JPH1079117A - 含フッ素化合物、及びこれを用いた磁気記録媒体 - Google Patents
含フッ素化合物、及びこれを用いた磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH1079117A JPH1079117A JP23385296A JP23385296A JPH1079117A JP H1079117 A JPH1079117 A JP H1079117A JP 23385296 A JP23385296 A JP 23385296A JP 23385296 A JP23385296 A JP 23385296A JP H1079117 A JPH1079117 A JP H1079117A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- containing compound
- formula
- fluorine
- compound
- relaxation time
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Polyethers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】吸着状態において潤滑性能の高い含フッ素化合
物、ならびにこれを用いた磁気記録媒体を得る。 【解決手段】直鎖状パーフルオロポリオキシアルキルあ
るいはパーフルオロオキシアルキレン鎖の分子端の片
方、あるいは両方にポリシロキサンオリゴマを有する含
フッ素化合物、及びこれを用いた磁気記録媒体。 【効果】吸着状態においても液体的性質を有し、潤滑性
能の高い含フッ素化合物、ならびにこれを用いた磁気記
録媒体を得ることができる。
物、ならびにこれを用いた磁気記録媒体を得る。 【解決手段】直鎖状パーフルオロポリオキシアルキルあ
るいはパーフルオロオキシアルキレン鎖の分子端の片
方、あるいは両方にポリシロキサンオリゴマを有する含
フッ素化合物、及びこれを用いた磁気記録媒体。 【効果】吸着状態においても液体的性質を有し、潤滑性
能の高い含フッ素化合物、ならびにこれを用いた磁気記
録媒体を得ることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、最外層に保護膜を
有する磁気記録媒体に関する。
有する磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気デイスクの記録密度向上に伴
い、磁気ヘッドと磁気デイスク表面の間隔を狭くする傾
向があり、デイスク表面における摺動条件は接触摺動等
苛酷なものとなっている。従来より摺動特性向上のた
め、潤滑剤としてパーフルオロオキシアルキル基または
パーフルオロオキシアルキレン基を含む分子がデイスク
表面に塗布されている。最外層にカーボン保護膜を有す
るスパッタ型磁気デイスクの場合、カーボン保護膜表面
への潤滑剤分子固定を図るため、パーフルオロオキシア
ルキル分子末端またはパーフルオロオキシアルキレン分
子末端に各種官能基を導入した含フッ素潤滑剤が提案さ
れている。
い、磁気ヘッドと磁気デイスク表面の間隔を狭くする傾
向があり、デイスク表面における摺動条件は接触摺動等
苛酷なものとなっている。従来より摺動特性向上のた
め、潤滑剤としてパーフルオロオキシアルキル基または
パーフルオロオキシアルキレン基を含む分子がデイスク
表面に塗布されている。最外層にカーボン保護膜を有す
るスパッタ型磁気デイスクの場合、カーボン保護膜表面
への潤滑剤分子固定を図るため、パーフルオロオキシア
ルキル分子末端またはパーフルオロオキシアルキレン分
子末端に各種官能基を導入した含フッ素潤滑剤が提案さ
れている。
【０００３】例えば、特開昭61−42727号公報，同58−2
9147号公報，特開平1−4550 号公報にパーフルオロオキ
シアルキル分子末端に−ＳＯ2ＣＨ3，−ＳＯ2Ｆ,−ＣＯ
ＯＨ，−ＯＨを導入した例、特開昭64−9961号公報にカ
ルボン酸アンモニウム塩をパーフルオロオキシアルキル
基に導入した例の開示がある。
9147号公報，特開平1−4550 号公報にパーフルオロオキ
シアルキル分子末端に−ＳＯ2ＣＨ3，−ＳＯ2Ｆ,−ＣＯ
ＯＨ，−ＯＨを導入した例、特開昭64−9961号公報にカ
ルボン酸アンモニウム塩をパーフルオロオキシアルキル
基に導入した例の開示がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】スパッタ型磁気デイス
クのカーボン保護膜表面に対する、これら潤滑剤分子の
吸着機構は完全に解明されている訳ではないが、パーフ
ルオロオキシアルキル基分子末端に導入された官能基
は、カーボン保護膜上と相互作用して、潤滑剤分子を表
面に固定するものと考えられている。
クのカーボン保護膜表面に対する、これら潤滑剤分子の
吸着機構は完全に解明されている訳ではないが、パーフ
ルオロオキシアルキル基分子末端に導入された官能基
は、カーボン保護膜上と相互作用して、潤滑剤分子を表
面に固定するものと考えられている。
【０００５】しかしながら、このような潤滑剤分子は保
護膜に強く固定吸着される為、分子自身の潤滑性能が低
下するという問題点を有する。高い潤滑性能を実現する
には、潤滑剤分子はより液体的でなければならないが、
ジャーナルオブケミカルフィジックス(Journal of Chem
ical Physics）第１００巻８４４４頁乃至８４５３頁
に、一般に固体表面に吸着された高分子は固体的となる
ことが開示されている。高分子の一種である潤滑剤分子
も例外ではない。
護膜に強く固定吸着される為、分子自身の潤滑性能が低
下するという問題点を有する。高い潤滑性能を実現する
には、潤滑剤分子はより液体的でなければならないが、
ジャーナルオブケミカルフィジックス(Journal of Chem
ical Physics）第１００巻８４４４頁乃至８４５３頁
に、一般に固体表面に吸着された高分子は固体的となる
ことが開示されている。高分子の一種である潤滑剤分子
も例外ではない。
【０００６】このため、従来型の潤滑剤分子の場合、潤
滑のため表面より遊離した余剰な潤滑剤分子を常に必要
とする。余剰な潤滑剤分子は、保護膜表面に直接吸着し
ていないため、液体的であり、潤滑機能を有する。しか
し、この余剰な潤滑剤はヘッドとデイスク表面の間隔低
減に障害となっているのみならず、ヘッドとデイスクの
粘着等の原因ともなっている。
滑のため表面より遊離した余剰な潤滑剤分子を常に必要
とする。余剰な潤滑剤分子は、保護膜表面に直接吸着し
ていないため、液体的であり、潤滑機能を有する。しか
し、この余剰な潤滑剤はヘッドとデイスク表面の間隔低
減に障害となっているのみならず、ヘッドとデイスクの
粘着等の原因ともなっている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記問題点は、吸着に関
与する潤滑剤分子末端の熱緩和時間が短いパーフルオロ
オキシアルキル基分子を得ることにより解決される。
東，長倉編「緩和現象の化学」（岩波書店１９７４年）
に一般的に、物質が液体的であるか固体的であるかは、
分子構造の熱ゆらぎの程度を表わす分子時間相関関数の
緩和時間により決定され、緩和時間が短いほど液体的な
性質が強くなることが開示されている。表面に吸着され
た高分子が固体的となるのは、分子−表面間の相互作用
により分子の熱ゆらぎの程度が減少し、緩和時間が長く
なることによる。従って、保護膜に固定吸着された潤滑
剤分子の液体的性質を増大させ、潤滑機能を向上させる
ためには、熱運動の程度が大きく時間相関関数の緩和時
間が短い分子構造を有する潤滑剤を見い出せばよい。
与する潤滑剤分子末端の熱緩和時間が短いパーフルオロ
オキシアルキル基分子を得ることにより解決される。
東，長倉編「緩和現象の化学」（岩波書店１９７４年）
に一般的に、物質が液体的であるか固体的であるかは、
分子構造の熱ゆらぎの程度を表わす分子時間相関関数の
緩和時間により決定され、緩和時間が短いほど液体的な
性質が強くなることが開示されている。表面に吸着され
た高分子が固体的となるのは、分子−表面間の相互作用
により分子の熱ゆらぎの程度が減少し、緩和時間が長く
なることによる。従って、保護膜に固定吸着された潤滑
剤分子の液体的性質を増大させ、潤滑機能を向上させる
ためには、熱運動の程度が大きく時間相関関数の緩和時
間が短い分子構造を有する潤滑剤を見い出せばよい。
【０００８】一方、ジャーナル オブ ケミカル フィ
ジックス（Journal of Chemical Physics)第９２巻，３
８２７頁乃至３８４７頁に、固体表面の高分子構造に及
ぼす影響は局所的であり、その影響は分子端より２乃至
３セグメント程度の領域にとどまることが開示されてい
る。したがって、吸着分子の時間相関関数の緩和時間
は、分子端の緩和時間を短くすることにより、減少可能
であると考えられる。一方、鎖状分子の時間相関関数
は、主鎖を構成する結合の回転ポテンシャル障壁により
決定され、障壁が低いほど熱運動が激しく、時間相関関
数の緩和時間が短い。分子力学計算の結果によれば、パ
ーフルオロオキシアルキル基及びパーフルオロオキシア
ルキレン基を構成するＣＦ2−ＣＦ2結合、ＣＦ2−Ｏ 結
合の回転ポテンシャル障壁がそれぞれ１０ｋcal／mol，
５ｋcal／molであるのに対し、ポリシロキサン主鎖を構
成するＳｉ−Ｏ結合は約２ｋcal／molと低いので、ポリ
シロキサン主鎖の緩和時間はパーフルオロオキシアルキ
ル主鎖のそれよりも短いと考えられる。
ジックス（Journal of Chemical Physics)第９２巻，３
８２７頁乃至３８４７頁に、固体表面の高分子構造に及
ぼす影響は局所的であり、その影響は分子端より２乃至
３セグメント程度の領域にとどまることが開示されてい
る。したがって、吸着分子の時間相関関数の緩和時間
は、分子端の緩和時間を短くすることにより、減少可能
であると考えられる。一方、鎖状分子の時間相関関数
は、主鎖を構成する結合の回転ポテンシャル障壁により
決定され、障壁が低いほど熱運動が激しく、時間相関関
数の緩和時間が短い。分子力学計算の結果によれば、パ
ーフルオロオキシアルキル基及びパーフルオロオキシア
ルキレン基を構成するＣＦ2−ＣＦ2結合、ＣＦ2−Ｏ 結
合の回転ポテンシャル障壁がそれぞれ１０ｋcal／mol，
５ｋcal／molであるのに対し、ポリシロキサン主鎖を構
成するＳｉ−Ｏ結合は約２ｋcal／molと低いので、ポリ
シロキサン主鎖の緩和時間はパーフルオロオキシアルキ
ル主鎖のそれよりも短いと考えられる。
【０００９】そこで本発明では、パーフルオロオキシア
ルキル基あるいはパーフルオロオキシアルキレン基の分
子末端に緩和時間の短いポリシロキサンオリゴマを導入
し、吸着状態の緩和時間を短くして、吸着状態において
も液体的性質を保つようにした。
ルキル基あるいはパーフルオロオキシアルキレン基の分
子末端に緩和時間の短いポリシロキサンオリゴマを導入
し、吸着状態の緩和時間を短くして、吸着状態において
も液体的性質を保つようにした。
【００１０】すなわち、本発明は温度３００Ｋでグラフ
ァイト基板上に吸着した状態での末端間ベクトル時間相
関関数の緩和時間が３５０ピコ秒以下であることを特徴
とする直鎖状の含フッ素化合物に関する。本発明におい
て、グラファイト基板とはｓｐ２型の炭素原子が２次元
的に配列した原子クラスタであり、炭素原子間距離は
１.４Å 、クラスタの大きさは縦１０ｎｍ，横１０ｎｍ
である。
ァイト基板上に吸着した状態での末端間ベクトル時間相
関関数の緩和時間が３５０ピコ秒以下であることを特徴
とする直鎖状の含フッ素化合物に関する。本発明におい
て、グラファイト基板とはｓｐ２型の炭素原子が２次元
的に配列した原子クラスタであり、炭素原子間距離は
１.４Å 、クラスタの大きさは縦１０ｎｍ，横１０ｎｍ
である。
【００１１】前記の緩和時間は、分子力場ＣＶＦＦを用
い、Biosym Technologies Inc.製分子動力学計算プログ
ラムDiscover Version ２.９を用いて算出される緩和時
間であることを特徴とする。また、前記の直鎖状の含フ
ッ素化合物は、その分子末端部がシロキサンオリゴマで
あり、（化１）及び（化２）で表される含フッ素化合物
である。また、本発明は非磁性支持体上に磁性層を有
し、少なくともその最外層に前記の直鎖状の含フッ素化
合物からなる膜を設けたことを特徴とする磁気記録媒
体、及び直鎖状のフッ素化合物からなる膜厚が３０ｎｍ
以下であることを特徴とする、磁気記録媒体に関する。
い、Biosym Technologies Inc.製分子動力学計算プログ
ラムDiscover Version ２.９を用いて算出される緩和時
間であることを特徴とする。また、前記の直鎖状の含フ
ッ素化合物は、その分子末端部がシロキサンオリゴマで
あり、（化１）及び（化２）で表される含フッ素化合物
である。また、本発明は非磁性支持体上に磁性層を有
し、少なくともその最外層に前記の直鎖状の含フッ素化
合物からなる膜を設けたことを特徴とする磁気記録媒
体、及び直鎖状のフッ素化合物からなる膜厚が３０ｎｍ
以下であることを特徴とする、磁気記録媒体に関する。
【００１２】本発明により、表面に吸着した状態におい
ても時間相関関数の緩和時間が短く潤滑機能を有する含
フッ素化合物、およびそれを用いた磁気記録媒体を得る
ことができる。
ても時間相関関数の緩和時間が短く潤滑機能を有する含
フッ素化合物、およびそれを用いた磁気記録媒体を得る
ことができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施例により具体
的に説明するが、本発明は以下の実施例に拘束されな
い。
的に説明するが、本発明は以下の実施例に拘束されな
い。
【００１４】（実施例１）下記（化３），（化４），
（化５），（化６），（化７），（化８）及び（化１
１）により表される分子がグラファイト上へ吸着した状
態での末端間ベクトル時間相関関数の緩和時間を分子動
力学法により計算した結果を示す。
（化５），（化６），（化７），（化８）及び（化１
１）により表される分子がグラファイト上へ吸着した状
態での末端間ベクトル時間相関関数の緩和時間を分子動
力学法により計算した結果を示す。
【００１５】
【化３】 ＣＨ3−［Ｓｉ(ＣＨ3)2−Ｏ］2−ＣＨ2−Ｒｆ１ …（化３）
【００１６】
【化４】 ＣＨ3−［Ｓｉ(ＣＨ3)2−Ｏ］5−ＣＨ2−Ｒｆ１ …（化４）
【００１７】
【化５】 ［ＣＨ3−［Ｓｉ(ＣＨ3)2−Ｏ］2−ＣＨ2］2−Ｒｆ２ …（化５）
【００１８】
【化６】 ［ＣＨ3−［Ｓｉ(ＣＨ3)2−Ｏ］5−ＣＨ2］2−Ｒｆ２ …（化６）
【００１９】
【化７】 Ｃ6Ｈ5−［Ｓｉ(ＣＨ3)2−Ｏ］3−ＣＨ2−Ｒｆ１ …（化７）
【００２０】
【化８】 Ｃ6Ｈ5−［Ｓｉ(ＣＨ3)2−Ｏ］3−ＣＨ2］2−Ｒｆ２ …（化８） ここで、Ｒｆ１はそれぞれ下記（化９）により表わされ
る、Du Pont 社製品であるクライトックス型パーフルオ
ロオキシアルキル基で、Ｒｆ２は（化１０）により表わ
される、Montefluos社製品であるフォンブリン型パーフ
ルオロオキシアルキレン基である。
る、Du Pont 社製品であるクライトックス型パーフルオ
ロオキシアルキル基で、Ｒｆ２は（化１０）により表わ
される、Montefluos社製品であるフォンブリン型パーフ
ルオロオキシアルキレン基である。
【００２１】
【化９】 ＣＦ3［ＣＦ(ＣＦ3)−ＣＦ2−Ｏ］30− …（化９）
【００２２】
【化１０】 −［(ＣＦ2ＣＦ2)15(ＯＣＦ2)15］− …（化１０） ここで（化３),（化４）は（化１）においてｎの値がそ
れぞれ２，５の分子、（化５),（化６）は（化２）にお
いてｎの値がそれぞれ２，５の分子である。
れぞれ２，５の分子、（化５),（化６）は（化２）にお
いてｎの値がそれぞれ２，５の分子である。
【００２３】（化１１）はクライトックス型のパーフル
オロオキシアルキル分子である。
オロオキシアルキル分子である。
【００２４】
【化１１】 Ｆ−［ＣＦ(ＣＦ3)−ＣＦ2−Ｏ］29−ＣＦ(ＣＦ3)−ＣＨ2ＯＨ…（化１１） （数１）に、末端間ベクトル時間相関関数Φの定義を、
図１に末端間ベクトルｕの定義を示す。
図１に末端間ベクトルｕの定義を示す。
【００２５】
【数１】
【００２６】（数１）において、ｕ（ｔ）は分子動力学
法により算出される時刻ｔにおける末端間ベクトル、ｕ
（ｔ）・ｕ（０）は末端間ベクトルｕ（ｔ）とｕ（０）
の内積、＜＞は統計平均を意味する。十分な統計平均を
行った場合、時間相関関数は（数２）のように、指数関
数の形をとることが知られており、緩和時間はτで与え
られる。
法により算出される時刻ｔにおける末端間ベクトル、ｕ
（ｔ）・ｕ（０）は末端間ベクトルｕ（ｔ）とｕ（０）
の内積、＜＞は統計平均を意味する。十分な統計平均を
行った場合、時間相関関数は（数２）のように、指数関
数の形をとることが知られており、緩和時間はτで与え
られる。
【００２７】
【数２】 Φ＝exp(−ｔ／τ) …（数２） 分子動力学計算は、Biosym Technologies Inc.製分子動
力学計算プログラムDiscover ２.８，分子力場ＣＶＦＦ
を用いて行った。グラファイト表面は各辺が１０ｎｍの
正方形状クラスタによりモデル化し、クラスタ上に吸着
した分子の運動を算出した。動力学計算は速度スケーリ
ング法を用い、温度３００Ｋにおいて行った。動力学計
算の時間ステップは１ｆｓとした。末端間ベクトル時間
相関関数（数１）の統計平均計算は、熱平衡状態におい
て時間原点の設定が任意であることを利用した時間平均
により行い、平均操作数を１万とした。緩和時間は、
（数１）の時間相関関数を指数関数（数２）により最小
二乗近似して求めた。
力学計算プログラムDiscover ２.８，分子力場ＣＶＦＦ
を用いて行った。グラファイト表面は各辺が１０ｎｍの
正方形状クラスタによりモデル化し、クラスタ上に吸着
した分子の運動を算出した。動力学計算は速度スケーリ
ング法を用い、温度３００Ｋにおいて行った。動力学計
算の時間ステップは１ｆｓとした。末端間ベクトル時間
相関関数（数１）の統計平均計算は、熱平衡状態におい
て時間原点の設定が任意であることを利用した時間平均
により行い、平均操作数を１万とした。緩和時間は、
（数１）の時間相関関数を指数関数（数２）により最小
二乗近似して求めた。
【００２８】表１に計算結果を示す。（化３）乃至（化
８）により表される、本発明の含フッ素分子は分子末端
部にフレキシブルなシロキサンオリゴマを有するため、
緩和時間が（化１１）のクライトックス型パーフルオロ
オキシアルキル分子のそれ（９６０ピコ秒）と比較して
短く、吸着状態でより液体的な性質を示すことが確認で
きた。
８）により表される、本発明の含フッ素分子は分子末端
部にフレキシブルなシロキサンオリゴマを有するため、
緩和時間が（化１１）のクライトックス型パーフルオロ
オキシアルキル分子のそれ（９６０ピコ秒）と比較して
短く、吸着状態でより液体的な性質を示すことが確認で
きた。
【００２９】
【表１】
【００３０】（実施例２）本実施例では（化１２）の合
成について記載する。（化１２）の化合物は、（化１）
においてｎが５の化合物である。
成について記載する。（化１２）の化合物は、（化１）
においてｎが５の化合物である。
【００３１】
【化１２】 Ｒｆ−ＣＨ2−［Ｏ−Ｓｉ(ＣＨ3)2］5−ＣＨ3 …（化１２） ここで、Ｒｆはパーフルオロオキシアルキル基である。
【００３２】（化１２）の化合物は（化１３）の１−ペ
ンタジメチルシロキサノールとダイキン工業社製DEMNUM
のＳＡ（分子量約４０００）を反応させて得られる。
ンタジメチルシロキサノールとダイキン工業社製DEMNUM
のＳＡ（分子量約４０００）を反応させて得られる。
【００３３】
【化１３】 ＣＨ3−［Ｓｉ(ＣＨ3)2−Ｏ］5−Ｈ …（化１３） 最初に１−ペンタジメチルシロキサノール（化１３）の
合成方法について示す。１−ペンタジメチルシロキサノ
ールは、マクロモキュルス（Macromolecules）第２０
巻，２３４５頁乃至２３５５頁に記載されている方法に
より合成した。
合成方法について示す。１−ペンタジメチルシロキサノ
ールは、マクロモキュルス（Macromolecules）第２０
巻，２３４５頁乃至２３５５頁に記載されている方法に
より合成した。
【００３４】次に（化１２）の化合物の合成法について
記述する。ＳＡ（１０重量部）を３Ｍ社製フッ素系溶剤
ＦＣ−７０（１００重量部）に溶解した後、溶液にトリ
ブチルアミン(Aldrich社製）を加え常温で撹拌する。こ
れに上記反応で得た１−ペンタジメチルシロキサノール
（１重量部）を加え、常温で２時間、引き続きオイルバ
スを用いて１７０℃で１０時間撹拌する。撹拌後常温に
て２４時間放置すると２層に分離する。上層（トリブチ
ルアミン層）を除去後、下層(ＦＣ−７０層)をＧ２フィ
ルターでろ過し、ろ過液中のＦＣ−７０をエバポレータ
で揮発させ、さらに真空ポンプで完全に揮発させること
により（化１２）により表わされる目的の化合物（１０
重量部）を得た。図２にそのＩＲスペクトルを示す。
記述する。ＳＡ（１０重量部）を３Ｍ社製フッ素系溶剤
ＦＣ−７０（１００重量部）に溶解した後、溶液にトリ
ブチルアミン(Aldrich社製）を加え常温で撹拌する。こ
れに上記反応で得た１−ペンタジメチルシロキサノール
（１重量部）を加え、常温で２時間、引き続きオイルバ
スを用いて１７０℃で１０時間撹拌する。撹拌後常温に
て２４時間放置すると２層に分離する。上層（トリブチ
ルアミン層）を除去後、下層(ＦＣ−７０層)をＧ２フィ
ルターでろ過し、ろ過液中のＦＣ−７０をエバポレータ
で揮発させ、さらに真空ポンプで完全に揮発させること
により（化１２）により表わされる目的の化合物（１０
重量部）を得た。図２にそのＩＲスペクトルを示す。
【００３５】（実施例３）本実施例では、（化１４）の
合成について記載する。（化１４）の化合物は（化１）
においてｎが２の化合物である。
合成について記載する。（化１４）の化合物は（化１）
においてｎが２の化合物である。
【００３６】
【化１４】 Ｒｆ−ＣＨ2−［Ｏ−Ｓｉ(ＣＨ3)2］2−ＣＨ3 …（化１４） ここで、Ｒｆはパーフルオロオキシアルキル基である。
【００３７】（化１４）の化合物は（化１５）の１−ジ
ジメチルシロキサノールとダイキン工業社製DEMNUM Ｓ
Ａ（分子量約４０００）と反応させて得ることができ
る。
ジメチルシロキサノールとダイキン工業社製DEMNUM Ｓ
Ａ（分子量約４０００）と反応させて得ることができ
る。
【００３８】
【化１５】 ＣＨ3−［Ｓｉ(ＣＨ3)2−Ｏ］2−Ｈ …（化１５） １−ジジメチルシロキサノールは、実施例２と同様、マ
クロモキュルス（Macromolecules) 第２０巻，２３４５
頁乃至２３５５頁に記載されている方法により合成し
た。
クロモキュルス（Macromolecules) 第２０巻，２３４５
頁乃至２３５５頁に記載されている方法により合成し
た。
【００３９】（化１４）の化合物は、１−ジメチルジシ
ロキサノール（０.５ 重量部）を用いる以外は、実施例
１に記載の（化１２）合成法と同様の方法で得られた。
得られた（化１４）の化合物は１０重量部であった。
ロキサノール（０.５ 重量部）を用いる以外は、実施例
１に記載の（化１２）合成法と同様の方法で得られた。
得られた（化１４）の化合物は１０重量部であった。
【００４０】（化１４）の化合物のＩＲスペクトルは、
（化１２）のスペクトル（図２）とほぼ同様であった。
（化１２）のスペクトル（図２）とほぼ同様であった。
【００４１】（実施例４）本実施例では、（化１６）の
化合物の合成について記載する。（化１６）の化合物は
（化１）においてｎが５、ｍが２の化合物である。
化合物の合成について記載する。（化１６）の化合物は
（化１）においてｎが５、ｍが２の化合物である。
【００４２】
【化１６】 ［ＣＨ3−［Ｓｉ(ＣＨ3)2−Ｏ］5−ＣＨ2］2−Ｒｆ２ …（化１６） ここで、Ｒｆ２はパーフルオロオキシアルキレン基であ
る。
る。
【００４３】（化１６）の化合物は、（化１３）の１−
ペンタジメチルシロキサノールとMontefluos社製Fombli
n Ｚ−ＤＯＬ(分子量約２０００）と反応させることに
より得られる。１−ペンタジメチルシロキサノールは、
実施例２記載の方法により合成した。
ペンタジメチルシロキサノールとMontefluos社製Fombli
n Ｚ−ＤＯＬ(分子量約２０００）と反応させることに
より得られる。１−ペンタジメチルシロキサノールは、
実施例２記載の方法により合成した。
【００４４】（化１６）の化合物合成法について記述す
る。Ｚ−ＤＯＬ（５重量部）を３Ｍ社製フッ素系溶剤Ｆ
Ｃ−７５（１００重量部）に溶解した後、溶液にトリブ
チルアミン(Aldrich社製）を加え常温で撹拌する。これ
に上記反応で得た１−ペンタジメチルシロキサノール
（２重量部）を加え、常温で２時間、引き続きウオータ
ーバスを用いて１００℃で２４時間撹拌する。撹拌後常
温にて２４時間放置すると２層に分離する。上層（トリ
ブチルアミン層）を除去後、下層(ＦＣ−７５層)をＧ２
フィルターでろ過し、ろ過液中のＦＣ−７５をエバポレ
ータで揮発させ、さらに真空ポンプで完全に揮発させる
ことにより（化１６）により表わされる目的の化合物
（５重量部）を得た。図３にそのＩＲスペクトルを示
す。
る。Ｚ−ＤＯＬ（５重量部）を３Ｍ社製フッ素系溶剤Ｆ
Ｃ−７５（１００重量部）に溶解した後、溶液にトリブ
チルアミン(Aldrich社製）を加え常温で撹拌する。これ
に上記反応で得た１−ペンタジメチルシロキサノール
（２重量部）を加え、常温で２時間、引き続きウオータ
ーバスを用いて１００℃で２４時間撹拌する。撹拌後常
温にて２４時間放置すると２層に分離する。上層（トリ
ブチルアミン層）を除去後、下層(ＦＣ−７５層)をＧ２
フィルターでろ過し、ろ過液中のＦＣ−７５をエバポレ
ータで揮発させ、さらに真空ポンプで完全に揮発させる
ことにより（化１６）により表わされる目的の化合物
（５重量部）を得た。図３にそのＩＲスペクトルを示
す。
【００４５】（実施例５）本実施例では、（化１７）の
合成について記載する。（化１７）の化合物は（化２）
においてｎが２、ｍが２の化合物である。
合成について記載する。（化１７）の化合物は（化２）
においてｎが２、ｍが２の化合物である。
【００４６】
【化１７】 ＣＨ3−［Ｓｉ(ＣＨ3)2−Ｏ］2−ＣＨ2−Ｒｆ−ＣＨ2 −［Ｏ−Ｓｉ(ＣＨ3)2］2−ＣＨ3 …（化１７） ここで、Ｒｆはパーフルオロオキシアルキレン基であ
る。
る。
【００４７】（化１７）の化合物は、１−ジジメチルシ
ロキサノールとMontefluos社製Fomblin Ｚ−ＤＯＬ
（分子量約２０００）と反応させることにより得られ
る。１−ジジメチルシロキサノールは、実施例３記載の
方法により合成した。
ロキサノールとMontefluos社製Fomblin Ｚ−ＤＯＬ
（分子量約２０００）と反応させることにより得られ
る。１−ジジメチルシロキサノールは、実施例３記載の
方法により合成した。
【００４８】（化１７）の化合物は、１−ペンタジメチ
ルシロキサノールの代わりに、１−ジメチルシロキサノ
ール（１重量部）を用いる以外は、実施例１に記載した
（化１２）の合成法と同様の方法で得られた。得られた
（化１７）の化合物は５重量部であった。
ルシロキサノールの代わりに、１−ジメチルシロキサノ
ール（１重量部）を用いる以外は、実施例１に記載した
（化１２）の合成法と同様の方法で得られた。得られた
（化１７）の化合物は５重量部であった。
【００４９】（化１７）の化合物のＩＲスペクトルは、
（化１２）のスペクトル（図３）とほぼ同様であった。
（化１２）のスペクトル（図３）とほぼ同様であった。
【００５０】（実施例６）本実施例では、（化１８）の
合成について記載する。
合成について記載する。
【００５１】
【化１８】 Ｒｆ−ＣＨ2−［Ｏ−Ｓｉ(ＣＨ3)2］3−Ｃ6Ｈ5 …（化１８） ここで、Ｒｆはパーフルオロオキシアルキル基である。
【００５２】(化１８）は、(化１９）により表わされる
化合物Ａをダイキン工業社製DEMNUMSA（分子量約４００
０）と反応させることにより得られる。
化合物Ａをダイキン工業社製DEMNUMSA（分子量約４００
０）と反応させることにより得られる。
【００５３】
【化１９】 Ｃ6Ｈ5−［Ｓｉ(ＣＨ3)2−Ｏ］3−Ｈ …（化１９） （化１９）の化合物は、ツァイトシュリフト フュア
アンオルガニッシェウント アルゲマイネ へミー（Ze
itschrift fuer Anorganische und Allgemeine Chemie)
第４９４巻，１６６乃至１７８頁記載の方法により合成
した。
アンオルガニッシェウント アルゲマイネ へミー（Ze
itschrift fuer Anorganische und Allgemeine Chemie)
第４９４巻，１６６乃至１７８頁記載の方法により合成
した。
【００５４】（化１９）の化合物の合成法について記載
する。ＳＡ（１０重量部）を３Ｍ社製フッ素系溶剤ＦＣ
−７０（１００重量部）に溶解した後、溶液にトリブチ
ルアミン(Aldrich社製）を加え常温で撹拌する。これに
上記反応で得た化合物（１重量部）を加え、常温で２時
間、引き続きオイルバスを用いて１７０℃で１０時間撹
拌する。撹拌後常温にて２４時間放置すると２層に分離
する。上層（トリブチルアミン層）を除去後、下層（Ｆ
Ｃ−７０層）をＧ２フィルターでろ過し、ろ過液中のＦ
Ｃ−７０をエバポレータで揮発させ、さらに真空ポンプ
で完全に揮発させることにより（化１８）により表わさ
れる目的の化合物（１０重量部）を得た。図４はそのＩ
Ｒスペクトルである。
する。ＳＡ（１０重量部）を３Ｍ社製フッ素系溶剤ＦＣ
−７０（１００重量部）に溶解した後、溶液にトリブチ
ルアミン(Aldrich社製）を加え常温で撹拌する。これに
上記反応で得た化合物（１重量部）を加え、常温で２時
間、引き続きオイルバスを用いて１７０℃で１０時間撹
拌する。撹拌後常温にて２４時間放置すると２層に分離
する。上層（トリブチルアミン層）を除去後、下層（Ｆ
Ｃ−７０層）をＧ２フィルターでろ過し、ろ過液中のＦ
Ｃ−７０をエバポレータで揮発させ、さらに真空ポンプ
で完全に揮発させることにより（化１８）により表わさ
れる目的の化合物（１０重量部）を得た。図４はそのＩ
Ｒスペクトルである。
【００５５】（実施例７）本実施例では、含フッ素化合
物（化２０）の合成について記載する。
物（化２０）の合成について記載する。
【００５６】
【化２０】 ［Ｃ6Ｈ5−［［Ｓｉ(ＣＨ3)2−Ｏ］3−ＣＨ2］2−Ｒｆ２ …（化２０） ここで、Ｒｆはパーフルオロオキシアルキレン基であ
る。
る。
【００５７】（化２０）の化合物は、（化１９）により
表わされる化合物とMontefluos社製Fomblin Ｚ−ＤＯ
Ｌ(分子量約２０００）と反応させることにより得られ
る。
表わされる化合物とMontefluos社製Fomblin Ｚ−ＤＯ
Ｌ(分子量約２０００）と反応させることにより得られ
る。
【００５８】（化１９）は実施例６記載の方法により合
成した。（化２０）の化合物合成は、１−ペンタジメチ
ルシロキサノールの代わりに（化１９）（２重量部）を
用いる以外は実施例４に記載した（化１６）の化合物合
成と同様であり、目的物である（化２０）の５重量部を
得た。図５はそのＩＲスペクトルである。
成した。（化２０）の化合物合成は、１−ペンタジメチ
ルシロキサノールの代わりに（化１９）（２重量部）を
用いる以外は実施例４に記載した（化１６）の化合物合
成と同様であり、目的物である（化２０）の５重量部を
得た。図５はそのＩＲスペクトルである。
【００５９】（実施例８）５.２５ インチのＡｌ合金デ
イスク表面のＮｉ−Ｐ層の上にＣｏ層を設け、その上に
Ｎｉ−Ｃｏ系の磁性層を５０ｎｍの厚さにスパッタ蒸着
し、さらにカーボンからなる保護層を５０ｎｍの厚さに
製膜したデイスクを用意する。（化１２）,（化１４）,
（化１６）,（化１７）,（化１８）、および（化２０）
により表わされる本発明の含フッ素化合物をそれぞれ３
Ｍ社製フッ素系溶剤ＦＣ−７２溶液に溶解し０.１ｗｔ
％ 溶液を作製する。デイスクを溶液に１分間浸漬し、
その後引き上げ速度１mm／ｓで引き上げ、室温に２時間
放置して溶剤を揮発させ、本発明の含フッ素化合物の膜
を表面に形成したデイスクを作成した。潤滑膜厚は6.9
ｎｍ である。
イスク表面のＮｉ−Ｐ層の上にＣｏ層を設け、その上に
Ｎｉ−Ｃｏ系の磁性層を５０ｎｍの厚さにスパッタ蒸着
し、さらにカーボンからなる保護層を５０ｎｍの厚さに
製膜したデイスクを用意する。（化１２）,（化１４）,
（化１６）,（化１７）,（化１８）、および（化２０）
により表わされる本発明の含フッ素化合物をそれぞれ３
Ｍ社製フッ素系溶剤ＦＣ−７２溶液に溶解し０.１ｗｔ
％ 溶液を作製する。デイスクを溶液に１分間浸漬し、
その後引き上げ速度１mm／ｓで引き上げ、室温に２時間
放置して溶剤を揮発させ、本発明の含フッ素化合物の膜
を表面に形成したデイスクを作成した。潤滑膜厚は6.9
ｎｍ である。
【００６０】このデイスクの摺動特性をＣＳＳ（コンタ
クトスタートストップ）試験法により評価した。測定は
小野田セメント(株)製試験機を用い、条件を回転数３６
００rpm ，１サイクル３０秒，最終サイクル数１０００
サイクル，ヘッド荷重１０ｇとして行い、最終サイクル
のステイクション時の摩擦力を評価した。比較のため、
（化２１）ならびにMontefluos社製潤滑剤AM2001につい
ても評価を行った。
クトスタートストップ）試験法により評価した。測定は
小野田セメント(株)製試験機を用い、条件を回転数３６
００rpm ，１サイクル３０秒，最終サイクル数１０００
サイクル，ヘッド荷重１０ｇとして行い、最終サイクル
のステイクション時の摩擦力を評価した。比較のため、
（化２１）ならびにMontefluos社製潤滑剤AM2001につい
ても評価を行った。
【００６１】
【化２１】 ＣＦ3(ＣＦ2）１６ＣＯＯ−ＮＨ4 + …（化２１） さらに、これらの表面改質剤の吸着能力を熱飛散特性で
評価し、加熱による膜厚減少率を測定した。加熱温度は
１００℃とし、１００時間後の膜厚を測定し膜厚減少率
を評価した。
評価し、加熱による膜厚減少率を測定した。加熱温度は
１００℃とし、１００時間後の膜厚を測定し膜厚減少率
を評価した。
【００６２】その結果を表２に示す。
【００６３】この結果より、本発明の含フッ素化合物の
膜を表面に有するデイスク表面の摺動特性は非常に高い
ことが判明した。また、本発明の含フッ素化合物は熱飛
散性が低く、優れた吸着性を有し、潤滑性を向上させる
表面改質剤としても作用することがわかった。
膜を表面に有するデイスク表面の摺動特性は非常に高い
ことが判明した。また、本発明の含フッ素化合物は熱飛
散性が低く、優れた吸着性を有し、潤滑性を向上させる
表面改質剤としても作用することがわかった。
【００６４】
【表２】
【００６５】（実施例９）５.２５ インチのＡｌ合金デ
イスク表面にＮｉ−Ｐ層を、その上にＣｏ層を設け、こ
の上にＮｉ−Ｃｏ系の磁性層を５０ｎｍの厚さにスパッ
タ蒸着し、さらに５０ｎｍのカーボン膜を形成した磁性
層つきデイスクを用意する。次に、（化１２）の化合物
を３Ｍ社製フッ素系溶剤ＦＣ−７２溶液に０.１５，０.
２０，０.２５，０.３ｗｔ％濃度で溶解した溶液を準備
し、この溶液に上記デイスクを浸潤してデイスク表面に
化合物を塗布した。浸潤条件は、浸潤時間１分，引き上
げ速度１mm／sec とした。デイスク表面上の分子膜厚を
赤外分光法（高感度反射法）により求めた。赤外分光測
定はパーキンエルマー製１７２０Ｘ型フーリエ変換赤外
分光装置により行った。その結果、分子膜厚は各濃度に
おいて７.１，9.8，１４.５，３３.３ｎｍであった。各
膜厚でのデイスク表面の摺動特性をＣＳＳ（コンタクト
スタートストップ）法により評価した。ＣＳＳ測定条件
は実施例８と同じである。結果を表３に示す。その結果
３２.５ｎｍ の膜厚では、初期接線力が３０ｇと大き
く、ＣＳＳ特性を評価できなかった。従って、磁気記録
媒体としては３０ｎｍ以下の分子膜厚で優れたＣＳＳ特
性を示した。
イスク表面にＮｉ−Ｐ層を、その上にＣｏ層を設け、こ
の上にＮｉ−Ｃｏ系の磁性層を５０ｎｍの厚さにスパッ
タ蒸着し、さらに５０ｎｍのカーボン膜を形成した磁性
層つきデイスクを用意する。次に、（化１２）の化合物
を３Ｍ社製フッ素系溶剤ＦＣ−７２溶液に０.１５，０.
２０，０.２５，０.３ｗｔ％濃度で溶解した溶液を準備
し、この溶液に上記デイスクを浸潤してデイスク表面に
化合物を塗布した。浸潤条件は、浸潤時間１分，引き上
げ速度１mm／sec とした。デイスク表面上の分子膜厚を
赤外分光法（高感度反射法）により求めた。赤外分光測
定はパーキンエルマー製１７２０Ｘ型フーリエ変換赤外
分光装置により行った。その結果、分子膜厚は各濃度に
おいて７.１，9.8，１４.５，３３.３ｎｍであった。各
膜厚でのデイスク表面の摺動特性をＣＳＳ（コンタクト
スタートストップ）法により評価した。ＣＳＳ測定条件
は実施例８と同じである。結果を表３に示す。その結果
３２.５ｎｍ の膜厚では、初期接線力が３０ｇと大き
く、ＣＳＳ特性を評価できなかった。従って、磁気記録
媒体としては３０ｎｍ以下の分子膜厚で優れたＣＳＳ特
性を示した。
【００６６】
【表３】
【００６７】
【発明の効果】吸着状態においても潤滑性が高く表面改
質能を有する含フッ素化合物、ならびにこれを用いた磁
気記録媒体を提供することが可能となった。
質能を有する含フッ素化合物、ならびにこれを用いた磁
気記録媒体を提供することが可能となった。
【図１】末端間ベクトルの定義図である。
【図２】（化１２）の化合物のＩＲスペクトルである。
【図３】（化１６）の化合物のＩＲスペクトルである。
【図４】（化１８）の化合物のＩＲスペクトルである。
【図５】（化２０）の化合物のＩＲスペクトルである。
１…分子主鎖、２…主鎖を構成する原子団。
Claims (7)
- 【請求項１】温度３００Ｋでグラファイト基板上に吸着
した状態での末端間ベクトル時間相関関数の緩和時間
が、３５０ピコ秒以下であることを特徴とする直鎖状の
含フッ素化合物。 - 【請求項２】請求項１記載の緩和時間は、分子力場ＣＶ
ＦＦを用いBiosym Tchnologies Inc．製分子動力学計算
プログラムDiscover Version ２.９を用いて算出される
緩和時間であることを特徴とする直鎖状の含フッ素化合
物。 - 【請求項３】請求項１記載の直鎖状の含フッ素化合物
は、その分子末端部がシロキサンオリゴマであることを
特徴とする直鎖状の含フッ素化合物。 - 【請求項４】請求項１記載の直鎖状の含フッ素化合物
は、下記（化１）で表される含フッ素化合物。 【化１】 ［ＣＨ3−［Ｓｉ(ＣＨ3)2−Ｏ］n−ＣＨ2］m−Ｒｆ …（化１） 式中、ｎは２乃至５、ｍは１乃至２の整数であり、Ｒｆ
は平均分子量８００以上のパーフルオロオキシアルキル
基またはパーフルオロオキシアルキレン基である。 - 【請求項５】請求項１記載の直鎖状の含フッ素化合物
は、下記（化２）で表わされる含フッ素化合物。 【化２】 ［Ｃ6Ｈ5−［Ｓｉ(ＣＨ3)2−Ｏ］3−ＣＨ2］m−Ｒｆ …（化２） 式中、ｍは１乃至２の整数であり、Ｒｆは平均分子量８
００以上のパーフルオロオキシアルキル基あるいはパー
フルオロオキシアルキレン基である。 - 【請求項６】非磁性支持体上に磁性層を有し、少なくと
もその最外層に請求項４，５，６，７記載の直鎖状の含
フッ素化合物からなる膜を設けたことを特徴とする磁気
記録媒体。 - 【請求項７】直鎖状の含フッ素化合物からなる膜厚が３
０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項６記載の磁気
記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23385296A JPH1079117A (ja) | 1996-09-04 | 1996-09-04 | 含フッ素化合物、及びこれを用いた磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23385296A JPH1079117A (ja) | 1996-09-04 | 1996-09-04 | 含フッ素化合物、及びこれを用いた磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1079117A true JPH1079117A (ja) | 1998-03-24 |
Family
ID=16961591
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23385296A Pending JPH1079117A (ja) | 1996-09-04 | 1996-09-04 | 含フッ素化合物、及びこれを用いた磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1079117A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022028307A (ja) * | 2020-08-03 | 2022-02-16 | 信越化学工業株式会社 | 両末端シラノール変性パーフルオロポリエーテル化合物およびその製造方法 |
-
1996
- 1996-09-04 JP JP23385296A patent/JPH1079117A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2022028307A (ja) * | 2020-08-03 | 2022-02-16 | 信越化学工業株式会社 | 両末端シラノール変性パーフルオロポリエーテル化合物およびその製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4137447B2 (ja) | ホスファゼン化合物およびこれを含有する潤滑剤 | |
| EP3318553B1 (en) | Fullerene derivative and lubricant | |
| US20090291325A1 (en) | Phosphazene Compound, Lubricant and Magentic Recording Medium Having Such Compound, Method of Preparation, and Method of Lubrication | |
| JPH0883423A (ja) | 磁気ディスク | |
| JP5327855B2 (ja) | パーフルオロポリエーテル化合物、これを含有する潤滑剤ならびに磁気ディスク | |
| JPH0610257B2 (ja) | いかり機能を有する末端基を含むフルオロポリエーテルおよびその製造方法 | |
| US6379801B1 (en) | Silane derivatized lubricants for magnetic recording media | |
| WO2019004274A1 (ja) | 有機フッ素化合物、潤滑剤および磁気記録媒体の処理方法 | |
| US20040202894A1 (en) | Lubricant for thin film storage media | |
| JP2772896B2 (ja) | カルボン酸アンモニウム塩を有する含フッ素化合物及び表面改質剤、これを用いた磁気記録媒体 | |
| TW201245437A (en) | Lubricant compositions containing fluorooxiranes | |
| JP2002275484A (ja) | ホスファゼン化合物を含有する潤滑剤 | |
| JP3404404B2 (ja) | 含フッ素化合物、潤滑剤、表面改質剤、潤滑膜、磁気記録媒体および磁気記録装置 | |
| JPH1079117A (ja) | 含フッ素化合物、及びこれを用いた磁気記録媒体 | |
| JPH11131083A (ja) | ポリエーテル化合物及び磁気記録媒体 | |
| JP2002293787A (ja) | ホスファゼン化合物 | |
| JP4192277B2 (ja) | 含フッ素ポリエーテル及びその用途 | |
| JP2002294266A (ja) | ホスファゼン化合物を含有する潤滑剤 | |
| JP2004352999A (ja) | ホスファゼン化合物を含有する潤滑剤 | |
| JP2560183B2 (ja) | 潤滑剤およびそれを利用した磁気記録媒体 | |
| JP3111552B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JPH05135350A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JP2967746B2 (ja) | 磁気記録媒体用潤滑剤及びこれを用いた磁気記録媒体 | |
| JPH1112212A (ja) | 含フッ素化合物、及びこれを用いた磁気記録媒体 | |
| KR20090031770A (ko) | 포스파젠 화합물, 상기 화합물을 가지는 윤활제 및 자기 기록 매체, 제조 방법 및 윤활 방법 |