JPH1071339A - クリーニング・ステーションのための流れ減衰器 - Google Patents
クリーニング・ステーションのための流れ減衰器Info
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- JPH1071339A JPH1071339A JP9109984A JP10998497A JPH1071339A JP H1071339 A JPH1071339 A JP H1071339A JP 9109984 A JP9109984 A JP 9109984A JP 10998497 A JP10998497 A JP 10998497A JP H1071339 A JPH1071339 A JP H1071339A
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- cleaning
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B9/00—Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F15—FLUID-PRESSURE ACTUATORS; HYDRAULICS OR PNEUMATICS IN GENERAL
- F15D—FLUID DYNAMICS, i.e. METHODS OR MEANS FOR INFLUENCING THE FLOW OF GASES OR LIQUIDS
- F15D1/00—Influencing flow of fluids
- F15D1/08—Influencing flow of fluids of jets leaving an orifice
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N35/00—Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
- G01N35/10—Devices for transferring samples or any liquids to, in, or from, the analysis apparatus, e.g. suction devices, injection devices
- G01N35/1004—Cleaning sample transfer devices
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】ピペッタ先端を洗浄するためのクリーニング・
ステーションでの液面検出およびキャリオーバについて
の問題を解決することにある。 【解決手段】洗浄液はピペッタ・ニードル２を通ってク
リーニング・ステーション１に導入され、ピペッタ先端
まわりを流れてからクリーニング・ステーションから流
出する。ピペッタ・ニードルおよび液面検出器電極７の
隔離面の濡れを避けるために、クリーニング・ステーシ
ョンに、ピペッタ・ニードルから出る液体噴流のための
好ましくは中央の入口オリフィス１０，１３を有する少
なくとも１つのスクリーン９，１２と、入ってくる液体
噴流の方向とほぼ逆の方向に液体流をそらせる装置とが
設けてある。さらに、そらされた液体流のための、好ま
しくは入口オリフィスまわり半径方向に配置された複数
の出口オリフィス１１，１４が少なくとも１つのスクリ
ーンに形成してある。
ステーションでの液面検出およびキャリオーバについて
の問題を解決することにある。 【解決手段】洗浄液はピペッタ・ニードル２を通ってク
リーニング・ステーション１に導入され、ピペッタ先端
まわりを流れてからクリーニング・ステーションから流
出する。ピペッタ・ニードルおよび液面検出器電極７の
隔離面の濡れを避けるために、クリーニング・ステーシ
ョンに、ピペッタ・ニードルから出る液体噴流のための
好ましくは中央の入口オリフィス１０，１３を有する少
なくとも１つのスクリーン９，１２と、入ってくる液体
噴流の方向とほぼ逆の方向に液体流をそらせる装置とが
設けてある。さらに、そらされた液体流のための、好ま
しくは入口オリフィスまわり半径方向に配置された複数
の出口オリフィス１１，１４が少なくとも１つのスクリ
ーンに形成してある。
Description
【０００１】本発明は、クリーニング・ステーションの
ための、特にピペッタ先端部（pipettor tips）を洗浄
するための流れ減衰器であって、洗浄液がピペッタ・ニ
ードル２を通ってクリーニング・ステーション内に導か
れ、ピペッタ・ニードル２のまわりを流れてからクリー
ニング・ステーション１から排出する流れ減衰器に関す
るものであり、また、このような流れ減衰器を有するク
リーニング・ステーションに関するものである。
ための、特にピペッタ先端部（pipettor tips）を洗浄
するための流れ減衰器であって、洗浄液がピペッタ・ニ
ードル２を通ってクリーニング・ステーション内に導か
れ、ピペッタ・ニードル２のまわりを流れてからクリー
ニング・ステーション１から排出する流れ減衰器に関す
るものであり、また、このような流れ減衰器を有するク
リーニング・ステーションに関するものである。
【０００２】試薬あるいは患者のサンプルを処理した
後、それと接触していたピペッタ先端は、別の試薬ある
いはサンプルの処理に使用するには洗浄しなければなら
ない。ピペッタ先端は、通常、オーバフロー洗浄ステー
ションにおいて円筒形のオーバフロー容器で洗浄する
が、ここでは洗浄液がピペッタ・ニードルを通して高速
で噴出し、溜まった洗浄液はピペッタ・ニードルのまわ
りを流れてピペッタ・ニードルを外から洗浄してからオ
ーバフローして流出する。ピペッタ・ニードルの内部洗
浄に必要な高速流により、オーバフロー容器内には激し
い乱流が生じ、液面に波動、気泡、飛沫を発生させる。
その結果、洗浄しなくてもよいピペッタ・ニードルの上
方隔離面やクリーニング・ステーションにおいてピペッ
タ・ニードルの位置決めに使用される、とりわけ、他の
処理ステーションでも使用される液面検出器電極の上方
隔離面も液で濡れてしまう。この液で濡れるということ
は、試薬あるいは患者のサンプルのキャリオーバにつな
がるという事実に加えて、ピペッタ・ニードルおよび液
面検出器電極の隔離面に付着した液体は、短絡を生じさ
せ、信頼性のある位置測定を不可能にするという点で、
電位測定値に基づく液面検出に悪影響を与える。
後、それと接触していたピペッタ先端は、別の試薬ある
いはサンプルの処理に使用するには洗浄しなければなら
ない。ピペッタ先端は、通常、オーバフロー洗浄ステー
ションにおいて円筒形のオーバフロー容器で洗浄する
が、ここでは洗浄液がピペッタ・ニードルを通して高速
で噴出し、溜まった洗浄液はピペッタ・ニードルのまわ
りを流れてピペッタ・ニードルを外から洗浄してからオ
ーバフローして流出する。ピペッタ・ニードルの内部洗
浄に必要な高速流により、オーバフロー容器内には激し
い乱流が生じ、液面に波動、気泡、飛沫を発生させる。
その結果、洗浄しなくてもよいピペッタ・ニードルの上
方隔離面やクリーニング・ステーションにおいてピペッ
タ・ニードルの位置決めに使用される、とりわけ、他の
処理ステーションでも使用される液面検出器電極の上方
隔離面も液で濡れてしまう。この液で濡れるということ
は、試薬あるいは患者のサンプルのキャリオーバにつな
がるという事実に加えて、ピペッタ・ニードルおよび液
面検出器電極の隔離面に付着した液体は、短絡を生じさ
せ、信頼性のある位置測定を不可能にするという点で、
電位測定値に基づく液面検出に悪影響を与える。
【０００３】したがって、本発明の目的は、ピペッタ先
端を洗浄するためのクリーニング・ステーションでの液
面検出およびキャリオーバについてのこのような問題を
解決することにある。
端を洗浄するためのクリーニング・ステーションでの液
面検出およびキャリオーバについてのこのような問題を
解決することにある。
【０００４】この目的を達成すべく、本発明は、本質的
にクリーニング・ステーションに少なくとも１つのスク
リーンが設けてあり、このスクリーンが、ピペッタ・ニ
ードルから出る液体噴流のための好ましくは中央入口オ
リフィスと、入ってくる液体噴流の方向とほぼ反対の方
向に液体流をそらす装置とを有し、好ましくは入口オリ
フィスのまわり半径方向に配置した、そらされた液体流
のための複数の出口オリフィスが前記少なくとも１つの
スクリーンに形成してあることを特徴とする。液体流を
そらし、液体流が通らなければならないスクリーンを設
けたことによって流れがかなり静かになり、ピペッタ・
ニードルおよび液面検出器電極の隔離面が濡れるのを防
ぐことができる。
にクリーニング・ステーションに少なくとも１つのスク
リーンが設けてあり、このスクリーンが、ピペッタ・ニ
ードルから出る液体噴流のための好ましくは中央入口オ
リフィスと、入ってくる液体噴流の方向とほぼ反対の方
向に液体流をそらす装置とを有し、好ましくは入口オリ
フィスのまわり半径方向に配置した、そらされた液体流
のための複数の出口オリフィスが前記少なくとも１つの
スクリーンに形成してあることを特徴とする。液体流を
そらし、液体流が通らなければならないスクリーンを設
けたことによって流れがかなり静かになり、ピペッタ・
ニードルおよび液面検出器電極の隔離面が濡れるのを防
ぐことができる。
【０００５】本発明の好ましい実施例においては、２つ
のスクリーンを上下に配置し、間に流れスペースを形成
することでさらに流れ減衰作用を高めている。この場
合、２つのスクリーンの出口オリフィスが互いにオフセ
ットした方位角で配置してあり、液体は２つのスクリー
ンを通ってまっすぐに流れることができず、流れをそら
せることに加えてかなりの程度まで鎮めることができ
る。
のスクリーンを上下に配置し、間に流れスペースを形成
することでさらに流れ減衰作用を高めている。この場
合、２つのスクリーンの出口オリフィスが互いにオフセ
ットした方位角で配置してあり、液体は２つのスクリー
ンを通ってまっすぐに流れることができず、流れをそら
せることに加えてかなりの程度まで鎮めることができ
る。
【０００６】液面検出器電極が洗浄液で濡れるというリ
スクは、少なくとも上方のスクリーンがその１つの周縁
領域（液面検出器電極に割り当てた領域）に出口オリフ
ィスを持っていないという事実によってさらに低くなり
得る。その結果、液体は液面検出器電極の領域において
上方スクリーンを通過できず、波動、気泡、飛沫は生じ
たとしても最小限生じるだけである。出口オリフィスを
通る液体のオーバフローを妨げないために、本発明によ
れば、１つのスクリーンの半径方向配置の出口オリフィ
スの総合面積が前記スクリーンの入口オリフィスの面積
よりも大きくなっている。
スクは、少なくとも上方のスクリーンがその１つの周縁
領域（液面検出器電極に割り当てた領域）に出口オリフ
ィスを持っていないという事実によってさらに低くなり
得る。その結果、液体は液面検出器電極の領域において
上方スクリーンを通過できず、波動、気泡、飛沫は生じ
たとしても最小限生じるだけである。出口オリフィスを
通る液体のオーバフローを妨げないために、本発明によ
れば、１つのスクリーンの半径方向配置の出口オリフィ
スの総合面積が前記スクリーンの入口オリフィスの面積
よりも大きくなっている。
【０００７】本発明のさらなる発展として、スクリーン
の入口オリフィスを通って導入される液体の噴流をそら
せることが、入口オリフィスに先端を向けた円錐体など
を底部スクリーンの入口オリフィスの下方に設け、この
円錐体上で入ってくる液体の噴流を半径方向外方へそら
せることによって行われる。次いで、液体流は流れ減衰
器の壁面に沿ってさらにそらされ、スクリーンの出口オ
リフィスを通って上方へ流れることができる。液体流を
所望の要領でオーバフロー流路へ流出させ得るように、
本発明によれば、高くなった側壁が液体を流出させるた
めのオーバフロー縁に隣接して設けてある。
の入口オリフィスを通って導入される液体の噴流をそら
せることが、入口オリフィスに先端を向けた円錐体など
を底部スクリーンの入口オリフィスの下方に設け、この
円錐体上で入ってくる液体の噴流を半径方向外方へそら
せることによって行われる。次いで、液体流は流れ減衰
器の壁面に沿ってさらにそらされ、スクリーンの出口オ
リフィスを通って上方へ流れることができる。液体流を
所望の要領でオーバフロー流路へ流出させ得るように、
本発明によれば、高くなった側壁が液体を流出させるた
めのオーバフロー縁に隣接して設けてある。
【０００８】本発明によれば、流れ減衰器を特にプラス
チックで作られた複数の個々の要素からなるインサート
として設計し、これらの要素を、たとえばプラグイン結
合あるいは接着結合によって互いに結合することによっ
て、製作が簡単になると共に現存のクリーニング・ステ
ーションすら改造できる可能性もある。この場合、流れ
減衰器がクリーニング・ステーションに設けた対応する
くぼみ内に挿入すると好ましい。
チックで作られた複数の個々の要素からなるインサート
として設計し、これらの要素を、たとえばプラグイン結
合あるいは接着結合によって互いに結合することによっ
て、製作が簡単になると共に現存のクリーニング・ステ
ーションすら改造できる可能性もある。この場合、流れ
減衰器がクリーニング・ステーションに設けた対応する
くぼみ内に挿入すると好ましい。
【０００９】本発明によれば、流れ減衰器をくぼみに対
して密封することによって定常な洗浄液流を得ることが
できる。流れ減衰器から流出する液体を受けるオーバフ
ロー流路の形状を改良することによって、洗浄液の流出
形態をさらに改良できる。この場合、流れ減衰器のオー
バフロー縁は、クリーニング・ステーションのくぼみの
オーバフロー縁と同一平面に配置するか、あるいは、く
ぼみのオーバフロー縁のやや下方に位置するようにして
もよい。円筒形のチューブ状インサートをクリーニング
・ステーションに挿入し、各処理プロセスの開始毎に盛
り上がった液体の塊が形成され、洗浄プロセスの第２部
分で斜めの表面に沿って流出させることによって表面張
力を凌駕した後にのみこの塊が除去される従来のクリー
ニング・ステーションと異なり、クリーニング・ステー
ションのくぼみのオーバフロー縁の下方にインサートを
下げ、クリーニング・ステーションにオーバフロー流路
を作ることによって洗浄プロセスの開始時点で液体の過
剰な盛り上がりをならし、全洗浄プロセスを通じて安定
した液面を設定できる。これはまた、液面検出の隔離面
が濡れるのを防ぐのにも貢献する。
して密封することによって定常な洗浄液流を得ることが
できる。流れ減衰器から流出する液体を受けるオーバフ
ロー流路の形状を改良することによって、洗浄液の流出
形態をさらに改良できる。この場合、流れ減衰器のオー
バフロー縁は、クリーニング・ステーションのくぼみの
オーバフロー縁と同一平面に配置するか、あるいは、く
ぼみのオーバフロー縁のやや下方に位置するようにして
もよい。円筒形のチューブ状インサートをクリーニング
・ステーションに挿入し、各処理プロセスの開始毎に盛
り上がった液体の塊が形成され、洗浄プロセスの第２部
分で斜めの表面に沿って流出させることによって表面張
力を凌駕した後にのみこの塊が除去される従来のクリー
ニング・ステーションと異なり、クリーニング・ステー
ションのくぼみのオーバフロー縁の下方にインサートを
下げ、クリーニング・ステーションにオーバフロー流路
を作ることによって洗浄プロセスの開始時点で液体の過
剰な盛り上がりをならし、全洗浄プロセスを通じて安定
した液面を設定できる。これはまた、液面検出の隔離面
が濡れるのを防ぐのにも貢献する。
【００１０】本発明のさらなる発展、利点および用途の
可能性は実施例の以下の説明および図面からも明らかと
なる。この場合、ここに説明したすべての特徴または図
示形態あるいはこれらの両方は、それ自体あるいは任意
所望の組み合わせによって、請求の範囲の構成あるいは
その関連事項に関係なく、本発明の主題事項を明らかに
するものである。
可能性は実施例の以下の説明および図面からも明らかと
なる。この場合、ここに説明したすべての特徴または図
示形態あるいはこれらの両方は、それ自体あるいは任意
所望の組み合わせによって、請求の範囲の構成あるいは
その関連事項に関係なく、本発明の主題事項を明らかに
するものである。
【００１１】図示したクリーニング・ステーション１
は、ピペッタ・ニードル２を通してクリーニング・ステ
ーション１に形成されたくぼみ３に高速で噴出する洗浄
剤によってピペッタ・ニードル２を洗浄するのに使用さ
れる。洗浄液はくぼみ３内に集まり、ピペッタ・ニード
ル２を外側から洗浄してからオーバフロー縁４およびオ
ーバフロー流路５を経て流出部６に流れる。
は、ピペッタ・ニードル２を通してクリーニング・ステ
ーション１に形成されたくぼみ３に高速で噴出する洗浄
剤によってピペッタ・ニードル２を洗浄するのに使用さ
れる。洗浄液はくぼみ３内に集まり、ピペッタ・ニード
ル２を外側から洗浄してからオーバフロー縁４およびオ
ーバフロー流路５を経て流出部６に流れる。
【００１２】クリーニング・ステーション１内にピペッ
タ・ニードル２を正しく位置決めするために、液面検出
器電極７が用いられる。この液面検出器電極７は、電位
測定値によって洗浄液内へのピペッタ・ニードル２の挿
入を検出し、検出値を、たとえば電子制御器に送る。液
面検出器電極７は、次のステーションにおいてピペッタ
・ニードルを位置決めするのにも使用される。液中への
ピペッタ・ニードル２の挿入を正確に検知することがで
きるように、ピペッタ・ニードル２および液面検出器電
極７の上方領域にある隔離面には導電性液があってはな
らない。短絡を招き、正確な測定を妨げるからである。
タ・ニードル２を正しく位置決めするために、液面検出
器電極７が用いられる。この液面検出器電極７は、電位
測定値によって洗浄液内へのピペッタ・ニードル２の挿
入を検出し、検出値を、たとえば電子制御器に送る。液
面検出器電極７は、次のステーションにおいてピペッタ
・ニードルを位置決めするのにも使用される。液中への
ピペッタ・ニードル２の挿入を正確に検知することがで
きるように、ピペッタ・ニードル２および液面検出器電
極７の上方領域にある隔離面には導電性液があってはな
らない。短絡を招き、正確な測定を妨げるからである。
【００１３】洗浄液が噴出するときに液面に強い乱流が
生じ、それに伴って波動、気泡が生じ、ピッタ・ニード
ル２および液面検出器電極７の隔離面を導電性の洗浄液
で濡らすのを防ぐために、クリーニング・ステーション
１のくぼみ３に流れ減衰器８が挿入される。
生じ、それに伴って波動、気泡が生じ、ピッタ・ニード
ル２および液面検出器電極７の隔離面を導電性の洗浄液
で濡らすのを防ぐために、クリーニング・ステーション
１のくぼみ３に流れ減衰器８が挿入される。
【００１４】この流れ減衰器８は、中央の入口オリフィ
ス１０およびこの入口オリフィス１０のまわり半径方向
に配置した出口オリフィス１１を有する上方スクリーン
９と、その下方に配置してあり、同様に中央入口オリフ
ィス１３およびこの入口オリフィス１３まわり半径方向
に配置した出口オリフィス１４を有する第２のスクリー
ン１２とを有する。これらのスクリーン９、１２間に第
１の流れスペース１５が設けられている。第２スクリー
ン１２の下方には第２の流れスペース１６が設けてあ
り、この第２流れスペースには円錐体１７が設けてあ
る。この円錐体は入口オリフィス１０、１３と同軸に配
置してあり、先端を上に向けている。図３、４からわか
るように、第１、第２のスクリーン９、１２の出口オリ
フィス１１、１４は互いに対してオフセットした方位角
となっている。さらに、液面検出器電極７の下方の領域
では第１スクリーン９には出口オリフィス１１が設けて
ない。一方のスクリーン９、１２の出口オリフィス１
１、１４の面積は前記スクリーン９、１２の入口オリフ
ィス１０、１３の面積よりも大きい。
ス１０およびこの入口オリフィス１０のまわり半径方向
に配置した出口オリフィス１１を有する上方スクリーン
９と、その下方に配置してあり、同様に中央入口オリフ
ィス１３およびこの入口オリフィス１３まわり半径方向
に配置した出口オリフィス１４を有する第２のスクリー
ン１２とを有する。これらのスクリーン９、１２間に第
１の流れスペース１５が設けられている。第２スクリー
ン１２の下方には第２の流れスペース１６が設けてあ
り、この第２流れスペースには円錐体１７が設けてあ
る。この円錐体は入口オリフィス１０、１３と同軸に配
置してあり、先端を上に向けている。図３、４からわか
るように、第１、第２のスクリーン９、１２の出口オリ
フィス１１、１４は互いに対してオフセットした方位角
となっている。さらに、液面検出器電極７の下方の領域
では第１スクリーン９には出口オリフィス１１が設けて
ない。一方のスクリーン９、１２の出口オリフィス１
１、１４の面積は前記スクリーン９、１２の入口オリフ
ィス１０、１３の面積よりも大きい。
【００１５】洗浄液がピペッタ・ニードル２の小さい横
断面積のノズルを通して噴出したとき、洗浄液は、高速
（たとえば、１６ml／ｓ）で、上方スクリーン９の入口
オリフィス１０内に流入し、さらに第１流れスペース１
５および第２スクリーン１２の入口オリフィス１３を通
って第２流れスペース１６に流入し、最終的には、円錐
体１７に衝突し外方へそらされる。液体は、さらに流れ
減衰器８の側壁面に沿って上方へそらされ、第２スクリ
ーンの出口オリフィス１４を通って上向きに第１流れス
ペース１５内へ流れ、さらに第１スクリーン９の出口オ
リフィス１１を通って流出する。図２において、洗浄液
の流れ経路が矢印で示してある。洗浄液のながれがかな
りそらされることによって、またスクリーン９、１２に
よって乱流が減衰され、ピペッタ・ニードル２および液
面検出器電極７の隔離面が濡れる原因となる波動および
気泡が液面に生じることはほとんどない。スクリーン
９、１２の出口オリフィス１１、１４の方位角のオフセ
ットによって洗浄液の流れはさらにそらされ、さらに流
れが鎮められる。
断面積のノズルを通して噴出したとき、洗浄液は、高速
（たとえば、１６ml／ｓ）で、上方スクリーン９の入口
オリフィス１０内に流入し、さらに第１流れスペース１
５および第２スクリーン１２の入口オリフィス１３を通
って第２流れスペース１６に流入し、最終的には、円錐
体１７に衝突し外方へそらされる。液体は、さらに流れ
減衰器８の側壁面に沿って上方へそらされ、第２スクリ
ーンの出口オリフィス１４を通って上向きに第１流れス
ペース１５内へ流れ、さらに第１スクリーン９の出口オ
リフィス１１を通って流出する。図２において、洗浄液
の流れ経路が矢印で示してある。洗浄液のながれがかな
りそらされることによって、またスクリーン９、１２に
よって乱流が減衰され、ピペッタ・ニードル２および液
面検出器電極７の隔離面が濡れる原因となる波動および
気泡が液面に生じることはほとんどない。スクリーン
９、１２の出口オリフィス１１、１４の方位角のオフセ
ットによって洗浄液の流れはさらにそらされ、さらに流
れが鎮められる。
【００１６】洗浄液は、オーバフロー縁４およびオーバ
フロー流路５を経て流れ減衰器８からクリーニング・ス
テーション１の流出部６に流入する。流れ減衰器８の高
くなった側壁１８、１９によって、洗浄液は所望の要領
でオーバフロー流路５に流れ、適用された形状に従って
液面がさらに確実に鎮められ、安定する。図５は洗浄作
業中に生じる液面を示す。この場合、比較のために、各
洗浄プロセスの初めで流れ減衰器なしに従来用いられて
いた円筒形チューブ状インサートで生じるような上に盛
り上がった液体の塊を２０で示してある。この液体の塊
２０は、洗浄プロセスの第２部分においてオーバフロー
流路を流出することによって表面張力を克服した後にの
み除去される。この場合も、液面検出の隔離面がリスク
を受ける。
フロー流路５を経て流れ減衰器８からクリーニング・ス
テーション１の流出部６に流入する。流れ減衰器８の高
くなった側壁１８、１９によって、洗浄液は所望の要領
でオーバフロー流路５に流れ、適用された形状に従って
液面がさらに確実に鎮められ、安定する。図５は洗浄作
業中に生じる液面を示す。この場合、比較のために、各
洗浄プロセスの初めで流れ減衰器なしに従来用いられて
いた円筒形チューブ状インサートで生じるような上に盛
り上がった液体の塊を２０で示してある。この液体の塊
２０は、洗浄プロセスの第２部分においてオーバフロー
流路を流出することによって表面張力を克服した後にの
み除去される。この場合も、液面検出の隔離面がリスク
を受ける。
【００１７】図示実施例では、流れ減衰器８は、そのオ
ーバフロー縁２１がくぼみ３のオーバフロー縁４の直ぐ
下に位置するようにクリーニング・ステーション１のく
ぼみ３内に挿入される。その結果、洗浄プロセスの開始
時に液体の盛り上がりは、安定した液面２２が洗浄プロ
セス全体を通じて生じるように平らにならされ得る。洗
浄作業の終了時、くぼみ３のオーバフロー縁４で終わる
再現可能な液面２３が生じる。しかしながら、流れ減衰
器８のオーバフロー縁２１がくぼみ３のオーバフロー縁
４と面一となるようにしてもよい。この場合、従来技術
で生じる液体２０の塊と同様の軽い液体の塊が生じるリ
スクがある。流れ減衰器８は、たとえば射出成形によっ
てプラスチックで作った３つの個々の要素９、１２、１
７からなる。これらの要素は、プラグイン結合あるいは
接着結合によって互いに結合される。この流れ減衰器８
は、クリーニング・ステーション１の対応したくぼみ３
内に全体的に挿入でき、流れ減衰器８の上部に形成した
孔２４の助けによって交換できるように設計する。こう
して、本発明による流れ減衰器８で、既に使用されてい
るクリーニング・ステーション１でも改造して、これら
のクリーニング・ステーションで生じる液面検出エラー
を避けることが可能となる。
ーバフロー縁２１がくぼみ３のオーバフロー縁４の直ぐ
下に位置するようにクリーニング・ステーション１のく
ぼみ３内に挿入される。その結果、洗浄プロセスの開始
時に液体の盛り上がりは、安定した液面２２が洗浄プロ
セス全体を通じて生じるように平らにならされ得る。洗
浄作業の終了時、くぼみ３のオーバフロー縁４で終わる
再現可能な液面２３が生じる。しかしながら、流れ減衰
器８のオーバフロー縁２１がくぼみ３のオーバフロー縁
４と面一となるようにしてもよい。この場合、従来技術
で生じる液体２０の塊と同様の軽い液体の塊が生じるリ
スクがある。流れ減衰器８は、たとえば射出成形によっ
てプラスチックで作った３つの個々の要素９、１２、１
７からなる。これらの要素は、プラグイン結合あるいは
接着結合によって互いに結合される。この流れ減衰器８
は、クリーニング・ステーション１の対応したくぼみ３
内に全体的に挿入でき、流れ減衰器８の上部に形成した
孔２４の助けによって交換できるように設計する。こう
して、本発明による流れ減衰器８で、既に使用されてい
るクリーニング・ステーション１でも改造して、これら
のクリーニング・ステーションで生じる液面検出エラー
を避けることが可能となる。
【００１８】使用した結果では、オーバフロー縁４に少
しずつ落下する液面２２のかなり鎮静が本発明による流
れ減衰器を用いた場合に見られた。必然的に、ピペッタ
・ニードル２および液面検出器電極７の上方隔離領域の
濡れおよび液面検出の乱れはもはや観察されなかった。
しずつ落下する液面２２のかなり鎮静が本発明による流
れ減衰器を用いた場合に見られた。必然的に、ピペッタ
・ニードル２および液面検出器電極７の上方隔離領域の
濡れおよび液面検出の乱れはもはや観察されなかった。
【図１】本発明による流れ減衰器を通る断面図であり、
ピペッタ・ニードルおよびクリーニング・ステーション
のオーバフロー縁を示す図である。
ピペッタ・ニードルおよびクリーニング・ステーション
のオーバフロー縁を示す図である。
【図２】流れ減衰器を挿入したクリーニング・ステーシ
ョンを通る断面図である。
ョンを通る断面図である。
【図３】ピペッタ・ニードルを除いた、図１の平面図で
ある。
ある。
【図４】流れ減衰器の中間部分の平面図である。
【図５】図１と同様の図であるが、従来技術および本発
明において生じる液面を示す図である。
明において生じる液面を示す図である。
１・・・・クリーニング・ステーション ２・・・・ピペッタ・ニードル ３・・・・くぼみ ４・・・・オーバフロー縁 ５・・・・オーバフロー流路 ６・・・・流出部 ７・・・・液面検出器電極 ８・・・・流れ減衰器 ９・・・・第１スクリーン １０・・・・入口オリフィス １１・・・・出口オリフィス １２・・・・第２スクリーン １３・・・・入口オリフィス １４・・・・出口オリフィス １５・・・・第１流れスペース １６・・・・第２流れスペース １７・・・・円錐体 １８・・・・側壁 １９・・・・側壁 ２０・・・・液体の塊 ２１・・・・オーバフロー縁 ２２・・・・液面 ２３・・・・液面 ２４・・・・孔
フロントページの続き (72)発明者 ハインツ・ノイベルガー ドイツ連邦共和国65618ゼルテルス．アー ダム−グレーフ−シユトラーセ４ (72)発明者 フーゴー・ヴイルメス ドイツ連邦共和国65812バートゾーデン. アム・カルルスバウム10 (72)発明者 ヘルムート・ケーニヒシユタイン ドイツ連邦共和国35415ポールハイム．フ アザーネンヴエーク13アー (72)発明者 マルテイン・シユライヒアー ドイツ連邦共和国61381フリードリヒスド ルフ．オーベレレーマーホーフシユトラー セ92
Claims (14)
- 【請求項１】 クリーニング・ステーション(１)のため
の、特にピペッタ先端部を洗浄するための流れ減衰器で
あって、洗浄液がピペッタ・ニードル(２)を通ってクリ
ーニング・ステーション内に導かれ、ピペッタ・ニード
ル(２)のまわりを流れてからクリーニング・ステーショ
ン(１)から排出する流れ減衰器において、クリーニング
・ステーション(１)に少なくとも１つのスクリーン
（９，12）が設けてあり、このスクリーンが、ピペッタ
・ニードル(２)から出る液体噴流のための好ましくは中
央入口オリフィス（10，13）と、入ってくる液体噴流の
方向とほぼ反対の方向に液体流をそらす装置（17）とを
有し、好ましくは入口オリフィス（10，13）のまわり半
径方向に配置した、そらされた液体流のための複数の出
口オリフィス（11，14）が前記少なくとも１つのスクリ
ーン（９，12）に形成してあることを特徴とする流れ減
衰器。 - 【請求項２】 請求項１記載の流れ減衰器において、２
つのスクリーン（９，12）が上下に配置してあって間に
流れスペース（15）を形成していることを特徴とする流
れ減衰器。 - 【請求項３】 請求項２記載の流れ減衰器において、２
つのスクリーン（９，12）の出口オリフィス（11，14）
が互いにオフセットした方位角で配置してあることを特
徴とする流れ減衰器。 - 【請求項４】 請求項１〜３のうちのいずれか１つに記
載の流れ減衰器において、上方スクリーン(９)の少なく
とも１つの周縁領域には出口オリフィス（11）が設けて
ないことを特徴とする流れ減衰器。 - 【請求項５】 請求項１〜４のうちのいずれか１つに記
載の流れ減衰器において、１つのスクリーン（９，12）
の半径方向に配置した出口オリフィス（11，14）の面積
の合計が前記スクリーン（９，12）の入口オリフィス
（10，13）の面積よりも大きいことを特徴とする流れ減
衰器。 - 【請求項６】 請求項１〜５のうちのいずれか１つに記
載の流れ減衰器において、下方スクリーン（12）の入口
オリフィス（13）の下方に、入口オリフィス（13）に先
端を向けた円錐体（17）または同様のものが設けてあ
り、入ってくる液体噴流がこの円錐体上を半径半径方向
外方へそらされることを特徴とする流れ減衰器。 - 【請求項７】 請求項１〜６のうちのいずれか１つに記
載の流れ減衰器において、高くなった側壁（18，19）が
液体を流出させるオーバフロー縁(４)に隣接して設けて
あることを特徴とする流れ減衰器。 - 【請求項８】 請求項１〜７のうちのいずれか１つに記
載の流れ減衰器において、特にプラスチックで作った複
数の個々の要素（９，12，17）からなるインサートとし
て設計してあり、これらの要素が、たとえばプラグイン
結合あるいは接着結合によって互いに結合してあること
を特徴とする流れ減衰器。 - 【請求項９】 特にピペッタ先端部(２)を洗浄するため
のクリーニング・ステーションであり、洗浄液がピペッ
タ・ニードル(２)を通ってクリーニング・ステーション
(１)内に導かれ、このピペッタ・ニードル(２)のまわり
を流れてからクリーニング・ステーション(１)から流出
するようになっており、請求項１〜８のうちのいずれか
１つに記載の流れ減衰器を有し、この流れ減衰器がクリ
ーニング・ステーション(１)内にインサートとして挿入
されていることを特徴とするクリーニング・ステーショ
ン。 - 【請求項１０】 請求項９記載のクリーニング・ステー
ションにおいて、流れ減衰器(８)がクリーニング・ステ
ーション(１)の対応したくぼみ(３)内に挿入されている
ことを特徴とするクリーニング・ステーション。 - 【請求項１１】 請求項９または１０に記載のクリーニ
ング・ステーションにおいて、流れ減衰器(８)がくぼみ
(３)に対して密封されていることを特徴とするクリーニ
ング・ステーション。 - 【請求項１２】 請求項９〜１１のうちいずれか１つに
記載のクリーニング・ステーションにおいて、流れ減衰
器(８)から流出する液体を受けるオーバフロー流路(５)
を有することを特徴とするクリーニング・ステーショ
ン。 - 【請求項１３】 請求項９〜１２のうちいずれか１つに
記載のクリーニング・ステーションにおいて、流れ減衰
器(８)のオーバフロー縁（21）がくぼみ(３)のオーバフ
ロー縁(４)と同一平面をなして終っていることを特徴と
するクリーニング・ステーション。 - 【請求項１４】 請求項９〜１２のうちいずれか１つに
記載のクリーニング・ステーションにおいて、くぼみ
(３)のオーバフロー縁(４)が流れ減衰器(８)のオーバフ
ロー縁（21）よりやや高い位置にあることを特徴とする
クリーニング・ステーション。
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| DE19617206:3 | 1996-04-30 | ||
| DE19617206A DE19617206B4 (de) | 1996-04-30 | 1996-04-30 | Strömungsdämpfer für Spülstation |
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|---|---|
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| JP4153571B2 JP4153571B2 (ja) | 2008-09-24 |
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Family Applications (1)
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- 1997-04-03 DE DE59712900T patent/DE59712900D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-03 AT AT97105510T patent/ATE381021T1/de active
- 1997-04-25 US US08/840,635 patent/US5896879A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-28 JP JP10998497A patent/JP4153571B2/ja not_active Expired - Lifetime
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