0017】反応管中の充填物としては反応に悪影響を
与えない限り特に限定されるものではないが、例えばガ
ラスビーズ、セラミック製イナートボールなどが挙げら
れる。空隙率は10〜100%が好ましい。
【0018】反応温度は0〜180℃の範囲が好まし
く、40〜150℃の範囲がより好ましい。滞留時間は
反応条件により異なるが、通常5〜10分が好ましく、
この時、スルホニルシアニド(I)およびジエン化合物
(II)それぞれの転化率は90〜100%である。
【0019】この様にして得られた置換−2−スルホニ
ルピリジン(III)の反応混合物からの単離精製は、再結
晶法、クロマトグラフィー法などの常法により行うこと
ができる。例えば、反応混合物を冷却し、再結晶したの
ち、濾過、減圧乾燥することにより行う。
【0020】原料となるスルホニルシアニド(I)は、
例えば、対応するスルフィン酸ナトリウムよりオーガニ
ック シンセシス(Organic Synthesis )、57巻、8
8頁(1977年)に記載の方法に従って得ることがで
きる。また、ジエン化合物(II)は、例えば、インダス
トリアル アンド エンジニアリング ケミストリー
(Industrial and Engineering Chemistry)、41巻、
12号、2920頁(1949年)に記載の方法に従っ
て得ることができる。
【0021】本発明により製造される置換−2−スルホ
ニルピリジン(III)は、医薬、農薬の合成中間体として
有用である。例えば、5−メチル−2−スルホニルピリ
ジンは、塩素化剤を作用させることにより容易に2−ク
ロロ−5−クロロメチルピリジンに変換できる。2−ク
ロロ−5−クロロメチルピリジンは、殺虫剤として有用
なニトロメチレン誘導体の合成中間体として有用である
(特開昭60−218386号公報参照)。
【0022】
【実施例】以下に実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定さ
れるものではない。
【0023】実施例1 直径5mmのガラスビーズを充填した反応管(内容積4
00ml、空隙率60%)を100℃に加熱し、該反応
管中へ、1−エトキシ−2−メチルブタジエンのトルエ
ン溶液(40容量%、3.00mol/L)を流速1
6.0ml/分で、またベンゼンスルホニルシアニド
(79容量%、5.96mol/L)を流速8.0ml
/分で、それぞれ8時間フィードした(滞留時間10
分)。流出液を氷冷再結晶し、濾過、冷トルエンにて洗
浄後、減圧乾燥(1〜5mmHg、40℃、10時間)
し、白色結晶として2−ベンゼンスルホニル−5−メチ
ルピリジンを4.52Kg(19.4mol)得た。 収率:84.3% 純度:98.5% m.p.:117〜118℃1 H−NMR(270MHz,CDCl3 ), d 2.40(s, 3H), 7.52-7.60(m, 3H), 7.70(dd, 1H, J=1.8H
z, 8.6Hz), 8.03-8.07(m, 2H), 8.09(d, 1H, J=8.6Hz)
8.50(d, 1H, J=1.8Hz)
【0024】実施例2 反応管(内容積1.0ml、空隙率100%)を80℃
に加熱し、該反応管中へ、1−ブトキシ−2−メチルブ
タジエンのトルエン溶液(45容量%、2.55mol
/L)を流速6.4ml/時間で、またベンゼンスルホ
ニルシアニド(68容量%、5.13mol/L)を流
速3.2ml/時間で、それぞれ1時間フィードした
(滞留時間6.3分)。流出液を氷冷再結晶し、濾過、
冷トルエンにて洗浄後、減圧乾燥(1〜5mmHg、2
5℃、1時間)し、白色結晶として2−ベンゼンスルホ
ニル−5−メチルピリジンを3.29g(14.1mm
ol)得た。 収率:85.0% 純度:98.8%
【0025】実施例3 反応管(内容積1.0ml、空隙率100%)を120
℃に加熱し、該反応管中へ、1−アセトキシ−2−メチ
ルブタジエンのトルエン溶液(65容量%;3.20m
ol/L)を流速3.2ml/時間で、またベンゼンス
ルホニルシアニド(85容量%、6.41mol/L)
を流速1.6ml/時間で、それぞれ2.5時間フィー
ドした(滞留時間12.5分)。流出液を氷冷再結晶
し、濾過、冷ジエチルエーテルにて洗浄後、減圧乾燥
(1〜5mmHg、25℃、1時間)し、白色結晶とし
て2−ベンゼンスルホニル−5−メチルピリジンを4.
64g(19.9mmol)得た。 収率:77.8% 純度:97.8%
【0026】実施例4 反応管(内容積1.0ml、空隙率100%)を120
℃に加熱し、該反応管中へ、1−アセトキシ−3−メチ
ルブタジエンのトルエン溶液(44容量%、3.20m
ol/L)を流速3.2ml/時間で、またベンゼンス
ルホニルシアニド(85容量%、6.41mol/L)
を流速1.6ml/時間で、それぞれ1.0時間フィー
ドした(滞留時間12.5分)。流出液を氷冷再結晶
し、濾過、冷ジエチルエーテルにて洗浄後、減圧乾燥
(1〜5mmHg、25℃、1時間)し、白色結晶とし
て2−ベンゼンスルホニル−4−メチルピリジンを1.
88g(8.06mmol)得た。 収率:79.0% 純度:98.2% m.p.:128〜129℃1 H−NMR(270MHz,CDCl3 ), d 2.47(s, 3H), 7.25(dd, 1H, J=1.6Hz, 4.8Hz), 7.53-7.
62(m, 3H), 8.04-8.08(m, 2H), 8.10(d, 1H, J=1.6Hz)
8.52(d, 1H, J=4.8Hz)
【0027】比較例1 ジムロート冷却管、温度計、メカニカルスターラーを装
備した50ml丸底フラスコ中で、1−アセトキシ−2
−メチルブタジエン10.08g(0.080mol)
およびベンゼンスルホニルシアニド21.37g(0.
128mol)とを混合し、80℃に加熱したのち、反
応熱除去のため冷却しながら60分間攪拌した。反応液
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中に徐々に注ぎ、ジク
ロロメタン100mlで3回抽出した。その後、無水硫
酸ナトリウムにて乾燥し、減圧下において溶媒を除去
し、茶色粘性固体として2−ベンゼンスルホニル−5−
メチルピリジンを32.51g得た。 収率:70.2% 純度:40.3%
【0028】比較例2 ジムロート冷却管、温度計、撹拌子を装備した50ml
丸底フラスコ中で1−ブトキシ−2−メチルブタジエン
5.19g(37.1mmol)およびベンゼンスルホ
ニルシアニド6.19g(37.1mol)とを室温
(25℃)にて混合すると、反応熱により、約30秒で
フラスコの内温は200℃以上にまで上昇した。
【0029】
【発明の効果】本発明によれば、置換−2−スルホニル
ピリジンを簡便に、高純度かつ高収率で工業的に有利に
製造する方法が提供される。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 (式中、R1 はアルキル基、シクロアルキル基、置換基
    を有していてもよいアリール基または置換基を有してい
    てもよいアラルキル基を表す。)で示されるスルホニル
    シアニドと一般式(II) 【化2】 (式中、R2 はアシロキシ基、アルコキシ基または三置
    換シリルオキシ基を表し、R3 は水素原子またはアルキ
    ル基を表す。)で示されるジエン化合物とを、連続的に
    反応管中へフィードしながら反応させることを特徴とす
    る一般式(III) 【化3】 (式中、R1 およびR3 は前記定義のとおりである。)
    で示される置換−2−スルホニルピリジンの製造方法。
JP23895696A 1996-09-10 1996-09-10 置換−2−スルホニルピリジンの製造方法 Pending JPH1087622A (ja)

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