JPH1064695A - Ｘ線発生装置及びそれを用いたｘ線装置 - Google Patents
Ｘ線発生装置及びそれを用いたｘ線装置Info
- Publication number
- JPH1064695A JPH1064695A JP23858996A JP23858996A JPH1064695A JP H1064695 A JPH1064695 A JP H1064695A JP 23858996 A JP23858996 A JP 23858996A JP 23858996 A JP23858996 A JP 23858996A JP H1064695 A JPH1064695 A JP H1064695A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- target
- ray generator
- rays
- transmission type
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】 Ｘ線出力の小さいＸ線源を使って強度の強い
Ｘ線ビームを形成する。 【解決手段】 Ｘ線を発生するＸ線発生装置であって、
一方の面に電子が衝突したときに反対面からＸ線を放射
する透過型ターゲット８と、一端が透過型ターゲットの
Ｘ線放射面に近接又は接触し他端がＸ線放射口を構成す
る複数のＸ線導波細管２とを有するＸ線発生装置であ
る。透過型ターゲット８内の各点から放射される弱いＸ
線を複数のＸ線導波細管２によって集めることにより、
高強度のＸ線を獲得する。
Ｘ線ビームを形成する。 【解決手段】 Ｘ線を発生するＸ線発生装置であって、
一方の面に電子が衝突したときに反対面からＸ線を放射
する透過型ターゲット８と、一端が透過型ターゲットの
Ｘ線放射面に近接又は接触し他端がＸ線放射口を構成す
る複数のＸ線導波細管２とを有するＸ線発生装置であ
る。透過型ターゲット８内の各点から放射される弱いＸ
線を複数のＸ線導波細管２によって集めることにより、
高強度のＸ線を獲得する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線を発生するＸ
線発生装置及びそのＸ線発生装置を使用するＸ線装置に
関する。
線発生装置及びそのＸ線発生装置を使用するＸ線装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線は、従来より、理化学分析、構造物
の非破壊検査、医療検査等といった各種の産業分野にお
いて広く利用されている。このＸ線を発生するためのＸ
線発生装置は、例えば、図７に示すように構成されてい
た。すなわち、フィラメント（すなわち、陰極）５１に
対向してターゲット（すなわち、対陰極）５２を配設
し、通電によって加熱されたフィラメント５１から放射
される熱電子を高速度でターゲット５２に衝突させ、そ
の衝突によって発生して三次元空間内の全方位に発散す
るＸ線をケーシング５３の壁面に設けたＸ線取出し窓５
４から外部へ取り出すようにしている。
の非破壊検査、医療検査等といった各種の産業分野にお
いて広く利用されている。このＸ線を発生するためのＸ
線発生装置は、例えば、図７に示すように構成されてい
た。すなわち、フィラメント（すなわち、陰極）５１に
対向してターゲット（すなわち、対陰極）５２を配設
し、通電によって加熱されたフィラメント５１から放射
される熱電子を高速度でターゲット５２に衝突させ、そ
の衝突によって発生して三次元空間内の全方位に発散す
るＸ線をケーシング５３の壁面に設けたＸ線取出し窓５
４から外部へ取り出すようにしている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この種
の従来のＸ線発生装置では、フィラメント５１から出て
ターゲット５２に到達する熱電子のほとんどは熱に変化
してしまい、Ｘ線に変化するのは極めて少ない割合であ
る。従って、必要なエネルギ量のＸ線を獲得するために
は非常に多量の電力を使わなければならない。また、ケ
ーシング５３内での放電の発生を防止したり、フィラメ
ント５１の酸化を防止したり、フィラメント５１からの
電子の発生を促したりするためにケーシング５３の内部
を高度の真空に保持する必要があり、そのため、ケーシ
ング５３に真空排気系を付設しなければならない。ま
た、上記のようにほとんどの熱電子はターゲット５２の
所で熱に変化するのでターゲット５２は非常に高温とな
り、従って、ターゲット５２には冷却系を付設しなけれ
ばならない。このように、従来のＸ線発生装置は、消費
電力が大きく、さらに真空排気系や冷却系等といった大
掛かりな付帯設備を必要とするという問題点を有してい
た。
の従来のＸ線発生装置では、フィラメント５１から出て
ターゲット５２に到達する熱電子のほとんどは熱に変化
してしまい、Ｘ線に変化するのは極めて少ない割合であ
る。従って、必要なエネルギ量のＸ線を獲得するために
は非常に多量の電力を使わなければならない。また、ケ
ーシング５３内での放電の発生を防止したり、フィラメ
ント５１の酸化を防止したり、フィラメント５１からの
電子の発生を促したりするためにケーシング５３の内部
を高度の真空に保持する必要があり、そのため、ケーシ
ング５３に真空排気系を付設しなければならない。ま
た、上記のようにほとんどの熱電子はターゲット５２の
所で熱に変化するのでターゲット５２は非常に高温とな
り、従って、ターゲット５２には冷却系を付設しなけれ
ばならない。このように、従来のＸ線発生装置は、消費
電力が大きく、さらに真空排気系や冷却系等といった大
掛かりな付帯設備を必要とするという問題点を有してい
た。
【０００４】本発明者は、従来装置における上記の問題
点に鑑みて、消費電力を小さくできるＸ線発生装置の開
発及び付帯設備を極力必要としないＸ線発生装置の開発
を試みた。その結果、ターゲットのＸ線出力が小さい場
合でも、そのターゲットにできるだけ近づけて多数のＸ
線導波細管を配設することにより、それらのＸ線導波細
管によって多量のＸ線を取り込むことができ、それ故、
それらのＸ線導波細管の出力端に強力なＸ線を集束でき
ることを知見した。また、ターゲットからのＸ線出力を
小さく抑えることにより、大掛かりな真空排気系や冷却
系を用いなくても実用上支障が生じないことを知見し
た。
点に鑑みて、消費電力を小さくできるＸ線発生装置の開
発及び付帯設備を極力必要としないＸ線発生装置の開発
を試みた。その結果、ターゲットのＸ線出力が小さい場
合でも、そのターゲットにできるだけ近づけて多数のＸ
線導波細管を配設することにより、それらのＸ線導波細
管によって多量のＸ線を取り込むことができ、それ故、
それらのＸ線導波細管の出力端に強力なＸ線を集束でき
ることを知見した。また、ターゲットからのＸ線出力を
小さく抑えることにより、大掛かりな真空排気系や冷却
系を用いなくても実用上支障が生じないことを知見し
た。
【０００５】本発明者は、束ねられた多数のＸ線導波細
管を用いてＸ線発生装置を構成するということに関して
従来技術が存在するか否かを検討した。その結果、Ｘ線
発生装置の分野でそのようなＸ線導波細管を用いるとい
う従来例は発見できなかったものの、複数のＸ線導波細
管を用いてＸ線ビームを制御するというＸ線ビーム制御
装置が特表平７−５０４４９１号公報に開示されている
ことを知見した。
管を用いてＸ線発生装置を構成するということに関して
従来技術が存在するか否かを検討した。その結果、Ｘ線
発生装置の分野でそのようなＸ線導波細管を用いるとい
う従来例は発見できなかったものの、複数のＸ線導波細
管を用いてＸ線ビームを制御するというＸ線ビーム制御
装置が特表平７−５０４４９１号公報に開示されている
ことを知見した。
【０００６】しかしながら、ここに開示されたＸ線ビー
ム制御装置では、点状焦点から発せられるＸ線放射面積
の小さい１個のターゲットに対してＸ線導波細管を付設
することしか開示されておらず、さらにそのターゲット
に対してかなりの間隔をおいてＸ線導波細管を配設する
ことしか開示されていない。ターゲットとＸ線導波細管
との間にかなりの間隔を設けなければならないというの
は、従来のＸ線発生源では図７に示したように、フィラ
メント５１をターゲット５２に対向して配置しなければ
ならないことから、ターゲット５２に近接又は接触させ
てＸ線導波細管を配設するということが構造上不可能で
あったからである。従って、特表平７−５０４４９１号
公報に開示されたＸ線ビーム制御装置では、実用に供す
ることができる程度に十分な強度のＸ線を獲得すること
は不可能であるということが、容易に理解できた。
ム制御装置では、点状焦点から発せられるＸ線放射面積
の小さい１個のターゲットに対してＸ線導波細管を付設
することしか開示されておらず、さらにそのターゲット
に対してかなりの間隔をおいてＸ線導波細管を配設する
ことしか開示されていない。ターゲットとＸ線導波細管
との間にかなりの間隔を設けなければならないというの
は、従来のＸ線発生源では図７に示したように、フィラ
メント５１をターゲット５２に対向して配置しなければ
ならないことから、ターゲット５２に近接又は接触させ
てＸ線導波細管を配設するということが構造上不可能で
あったからである。従って、特表平７−５０４４９１号
公報に開示されたＸ線ビーム制御装置では、実用に供す
ることができる程度に十分な強度のＸ線を獲得すること
は不可能であるということが、容易に理解できた。
【０００７】本発明は、上述の従来技術に鑑みて成され
たものであって、面状に発生する個々のＸ線発生点にお
けるＸ線のエネルギが小さい場合であっても、さらに、
それらのＸ線発生源を複数個面状に並べると共に複数の
Ｘ線導波細管をそれらのＸ線発生点に近接又は接触させ
て配設することにより、実用上十分な強度のＸ線を発生
できるようにすることを目的とする。
たものであって、面状に発生する個々のＸ線発生点にお
けるＸ線のエネルギが小さい場合であっても、さらに、
それらのＸ線発生源を複数個面状に並べると共に複数の
Ｘ線導波細管をそれらのＸ線発生点に近接又は接触させ
て配設することにより、実用上十分な強度のＸ線を発生
できるようにすることを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明に係るＸ線発生装置は、一方の面に電子が衝
突したときに反対面からＸ線を放射する透過型ターゲッ
トと、一端が上記透過型ターゲットのＸ線放射面に近接
又は接触し他端がＸ線放射口を構成する複数のＸ線導波
細管とを有することを特徴とする。このＸ線発生装置に
よれば、ターゲットとして透過型ターゲットを用いるこ
とにより、Ｘ線導波細管のＸ線取込み端をターゲットの
Ｘ線放射面に近接又は接触して配置することができ、そ
の結果、透過型ターゲットの個々のＸ線発生点から放射
されるＸ線の強度が低い場合でも、それらのＸ線発生点
から発生するＸ線を複数のＸ線導波細管によって効率良
く取り込むことにより、そのＸ線導波細管のＸ線放射端
に強度の高いＸ線を形成することができる。また、その
ように個々のＸ線発生点に関してはＸ線強度をそれ程高
くする必要がないので、真空排気系や冷却系を設ける必
要もなくなる。
め、本発明に係るＸ線発生装置は、一方の面に電子が衝
突したときに反対面からＸ線を放射する透過型ターゲッ
トと、一端が上記透過型ターゲットのＸ線放射面に近接
又は接触し他端がＸ線放射口を構成する複数のＸ線導波
細管とを有することを特徴とする。このＸ線発生装置に
よれば、ターゲットとして透過型ターゲットを用いるこ
とにより、Ｘ線導波細管のＸ線取込み端をターゲットの
Ｘ線放射面に近接又は接触して配置することができ、そ
の結果、透過型ターゲットの個々のＸ線発生点から放射
されるＸ線の強度が低い場合でも、それらのＸ線発生点
から発生するＸ線を複数のＸ線導波細管によって効率良
く取り込むことにより、そのＸ線導波細管のＸ線放射端
に強度の高いＸ線を形成することができる。また、その
ように個々のＸ線発生点に関してはＸ線強度をそれ程高
くする必要がないので、真空排気系や冷却系を設ける必
要もなくなる。
【０００９】本発明は、比較的広い面積を有するＸ線発
生源、すなわちターゲット内の各Ｘ線発生点からＸ線導
波細管によってＸ線を集めることが重要であるから、上
記透過型ターゲットは、１本のＸ線導波細管の断面面積
よりも大きい面積を有する面状ターゲットであることが
望ましい。
生源、すなわちターゲット内の各Ｘ線発生点からＸ線導
波細管によってＸ線を集めることが重要であるから、上
記透過型ターゲットは、１本のＸ線導波細管の断面面積
よりも大きい面積を有する面状ターゲットであることが
望ましい。
【００１０】この面状ターゲットに関しては、その面積
が大きい程より多量のＸ線を集めることによって強度の
高いＸ線を形成することができる。そのためには、例え
ば、複数個の小面積の透過型ターゲットを平面状に配列
することによってその面積を大きくすることができる。
また、テレビ受像器として広く用いられるＣＲＴ（陰極
線管）を用いて、その蛍光面に相当する電子衝突位置に
面積の広い平面状のターゲット部材を配設することによ
ってＸ線発生源を構成することもできる。
が大きい程より多量のＸ線を集めることによって強度の
高いＸ線を形成することができる。そのためには、例え
ば、複数個の小面積の透過型ターゲットを平面状に配列
することによってその面積を大きくすることができる。
また、テレビ受像器として広く用いられるＣＲＴ（陰極
線管）を用いて、その蛍光面に相当する電子衝突位置に
面積の広い平面状のターゲット部材を配設することによ
ってＸ線発生源を構成することもできる。
【００１１】複数のＸ線導波細管は、それらの一端が透
過型ターゲットのＸ線放射面に近接又は接触して配置さ
れ、それらの他端が束ねられてＸ線放射口を構成する。
この構成に関して、Ｘ線放射口は透過型ターゲットのＸ
線放射面の面積よりも小さくすることができ、こうすれ
ば、単位面積当たりの強度が非常に高いＸ線ビームをＸ
線放射口から放射できる。
過型ターゲットのＸ線放射面に近接又は接触して配置さ
れ、それらの他端が束ねられてＸ線放射口を構成する。
この構成に関して、Ｘ線放射口は透過型ターゲットのＸ
線放射面の面積よりも小さくすることができ、こうすれ
ば、単位面積当たりの強度が非常に高いＸ線ビームをＸ
線放射口から放射できる。
【００１２】複数のＸ線導波細管を束ねることによって
形成されるＸ線放射口の形状は、本発明に係るＸ線発生
装置が使用されるＸ線装置の構造に応じて任意の形状と
することができる。例えば、円形状、方形状、線状等と
することができる。円形状又は方形状とすれば、いわゆ
るポイントフォーカスのＸ線ビームが得られ、線状とす
れば、いわゆるラインフォーカスのＸ線ビームが得られ
る。
形成されるＸ線放射口の形状は、本発明に係るＸ線発生
装置が使用されるＸ線装置の構造に応じて任意の形状と
することができる。例えば、円形状、方形状、線状等と
することができる。円形状又は方形状とすれば、いわゆ
るポイントフォーカスのＸ線ビームが得られ、線状とす
れば、いわゆるラインフォーカスのＸ線ビームが得られ
る。
【００１３】Ｘ線導波細管は、Ｘ線を全反射させながら
一端から他端へと伝導するものであり、その作用が得ら
れる限りにおいて任意の材質及び任意の構造のチューブ
によって形成できる。例えば、ガラスによって形成され
たキャピラリ・チューブによって形成できる。また、ガ
ラスに鉛等のＸ線非透過材料を混合した材料を用いてＸ
線導波細管を構成することもできる。
一端から他端へと伝導するものであり、その作用が得ら
れる限りにおいて任意の材質及び任意の構造のチューブ
によって形成できる。例えば、ガラスによって形成され
たキャピラリ・チューブによって形成できる。また、ガ
ラスに鉛等のＸ線非透過材料を混合した材料を用いてＸ
線導波細管を構成することもできる。
【００１４】本発明に係るＸ線装置は、以上に説明した
Ｘ線発生装置を使用することを特徴とするＸ線装置であ
る。このＸ線装置は、具体的には、Ｘ線発生装置から放
射されたＸ線を使用するＸ線装置であって、そのＸ線発
生装置を、一方の面に電子が衝突したときに反対面から
Ｘ線を放射する透過型ターゲットと、一端が上記透過型
ターゲットのＸ線放射面に近接又は接触し他端がＸ線放
射口を構成する複数のＸ線導波細管とを含んで構成する
ものである。
Ｘ線発生装置を使用することを特徴とするＸ線装置であ
る。このＸ線装置は、具体的には、Ｘ線発生装置から放
射されたＸ線を使用するＸ線装置であって、そのＸ線発
生装置を、一方の面に電子が衝突したときに反対面から
Ｘ線を放射する透過型ターゲットと、一端が上記透過型
ターゲットのＸ線放射面に近接又は接触し他端がＸ線放
射口を構成する複数のＸ線導波細管とを含んで構成する
ものである。
【００１５】
【発明の実施の形態】図１は、本発明に係るＸ線発生装
置の一実施形態を示している。このＸ線発生装置は、平
面状に配列された複数のＸ線発生ユニット１と、それら
のＸ線発生ユニット１から延びる複数のＸ線導波細管２
とを有している。Ｘ線発生ユニット１は、図５に示すよ
うに、通電によって熱を発生するペルティエ素子によっ
て形成されたヒータ３と、そのヒータ３に接触して配置
されていて加熱されたときに電子を発生するピロ電気素
子４と、それらを収納するケーシング６と、ピロ電気素
子４に対向するケーシング６の壁面に形成された円形状
又は方形状のＸ線放射窓７とを有する。ヒータ３の表面
には温度センサ１１が配設される。ケーシング６の外径
Ｄは、例えば、直径４ｍｍ程度に設定される。
置の一実施形態を示している。このＸ線発生装置は、平
面状に配列された複数のＸ線発生ユニット１と、それら
のＸ線発生ユニット１から延びる複数のＸ線導波細管２
とを有している。Ｘ線発生ユニット１は、図５に示すよ
うに、通電によって熱を発生するペルティエ素子によっ
て形成されたヒータ３と、そのヒータ３に接触して配置
されていて加熱されたときに電子を発生するピロ電気素
子４と、それらを収納するケーシング６と、ピロ電気素
子４に対向するケーシング６の壁面に形成された円形状
又は方形状のＸ線放射窓７とを有する。ヒータ３の表面
には温度センサ１１が配設される。ケーシング６の外径
Ｄは、例えば、直径４ｍｍ程度に設定される。
【００１６】Ｘ線放射窓７は、円形状又は方形状のター
ゲット８と、そのターゲット８に面接触する円形状又は
方形状のベリリウム部材９とによって構成されている。
ターゲット８は、図の左面側から電子が衝突したときに
図の右面側（すなわち、Ｘ線放射面）からＸ線を放出す
る形式の、いわゆる透過型ターゲットとして構成されて
いる。例えば、ターゲット８の厚さを薄くすることによ
ってそのような透過型ターゲットを形成できる。ベリリ
ウム部材９は、薄く形成されたターゲット８の機械的強
度を補償したり、ターゲット８で発生する熱をケーシン
グ６へ伝達する等の作用を奏する。ベリリウム部材９
は、Ｘ線を通すことができると共に比較的高い機械的強
度を有する材料であれば、ベリリウム以外の任意の材料
に代えることができる。
ゲット８と、そのターゲット８に面接触する円形状又は
方形状のベリリウム部材９とによって構成されている。
ターゲット８は、図の左面側から電子が衝突したときに
図の右面側（すなわち、Ｘ線放射面）からＸ線を放出す
る形式の、いわゆる透過型ターゲットとして構成されて
いる。例えば、ターゲット８の厚さを薄くすることによ
ってそのような透過型ターゲットを形成できる。ベリリ
ウム部材９は、薄く形成されたターゲット８の機械的強
度を補償したり、ターゲット８で発生する熱をケーシン
グ６へ伝達する等の作用を奏する。ベリリウム部材９
は、Ｘ線を通すことができると共に比較的高い機械的強
度を有する材料であれば、ベリリウム以外の任意の材料
に代えることができる。
【００１７】Ｘ線放射窓７の右側面（すなわち、外側
面）には、束ねられた多数のＸ線導波細管２の一端すな
わちＸ線取込み端が接触する。つまり、透過型ターゲッ
ト８のＸ線放射面に近接して各Ｘ線導波細管２のＸ線取
込み端が配置される。ターゲット８のＸ線放射面にベリ
リウム部材９を設けない場合には、ターゲット８のＸ線
放射面にＸ線導波細管２のＸ線取込み端を直接に接触さ
せることができる。
面）には、束ねられた多数のＸ線導波細管２の一端すな
わちＸ線取込み端が接触する。つまり、透過型ターゲッ
ト８のＸ線放射面に近接して各Ｘ線導波細管２のＸ線取
込み端が配置される。ターゲット８のＸ線放射面にベリ
リウム部材９を設けない場合には、ターゲット８のＸ線
放射面にＸ線導波細管２のＸ線取込み端を直接に接触さ
せることができる。
【００１８】Ｘ線導波細管２は、図４に示すように、多
数本が束ねられた状態で使用されるものであり、それら
の個々のＸ線導波細管２は、例えば、ガラス製のキャピ
ラリチューブによって形成される。個々のキャピラリチ
ューブ２は、例えば、内径６μｍ〜１０μｍ程度に形成
され、一端開口から導入したＸ線を外周ガラスの内周面
で全反射させながら他端開口まで導く。Ｘ線導波細管２
はＸ線放射窓７の全面を覆うように配置することもでき
るし、あるいは、Ｘ線放射窓７の一部に対向して配置す
ることもできる。いずれの場合でも、多数のＸ線導波細
管２がＸ線放射窓７に対向して設けられる。
数本が束ねられた状態で使用されるものであり、それら
の個々のＸ線導波細管２は、例えば、ガラス製のキャピ
ラリチューブによって形成される。個々のキャピラリチ
ューブ２は、例えば、内径６μｍ〜１０μｍ程度に形成
され、一端開口から導入したＸ線を外周ガラスの内周面
で全反射させながら他端開口まで導く。Ｘ線導波細管２
はＸ線放射窓７の全面を覆うように配置することもでき
るし、あるいは、Ｘ線放射窓７の一部に対向して配置す
ることもできる。いずれの場合でも、多数のＸ線導波細
管２がＸ線放射窓７に対向して設けられる。
【００１９】図１において、束ねられた多数のＸ線導波
細管２のＸ線取込み端側は、面状に配列された各Ｘ線発
生ユニット１のＸ線放射窓に対向して配置され、その他
端側はＸ線放射口１２を形成している。本実施形態で
は、Ｘ線放射口１２は円形状に形成されている。Ｘ線放
射口１２の面積は、各Ｘ線発生ユニット１のＸ線放射窓
７（図５）の面積を合計した面積、すなわち、各透過型
ターゲット８のＸ線放射面の面積を合計した面積よりも
小さくなっている。これにより、広い面積の透過型ター
ゲット８から取り込んだＸ線を狭い面積に集束させるこ
とによって強度の高いＸ線ビームとして取り出すことが
できる。
細管２のＸ線取込み端側は、面状に配列された各Ｘ線発
生ユニット１のＸ線放射窓に対向して配置され、その他
端側はＸ線放射口１２を形成している。本実施形態で
は、Ｘ線放射口１２は円形状に形成されている。Ｘ線放
射口１２の面積は、各Ｘ線発生ユニット１のＸ線放射窓
７（図５）の面積を合計した面積、すなわち、各透過型
ターゲット８のＸ線放射面の面積を合計した面積よりも
小さくなっている。これにより、広い面積の透過型ター
ゲット８から取り込んだＸ線を狭い面積に集束させるこ
とによって強度の高いＸ線ビームとして取り出すことが
できる。
【００２０】本発明に係るＸ線発生装置は以上のように
構成されているので、図５において、ヒータ３が通電に
よって発熱するとピロ電気素子４から電子が発生し、そ
の電子が透過型ターゲット８の一面に到達してその他
面、すなわちＸ線放射面からＸ線が発生する。ヒータ３
の温度は温度センサ１１に検知され、その検知結果に基
づいてヒータ３の温度が所定温度に制御される。
構成されているので、図５において、ヒータ３が通電に
よって発熱するとピロ電気素子４から電子が発生し、そ
の電子が透過型ターゲット８の一面に到達してその他
面、すなわちＸ線放射面からＸ線が発生する。ヒータ３
の温度は温度センサ１１に検知され、その検知結果に基
づいてヒータ３の温度が所定温度に制御される。
【００２１】図１において、個々のＸ線発生ユニット１
内の透過型ターゲット８のＸ線放射面から発生したＸ線
は、それらに対向して配置された各Ｘ線導波細管２の一
端から取り込まれ、各チューブの中を全反射しながら伝
達されてＸ線放射口１２に到達し、そのＸ線放射口１２
から外部へ放射される。放射されたＸ線は、理化学分析
装置、構造物の非破壊検査装置、医療検査装置等といっ
た各種のＸ線利用機器に利用される。
内の透過型ターゲット８のＸ線放射面から発生したＸ線
は、それらに対向して配置された各Ｘ線導波細管２の一
端から取り込まれ、各チューブの中を全反射しながら伝
達されてＸ線放射口１２に到達し、そのＸ線放射口１２
から外部へ放射される。放射されたＸ線は、理化学分析
装置、構造物の非破壊検査装置、医療検査装置等といっ
た各種のＸ線利用機器に利用される。
【００２２】個々のＸ線発生ユニット１の透過型ターゲ
ット８（図５参照）から発生するＸ線の強度は、例えば
２ワット〜５０ワット程度と弱いものであり、これら単
体ではＸ線装置のＸ線源としては不十分である。しかし
ながら、本実施形態のように各透過型ターゲット８に近
接させて多数のＸ線導波細管２のＸ線取込み口を配置し
ておけば、各透過型ターゲット８から４π方向、すなわ
ち３次元空間内の全方位に発散するＸ線の多くの部分を
それらのＸ線導波細管２に取り込んで、さらにＸ線放射
口１２（図１）へ集束でき、従って、Ｘ線装置のための
Ｘ線源として使用するに足りる十分に強度の高いＸ線ビ
ームをＸ線放射口１２から放射できる。しかも、本実施
形態で用いる個々のＸ線発生ユニット１それ自体は、Ｘ
線の出力強度が小さくて発熱量も小さい。従って、ケー
シング６を高度の真空に保持するための真空排気系や、
透過型ターゲット８を冷却するための冷却系等を設ける
必要がない。
ット８（図５参照）から発生するＸ線の強度は、例えば
２ワット〜５０ワット程度と弱いものであり、これら単
体ではＸ線装置のＸ線源としては不十分である。しかし
ながら、本実施形態のように各透過型ターゲット８に近
接させて多数のＸ線導波細管２のＸ線取込み口を配置し
ておけば、各透過型ターゲット８から４π方向、すなわ
ち３次元空間内の全方位に発散するＸ線の多くの部分を
それらのＸ線導波細管２に取り込んで、さらにＸ線放射
口１２（図１）へ集束でき、従って、Ｘ線装置のための
Ｘ線源として使用するに足りる十分に強度の高いＸ線ビ
ームをＸ線放射口１２から放射できる。しかも、本実施
形態で用いる個々のＸ線発生ユニット１それ自体は、Ｘ
線の出力強度が小さくて発熱量も小さい。従って、ケー
シング６を高度の真空に保持するための真空排気系や、
透過型ターゲット８を冷却するための冷却系等を設ける
必要がない。
【００２３】図６は、以上に説明したＸ線発生装置を使
用するＸ線装置の一実施形態である、理化学分析装置と
してのＸ線回折装置を示している。このＸ線回折装置
は、Ｘ線発生装置１３と、測定対象である試料１４を支
持したθ回転台１６と、θ回転台１６と同軸な２θ回転
台１７から延びる検出器アーム１８と、その検出器アー
ム１８の上に固定配置されたＸ線カウンタ１９とを有し
ている。Ｘ線発生装置１３は、面状に配列された複数の
Ｘ線発生ユニット１と、それらのＸ線発生ユニット１か
ら放射されるＸ線を集める複数のＸ線導波細管２とを有
している。
用するＸ線装置の一実施形態である、理化学分析装置と
してのＸ線回折装置を示している。このＸ線回折装置
は、Ｘ線発生装置１３と、測定対象である試料１４を支
持したθ回転台１６と、θ回転台１６と同軸な２θ回転
台１７から延びる検出器アーム１８と、その検出器アー
ム１８の上に固定配置されたＸ線カウンタ１９とを有し
ている。Ｘ線発生装置１３は、面状に配列された複数の
Ｘ線発生ユニット１と、それらのＸ線発生ユニット１か
ら放射されるＸ線を集める複数のＸ線導波細管２とを有
している。
【００２４】Ｘ線発生装置１３と試料１４との間には発
散規制スリット２１が配置され、θ回転台１６にはθ回
転駆動系２２が付設され、２θ回転台１７には２θ回転
駆動系２３が付設され、そして、試料１４とＸ線カウン
タ１９との間の検出器アーム１８の上に散乱線規制スリ
ット２４及び受光スリット２５が配設される。θ回転駆
動系２２は試料１４を試料軸線ωを中心として所定の角
速度で連続的又は間欠的に回転、いわゆるθ回転させ
る。２θ回転駆動系２３は、Ｘ線カウンタ１９等を搭載
した検出器アーム１８を試料軸線ωを中心としてθ回転
と同じ方向へθ回転の２倍の角速度で回転、いわゆる２
θ回転させる。これらのθ回転駆動系２２及び２θ回転
駆動系２３は、例えば、モータ等の駆動源に接続された
ウオームと、θ回転台１６や２θ回転台１７に固着され
たウオームホイールとを互いに噛み合わせることによっ
て構成できる。
散規制スリット２１が配置され、θ回転台１６にはθ回
転駆動系２２が付設され、２θ回転台１７には２θ回転
駆動系２３が付設され、そして、試料１４とＸ線カウン
タ１９との間の検出器アーム１８の上に散乱線規制スリ
ット２４及び受光スリット２５が配設される。θ回転駆
動系２２は試料１４を試料軸線ωを中心として所定の角
速度で連続的又は間欠的に回転、いわゆるθ回転させ
る。２θ回転駆動系２３は、Ｘ線カウンタ１９等を搭載
した検出器アーム１８を試料軸線ωを中心としてθ回転
と同じ方向へθ回転の２倍の角速度で回転、いわゆる２
θ回転させる。これらのθ回転駆動系２２及び２θ回転
駆動系２３は、例えば、モータ等の駆動源に接続された
ウオームと、θ回転台１６や２θ回転台１７に固着され
たウオームホイールとを互いに噛み合わせることによっ
て構成できる。
【００２５】本実施形態のＸ線回折装置は以上のように
構成されているので、試料１４がθ回転駆動系２２によ
って駆動されてθ回転し、同時に、検出器アーム１８が
２θ回転駆動系２３によって駆動されて２θ回転する。
これらのθ回転及び２θ回転が行われる間、Ｘ線発生装
置１３のＸ線焦点、すなわちＸ線導波細管２の束のＸ線
放射口１２から十分な強度のＸ線が放射され、放射され
たＸ線が発散規制スリット２１によってその発散を制限
された状態で試料１４に照射される。
構成されているので、試料１４がθ回転駆動系２２によ
って駆動されてθ回転し、同時に、検出器アーム１８が
２θ回転駆動系２３によって駆動されて２θ回転する。
これらのθ回転及び２θ回転が行われる間、Ｘ線発生装
置１３のＸ線焦点、すなわちＸ線導波細管２の束のＸ線
放射口１２から十分な強度のＸ線が放射され、放射され
たＸ線が発散規制スリット２１によってその発散を制限
された状態で試料１４に照射される。
【００２６】θ回転する試料１４の結晶格子面とそれに
入射するＸ線との間でブラッグの回折条件が満足される
とき、試料１４でＸ線の回折が生じ、発生したその回折
Ｘ線が受光スリット２５を通過してＸ線カウンタ１９に
よって計数される。これにより、試料１４に関して回折
角度２θのどの角度位置でどの程度の強度の回折Ｘ線が
発生するかを測定できる。なお、散乱線規制スリット２
４はノイズ成分となる散乱線がＸ線カウンタ１９に取り
込まれることを防止し、受光スリット２５は散乱線規制
スリット２４から発生する散乱Ｘ線が得た９に取り込ま
れることを防止する。
入射するＸ線との間でブラッグの回折条件が満足される
とき、試料１４でＸ線の回折が生じ、発生したその回折
Ｘ線が受光スリット２５を通過してＸ線カウンタ１９に
よって計数される。これにより、試料１４に関して回折
角度２θのどの角度位置でどの程度の強度の回折Ｘ線が
発生するかを測定できる。なお、散乱線規制スリット２
４はノイズ成分となる散乱線がＸ線カウンタ１９に取り
込まれることを防止し、受光スリット２５は散乱線規制
スリット２４から発生する散乱Ｘ線が得た９に取り込ま
れることを防止する。
【００２７】このＸ線回折装置で用いられるＸ線発生装
置１３は、既述の通り、真空排気系や冷却系等といった
付帯機器を必要としないので、外観形状が非常に小さ
く、しかもその重さが非常に軽量である。従って、θ回
転台１６及び２θ回転台１７を含んで構成されるゴニオ
メータに対して希望する任意の位置にＸ線発生装置１３
を設置できる。また、Ｘ線発生装置１３の外観形状が小
さいので検出器アーム１８の２θ回転角度を大きくとる
ことができる。
置１３は、既述の通り、真空排気系や冷却系等といった
付帯機器を必要としないので、外観形状が非常に小さ
く、しかもその重さが非常に軽量である。従って、θ回
転台１６及び２θ回転台１７を含んで構成されるゴニオ
メータに対して希望する任意の位置にＸ線発生装置１３
を設置できる。また、Ｘ線発生装置１３の外観形状が小
さいので検出器アーム１８の２θ回転角度を大きくとる
ことができる。
【００２８】図２は、Ｘ線導波細管２のＸ線放射口１２
の改変例を示している。この例では、Ｘ線放射口１２が
正方形又は長方形といった方形状に形成される。また、
図３は、Ｘ線導波細管２のＸ線放射口１２の他の改変例
を示している。この例では、Ｘ線放射口１２が細い線状
に形成される。図１に示す円形状のＸ線放射口１２や図
２に示す方形状のＸ線放射口１２から放射されるＸ線
は、ポイントフォーカスのＸ線として利用できる。ま
た、図３に示す線状のＸ線放射口１２から放射されるＸ
線は、ラインフォーカスのＸ線として利用できる。
の改変例を示している。この例では、Ｘ線放射口１２が
正方形又は長方形といった方形状に形成される。また、
図３は、Ｘ線導波細管２のＸ線放射口１２の他の改変例
を示している。この例では、Ｘ線放射口１２が細い線状
に形成される。図１に示す円形状のＸ線放射口１２や図
２に示す方形状のＸ線放射口１２から放射されるＸ線
は、ポイントフォーカスのＸ線として利用できる。ま
た、図３に示す線状のＸ線放射口１２から放射されるＸ
線は、ラインフォーカスのＸ線として利用できる。
【００２９】以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を
説明したが、本発明はそれらの実施形態に限定されるも
のでなく、請求の範囲に記載した技術的範囲内で種々に
改変できる。例えば、図１の実施形態では、Ｘ線発生ユ
ニット１を複数個平面状に並べることによって面積の広
い平面状の透過型ターゲットを構成したが、これに代え
て、１個のＸ線発生ユニット１の内部に含まれる１個の
透過型ターゲット８だけによって平面状の透過型ターゲ
ットを構成することもできる。但しこの場合には、１個
の透過型ターゲット８のＸ線放射面に対向して複数のＸ
線導波細管２のＸ線取込み端を配置したとしても、集め
ることのできるＸ線の量が少ないので、Ｘ線導波細管２
のＸ線放射口１２に得られるＸ線の強度は低いかもしれ
ない。
説明したが、本発明はそれらの実施形態に限定されるも
のでなく、請求の範囲に記載した技術的範囲内で種々に
改変できる。例えば、図１の実施形態では、Ｘ線発生ユ
ニット１を複数個平面状に並べることによって面積の広
い平面状の透過型ターゲットを構成したが、これに代え
て、１個のＸ線発生ユニット１の内部に含まれる１個の
透過型ターゲット８だけによって平面状の透過型ターゲ
ットを構成することもできる。但しこの場合には、１個
の透過型ターゲット８のＸ線放射面に対向して複数のＸ
線導波細管２のＸ線取込み端を配置したとしても、集め
ることのできるＸ線の量が少ないので、Ｘ線導波細管２
のＸ線放射口１２に得られるＸ線の強度は低いかもしれ
ない。
【００３０】また、本発明で用いることのできる平面状
のＸ線発生源は、図１に示すような、固体状の電子発生
素子を備えた小型のＸ線発生ユニット１を用いたものに
限られず、透過型ターゲットを用いるものでありさえす
れば、どのような構造であっても良い。例えば、テレビ
受像器として広く用いられるＣＲＴ（陰極線管）を用い
て、その蛍光面に相当する電子衝突位置に面積の広い平
面状のターゲット部材を配設することによってＸ線発生
源を構成することもできる。
のＸ線発生源は、図１に示すような、固体状の電子発生
素子を備えた小型のＸ線発生ユニット１を用いたものに
限られず、透過型ターゲットを用いるものでありさえす
れば、どのような構造であっても良い。例えば、テレビ
受像器として広く用いられるＣＲＴ（陰極線管）を用い
て、その蛍光面に相当する電子衝突位置に面積の広い平
面状のターゲット部材を配設することによってＸ線発生
源を構成することもできる。
【００３１】また、本発明に係るＸ線発生装置を使用す
るＸ線装置は、図６に示すようなＸ線回折装置に限られ
ず、その他のあらゆる構造のＸ線回折装置や、Ｘ線回折
装置以外の理化学分析装置や、建築構造物の残留応力等
を検査するための非破壊検査装置や、医療検査装置等と
いったＸ線を用いる各種の機器に関してＸ線源として使
用できる。
るＸ線装置は、図６に示すようなＸ線回折装置に限られ
ず、その他のあらゆる構造のＸ線回折装置や、Ｘ線回折
装置以外の理化学分析装置や、建築構造物の残留応力等
を検査するための非破壊検査装置や、医療検査装置等と
いったＸ線を用いる各種の機器に関してＸ線源として使
用できる。
【００３２】
【発明の効果】請求項１記載のＸ線発生装置及び請求項
９記載のＸ線装置によれば、透過型ターゲットを用いる
のでＸ線導波細管のＸ線取込み端をターゲットのＸ線放
射面に近接又は接触させて配置することができ、その結
果、透過型ターゲットの個々のＸ線発生点において発生
するＸ線を効率良く集めることができ、よって、透過型
ターゲットの個々のＸ線発生点に発生するＸ線のフォト
ンが少ない場合でも、Ｘ線導波細管のＸ線放射口に高強
度のＸ線を獲得することができる。また、透過型ターゲ
ットのＸ線出力を極端に大きくしなくても実用上十分な
強度のＸ線が得られるので、真空排気系や冷却系等とい
った付帯機器が不要となり、よって、Ｘ線発生装置を小
型及び軽量にすることができる。
９記載のＸ線装置によれば、透過型ターゲットを用いる
のでＸ線導波細管のＸ線取込み端をターゲットのＸ線放
射面に近接又は接触させて配置することができ、その結
果、透過型ターゲットの個々のＸ線発生点において発生
するＸ線を効率良く集めることができ、よって、透過型
ターゲットの個々のＸ線発生点に発生するＸ線のフォト
ンが少ない場合でも、Ｘ線導波細管のＸ線放射口に高強
度のＸ線を獲得することができる。また、透過型ターゲ
ットのＸ線出力を極端に大きくしなくても実用上十分な
強度のＸ線が得られるので、真空排気系や冷却系等とい
った付帯機器が不要となり、よって、Ｘ線発生装置を小
型及び軽量にすることができる。
【００３３】請求項２記載のＸ線発生装置によれば、透
過型ターゲットに対向して複数個のＸ線導波細管を配設
でき、よって、透過型ターゲットのＸ線出力を増大する
ことができる。仮に、透過型ターゲットの面積が１本の
Ｘ線導波細管の断面積と等しいか又はそれよりも小さい
場合には、透過型ターゲットに対して複数のＸ線導波細
管を配設することができないから、Ｘ線出力の微弱なタ
ーゲットから高強度のＸ線を取り出すという効果は得ら
れない。
過型ターゲットに対向して複数個のＸ線導波細管を配設
でき、よって、透過型ターゲットのＸ線出力を増大する
ことができる。仮に、透過型ターゲットの面積が１本の
Ｘ線導波細管の断面積と等しいか又はそれよりも小さい
場合には、透過型ターゲットに対して複数のＸ線導波細
管を配設することができないから、Ｘ線出力の微弱なタ
ーゲットから高強度のＸ線を取り出すという効果は得ら
れない。
【００３４】請求項３及び請求項４記載のＸ線発生装置
によれば、ポイントフォーカスのＸ線ビームを得ること
ができる。
によれば、ポイントフォーカスのＸ線ビームを得ること
ができる。
【００３５】請求項５記載のＸ線発生装置によれば、ラ
インフォーカスのＸ線ビームを得ることができる。
インフォーカスのＸ線ビームを得ることができる。
【００３６】請求項６記載のＸ線発生装置によれば、広
い面積の透過型ターゲットから発生するＸ線を面積の小
さいＸ線放射口に集束することにより、高強度のＸ線ビ
ームを形成できる。
い面積の透過型ターゲットから発生するＸ線を面積の小
さいＸ線放射口に集束することにより、高強度のＸ線ビ
ームを形成できる。
【００３７】請求項７記載のＸ線発生装置によれば、消
費電力を小さく抑えた上で十分に強度の強いＸ線ビーム
を得ることができる。
費電力を小さく抑えた上で十分に強度の強いＸ線ビーム
を得ることができる。
【００３８】また、図５に示すように、小面積の透過型
ターゲットを用いることによりＸ線出力の小さなＸ線発
生ユニットは簡単に製造できる。このようなＸ線発生ユ
ニットを複数個面状に並べれば、請求項７記載のＸ線発
生装置のように、小面積の透過型ターゲットを複数個平
面状に並べて大面積の透過型ターゲットを構成できる。
この構造は、Ｘ線発生ユニットを単に並べるだけである
ので、作業が非常に簡単である。
ターゲットを用いることによりＸ線出力の小さなＸ線発
生ユニットは簡単に製造できる。このようなＸ線発生ユ
ニットを複数個面状に並べれば、請求項７記載のＸ線発
生装置のように、小面積の透過型ターゲットを複数個平
面状に並べて大面積の透過型ターゲットを構成できる。
この構造は、Ｘ線発生ユニットを単に並べるだけである
ので、作業が非常に簡単である。
【００３９】請求項８記載のＸ線発生装置によれば、Ｘ
線導波細管を簡単、確実且つ安価に形成できる。
線導波細管を簡単、確実且つ安価に形成できる。
【００４０】
【図１】本発明に係るＸ線発生装置の一実施形態を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図２】Ｘ線放射口の改変例を示す斜視図である。
【図３】Ｘ線放射口の他の改変例を示す斜視図である。
【図４】Ｘ線導波細管の一例の一部分を示す斜視図であ
る。
る。
【図５】透過型ターゲット及びそれを用いたＸ線発生ユ
ニットの一例を示す側面断面図である。
ニットの一例を示す側面断面図である。
【図６】本発明に係るＸ線装置の一実施形態を示す平面
図である。
図である。
【図７】従来のＸ線発生装置の一例の一部分を示す斜視
図である。
図である。
１ Ｘ線発生ユニット ２ Ｘ線導波細管 ３ ヒータ ４ ピロ電気素子 ６ ケーシング ７ Ｘ線放射窓 ８ ターゲット ９ ベリリウム部材 １１ 温度センサ １２ Ｘ線放射口 １３ Ｘ線発生装置 １４ 試料 １９ Ｘ線カウンタ ２７ 電子銃 ２８ 陰極線管 ２９ ターゲット部材 ２９ａ Ｘ線照射面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｊ 35/18 Ｈ０１Ｊ 35/18 // Ｇ０１Ｎ 23/207 Ｇ０１Ｎ 23/207
Claims (9)
- 【請求項１】 Ｘ線を発生するＸ線発生装置において、 一方の面に電子が衝突したときに反対面からＸ線を放射
する透過型ターゲットと、 一端が上記透過型ターゲットのＸ線放射面に近接又は接
触し、他端がＸ線放射口を構成する複数のＸ線導波細管
とを有することを特徴とするＸ線発生装置。 - 【請求項２】 請求項１記載のＸ線発生装置において、
上記透過型ターゲットは、１本のＸ線導波細管の断面面
積よりも大きい面積を有する面状ターゲットであること
を特徴とするＸ線発生装置。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２記載のＸ線発生装
置において、複数のＸ線導波細管によって構成されるＸ
線放射口は円形状であることを特徴とするＸ線発生装
置。 - 【請求項４】 請求項１又は請求項２記載のＸ線発生装
置において、複数のＸ線導波細管によって構成されるＸ
線放射口は方形状であることを特徴とするＸ線発生装
置。 - 【請求項５】 請求項１又は請求項２記載のＸ線発生装
置において、複数のＸ線導波細管によって構成されるＸ
線放射口は線状であることを特徴とするＸ線発生装置。 - 【請求項６】 請求項１から請求項５のうちのいずれか
１つに記載のＸ線発生装置において、複数のＸ線導波細
管によって構成されるＸ線放射口は上記透過型ターゲッ
トのＸ線放射面の面積よりも小さいことを特徴とするＸ
線発生装置。 - 【請求項７】 請求項１から請求項６のうちのいずれか
１つに記載のＸ線発生装置において、上記透過型ターゲ
ットは、複数個の小面積の透過型ターゲットを平面状に
配列することによって形成されることを特徴とするＸ線
発生装置。 - 【請求項８】 請求項１から請求項７のうちのいずか１
つに記載のＸ線発生装置において、上記Ｘ線導波細管
は、ガラス製で中空のチューブであることを特徴とする
Ｘ線発生装置。 - 【請求項９】 Ｘ線発生装置から放射されたＸ線を使用
するＸ線装置において、そのＸ線発生装置は、 一方の面に電子が衝突したときに反対面からＸ線を放射
する透過型ターゲットと、 一端が上記透過型ターゲットのＸ線放射面に近接又は接
触し、他端がＸ線放射口を構成する複数のＸ線導波細管
とを有することを特徴とするＸ線装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23858996A JPH1064695A (ja) | 1996-08-21 | 1996-08-21 | Ｘ線発生装置及びそれを用いたｘ線装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23858996A JPH1064695A (ja) | 1996-08-21 | 1996-08-21 | Ｘ線発生装置及びそれを用いたｘ線装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1064695A true JPH1064695A (ja) | 1998-03-06 |
Family
ID=17032453
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23858996A Pending JPH1064695A (ja) | 1996-08-21 | 1996-08-21 | Ｘ線発生装置及びそれを用いたｘ線装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1064695A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003028815A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-01-29 | Horiba Ltd | Ｘ線分析装置およびこれに用いるｘ線導管 |
| JP2005512288A (ja) * | 2001-12-04 | 2005-04-28 | エックス−レイ オプティカル システムズ インコーポレーテッド | 改善された出力安定性を有するｘ線ソースアセンブリ、およびその流体ストリーム分析の適用 |
| JP2007093315A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Shimadzu Corp | Ｘ線集束装置 |
| JP2012074290A (ja) * | 2010-09-29 | 2012-04-12 | Hamamatsu Photonics Kk | Ｘ線発生装置 |
| CN103119686A (zh) * | 2010-08-25 | 2013-05-22 | 和鑫生技开发股份有限公司 | 用于透射x射线管的厚标靶 |
-
1996
- 1996-08-21 JP JP23858996A patent/JPH1064695A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003028815A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-01-29 | Horiba Ltd | Ｘ線分析装置およびこれに用いるｘ線導管 |
| JP4731749B2 (ja) * | 2001-07-13 | 2011-07-27 | 株式会社堀場製作所 | Ｘ線分析装置 |
| JP2005512288A (ja) * | 2001-12-04 | 2005-04-28 | エックス−レイ オプティカル システムズ インコーポレーテッド | 改善された出力安定性を有するｘ線ソースアセンブリ、およびその流体ストリーム分析の適用 |
| JP2011071120A (ja) * | 2001-12-04 | 2011-04-07 | X-Ray Optical Systems Inc | 改善された出力安定性を有するｘ線ソースアセンブリ、およびその流体ストリーム分析の適用 |
| JP2007093315A (ja) * | 2005-09-28 | 2007-04-12 | Shimadzu Corp | Ｘ線集束装置 |
| CN103119686A (zh) * | 2010-08-25 | 2013-05-22 | 和鑫生技开发股份有限公司 | 用于透射x射线管的厚标靶 |
| JP2012074290A (ja) * | 2010-09-29 | 2012-04-12 | Hamamatsu Photonics Kk | Ｘ線発生装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0461776B1 (en) | X-ray analysis apparatus, especially computer tomography apparatus | |
| CN1833299B (zh) | 从多个位置产生多个x射线束的装置和方法 | |
| US7123686B2 (en) | Apparatus and method for X-ray analysis | |
| US6442236B1 (en) | X-ray analysis | |
| CN110530907A (zh) | X射线吸收测量系统 | |
| WO2007043390A1 (ja) | Ｘ線管および非破壊検査装置 | |
| JPH1064695A (ja) | Ｘ線発生装置及びそれを用いたｘ線装置 | |
| EP2221848A1 (en) | X-ray source comprising a field emission cathode | |
| US6993113B2 (en) | Method of evaluating ion-exchange film, method of evaluating organic sample and X-ray measuring apparatus | |
| US6856671B2 (en) | X-ray tube, x-ray generator, and inspection system | |
| US3920984A (en) | X-ray energy analyzer | |
| JP4370057B2 (ja) | 毛細管光学系を含むｘ源を有するｘ線照射装置 | |
| US7400705B2 (en) | Method of evaluating ion-exchange film, method of evaluating organic sample and X-ray measuring apparatus | |
| WO2020084890A1 (ja) | Ｘ線分析装置及びｘ線発生ユニット | |
| US6477237B1 (en) | X-ray shielding mechanism for off-axis X-rays | |
| JP2003294658A (ja) | 放射線検査装置 | |
| US6935778B2 (en) | Methods and devices for aligning and determining the focusing characteristics of x-ray optics | |
| JP2008039500A (ja) | 放射線検出装置及び放射線分析装置 | |
| US4857730A (en) | Apparatus and method for local chemical analyses at the surface of solid materials by spectroscopy of X photoelectrons | |
| JP4623879B2 (ja) | ビームの評価方法および装置 | |
| JP2003083916A (ja) | Ｘ線映像装置 | |
| CN218036511U (zh) | 一种x射线光电子能谱仪 | |
| JPH0765759A (ja) | ライン／ポイントフォーカスを選択して取り出し可能な横型ｘ線発生装置 | |
| JPH04264298A (ja) | コリメータを備えたｘ線発生装置 | |
| JPH0723878B2 (ja) | Ｘ線光電子分光装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20050323 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20050713 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |