JPH1064433A - ガス放電型表示装置 - Google Patents
ガス放電型表示装置Info
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- JPH1064433A JPH1064433A JP8219680A JP21968096A JPH1064433A JP H1064433 A JPH1064433 A JP H1064433A JP 8219680 A JP8219680 A JP 8219680A JP 21968096 A JP21968096 A JP 21968096A JP H1064433 A JPH1064433 A JP H1064433A
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- discharge
- display
- substrate
- discharge space
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】表示電極とアドレス電極の間の放電による蛍光
体の発光に起因したコントラスト低下と、蛍光体のイオ
ンダメージによる寿命劣化を抑制する。また、バリアリ
ブ形成不良による背面基板の損失を防止する。 【解決手段】放電空間１００と背面基板５を分離するた
めの隔壁１３を設けるとともに当該隔壁には蛍光体が存
在しない開口部１４を設け、当該開口部を通して放電ガ
スに対するスパッタ率が低く、２次電子放出係数の高い
誘電体層８によって被覆されたアドレス電極１０と表示
電極６の間の放電を行う。また製造歩留まり低下のた
め、バリアリブ１１を背面基板と無関係に作製する。
体の発光に起因したコントラスト低下と、蛍光体のイオ
ンダメージによる寿命劣化を抑制する。また、バリアリ
ブ形成不良による背面基板の損失を防止する。 【解決手段】放電空間１００と背面基板５を分離するた
めの隔壁１３を設けるとともに当該隔壁には蛍光体が存
在しない開口部１４を設け、当該開口部を通して放電ガ
スに対するスパッタ率が低く、２次電子放出係数の高い
誘電体層８によって被覆されたアドレス電極１０と表示
電極６の間の放電を行う。また製造歩留まり低下のた
め、バリアリブ１１を背面基板と無関係に作製する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イなどのガス放電型表示装置に係わり、特に、コントラ
ストと寿命を改善できる交流駆動型のガス放電型表示装
置に関する。
イなどのガス放電型表示装置に係わり、特に、コントラ
ストと寿命を改善できる交流駆動型のガス放電型表示装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】プラズマディスプレイなどのガス放電型
表示装置は自己発光により表示を行うため、視野角が広
く、表示が見やすい。また、薄型のものが作製できるこ
とや大画面を実現できるなどの特長を持っており、情報
端末機器の表示装置や高品位テレビジョン受像機への応
用が期待されている。プラズマディスプレイは直流駆動
型と交流駆動型に大別される。このうち交流駆動型のプ
ラズマディスプレイは、電極を覆っている誘電体層のメ
モリー作用によって輝度が高く、保護層の形成などによ
り実用に耐える寿命が得られるようになった。その結
果、プラズマディスプレイは多用途のビデオ・モニタと
して実用化されている。この例を図１７と図１８に示
す。図１７は実用化されたプラズマディスプレイパネル
の構造を示す斜視図である。この図では、見易くするた
め、前面基板１を背面基板２と放電空間３より離して図
示している。前面基板１は前面ガラス基板４上にＩＴＯ
（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電
材料からなる表示電極６とバス電極７、誘電体層８、酸
化マグネシウム（ＭｇＯ）などの材料からなる保護層９
が形成された構造となっている。背面基板２は背面ガラ
ス基板５上にアドレス電極１０とバリアリブ１１、蛍光
体層１２が形成された構造となっている。そして、前面
基板１と背面基板２を表示電極６とアドレス電極１０が
ほぼ直交するように貼り合わせることにより、前面基板
１と背面基板２の間に放電空間３を形成している。
表示装置は自己発光により表示を行うため、視野角が広
く、表示が見やすい。また、薄型のものが作製できるこ
とや大画面を実現できるなどの特長を持っており、情報
端末機器の表示装置や高品位テレビジョン受像機への応
用が期待されている。プラズマディスプレイは直流駆動
型と交流駆動型に大別される。このうち交流駆動型のプ
ラズマディスプレイは、電極を覆っている誘電体層のメ
モリー作用によって輝度が高く、保護層の形成などによ
り実用に耐える寿命が得られるようになった。その結
果、プラズマディスプレイは多用途のビデオ・モニタと
して実用化されている。この例を図１７と図１８に示
す。図１７は実用化されたプラズマディスプレイパネル
の構造を示す斜視図である。この図では、見易くするた
め、前面基板１を背面基板２と放電空間３より離して図
示している。前面基板１は前面ガラス基板４上にＩＴＯ
（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）などの透明導電
材料からなる表示電極６とバス電極７、誘電体層８、酸
化マグネシウム（ＭｇＯ）などの材料からなる保護層９
が形成された構造となっている。背面基板２は背面ガラ
ス基板５上にアドレス電極１０とバリアリブ１１、蛍光
体層１２が形成された構造となっている。そして、前面
基板１と背面基板２を表示電極６とアドレス電極１０が
ほぼ直交するように貼り合わせることにより、前面基板
１と背面基板２の間に放電空間３を形成している。
【０００３】図１８は図１７に示したガス放電型表示装
置の断面図である。図１８（ａ）はアドレス電極１０に
平行な断面を、同図（ｂ）はアドレス電極１０に垂直な
同図（ａ）に示した図のＡ−Ｂ断面を、同図（ｃ）はア
ドレス電極１０に垂直な同図（ａ）に示した図のＣ−Ｄ
断面を示している。このガス放電型表示装置では、前面
基板１に設けた１対の表示電極６の間に交流電圧を印加
し、背面基板２に設けたアドレス電極１０と表示電極６
の間に交流電圧を印加することによってアドレス放電を
発生させ、所定の放電セルに主放電を発生させる。この
主放電で発生する紫外線により蛍光体１２を発光させ、
表示を行っている。ここで示したガス放電型表示装置の
従来例は、たとえば、日経エレクトロニクス１９９５年
１０月２３日号の第９４頁から１０４頁に記載されてい
る。
置の断面図である。図１８（ａ）はアドレス電極１０に
平行な断面を、同図（ｂ）はアドレス電極１０に垂直な
同図（ａ）に示した図のＡ−Ｂ断面を、同図（ｃ）はア
ドレス電極１０に垂直な同図（ａ）に示した図のＣ−Ｄ
断面を示している。このガス放電型表示装置では、前面
基板１に設けた１対の表示電極６の間に交流電圧を印加
し、背面基板２に設けたアドレス電極１０と表示電極６
の間に交流電圧を印加することによってアドレス放電を
発生させ、所定の放電セルに主放電を発生させる。この
主放電で発生する紫外線により蛍光体１２を発光させ、
表示を行っている。ここで示したガス放電型表示装置の
従来例は、たとえば、日経エレクトロニクス１９９５年
１０月２３日号の第９４頁から１０４頁に記載されてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来技術では、蛍光体１２がアドレス電極１０上に形成さ
れているのにもかかわらず、表示セルの選択を行うため
に表示電極６とアドレス電極１０の間に放電を発生させ
ている。この放電により、アドレス電極１０側にイオン
を、表示電極６側に電子を蓄積することにより壁電荷を
形成し、アドレス時の走査電圧を下げることがなされて
いる。しかし、この放電ではアドレス電極１０上に形成
された蛍光体１２の近傍で強い紫外線が発生するため、
蛍光体１２が発光してしまう。この放電は表示に寄与す
るものではないため、暗状態の輝度を上げ、結果的にコ
ントラストを低下させる原因となっている。また、蛍光
体１２はイオンを壁電荷として蓄積する際にイオン衝撃
を受けて劣化するため、その寿命が短くなるなどの課題
もあった。
来技術では、蛍光体１２がアドレス電極１０上に形成さ
れているのにもかかわらず、表示セルの選択を行うため
に表示電極６とアドレス電極１０の間に放電を発生させ
ている。この放電により、アドレス電極１０側にイオン
を、表示電極６側に電子を蓄積することにより壁電荷を
形成し、アドレス時の走査電圧を下げることがなされて
いる。しかし、この放電ではアドレス電極１０上に形成
された蛍光体１２の近傍で強い紫外線が発生するため、
蛍光体１２が発光してしまう。この放電は表示に寄与す
るものではないため、暗状態の輝度を上げ、結果的にコ
ントラストを低下させる原因となっている。また、蛍光
体１２はイオンを壁電荷として蓄積する際にイオン衝撃
を受けて劣化するため、その寿命が短くなるなどの課題
もあった。
【０００５】また、上記従来技術では、表示セルを分離
するためのバリアリブ１１を背面基板２上に形成してい
る。バリアリブ１１は厚膜印刷技術や厚膜技術とフォト
リソグラフィー技術、サンドブラスト技術の組み合わせ
で形成されることが多い。このバリアリブ１１の製造工
程が最も難しく、最も製造歩留まりを低下させる工程で
ある。このことは、バリアリブ１１の製造不良がアドレ
ス電極１０を形成した背面基板２の損失につながること
を意味する。また、背面ガラス基板５としてガラス基板
の中では安価なソーダライムガラスを用いた場合、厚膜
技術でバリアリブを形成するとソーダライムガラスの歪
点より高い温度で熱処理を行う必要があるため、ソーダ
ライムガラスが歪んでしまうことも多い。これらは、い
ずれも図１７と図１８に示したガス放電型表示装置の製
造歩留まりを下げ、製造コストが高くなる原因となって
いる。
するためのバリアリブ１１を背面基板２上に形成してい
る。バリアリブ１１は厚膜印刷技術や厚膜技術とフォト
リソグラフィー技術、サンドブラスト技術の組み合わせ
で形成されることが多い。このバリアリブ１１の製造工
程が最も難しく、最も製造歩留まりを低下させる工程で
ある。このことは、バリアリブ１１の製造不良がアドレ
ス電極１０を形成した背面基板２の損失につながること
を意味する。また、背面ガラス基板５としてガラス基板
の中では安価なソーダライムガラスを用いた場合、厚膜
技術でバリアリブを形成するとソーダライムガラスの歪
点より高い温度で熱処理を行う必要があるため、ソーダ
ライムガラスが歪んでしまうことも多い。これらは、い
ずれも図１７と図１８に示したガス放電型表示装置の製
造歩留まりを下げ、製造コストが高くなる原因となって
いる。
【０００６】本発明の目的は、図１７と図１８に示した
従来のガス放電型表示装置のように、表示電極を設けた
前面基板とアドレス電極を設けた背面基板によってバリ
アリブを挟んだ構造のガス放電型表示装置において、コ
ントラストと寿命を改善し、その製造歩留まりを高くで
きるガス放電型表示装置の構造を提供することにある。
従来のガス放電型表示装置のように、表示電極を設けた
前面基板とアドレス電極を設けた背面基板によってバリ
アリブを挟んだ構造のガス放電型表示装置において、コ
ントラストと寿命を改善し、その製造歩留まりを高くで
きるガス放電型表示装置の構造を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的は、絶縁体層に
よって背面基板に形成したアドレス電極を被覆し、表示
のための放電を発生させる放電空間と背面基板を分離す
るための隔壁を設け、当該隔壁には蛍光体が存在しない
開口部を設け、表示電極とアドレス電極の間の放電を隔
壁に設けた開口部を通して行うことによって達成され
る。すなわち、この構成により、表示セルのアドレス時
に行う表示電極とアドレス電極の間の放電において、ア
ドレス電極がカソードとして働く場合に紫外線が強く発
生する場所が隔壁に設けた開口部の内部となる。この場
所には、蛍光体が存在しないことから蛍光体による発光
が抑制され、アドレス時の余分な発光が少なくなり、コ
ントラストが改善される。また、表示電極とアドレス電
極の間で発生する放電の電圧降下が隔壁に設けた開口部
で大きくなるため、イオン衝撃による蛍光体のダメージ
を抑制でき、蛍光体の寿命を改善することができる。こ
れらの効果を大きくするためには、隔壁に設けた開口部
と重なる背面基板に設けたアドレス電極上に形成する絶
縁体層を放電ガスに対するスパッタリング率が低く、２
次電子放出係数が高い材料によって構成することが有効
である。さらに、アドレス電極を電気的絶縁材料からな
る誘電体層によって被覆し、当該誘電体層の表面に放電
ガスに対するスパッタリング率が低く、２次電子放出係
数が高い材料からなる保護膜を設けることが、誘電体層
によるメモリー効果や放電電流制限効果が得られるた
め、本発明の効果を大きくすることができる。また、隔
壁と背面基板の間に空間を設けることも、前面基板に設
けた表示電極と背面基板に設けたアドレス電極の間の放
電を、隔壁と背面基板の間の蛍光体の存在しない場所に
導くことができるので、本発明の効果を大きくすること
ができる。
よって背面基板に形成したアドレス電極を被覆し、表示
のための放電を発生させる放電空間と背面基板を分離す
るための隔壁を設け、当該隔壁には蛍光体が存在しない
開口部を設け、表示電極とアドレス電極の間の放電を隔
壁に設けた開口部を通して行うことによって達成され
る。すなわち、この構成により、表示セルのアドレス時
に行う表示電極とアドレス電極の間の放電において、ア
ドレス電極がカソードとして働く場合に紫外線が強く発
生する場所が隔壁に設けた開口部の内部となる。この場
所には、蛍光体が存在しないことから蛍光体による発光
が抑制され、アドレス時の余分な発光が少なくなり、コ
ントラストが改善される。また、表示電極とアドレス電
極の間で発生する放電の電圧降下が隔壁に設けた開口部
で大きくなるため、イオン衝撃による蛍光体のダメージ
を抑制でき、蛍光体の寿命を改善することができる。こ
れらの効果を大きくするためには、隔壁に設けた開口部
と重なる背面基板に設けたアドレス電極上に形成する絶
縁体層を放電ガスに対するスパッタリング率が低く、２
次電子放出係数が高い材料によって構成することが有効
である。さらに、アドレス電極を電気的絶縁材料からな
る誘電体層によって被覆し、当該誘電体層の表面に放電
ガスに対するスパッタリング率が低く、２次電子放出係
数が高い材料からなる保護膜を設けることが、誘電体層
によるメモリー効果や放電電流制限効果が得られるた
め、本発明の効果を大きくすることができる。また、隔
壁と背面基板の間に空間を設けることも、前面基板に設
けた表示電極と背面基板に設けたアドレス電極の間の放
電を、隔壁と背面基板の間の蛍光体の存在しない場所に
導くことができるので、本発明の効果を大きくすること
ができる。
【０００８】本発明によれば、放電空間と背面基板を分
離するために設けた隔壁はバリアリブ等の支持台として
働くことができるため、放電空間を形成する隔壁やバリ
アリブを背面基板とは関係なく製造できることになり、
バリアリブ形成による背面基板の損失がなくなる。
離するために設けた隔壁はバリアリブ等の支持台として
働くことができるため、放電空間を形成する隔壁やバリ
アリブを背面基板とは関係なく製造できることになり、
バリアリブ形成による背面基板の損失がなくなる。
【０００９】
（実施の形態１）本発明の第１の実施の形態を図１によ
り説明する。図１は本発明を適用したガス放電型表示装
置の一部を断面図で示したものである。図１（ａ）はア
ドレス電極に平行な断面を、同図（ｂ）はアドレス電極
に垂直であり同図（ａ）に示したＡ−Ｂ断面を、同図
（ｃ）はアドレス電極に垂直であり同図（ａ）に示した
Ｃ−Ｄ断面を示している。
り説明する。図１は本発明を適用したガス放電型表示装
置の一部を断面図で示したものである。図１（ａ）はア
ドレス電極に平行な断面を、同図（ｂ）はアドレス電極
に垂直であり同図（ａ）に示したＡ−Ｂ断面を、同図
（ｃ）はアドレス電極に垂直であり同図（ａ）に示した
Ｃ−Ｄ断面を示している。
【００１０】図１において、１は前面基板、２は背面基
板、３は放電空間、４は前面ガラス基板、５は背面ガラ
ス基板、６１と６２は透明導電材料からなる表示電極、
７１と７２は表示電極の一部と重なるように設けられた
バス電極、６は表示電極６１と６２を区別しないで呼ぶ
場合の表示電極、７はバス電極７１と７２を区別しない
で呼ぶ場合のバス電極、８は誘電体層、９はＭｇＯから
なる保護層、１１は主放電空間を限定するバリアリブ、
１２は蛍光体、１３は主放電空間と背面基板２を分離す
る隔壁、１４は隔壁１３に設けられた蛍光体が存在しな
い開口部、１００は表示のための主放電を発生させるた
めの主放電空間である。
板、３は放電空間、４は前面ガラス基板、５は背面ガラ
ス基板、６１と６２は透明導電材料からなる表示電極、
７１と７２は表示電極の一部と重なるように設けられた
バス電極、６は表示電極６１と６２を区別しないで呼ぶ
場合の表示電極、７はバス電極７１と７２を区別しない
で呼ぶ場合のバス電極、８は誘電体層、９はＭｇＯから
なる保護層、１１は主放電空間を限定するバリアリブ、
１２は蛍光体、１３は主放電空間と背面基板２を分離す
る隔壁、１４は隔壁１３に設けられた蛍光体が存在しな
い開口部、１００は表示のための主放電を発生させるた
めの主放電空間である。
【００１１】以下、本実施の形態の製造方法の一例を図
１９にしたがって説明する。まず、前面基板１の製造方
法について説明する。 （１） ソーダライムガラス等を前面ガラス基板４とし
て購入し、中性洗剤等を用いて洗浄する。 （２） 洗浄した前面ガラス基板４上にスパッタリング
法や電子線蒸着法などの成膜手法により酸化スズ（Ｓｎ
Ｏ２）膜やＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ ＴｉｎＯｘｉｄｅ）
膜などの透明導電膜を形成する。次いで周知のフォトエ
ッチング法によって透明導電膜の加工を行い、表示電極
６１、６２として働く電極パターンを形成する。表示電
極のパターン寸法は製造する放電セルの大きさに合わせ
て定めれば良い。 （３） 表示電極６１、６２を形成した前面ガラス基板
４上に、スパッタリング法や電子線蒸着法等の成膜手法
を用いてクロム（Ｃｒ）膜で銅（Ｃｕ）膜をサンドイッ
チしたＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層膜を形成する。次いで、周
知のフォトエッチング法を用いてＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層
膜の加工を行い、表示電極６１、６２の一部と重なるよ
うに電極パターンを形成し、バス電極７１、７２とす
る。Ｃｕ膜の膜厚とバス電極のパターン寸法はバス電極
に要求される抵抗値などによって定めれば良い。 （４） 表示電極パターンとバス電極パターンを形成し
た前面ガラス基板４の所定の場所にアルミニウム（Ａ
ｌ）、シリコン（Ｓｉ）、酸素（Ｏ）を主成分とする加
水分解型コーティング剤（アルコキシドなど）をブレー
ド法やスプレー法等の手法によって塗布し、１００〜４
００℃の温度で１〜６０分間加熱することにより０．０
０５〜０．０３ｍｍの誘電体層８を形成する。 （５） スパッタリング法や電子線蒸着法等の成膜手法
を用いてＭｇＯを所定の場所に成膜し、保護膜９とす
る。 以上の工程により、前面基板１が完成する。
１９にしたがって説明する。まず、前面基板１の製造方
法について説明する。 （１） ソーダライムガラス等を前面ガラス基板４とし
て購入し、中性洗剤等を用いて洗浄する。 （２） 洗浄した前面ガラス基板４上にスパッタリング
法や電子線蒸着法などの成膜手法により酸化スズ（Ｓｎ
Ｏ２）膜やＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ ＴｉｎＯｘｉｄｅ）
膜などの透明導電膜を形成する。次いで周知のフォトエ
ッチング法によって透明導電膜の加工を行い、表示電極
６１、６２として働く電極パターンを形成する。表示電
極のパターン寸法は製造する放電セルの大きさに合わせ
て定めれば良い。 （３） 表示電極６１、６２を形成した前面ガラス基板
４上に、スパッタリング法や電子線蒸着法等の成膜手法
を用いてクロム（Ｃｒ）膜で銅（Ｃｕ）膜をサンドイッ
チしたＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層膜を形成する。次いで、周
知のフォトエッチング法を用いてＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層
膜の加工を行い、表示電極６１、６２の一部と重なるよ
うに電極パターンを形成し、バス電極７１、７２とす
る。Ｃｕ膜の膜厚とバス電極のパターン寸法はバス電極
に要求される抵抗値などによって定めれば良い。 （４） 表示電極パターンとバス電極パターンを形成し
た前面ガラス基板４の所定の場所にアルミニウム（Ａ
ｌ）、シリコン（Ｓｉ）、酸素（Ｏ）を主成分とする加
水分解型コーティング剤（アルコキシドなど）をブレー
ド法やスプレー法等の手法によって塗布し、１００〜４
００℃の温度で１〜６０分間加熱することにより０．０
０５〜０．０３ｍｍの誘電体層８を形成する。 （５） スパッタリング法や電子線蒸着法等の成膜手法
を用いてＭｇＯを所定の場所に成膜し、保護膜９とす
る。 以上の工程により、前面基板１が完成する。
【００１２】次に背面基板２の製造方法について説明す
る。 （１） ソーダライムガラス等を背面ガラス基板５とし
て購入し、中性洗剤等を用いて洗浄する。 （２） 洗浄した背面ガラス基板５上にスパッタリング
法や電子線蒸着法等の成膜手法によりＣｒ膜でＣｕ膜を
サンドイッチしたＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層膜を形成する。
次いで、周知のフォトエッチング法を用いてＣｒ／Ｃｕ
／Ｃｒ積層膜を加工し、アドレス電極１０とする電極パ
ターンを形成する。Ｃｕ膜の膜厚とアドレス電極のパタ
ーン寸法はアドレス電極に要求される抵抗値によって定
めれば良い。 （３） アドレス電極を形成した背面ガラス基板５の所
定の場所に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｏを主成分とする加水分解型
コーティング剤（アルコキシドなど）をブレード法やス
プレー法等の手法を用いて塗布し、１００〜４００℃の
温度で１〜６０分間の加熱を行い、０．００５〜０．０
３ｍｍの誘電体層８を形成する。 （４） スパッタリング法や電子線蒸着法等の成膜手法
を用いてＭｇＯを所定の場所に成膜し、保護膜９とす
る。 以上の工程により、背面基板２が完成する。なお、背面
基板２には、パネル組み立て後に行う排気とガス導入の
ためにチップ管（図示せず）を取り付ける。
る。 （１） ソーダライムガラス等を背面ガラス基板５とし
て購入し、中性洗剤等を用いて洗浄する。 （２） 洗浄した背面ガラス基板５上にスパッタリング
法や電子線蒸着法等の成膜手法によりＣｒ膜でＣｕ膜を
サンドイッチしたＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層膜を形成する。
次いで、周知のフォトエッチング法を用いてＣｒ／Ｃｕ
／Ｃｒ積層膜を加工し、アドレス電極１０とする電極パ
ターンを形成する。Ｃｕ膜の膜厚とアドレス電極のパタ
ーン寸法はアドレス電極に要求される抵抗値によって定
めれば良い。 （３） アドレス電極を形成した背面ガラス基板５の所
定の場所に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｏを主成分とする加水分解型
コーティング剤（アルコキシドなど）をブレード法やス
プレー法等の手法を用いて塗布し、１００〜４００℃の
温度で１〜６０分間の加熱を行い、０．００５〜０．０
３ｍｍの誘電体層８を形成する。 （４） スパッタリング法や電子線蒸着法等の成膜手法
を用いてＭｇＯを所定の場所に成膜し、保護膜９とす
る。 以上の工程により、背面基板２が完成する。なお、背面
基板２には、パネル組み立て後に行う排気とガス導入の
ためにチップ管（図示せず）を取り付ける。
【００１３】放電空間３はバリアリブ１１と開口部１４
を有する隔壁１３を前面基板１と背面基板２の間に設け
ることによって形成される。次に、バリアリブ１１と開
口部１４を有する隔壁１３の製造方法について説明す
る。なおここでは、バリアリブ１１と開口部１４を有す
る隔壁１３を一体化して作製した部材を隔壁基板と呼ぶ
ことにする。 （１） 硼珪散ガラスやセラミック等からなる板材を隔
壁用ガラス板３０として購入し、中性洗剤等を用いて洗
浄する。 （２） 隔壁用ガラス板３０上に感光性フィルムを形成
し、周知の露光、現像、水洗、乾燥を行うことにより開
口部１４を設けた所定のフィルムパターン形成する。次
いで、サンドブラスト法を用いて加工を行うことにより
隔壁用ガラス板３０に開口部１４を形成する。この場
合、開口部１４の深さ（完成寸法）が０．０３〜０．２
ｍｍになるようにブラスト条件を調整する。 （３） 隔壁用ガラス板３０の開口部１４を設けた面の
反対側の面に感光性フィルムを形成し、周知の露光、現
像、水洗、乾燥を行うことにより、主放電空間を形成す
るための所定のパターンを形成する。次いで、サンドブ
ラスト法を用いて加工を行い、主放電空間１００を分離
するバリアリブ１１を形成する。この場合、バリアリブ
１１の深さが０．０８〜０．３ｍｍになるように、ブラ
スト条件を調整する。なおこの工程により、主放電空間
と背面基板２を分離する隔壁１３も形成されている。 （４） 主放電空間１００を分離するバリアリブ１１を
形成した面に、スプレー法やブレード法等の手法により
蛍光体１２を塗布する。カラー表示のガス放電型表示装
置の場合には、緑、青、赤の所定のパターンのマスクを
位置合せして緑、青、赤の色を発色する蛍光体１２を塗
布する。次いで、１５０〜３００℃の温度で５〜６０分
の熱処理を行う。 以上の工程により、開口部１４を有する隔壁１３とバリ
アリブ１１を一体化した部材と蛍光体層１２が完成す
る。すなわち、蛍光体層１２を形成した隔壁基板が完成
したことになる。
を有する隔壁１３を前面基板１と背面基板２の間に設け
ることによって形成される。次に、バリアリブ１１と開
口部１４を有する隔壁１３の製造方法について説明す
る。なおここでは、バリアリブ１１と開口部１４を有す
る隔壁１３を一体化して作製した部材を隔壁基板と呼ぶ
ことにする。 （１） 硼珪散ガラスやセラミック等からなる板材を隔
壁用ガラス板３０として購入し、中性洗剤等を用いて洗
浄する。 （２） 隔壁用ガラス板３０上に感光性フィルムを形成
し、周知の露光、現像、水洗、乾燥を行うことにより開
口部１４を設けた所定のフィルムパターン形成する。次
いで、サンドブラスト法を用いて加工を行うことにより
隔壁用ガラス板３０に開口部１４を形成する。この場
合、開口部１４の深さ（完成寸法）が０．０３〜０．２
ｍｍになるようにブラスト条件を調整する。 （３） 隔壁用ガラス板３０の開口部１４を設けた面の
反対側の面に感光性フィルムを形成し、周知の露光、現
像、水洗、乾燥を行うことにより、主放電空間を形成す
るための所定のパターンを形成する。次いで、サンドブ
ラスト法を用いて加工を行い、主放電空間１００を分離
するバリアリブ１１を形成する。この場合、バリアリブ
１１の深さが０．０８〜０．３ｍｍになるように、ブラ
スト条件を調整する。なおこの工程により、主放電空間
と背面基板２を分離する隔壁１３も形成されている。 （４） 主放電空間１００を分離するバリアリブ１１を
形成した面に、スプレー法やブレード法等の手法により
蛍光体１２を塗布する。カラー表示のガス放電型表示装
置の場合には、緑、青、赤の所定のパターンのマスクを
位置合せして緑、青、赤の色を発色する蛍光体１２を塗
布する。次いで、１５０〜３００℃の温度で５〜６０分
の熱処理を行う。 以上の工程により、開口部１４を有する隔壁１３とバリ
アリブ１１を一体化した部材と蛍光体層１２が完成す
る。すなわち、蛍光体層１２を形成した隔壁基板が完成
したことになる。
【００１４】以上の各工程で完成した前面基板１と背面
基板２、隔壁基板の位置合せを行い、周辺にフリットガ
ラスをディスペンサで塗布した後、３００〜４００℃の
熱処理によってこれらの基板を固定する。この場合、前
面基板１に設けた表示電極６およびバス電極７と背面基
板５に設けたアドレス電極１０をほぼ直交させる。な
お、本実施の形態では、前面基板１および背面基板２に
保護膜（ＭｇＯ）９を形成してからフリットガラスの塗
布を行っているが、保護膜の汚染防止の意味からは、フ
リットガラスの塗布・乾燥を行ってから、保護膜を形成
することが望ましい。次に、背面基板に設けたチップ管
（図示せず）を通して前面基板１と背面基板２の間に形
成される放電空間３の真空排気を行った後、例えば３％
のＸｅを含むＮｅを放電空間３に導入し、放電空間３内
の圧力を３５〜７０ｋＰａに調節する。次いで、チップ
管（図示せず）の局部加熱によってチップオフを行うこ
とにより図１に示したガス放電型表示装置が完成する。
基板２、隔壁基板の位置合せを行い、周辺にフリットガ
ラスをディスペンサで塗布した後、３００〜４００℃の
熱処理によってこれらの基板を固定する。この場合、前
面基板１に設けた表示電極６およびバス電極７と背面基
板５に設けたアドレス電極１０をほぼ直交させる。な
お、本実施の形態では、前面基板１および背面基板２に
保護膜（ＭｇＯ）９を形成してからフリットガラスの塗
布を行っているが、保護膜の汚染防止の意味からは、フ
リットガラスの塗布・乾燥を行ってから、保護膜を形成
することが望ましい。次に、背面基板に設けたチップ管
（図示せず）を通して前面基板１と背面基板２の間に形
成される放電空間３の真空排気を行った後、例えば３％
のＸｅを含むＮｅを放電空間３に導入し、放電空間３内
の圧力を３５〜７０ｋＰａに調節する。次いで、チップ
管（図示せず）の局部加熱によってチップオフを行うこ
とにより図１に示したガス放電型表示装置が完成する。
【００１５】本実施の形態では、バス電極７とアドレス
電極１０の材料としてＣｕとＣｒを用いているが、Ａｌ
やＴｉ、Ｎｉ、Ｗ、Ｍｏの金属やこれらの合金を用いて
もさしつかえない。また、バス電極７とアドレス電極１
０を構成する材料の形成方法としてスパッタリング法や
電子線蒸着法を用いているが、形成方法に制限はなく、
めっき法や抵抗加熱蒸着法、厚膜印刷法などを用いても
良い。表示電極６を構成する透明導電材料も酸化すずや
ＩＴＯに限定されるものではなく、また、その形成方法
としてもスパッタリング法や電子線蒸着法に限定される
ものではなく、化学気相反応法やソル−ゲル法などを用
いてもさしつかえない。誘電体層８の形成にはアルコキ
シドを用いているが、この場合にも形成方法には制限は
なく、スパッタリング法や化学気相反応法、厚膜印刷法
などを用いてもさしつかえない。保護膜としてＭｇＯを
用いているが、スパッタリング率が低く、２次電子放出
係数が高ければ良く、ＭｇＯのほか、ＣａＯやＳｒＯ、
これらの混合物を用いても差支えない。また本実施の形
態では、隔壁基板のバリアリブ１１と開口部１４の形成
にサンドブラスト法を用いているが、エッチング法など
別の方法を用いても差支えない。特に、バリアリブ形成
の場合には、厚膜印刷技術やフィルムパターンを形成し
たのちにガラス材料やセラミック材料を埋め込むリフト
オフ法も有効な形成方法である。また、本実施の形態で
は放電ガスとしてＮｅとＸｅの混合気体を用いている
が、これらに限定されるものではない。
電極１０の材料としてＣｕとＣｒを用いているが、Ａｌ
やＴｉ、Ｎｉ、Ｗ、Ｍｏの金属やこれらの合金を用いて
もさしつかえない。また、バス電極７とアドレス電極１
０を構成する材料の形成方法としてスパッタリング法や
電子線蒸着法を用いているが、形成方法に制限はなく、
めっき法や抵抗加熱蒸着法、厚膜印刷法などを用いても
良い。表示電極６を構成する透明導電材料も酸化すずや
ＩＴＯに限定されるものではなく、また、その形成方法
としてもスパッタリング法や電子線蒸着法に限定される
ものではなく、化学気相反応法やソル−ゲル法などを用
いてもさしつかえない。誘電体層８の形成にはアルコキ
シドを用いているが、この場合にも形成方法には制限は
なく、スパッタリング法や化学気相反応法、厚膜印刷法
などを用いてもさしつかえない。保護膜としてＭｇＯを
用いているが、スパッタリング率が低く、２次電子放出
係数が高ければ良く、ＭｇＯのほか、ＣａＯやＳｒＯ、
これらの混合物を用いても差支えない。また本実施の形
態では、隔壁基板のバリアリブ１１と開口部１４の形成
にサンドブラスト法を用いているが、エッチング法など
別の方法を用いても差支えない。特に、バリアリブ形成
の場合には、厚膜印刷技術やフィルムパターンを形成し
たのちにガラス材料やセラミック材料を埋め込むリフト
オフ法も有効な形成方法である。また、本実施の形態で
は放電ガスとしてＮｅとＸｅの混合気体を用いている
が、これらに限定されるものではない。
【００１６】これまで述べてきたように、本発明を適用
した本実施の形態のガス放電型表示装置は４００℃以下
の低温プロセスで製造できるため、歪点が低い安価なソ
ーダガラス等のガラスを基板とし使用できる。しかし、
製造プロセスの温度を４００℃以下にすることを要求し
ている訳ではなく、製造プロセスの温度を４００℃以上
にした場合にも本実施の形態のガス放電型表示装置は製
造できる。
した本実施の形態のガス放電型表示装置は４００℃以下
の低温プロセスで製造できるため、歪点が低い安価なソ
ーダガラス等のガラスを基板とし使用できる。しかし、
製造プロセスの温度を４００℃以下にすることを要求し
ている訳ではなく、製造プロセスの温度を４００℃以上
にした場合にも本実施の形態のガス放電型表示装置は製
造できる。
【００１７】この実施の形態で示したガス放電型表示装
置では、例えば３％のキセノン（Ｘｅ）を含むネオン
（Ｎｅ）ガスを封入することにより前面基板１と背面基
板２の間に放電空間３を形成している。バリアリブ１１
は並行に複数個設けられており、前面基板１の放電空間
側の面に接触することによって放電空間を仕切ってい
る。このため、表示電極６が伸延する方向に配列された
表示セルの放電空間は分離されているが、表示電極６が
伸延する方向と直交する方向に配列された表示セルは放
電空間を共有している。この実施の形態のように、隔壁
の一方の面に並行なバリアリブを備え、主放電空間と背
面基板をつなぐ開口部を有する隔壁基板を第１の隔壁基
板と呼ぶことにする。蛍光体１２は、隔壁１３の放電空
間側の面とバリアリブ１１の側面に形成されている。放
電空間を共有する表示セル列の中の所定の表示セルに対
応する一対の表示電極６１と６２の間に電圧を印加する
ことによって、各表示セルの放電空間を限定することに
なる。
置では、例えば３％のキセノン（Ｘｅ）を含むネオン
（Ｎｅ）ガスを封入することにより前面基板１と背面基
板２の間に放電空間３を形成している。バリアリブ１１
は並行に複数個設けられており、前面基板１の放電空間
側の面に接触することによって放電空間を仕切ってい
る。このため、表示電極６が伸延する方向に配列された
表示セルの放電空間は分離されているが、表示電極６が
伸延する方向と直交する方向に配列された表示セルは放
電空間を共有している。この実施の形態のように、隔壁
の一方の面に並行なバリアリブを備え、主放電空間と背
面基板をつなぐ開口部を有する隔壁基板を第１の隔壁基
板と呼ぶことにする。蛍光体１２は、隔壁１３の放電空
間側の面とバリアリブ１１の側面に形成されている。放
電空間を共有する表示セル列の中の所定の表示セルに対
応する一対の表示電極６１と６２の間に電圧を印加する
ことによって、各表示セルの放電空間を限定することに
なる。
【００１８】この実施の形態で示したガス放電型表示装
置の場合にも、図１７と図１８に示した従来のガス放電
型表示装置と同じ駆動を行うことができる。すなわち、
アドレス電極を被覆する保護膜に壁電荷を形成し、その
電圧に外部電圧を重畳することによってアドレス放電を
発生させて表示セルを選択する駆動を行うことができ
る。なお、表示電極６の一方の電極をすべての表示セル
に共通な共通電極とすることが多いが、この実施の形態
では、表示電極６１と表示電極６２のいずれを共通電極
としても差支えない。
置の場合にも、図１７と図１８に示した従来のガス放電
型表示装置と同じ駆動を行うことができる。すなわち、
アドレス電極を被覆する保護膜に壁電荷を形成し、その
電圧に外部電圧を重畳することによってアドレス放電を
発生させて表示セルを選択する駆動を行うことができ
る。なお、表示電極６の一方の電極をすべての表示セル
に共通な共通電極とすることが多いが、この実施の形態
では、表示電極６１と表示電極６２のいずれを共通電極
としても差支えない。
【００１９】この発明の実施の形態において本発明を適
用したところを、図１８に示した従来のガス放電型表示
装置との比較でまとめると次のようになる。 （１） 蛍光体層１２を隔壁１３とバリアリブ１１の表
面に形成しており、アドレス電極１０の表面には直接形
成していない。 （２） 前面基板１の表示電極６（およびバス電極７）
と背面基板２のアドレス電極１０が交差するところに蛍
光体層１２が存在しない場所（具体的には、隔壁１３に
設けた開口部１４）を設けている。この場所を通して、
表示電極６（およびバス電極７）とアドレス電極１０の
間の放電を行う。 （３） アドレス電極１０が誘電体層８と保護膜９によ
って被覆されている。
用したところを、図１８に示した従来のガス放電型表示
装置との比較でまとめると次のようになる。 （１） 蛍光体層１２を隔壁１３とバリアリブ１１の表
面に形成しており、アドレス電極１０の表面には直接形
成していない。 （２） 前面基板１の表示電極６（およびバス電極７）
と背面基板２のアドレス電極１０が交差するところに蛍
光体層１２が存在しない場所（具体的には、隔壁１３に
設けた開口部１４）を設けている。この場所を通して、
表示電極６（およびバス電極７）とアドレス電極１０の
間の放電を行う。 （３） アドレス電極１０が誘電体層８と保護膜９によ
って被覆されている。
【００２０】この発明の実施の形態や図１８に示した従
来例では、アドレス電極１０を被覆している保護膜９や
表示電極６を被覆している保護膜９上に壁電荷を蓄積し
て表示セルを選択するために印加する走査電圧を低くす
るため、前面基板１に設けた表示電極６と背面基板２に
設けたアドレス電極の間に放電を発生させる。この際、
アドレス電極１０近傍の空間では紫外線が強く発生し、
放電電場が強くなる。このため図１８に示した従来例で
は、蛍光体は発光し、イオンダメージを受ける。それに
対し本発明を適用したこの実施の形態では、紫外線強度
が強くなり、イオンダメージが大きくなる場所を蛍光体
が存在しない開口部となしている。このため、図１８に
示した従来例と比較すると、アドレス放電時の蛍光体か
らの発光強度が低下し、蛍光体のイオンダメージは抑制
される。これらは、結果的に、ガス放電型表示装置のコ
ントラストと寿命の改善につながる。
来例では、アドレス電極１０を被覆している保護膜９や
表示電極６を被覆している保護膜９上に壁電荷を蓄積し
て表示セルを選択するために印加する走査電圧を低くす
るため、前面基板１に設けた表示電極６と背面基板２に
設けたアドレス電極の間に放電を発生させる。この際、
アドレス電極１０近傍の空間では紫外線が強く発生し、
放電電場が強くなる。このため図１８に示した従来例で
は、蛍光体は発光し、イオンダメージを受ける。それに
対し本発明を適用したこの実施の形態では、紫外線強度
が強くなり、イオンダメージが大きくなる場所を蛍光体
が存在しない開口部となしている。このため、図１８に
示した従来例と比較すると、アドレス放電時の蛍光体か
らの発光強度が低下し、蛍光体のイオンダメージは抑制
される。これらは、結果的に、ガス放電型表示装置のコ
ントラストと寿命の改善につながる。
【００２１】また、この発明の実施の形態では、アドレ
ス電極１０を誘電体層８と保護膜９によって被覆するこ
とによりスパッタ現象による損傷を抑制して長寿命化を
はかり、２次電子放出能を高めることによって前面基板
側の表示電極と背面基板側のアドレス電極の間の放電電
圧を低くしている。これにより、前面基板１側の表示電
極６と背面基板２側のアドレス電極１０の間に印加する
アドレス（走査）電圧を低くできるため、表示電極６が
伸延している方向の並びに配列した表示セルに固有な表
示電極（たとえば６１）とアドレス電極１０の間の放電
により表示セルをダイレクトに選択できるようになる。
この場合、アドレス電極１０側への壁電荷形成によるア
ドレス電圧低下の必要性はなくなり、また、表示セルの
選択時に発生する余分な発光をなくすことができ、高い
コントラストを得ることができるようになる。
ス電極１０を誘電体層８と保護膜９によって被覆するこ
とによりスパッタ現象による損傷を抑制して長寿命化を
はかり、２次電子放出能を高めることによって前面基板
側の表示電極と背面基板側のアドレス電極の間の放電電
圧を低くしている。これにより、前面基板１側の表示電
極６と背面基板２側のアドレス電極１０の間に印加する
アドレス（走査）電圧を低くできるため、表示電極６が
伸延している方向の並びに配列した表示セルに固有な表
示電極（たとえば６１）とアドレス電極１０の間の放電
により表示セルをダイレクトに選択できるようになる。
この場合、アドレス電極１０側への壁電荷形成によるア
ドレス電圧低下の必要性はなくなり、また、表示セルの
選択時に発生する余分な発光をなくすことができ、高い
コントラストを得ることができるようになる。
【００２２】また、製造方法でも説明したが、本実施の
形態では、主放電空間１００と背面基板２を分離するた
めの隔壁１３とバリアリブ１１を有する第１の隔壁基板
によって放電空間１００を形成している。この第１の隔
壁基板は背面基板２と関係なく製造できるので、バリア
リブ１１の製造歩留まり低下に伴う、背面基板２の損失
をなくすことができ、ガス放電型表示装置の製造歩留ま
りを高くできる効果が得られる。
形態では、主放電空間１００と背面基板２を分離するた
めの隔壁１３とバリアリブ１１を有する第１の隔壁基板
によって放電空間１００を形成している。この第１の隔
壁基板は背面基板２と関係なく製造できるので、バリア
リブ１１の製造歩留まり低下に伴う、背面基板２の損失
をなくすことができ、ガス放電型表示装置の製造歩留ま
りを高くできる効果が得られる。
【００２３】以上述べてきたように、本実施の形態のガ
ス放電型表示装置によれば、従来の交流駆動型のガス放
電型表示装置のコントラストと寿命を改善でき、表示電
極とアドレス電極の間の放電電圧を低くできる効果があ
る。また、ガス放電型表示装置を製造する上でも、バリ
アリブの製造歩留まり低下に伴う、背面基板の損失をな
くすことができる効果がある。
ス放電型表示装置によれば、従来の交流駆動型のガス放
電型表示装置のコントラストと寿命を改善でき、表示電
極とアドレス電極の間の放電電圧を低くできる効果があ
る。また、ガス放電型表示装置を製造する上でも、バリ
アリブの製造歩留まり低下に伴う、背面基板の損失をな
くすことができる効果がある。
【００２４】なお、本実施の形態では、隔壁基板をガラ
ス板やセラミック板などの電気的絶縁性板材を用いて形
成したが、表面を絶縁材料で被覆した金属板などの導電
性材料を用いても差支えない。この場合には、隔壁基板
の機械的強度が大きくなり、製造歩留まりの向上などが
期待される。また、背面基板２に設けられたアドレス電
極１０は誘電体層８と保護膜（ＭｇＯ）９の２層膜によ
って被覆されているが、ピンホール等の問題がなければ
保護膜（ＭｇＯ）９のみによる被覆であっても差支えな
い。
ス板やセラミック板などの電気的絶縁性板材を用いて形
成したが、表面を絶縁材料で被覆した金属板などの導電
性材料を用いても差支えない。この場合には、隔壁基板
の機械的強度が大きくなり、製造歩留まりの向上などが
期待される。また、背面基板２に設けられたアドレス電
極１０は誘電体層８と保護膜（ＭｇＯ）９の２層膜によ
って被覆されているが、ピンホール等の問題がなければ
保護膜（ＭｇＯ）９のみによる被覆であっても差支えな
い。
【００２５】（実施の形態２）本発明の第２の実施の形
態を図２により説明する。図２は本発明を適用したガス
放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。図
２（ａ）はアドレス電極に平行な断面を、同図（ｂ）は
同図（ａ）に示したアドレス電極に垂直であるＡ−Ｂ断
面を、同図（ｃ）は同図（ａ）に示したアドレス電極に
垂直であるＣ−Ｄ断面を示している。
態を図２により説明する。図２は本発明を適用したガス
放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。図
２（ａ）はアドレス電極に平行な断面を、同図（ｂ）は
同図（ａ）に示したアドレス電極に垂直であるＡ−Ｂ断
面を、同図（ｃ）は同図（ａ）に示したアドレス電極に
垂直であるＣ−Ｄ断面を示している。
【００２６】図２よりわかるように、本実施の形態と第
１の実施の形態の相違点は、ある表示セルの並びの方向
に伸延したストライプ状の主放電空間１００と前面基板
１の間に格子状のバリアリブ１１０を設け、主放電空間
を前面基板１の前面において各表示セルごとの放電空間
１０１として分離した点にある。これ以外の構成や本発
明を適用した点、製造方法は第１の実施の形態の場合と
同じである。本実施の形態では、ストライプ状の主放電
空間１００を形成する第１の隔壁基板や前面基板１、背
面基板２とは異なる別個の部品として製作できるよう
に、前面基板１の前面での放電空間１０１を形成するバ
リアリブ１１０を第２の隔壁基板として形成している。
この第２の隔壁基板の製造方法の一例を図２０に従って
説明する。 （１） ガラス板あるいはセラミックス板を中性洗剤等
により洗浄し、第２の隔壁基板用基材３０とする。 （２） 第２の隔壁基板用基材３０の両面に所定の開口
部を設けたドライフィルムパターン３１を周知のフォト
リソグラフィー法により形成する。 （３） サンドブラスト法あるいはエッチング法を用い
て、第２の隔壁基板用基材３１を両面から加工すること
により格子状のバリアリブ１１０を形成し、次いで、ド
ライフィルムパターンを除去する。これで、第２の隔壁
基板３００が完成する。
１の実施の形態の相違点は、ある表示セルの並びの方向
に伸延したストライプ状の主放電空間１００と前面基板
１の間に格子状のバリアリブ１１０を設け、主放電空間
を前面基板１の前面において各表示セルごとの放電空間
１０１として分離した点にある。これ以外の構成や本発
明を適用した点、製造方法は第１の実施の形態の場合と
同じである。本実施の形態では、ストライプ状の主放電
空間１００を形成する第１の隔壁基板や前面基板１、背
面基板２とは異なる別個の部品として製作できるよう
に、前面基板１の前面での放電空間１０１を形成するバ
リアリブ１１０を第２の隔壁基板として形成している。
この第２の隔壁基板の製造方法の一例を図２０に従って
説明する。 （１） ガラス板あるいはセラミックス板を中性洗剤等
により洗浄し、第２の隔壁基板用基材３０とする。 （２） 第２の隔壁基板用基材３０の両面に所定の開口
部を設けたドライフィルムパターン３１を周知のフォト
リソグラフィー法により形成する。 （３） サンドブラスト法あるいはエッチング法を用い
て、第２の隔壁基板用基材３１を両面から加工すること
により格子状のバリアリブ１１０を形成し、次いで、ド
ライフィルムパターンを除去する。これで、第２の隔壁
基板３００が完成する。
【００２７】以上の工程で作製した第２の隔壁基板３０
０と第１の実施の形態の場合と同じ方法で作製した前面
基板１と背面基板２、第１の隔壁基板の位置合せを行
い、周辺にフリットガラスをディスペンサで塗布した
後、３００〜４００℃の熱処理によってこれらの基板を
固定する。この場合、前面基板１に設けた表示電極６お
よびバス電極７と背面基板５に設けたアドレス電極１０
をほぼ直交させる。本実施の形態においても、前面基板
１および背面基板２に保護膜（ＭｇＯ）９を形成してか
らフリットガラスの塗布を行っているが、保護膜９の汚
染防止を考えると、フリットガラスの塗布・乾燥を行っ
てから保護膜９を形成することが望ましい。次に、背面
基板に設けたチップ管（図示せず）を通して前面基板１
と背面基板２の間に形成される放電空間３の真空排気を
行った後、例えば３％のＸｅを含むＮｅを放電空間３に
導入し、放電空間３内の圧力を３５〜７０ｋＰａに調節
する。次いで、チップ管（図示せず）の局部加熱によっ
てチップオフを行うことにより図２に示したガス放電型
表示装置が完成する。
０と第１の実施の形態の場合と同じ方法で作製した前面
基板１と背面基板２、第１の隔壁基板の位置合せを行
い、周辺にフリットガラスをディスペンサで塗布した
後、３００〜４００℃の熱処理によってこれらの基板を
固定する。この場合、前面基板１に設けた表示電極６お
よびバス電極７と背面基板５に設けたアドレス電極１０
をほぼ直交させる。本実施の形態においても、前面基板
１および背面基板２に保護膜（ＭｇＯ）９を形成してか
らフリットガラスの塗布を行っているが、保護膜９の汚
染防止を考えると、フリットガラスの塗布・乾燥を行っ
てから保護膜９を形成することが望ましい。次に、背面
基板に設けたチップ管（図示せず）を通して前面基板１
と背面基板２の間に形成される放電空間３の真空排気を
行った後、例えば３％のＸｅを含むＮｅを放電空間３に
導入し、放電空間３内の圧力を３５〜７０ｋＰａに調節
する。次いで、チップ管（図示せず）の局部加熱によっ
てチップオフを行うことにより図２に示したガス放電型
表示装置が完成する。
【００２８】本実施の形態において本発明を適用したと
ころは、第１の実施の形態の場合と同じである。従っ
て、第１の実施の形態と同じ効果を得ることができる。
すなわち、図１７や図１８に示したガス放電型表示装置
に比べてコントラストと寿命が改善され、表示電極とア
ドレス電極の間の放電電圧を低くできるガス放電型表示
装置をバリアリブ１１、１１０の製造歩留まり低下によ
る背面基板２の損失を伴うことなく提供できる効果があ
る。ただし、前面基板１と背面基板２の間隔が第１の実
施の形態で示したガス放電型表示装置より大きくなるた
め、表示電極とアドレス電極の間の放電電圧は第１の実
施の形態の場合より高くなる。
ころは、第１の実施の形態の場合と同じである。従っ
て、第１の実施の形態と同じ効果を得ることができる。
すなわち、図１７や図１８に示したガス放電型表示装置
に比べてコントラストと寿命が改善され、表示電極とア
ドレス電極の間の放電電圧を低くできるガス放電型表示
装置をバリアリブ１１、１１０の製造歩留まり低下によ
る背面基板２の損失を伴うことなく提供できる効果があ
る。ただし、前面基板１と背面基板２の間隔が第１の実
施の形態で示したガス放電型表示装置より大きくなるた
め、表示電極とアドレス電極の間の放電電圧は第１の実
施の形態の場合より高くなる。
【００２９】しかし、この実施の形態においては、バリ
アリブ１１０によって放電空間が表示電極を備えた前面
基板１の前面において、各表示セルごとに分離されてい
るため、同一主放電空間１００を有する隣り合う表示セ
ルの電極間隔を小さくできる。このため、開口率を高く
することによってガス放電型表示装置の輝度を高くした
り、表示セルの微細化によるガス放電型表示装置の高精
細化が達成できる効果がある。
アリブ１１０によって放電空間が表示電極を備えた前面
基板１の前面において、各表示セルごとに分離されてい
るため、同一主放電空間１００を有する隣り合う表示セ
ルの電極間隔を小さくできる。このため、開口率を高く
することによってガス放電型表示装置の輝度を高くした
り、表示セルの微細化によるガス放電型表示装置の高精
細化が達成できる効果がある。
【００３０】なお、本実施の形態では、第２の隔壁基板
をガラス板やセラミック板などの電気的絶縁性板材を用
いて形成したが、表面を絶縁材料で被覆した金属板など
の導電性材料を用いても差支えない。この場合には、第
２の隔壁基板の機械的強度が大きくなり、製造歩留まり
の向上などが期待される。
をガラス板やセラミック板などの電気的絶縁性板材を用
いて形成したが、表面を絶縁材料で被覆した金属板など
の導電性材料を用いても差支えない。この場合には、第
２の隔壁基板の機械的強度が大きくなり、製造歩留まり
の向上などが期待される。
【００３１】（実施の形態３）本発明の第３の実施の形
態を図３により説明する。図３は本発明を適用したガス
放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。図
３（ａ）はアドレス電極に平行な断面を、同図（ｂ）は
同図（ａ）に示したアドレス電極に垂直であるＡ−Ｂ断
面を、同図（ｃ）は同図（ａ）に示したアドレス電極に
垂直であるＣ−Ｄ断面を示している。
態を図３により説明する。図３は本発明を適用したガス
放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。図
３（ａ）はアドレス電極に平行な断面を、同図（ｂ）は
同図（ａ）に示したアドレス電極に垂直であるＡ−Ｂ断
面を、同図（ｃ）は同図（ａ）に示したアドレス電極に
垂直であるＣ−Ｄ断面を示している。
【００３２】図３よりわかるように、本実施の形態と第
２の実施の形態の相違点は、放電空間を前面基板１の表
面において各表示セルごとの放電空間１０１として分離
する格子状のバリアリブ１１０を前面基板１上に形成し
ている点である。これ以外の構成や本発明の適用した
点、製造方法は第２の実施の形態と同じである。第２の
実施の形態と異なる、格子状のバリアリブ１１０を備え
た前面基板１の製造方法の一例を図２１に従って説明す
る。
２の実施の形態の相違点は、放電空間を前面基板１の表
面において各表示セルごとの放電空間１０１として分離
する格子状のバリアリブ１１０を前面基板１上に形成し
ている点である。これ以外の構成や本発明の適用した
点、製造方法は第２の実施の形態と同じである。第２の
実施の形態と異なる、格子状のバリアリブ１１０を備え
た前面基板１の製造方法の一例を図２１に従って説明す
る。
【００３３】（１） ソーダライムガラス等を前面ガラ
ス基板４として購入し、中性洗剤等を用いて洗浄する。 （２） 洗浄した前面ガラス基板４上にスパッタリング
法や電子線蒸着法などの成膜手法により酸化スズ（Ｓｎ
Ｏ２）膜やＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ ＴｉｎＯｘｉｄｅ）
膜などの透明導電膜を形成する。次いで周知のフォトエ
ッチング法によって透明導電膜の加工を行い、表示電極
６１、６２として働く電極パターンを形成する。表示電
極のパターン寸法は製造する放電セルの大きさに合わせ
て定めれば良い。 （３） 表示電極６１、６２を形成した前面ガラス基板
４上に、スパッタリング法や電子線蒸着法等の成膜手法
を用いてクロム（Ｃｒ）膜で銅（Ｃｕ）膜をサンドイッ
チしたＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層膜を形成する。次いで、周
知のフォトエッチング法を用いてＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層
膜の加工を行い、表示電極６１、６２の一部と重なるよ
うに電極パターンを形成し、バス電極７１、７２とす
る。Ｃｕ膜の膜厚とバス電極のパターン寸法はバス電極
に要求される抵抗値等によって定めれば良い。 （４） 表示電極パターンとバス電極パターンを形成し
た前面ガラス基板４の所定の場所にアルミニウム（Ａ
ｌ）、シリコン（Ｓｉ）、酸素（Ｏ）を主成分とする加
水分解型コーティング剤（アルコキシドなど）をブレー
ド法やスプレー法等の手法によって塗布し、１００〜４
００℃の温度で１〜６０分間加熱することにより０．０
０５〜０．０３ｍｍの誘電体層８を形成する。 （５） 誘電体層８を形成した前面基板１上に厚膜印刷
法によりガラスペーストを格子状のパターンに印刷し、
１００〜１５０℃の温度で乾燥する。次いで、５００〜
６００℃の温度で焼成し、バリアリブ１１０を形成す
る。 （６） スパッタリング法や電子線蒸着法等の成膜手法
を用いてＭｇＯを所定の場所に成膜し、保護膜９とす
る。これで、バリアリブ１１０を備えた前面基板１が完
成する。
ス基板４として購入し、中性洗剤等を用いて洗浄する。 （２） 洗浄した前面ガラス基板４上にスパッタリング
法や電子線蒸着法などの成膜手法により酸化スズ（Ｓｎ
Ｏ２）膜やＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ ＴｉｎＯｘｉｄｅ）
膜などの透明導電膜を形成する。次いで周知のフォトエ
ッチング法によって透明導電膜の加工を行い、表示電極
６１、６２として働く電極パターンを形成する。表示電
極のパターン寸法は製造する放電セルの大きさに合わせ
て定めれば良い。 （３） 表示電極６１、６２を形成した前面ガラス基板
４上に、スパッタリング法や電子線蒸着法等の成膜手法
を用いてクロム（Ｃｒ）膜で銅（Ｃｕ）膜をサンドイッ
チしたＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層膜を形成する。次いで、周
知のフォトエッチング法を用いてＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層
膜の加工を行い、表示電極６１、６２の一部と重なるよ
うに電極パターンを形成し、バス電極７１、７２とす
る。Ｃｕ膜の膜厚とバス電極のパターン寸法はバス電極
に要求される抵抗値等によって定めれば良い。 （４） 表示電極パターンとバス電極パターンを形成し
た前面ガラス基板４の所定の場所にアルミニウム（Ａ
ｌ）、シリコン（Ｓｉ）、酸素（Ｏ）を主成分とする加
水分解型コーティング剤（アルコキシドなど）をブレー
ド法やスプレー法等の手法によって塗布し、１００〜４
００℃の温度で１〜６０分間加熱することにより０．０
０５〜０．０３ｍｍの誘電体層８を形成する。 （５） 誘電体層８を形成した前面基板１上に厚膜印刷
法によりガラスペーストを格子状のパターンに印刷し、
１００〜１５０℃の温度で乾燥する。次いで、５００〜
６００℃の温度で焼成し、バリアリブ１１０を形成す
る。 （６） スパッタリング法や電子線蒸着法等の成膜手法
を用いてＭｇＯを所定の場所に成膜し、保護膜９とす
る。これで、バリアリブ１１０を備えた前面基板１が完
成する。
【００３４】以上の工程で作製した前面基板１と第１の
実施の形態と同じ製造方法により作製した背面基板２、
第１の隔壁基板の位置合せを行い、周辺にフリットガラ
スをディスペンサで塗布した後、３００〜４００℃の熱
処理によってこれらの基板を固定する。この場合、前面
基板１に設けた表示電極６およびバス電極７と背面基板
５に設けたアドレス電極１０をほぼ直交させる。なお、
本実施の形態では、前面基板１および背面基板２に保護
膜（ＭｇＯ）９を形成してからフリットガラスの塗布を
行っているが、保護膜９の汚染防止の意味からは、フリ
ットガラスの塗布・乾燥を行ってから、保護膜９を形成
することが望ましい。次に、背面基板に設けたチップ管
（図示せず）を通して前面基板１と背面基板２の間に形
成される放電空間３の真空排気を行った後、例えば３％
のＸｅを含むＮｅを放電空間３に導入し、放電空間３内
の圧力を３５〜７０ｋＰａに調節する。次いで、チップ
管（図示せず）の局部加熱によってチップオフを行うこ
とにより図３に示したガス放電型表示装置が完成する。
実施の形態と同じ製造方法により作製した背面基板２、
第１の隔壁基板の位置合せを行い、周辺にフリットガラ
スをディスペンサで塗布した後、３００〜４００℃の熱
処理によってこれらの基板を固定する。この場合、前面
基板１に設けた表示電極６およびバス電極７と背面基板
５に設けたアドレス電極１０をほぼ直交させる。なお、
本実施の形態では、前面基板１および背面基板２に保護
膜（ＭｇＯ）９を形成してからフリットガラスの塗布を
行っているが、保護膜９の汚染防止の意味からは、フリ
ットガラスの塗布・乾燥を行ってから、保護膜９を形成
することが望ましい。次に、背面基板に設けたチップ管
（図示せず）を通して前面基板１と背面基板２の間に形
成される放電空間３の真空排気を行った後、例えば３％
のＸｅを含むＮｅを放電空間３に導入し、放電空間３内
の圧力を３５〜７０ｋＰａに調節する。次いで、チップ
管（図示せず）の局部加熱によってチップオフを行うこ
とにより図３に示したガス放電型表示装置が完成する。
【００３５】本実施の形態では、バス電極７の材料とし
てＣｕとＣｒを用いているが、ＡｌやＴｉ、Ｎｉ、Ｗ、
Ｍｏの金属やこれらの合金を用いても差し支えない。ま
た、バス電極７を構成する材料の形成方法としてスパッ
タリング法や電子線蒸着法を用いているが、形成方法に
制限はなく、めっき法や抵抗加熱蒸着法、厚膜印刷法な
どを用いても良い。表示電極６を構成する透明電極材料
も酸化すずやＩＴＯに限定されるものではなく、その形
成方法としてもスパッタリング法や電子線蒸着法に限定
されず、化学気相反応法やゾルーゲル法などを用いても
差し支えない。誘電体層８の形成にはアルコキシドを用
いているが、この場合にも形成方法に制限なく、スパッ
タリング法や化学気相反応法、厚膜印刷法などを用いて
も差し支えない。保護膜としてＭｇＯを用いているが、
スパッタリング率が低く、２次電子放出係数が高ければ
良く、ＭｇＯのほか、ＣａＯやＳｒＯ、これらの混合物
を用いても差し支えない。
てＣｕとＣｒを用いているが、ＡｌやＴｉ、Ｎｉ、Ｗ、
Ｍｏの金属やこれらの合金を用いても差し支えない。ま
た、バス電極７を構成する材料の形成方法としてスパッ
タリング法や電子線蒸着法を用いているが、形成方法に
制限はなく、めっき法や抵抗加熱蒸着法、厚膜印刷法な
どを用いても良い。表示電極６を構成する透明電極材料
も酸化すずやＩＴＯに限定されるものではなく、その形
成方法としてもスパッタリング法や電子線蒸着法に限定
されず、化学気相反応法やゾルーゲル法などを用いても
差し支えない。誘電体層８の形成にはアルコキシドを用
いているが、この場合にも形成方法に制限なく、スパッ
タリング法や化学気相反応法、厚膜印刷法などを用いて
も差し支えない。保護膜としてＭｇＯを用いているが、
スパッタリング率が低く、２次電子放出係数が高ければ
良く、ＭｇＯのほか、ＣａＯやＳｒＯ、これらの混合物
を用いても差し支えない。
【００３６】本実施の形態において本発明を適用したと
ころは、第２の実施の形態の場合と同じであり、第２の
実施の形態と同じ効果を得ることができる。
ころは、第２の実施の形態の場合と同じであり、第２の
実施の形態と同じ効果を得ることができる。
【００３７】（実施の形態４，５）本発明の第４の実施
の形態を図４により、第５の実施の形態を図５により説
明する。これらの図は本発明を適用したガス放電型表示
装置の一部を断面図で示したものである。図４と図５に
おいて、（ａ）はアドレス電極に平行な断面を、（ｂ）
は（ａ）に示したアドレス電極に垂直なＡ−Ｂ断面を、
（ｃ）は（ａ）に示したアドレス電極に垂直なＣ−Ｄ断
面を示している。
の形態を図４により、第５の実施の形態を図５により説
明する。これらの図は本発明を適用したガス放電型表示
装置の一部を断面図で示したものである。図４と図５に
おいて、（ａ）はアドレス電極に平行な断面を、（ｂ）
は（ａ）に示したアドレス電極に垂直なＡ−Ｂ断面を、
（ｃ）は（ａ）に示したアドレス電極に垂直なＣ−Ｄ断
面を示している。
【００３８】図４と図５よりわかるように、これらの実
施の形態と第２の実施の形態の相違点は、主放電空間１
００の伸延する方向に配列した表示セルがこの並びの方
向で隣り合う一方の表示セルと表示電極６のうち共通電
極として働く表示電極６２をバリアリブ１１０を介して
共有している点と、バリアリブ１１０上にバス電極７２
を形成している点である。これ以外の構成や本発明を適
用した点、製造方法は第２の実施の形態の場合と同じで
ある。
施の形態と第２の実施の形態の相違点は、主放電空間１
００の伸延する方向に配列した表示セルがこの並びの方
向で隣り合う一方の表示セルと表示電極６のうち共通電
極として働く表示電極６２をバリアリブ１１０を介して
共有している点と、バリアリブ１１０上にバス電極７２
を形成している点である。これ以外の構成や本発明を適
用した点、製造方法は第２の実施の形態の場合と同じで
ある。
【００３９】図４に示した第４の実施の形態では、表示
セルを選択するための放電を背面基板２に設けたアドレ
ス電極１０と前面基板１に設けた表示電極６が伸延する
方向に配列した表示セルに固有な表示電極６１の間で発
生させる。それに対し、図５に示した第５の実施の形態
では、表示セルを選択するための放電を、背面基板２に
設けたアドレス電極１０と前面基板１に設けた共通電極
として働く表示電極６２の間で発生させる。第５の実施
の形態は、共通電極として働く表示電極６２に３００Ｖ
程度の高い電圧を加えることによってすべての表示セル
に放電を発生させ、これにより、表示電極６２を被覆し
ている保護膜９とアドレス電極１０を被覆している保護
膜９の表面に壁電荷を形成し、アドレス電極１０が伸延
する方向に配列した表示セルを線順次選択するためにア
ドレス電極１０に印加する走査電圧を低くする場合に有
効である。また、図５（ｂ）には、隔壁１３とそれに設
けられた開口部１４が図示されていないが、開口部１４
が隣り合うバリアリブ１５に届くまで大きく設けられた
場合を図示しているためである。
セルを選択するための放電を背面基板２に設けたアドレ
ス電極１０と前面基板１に設けた表示電極６が伸延する
方向に配列した表示セルに固有な表示電極６１の間で発
生させる。それに対し、図５に示した第５の実施の形態
では、表示セルを選択するための放電を、背面基板２に
設けたアドレス電極１０と前面基板１に設けた共通電極
として働く表示電極６２の間で発生させる。第５の実施
の形態は、共通電極として働く表示電極６２に３００Ｖ
程度の高い電圧を加えることによってすべての表示セル
に放電を発生させ、これにより、表示電極６２を被覆し
ている保護膜９とアドレス電極１０を被覆している保護
膜９の表面に壁電荷を形成し、アドレス電極１０が伸延
する方向に配列した表示セルを線順次選択するためにア
ドレス電極１０に印加する走査電圧を低くする場合に有
効である。また、図５（ｂ）には、隔壁１３とそれに設
けられた開口部１４が図示されていないが、開口部１４
が隣り合うバリアリブ１５に届くまで大きく設けられた
場合を図示しているためである。
【００４０】第４の実施の形態と第５の実施の形態のい
ずれの場合にも、本発明を適用したところは第２の実施
の形態の場合と同じであり、第２の実施の形態の場合と
同じ効果を得ることができる。さらに、これらの実施の
形態では、主放電空間１００が伸延する方向に配列した
表示セルが、前面基板１に設けた共通電極として働く表
示電極６２をこの並びの方向で隣り合う一方の表示セル
と共有しているために第２の実施の形態に比べて放電空
間を大きくでき、また、共通電極として働く表示電極６
２に対するバス電極７２をバリアリブ１１０上に形成し
ているために第２の実施の形態に比べて開口率を大きく
することができる。このため、これらの実施の形態で
は、第２の実施の形態に比べて輝度を高くできる効果を
得ることができる。この輝度が高くなる効果は、アドレ
ス電極１０が伸延する方向に伸びたストライプ状の主放
電空間１００と前面基板１の間に格子状のバリアリブ１
１０を設け、放電空間を前面基板１の前面において各表
示セルごとの放電空間１０１として分離したために得ら
れたものである。
ずれの場合にも、本発明を適用したところは第２の実施
の形態の場合と同じであり、第２の実施の形態の場合と
同じ効果を得ることができる。さらに、これらの実施の
形態では、主放電空間１００が伸延する方向に配列した
表示セルが、前面基板１に設けた共通電極として働く表
示電極６２をこの並びの方向で隣り合う一方の表示セル
と共有しているために第２の実施の形態に比べて放電空
間を大きくでき、また、共通電極として働く表示電極６
２に対するバス電極７２をバリアリブ１１０上に形成し
ているために第２の実施の形態に比べて開口率を大きく
することができる。このため、これらの実施の形態で
は、第２の実施の形態に比べて輝度を高くできる効果を
得ることができる。この輝度が高くなる効果は、アドレ
ス電極１０が伸延する方向に伸びたストライプ状の主放
電空間１００と前面基板１の間に格子状のバリアリブ１
１０を設け、放電空間を前面基板１の前面において各表
示セルごとの放電空間１０１として分離したために得ら
れたものである。
【００４１】（実施の形態６，７）本発明の第６の実施
の形態を図６により、第７の実施の形態を図７により説
明する。これらの図も本発明を適用したガス放電型表示
装置の一部を断面図で示したものである。図６と図７に
おいて、（ａ）はアドレス電極に平行な断面を、（ｂ）
は（ａ）に示したアドレス電極に垂直なＡ−Ｂ断面を、
（ｃ）は（ａ）に示したアドレス電極に垂直なＣ−Ｄ断
面を示している。
の形態を図６により、第７の実施の形態を図７により説
明する。これらの図も本発明を適用したガス放電型表示
装置の一部を断面図で示したものである。図６と図７に
おいて、（ａ）はアドレス電極に平行な断面を、（ｂ）
は（ａ）に示したアドレス電極に垂直なＡ−Ｂ断面を、
（ｃ）は（ａ）に示したアドレス電極に垂直なＣ−Ｄ断
面を示している。
【００４２】図６と図７よりわかるように、これらの実
施の形態と第２の実施の形態の相違点は、主放電空間１
００の伸延する方向に配列した表示セルが、この並びの
方向で隣り合う両側の表示セルと表示電極６のうち共通
電極として働く表示電極６２をバリアリブ１１０を介し
て共有している点と、共通電極として働く表示電極６２
に対するバス電極７２をバリアリブ１１０上に形成して
いる点である。これ以外の構成や本発明を適用した点、
製造方法は第２の実施の形態の場合と同じである。
施の形態と第２の実施の形態の相違点は、主放電空間１
００の伸延する方向に配列した表示セルが、この並びの
方向で隣り合う両側の表示セルと表示電極６のうち共通
電極として働く表示電極６２をバリアリブ１１０を介し
て共有している点と、共通電極として働く表示電極６２
に対するバス電極７２をバリアリブ１１０上に形成して
いる点である。これ以外の構成や本発明を適用した点、
製造方法は第２の実施の形態の場合と同じである。
【００４３】図６に示した第６の実施の形態では、表示
セルを選択するための放電を背面基板２に設けたアドレ
ス電極１０と前面基板１に設けた表示電極６が伸延する
方向に配列した表示セルに固有な表示電極６１の間で発
生させる。それに対し、図７に示した第７の実施の形態
では、表示セルを選択するための放電を、背面基板２に
設けたアドレス電極１０と前面基板１に設けた表示電極
６のうち共通電極として働く表示電極６２の間で発生さ
せる。第７の実施の形態は、共通電極として働く表示電
極６２に３００Ｖ程度の高い電圧を加えることによって
すべての表示セルに放電を発生させ、これにより、表示
電極６２を被覆している保護膜９とアドレス電極１０を
被覆している保護膜９の表面に壁電荷を形成し、アドレ
ス電極１０が伸延する方向に配列した表示セルを線順次
選択するためにアドレス電極１０に印加する走査電圧を
低くする場合に有効である。また、図７（ｂ）には、隔
壁１３とそれに設けられた開口部１４が図示されていな
いが、開口部１４が隣り合うバリアリブ１５に届くまで
大きく設けられた場合を図示しているためである。
セルを選択するための放電を背面基板２に設けたアドレ
ス電極１０と前面基板１に設けた表示電極６が伸延する
方向に配列した表示セルに固有な表示電極６１の間で発
生させる。それに対し、図７に示した第７の実施の形態
では、表示セルを選択するための放電を、背面基板２に
設けたアドレス電極１０と前面基板１に設けた表示電極
６のうち共通電極として働く表示電極６２の間で発生さ
せる。第７の実施の形態は、共通電極として働く表示電
極６２に３００Ｖ程度の高い電圧を加えることによって
すべての表示セルに放電を発生させ、これにより、表示
電極６２を被覆している保護膜９とアドレス電極１０を
被覆している保護膜９の表面に壁電荷を形成し、アドレ
ス電極１０が伸延する方向に配列した表示セルを線順次
選択するためにアドレス電極１０に印加する走査電圧を
低くする場合に有効である。また、図７（ｂ）には、隔
壁１３とそれに設けられた開口部１４が図示されていな
いが、開口部１４が隣り合うバリアリブ１５に届くまで
大きく設けられた場合を図示しているためである。
【００４４】第６の実施の形態と第７の実施の形態のい
ずれの場合にも、本発明を適用したところは第２の実施
の形態の場合と同じであり、第２の実施の形態の場合と
同じ効果を得ることができる。さらに、これらの実施の
形態では、主放電空間１００が伸延する方向に配列した
表示セルが、前面基板１に設けた表示電極６のうち共通
電極として働く表示電極６２をこの並びの方向で隣り合
う表示セルと共有しているために放電空間を大きくで
き、また、共通電極として働く表示電極６２に対するバ
ス電極７２をバリアリブ１１０上に形成しているために
開口率を大きくできる。これらの効果は、表示電極６が
伸延する方向に配列した表示セルに固有な表示電極６１
が共通電極として働く表示電極６２の間に配置している
ため、第４の実施の形態や第５の実施の形態に比べて大
きくなる。また、これらの実施の形態では、各表示セル
は、表示電極６が伸延する方向に配列した表示セルに固
有な表示電極６１と共通電極として働く２つの表示電極
６２を有しているため、２組の表示電極６によって２組
の主放電（表示のための放電）が発生する。このため、
主放電によって発生する紫外線の強度が大きくなり、蛍
光体から発生する可視光の強度も大きくなる。これによ
って、輝度がさらに大きくなる。このように、第６の実
施の形態と第７の実施の形態のガス放電型表示装置で
は、第２〜５の実施の形態に比べて輝度を高くできる効
果を得ることができる。この輝度が高くなる効果は、ア
ドレス電極１０が伸延する方向に伸びたストライプ状の
主放電空間１００と前面基板１の間に格子状のバリアリ
ブ１１０を設け、放電空間を前面基板１の前面において
各表示セルごとの放電空間１０１として分離したために
得られたものである。
ずれの場合にも、本発明を適用したところは第２の実施
の形態の場合と同じであり、第２の実施の形態の場合と
同じ効果を得ることができる。さらに、これらの実施の
形態では、主放電空間１００が伸延する方向に配列した
表示セルが、前面基板１に設けた表示電極６のうち共通
電極として働く表示電極６２をこの並びの方向で隣り合
う表示セルと共有しているために放電空間を大きくで
き、また、共通電極として働く表示電極６２に対するバ
ス電極７２をバリアリブ１１０上に形成しているために
開口率を大きくできる。これらの効果は、表示電極６が
伸延する方向に配列した表示セルに固有な表示電極６１
が共通電極として働く表示電極６２の間に配置している
ため、第４の実施の形態や第５の実施の形態に比べて大
きくなる。また、これらの実施の形態では、各表示セル
は、表示電極６が伸延する方向に配列した表示セルに固
有な表示電極６１と共通電極として働く２つの表示電極
６２を有しているため、２組の表示電極６によって２組
の主放電（表示のための放電）が発生する。このため、
主放電によって発生する紫外線の強度が大きくなり、蛍
光体から発生する可視光の強度も大きくなる。これによ
って、輝度がさらに大きくなる。このように、第６の実
施の形態と第７の実施の形態のガス放電型表示装置で
は、第２〜５の実施の形態に比べて輝度を高くできる効
果を得ることができる。この輝度が高くなる効果は、ア
ドレス電極１０が伸延する方向に伸びたストライプ状の
主放電空間１００と前面基板１の間に格子状のバリアリ
ブ１１０を設け、放電空間を前面基板１の前面において
各表示セルごとの放電空間１０１として分離したために
得られたものである。
【００４５】（実施の形態８）本発明の第８の実施の形
態を図８により説明する。図８は本発明を適用したガス
放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。図
８（ａ）はアドレス電極に平行な断面を、同図（ｂ）は
同図（ａ）に示したアドレス電極に垂直であるＡ−Ｂ断
面を、同図（ｃ）は同図（ａ）に示したアドレス電極に
垂直であるＣ−Ｄ断面を示している。
態を図８により説明する。図８は本発明を適用したガス
放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。図
８（ａ）はアドレス電極に平行な断面を、同図（ｂ）は
同図（ａ）に示したアドレス電極に垂直であるＡ−Ｂ断
面を、同図（ｃ）は同図（ａ）に示したアドレス電極に
垂直であるＣ−Ｄ断面を示している。
【００４６】図８よりわかるように、この実施の形態と
第１の実施の形態の相違点は主放電空間１００を形成す
る隔壁基板の構造にあり、隔壁１３の前面基板１に対向
する面に主放電空間１００を各表示セルごとに分離する
ための格子状のバリアリブ１１が設けられている点と、
隔壁１３に設けられた主放電空間１００と背面基板２を
連絡する開口部１４がアドレス電極１０が伸延する方向
に対して直角な方向に伸延し、表示電極６が伸延する方
向に配列した表示セルにおいて開口部１４がつながって
いる点が異なっている。このような構造を有する隔壁基
板を第３の隔壁基板と呼ぶことにする。この実施の形態
では、表示電極６が伸延する方向の並びの方向に配列し
た表示セルでつながっている開口部１４を通して、放電
空間１００の真空排気と放電ガスの封入が行われる。こ
れ以外の構成と製造方法は第１の実施の形態の場合と同
じである。
第１の実施の形態の相違点は主放電空間１００を形成す
る隔壁基板の構造にあり、隔壁１３の前面基板１に対向
する面に主放電空間１００を各表示セルごとに分離する
ための格子状のバリアリブ１１が設けられている点と、
隔壁１３に設けられた主放電空間１００と背面基板２を
連絡する開口部１４がアドレス電極１０が伸延する方向
に対して直角な方向に伸延し、表示電極６が伸延する方
向に配列した表示セルにおいて開口部１４がつながって
いる点が異なっている。このような構造を有する隔壁基
板を第３の隔壁基板と呼ぶことにする。この実施の形態
では、表示電極６が伸延する方向の並びの方向に配列し
た表示セルでつながっている開口部１４を通して、放電
空間１００の真空排気と放電ガスの封入が行われる。こ
れ以外の構成と製造方法は第１の実施の形態の場合と同
じである。
【００４７】第８の実施の形態において本発明を適用し
た点を、図１８に示した従来のガス放電型表示装置との
比較でまとめると次のようになる。 （１） 蛍光体層１２は隔壁１３とバリアリブ１１の表
面に形成されており、アドレス電極１０の表面には直接
形成されていない。 （２） 隔壁１３の前面基板１と対向する面に主放電空
間１００を各表示セルごとに分離するための格子状のバ
リアリブ１１０が設けられている。 （３） 前面基板１の表示電極６（およびバス電極７）
と背面基板２のアドレス電極１０が交差するところに蛍
光体層１２が存在しない場所（具体的には、隔壁１３に
設けた開口部１４）が設けられている。開口部１４は表
示電極６が伸延する方向に配列した表示セルでつながっ
ている。この開口部１４を通して、表示電極６（および
バス電極７）とアドレス電極１０の間の放電が行われ、
また、真空排気と放電ガス封入が行われる。 （４） アドレス電極１０を誘電体層８と保護膜９によ
って被覆する。
た点を、図１８に示した従来のガス放電型表示装置との
比較でまとめると次のようになる。 （１） 蛍光体層１２は隔壁１３とバリアリブ１１の表
面に形成されており、アドレス電極１０の表面には直接
形成されていない。 （２） 隔壁１３の前面基板１と対向する面に主放電空
間１００を各表示セルごとに分離するための格子状のバ
リアリブ１１０が設けられている。 （３） 前面基板１の表示電極６（およびバス電極７）
と背面基板２のアドレス電極１０が交差するところに蛍
光体層１２が存在しない場所（具体的には、隔壁１３に
設けた開口部１４）が設けられている。開口部１４は表
示電極６が伸延する方向に配列した表示セルでつながっ
ている。この開口部１４を通して、表示電極６（および
バス電極７）とアドレス電極１０の間の放電が行われ、
また、真空排気と放電ガス封入が行われる。 （４） アドレス電極１０を誘電体層８と保護膜９によ
って被覆する。
【００４８】この実施の形態で示したガス放電型表示装
置の場合にも、図１７と図１８に示した従来のガス放電
型表示装置と同じ駆動を行うことができる。すなわち、
アドレス電極を被覆する誘電体層に壁電荷を形成し、そ
の電圧に外部電圧を重畳することによってアドレス放電
を発生させて表示セルを選択する駆動を行うことができ
る。なお、表示電極６の一方の電極をすべての表示セル
に共通な共通電極とすることが多いが、この実施の形態
では、表示電極６１と表示電極６２のいずれを共通電極
としても差支えない。
置の場合にも、図１７と図１８に示した従来のガス放電
型表示装置と同じ駆動を行うことができる。すなわち、
アドレス電極を被覆する誘電体層に壁電荷を形成し、そ
の電圧に外部電圧を重畳することによってアドレス放電
を発生させて表示セルを選択する駆動を行うことができ
る。なお、表示電極６の一方の電極をすべての表示セル
に共通な共通電極とすることが多いが、この実施の形態
では、表示電極６１と表示電極６２のいずれを共通電極
としても差支えない。
【００４９】この発明の実施の形態や図１７と図１８に
示した従来例では、表示電極６あるいはアドレス電極１
０を被覆している保護膜上への壁電荷形成やアドレス放
電において、前面基板側の表示電極と背面基板側のアド
レス電極の間に放電を発生させる。この際、アドレス電
極近傍の空間で紫外線が強く発生し、放電電場が強くな
る。このため、図１７と図１８に示した従来例では、蛍
光体は発光し、イオンダメージを受ける。それに対し本
発明を適用したこの実施の形態では、紫外線強度が強く
なり、イオンダメージが大きくなる場所を蛍光体が存在
しない開口部に持ってきている。このため、図１７と図
１８に示した従来例と比較すると、アドレス放電時の蛍
光体からの発光強度が低下し、蛍光体のイオンダメージ
は抑制される結果となっている。これらは、結果的に、
ガス放電型表示装置のコントラストと寿命の改善につな
がる。
示した従来例では、表示電極６あるいはアドレス電極１
０を被覆している保護膜上への壁電荷形成やアドレス放
電において、前面基板側の表示電極と背面基板側のアド
レス電極の間に放電を発生させる。この際、アドレス電
極近傍の空間で紫外線が強く発生し、放電電場が強くな
る。このため、図１７と図１８に示した従来例では、蛍
光体は発光し、イオンダメージを受ける。それに対し本
発明を適用したこの実施の形態では、紫外線強度が強く
なり、イオンダメージが大きくなる場所を蛍光体が存在
しない開口部に持ってきている。このため、図１７と図
１８に示した従来例と比較すると、アドレス放電時の蛍
光体からの発光強度が低下し、蛍光体のイオンダメージ
は抑制される結果となっている。これらは、結果的に、
ガス放電型表示装置のコントラストと寿命の改善につな
がる。
【００５０】また、この発明の実施の形態では、アドレ
ス電極１０を誘電体層８と保護膜９によって被覆するこ
とによりスパッタ現象による損傷を抑制して長寿命化を
はかり、２次電子放出能を高めることによって前面基板
側の表示電極と背面基板側のアドレス電極の間の放電電
圧を低くしている。これにより、前面基板１に設けた表
示電極６と背面基板２に設けたアドレス電極１０の間に
印加するアドレス（走査）電圧を低くできるため、表示
電極６が伸延する方向に配列した表示セルに固有な表示
電極６とアドレス電極１０の間の放電により表示セルを
ダイレクトに選択できるようになり、アドレス電圧低下
のための壁電荷形成を省略できる可能性が出てくる。こ
の結果、壁電荷形成によるアドレス電圧低下の必要性や
表示セルの選択時に余分な表示セルの発光をなくすこと
ができ、高いコントラストを得ることができるようにな
る。このように、本実施の形態のガス放電型表示装置に
よれば、コントラストと寿命を改善でき、表示電極とア
ドレス電極の間の放電電圧を低くできる効果がある。ま
た、ガス放電型表示装置を製造する上でも、バリアリブ
の製造歩留まり低下に伴う、背面基板２の損失をなくす
ことができる効果がある。
ス電極１０を誘電体層８と保護膜９によって被覆するこ
とによりスパッタ現象による損傷を抑制して長寿命化を
はかり、２次電子放出能を高めることによって前面基板
側の表示電極と背面基板側のアドレス電極の間の放電電
圧を低くしている。これにより、前面基板１に設けた表
示電極６と背面基板２に設けたアドレス電極１０の間に
印加するアドレス（走査）電圧を低くできるため、表示
電極６が伸延する方向に配列した表示セルに固有な表示
電極６とアドレス電極１０の間の放電により表示セルを
ダイレクトに選択できるようになり、アドレス電圧低下
のための壁電荷形成を省略できる可能性が出てくる。こ
の結果、壁電荷形成によるアドレス電圧低下の必要性や
表示セルの選択時に余分な表示セルの発光をなくすこと
ができ、高いコントラストを得ることができるようにな
る。このように、本実施の形態のガス放電型表示装置に
よれば、コントラストと寿命を改善でき、表示電極とア
ドレス電極の間の放電電圧を低くできる効果がある。ま
た、ガス放電型表示装置を製造する上でも、バリアリブ
の製造歩留まり低下に伴う、背面基板２の損失をなくす
ことができる効果がある。
【００５１】さらに、本実施の形態では、表示電極を備
えた前面基板１の前面において、主放電空間１００がバ
リアリブ１１によって各表示セルごとに分離されている
ため、同一主放電空間１００を有する隣り合う表示セル
の電極間隔を小さくできる。このため、開口率を高くす
ることによってガス放電型表示装置の輝度を高くした
り、表示セルの微細化により、ガス放電型表示装置の高
精細化が達成できる効果がある。この効果は、第２、第
３の実施の形態でも得られている。しかし、第２の実施
の形態では、放電空間を前面基板１の前面で各表示セル
ごとに分離するために格子状のバリアリブ１１０を有す
る第２の隔壁基板を用いており、第３の実施の形態で
は、格子状のバリアリブ１１０を前面基板１上に形成し
ている。これに対し、第８の実施の形態では、格子状の
バリアリブ１１０を有する第２の隔壁基板や前面基板１
上に形成した格子状のバリアリブ１１０を用いない単純
な構造で、第２、第３の実施の形態と同じ効果を得てい
る。また、第２、第３の実施の形態では表示のための放
電空間が各表示セルごとに分離された前面基板１側の放
電空間１０１と主放電空間１００から構成されているた
め、前面基板１側の表示電極６と背面基板２側のアドレ
ス電極１０の間の距離が大きくなり、表示電極６とアド
レス電極１０の間の放電電圧が第１の実施の形態に比べ
て高くなってしまう傾向がある。これに対し第８の実施
の形態では、表示のための放電空間が主放電空間１００
のみから構成されているため、表示電極６とアドレス電
極１０の間の放電電圧が第１の実施の形態と同等であ
り、表示電極６とアドレス電極１０の間の放電電圧が第
２、第３の実施の形態に比べて低くなる。
えた前面基板１の前面において、主放電空間１００がバ
リアリブ１１によって各表示セルごとに分離されている
ため、同一主放電空間１００を有する隣り合う表示セル
の電極間隔を小さくできる。このため、開口率を高くす
ることによってガス放電型表示装置の輝度を高くした
り、表示セルの微細化により、ガス放電型表示装置の高
精細化が達成できる効果がある。この効果は、第２、第
３の実施の形態でも得られている。しかし、第２の実施
の形態では、放電空間を前面基板１の前面で各表示セル
ごとに分離するために格子状のバリアリブ１１０を有す
る第２の隔壁基板を用いており、第３の実施の形態で
は、格子状のバリアリブ１１０を前面基板１上に形成し
ている。これに対し、第８の実施の形態では、格子状の
バリアリブ１１０を有する第２の隔壁基板や前面基板１
上に形成した格子状のバリアリブ１１０を用いない単純
な構造で、第２、第３の実施の形態と同じ効果を得てい
る。また、第２、第３の実施の形態では表示のための放
電空間が各表示セルごとに分離された前面基板１側の放
電空間１０１と主放電空間１００から構成されているた
め、前面基板１側の表示電極６と背面基板２側のアドレ
ス電極１０の間の距離が大きくなり、表示電極６とアド
レス電極１０の間の放電電圧が第１の実施の形態に比べ
て高くなってしまう傾向がある。これに対し第８の実施
の形態では、表示のための放電空間が主放電空間１００
のみから構成されているため、表示電極６とアドレス電
極１０の間の放電電圧が第１の実施の形態と同等であ
り、表示電極６とアドレス電極１０の間の放電電圧が第
２、第３の実施の形態に比べて低くなる。
【００５２】以上述べてきたように、この実施の形態で
は、第１〜３の実施の形態でそれぞれ得られた効果を得
ることができる。
は、第１〜３の実施の形態でそれぞれ得られた効果を得
ることができる。
【００５３】（実施の形態９，１０）本発明の第９の実
施の形態を図９により、第１０の実施の形態を図１０に
より説明する。これらの図は本発明を適用したガス放電
型表示装置の一部を断面図で示したものである。図９と
図１０において、（ａ）はアドレス電極に平行な断面
を、（ｂ）は（ａ）に示したアドレス電極に垂直なＡ−
Ｂ断面を、（ｃ）は（ａ）に示したアドレス電極に垂直
なＣ−Ｄ断面を示している。
施の形態を図９により、第１０の実施の形態を図１０に
より説明する。これらの図は本発明を適用したガス放電
型表示装置の一部を断面図で示したものである。図９と
図１０において、（ａ）はアドレス電極に平行な断面
を、（ｂ）は（ａ）に示したアドレス電極に垂直なＡ−
Ｂ断面を、（ｃ）は（ａ）に示したアドレス電極に垂直
なＣ−Ｄ断面を示している。
【００５４】図９と図１０よりわかるように、これらの
実施の形態と第８の実施の形態の相違点は、アドレス電
極１０が伸延する方向に配列した表示セルがこの並びの
方向で隣り合う一方の表示セルと表示電極６のうち共通
電極として働く表示電極６２をバリアリブ１１を介して
共有している点と、共通電極として働く表示電極６２に
対するバス電極７２をバリアリブ１１上に形成している
点である。これ以外の構成や本発明を適用した点、製造
方法は第８の実施の形態と同じである。
実施の形態と第８の実施の形態の相違点は、アドレス電
極１０が伸延する方向に配列した表示セルがこの並びの
方向で隣り合う一方の表示セルと表示電極６のうち共通
電極として働く表示電極６２をバリアリブ１１を介して
共有している点と、共通電極として働く表示電極６２に
対するバス電極７２をバリアリブ１１上に形成している
点である。これ以外の構成や本発明を適用した点、製造
方法は第８の実施の形態と同じである。
【００５５】図９に示した第９の実施の形態では、表示
セルを選択するための放電を、前面基板１に設けた表示
電極６が伸延する方向に配列した表示セルに固有な表示
電極６１と背面基板２に設けたアドレス電極１０との間
で発生させる。それに対し、図１０に示した第１０の実
施の形態では、表示セルを選択するための放電を、前面
基板１に設けた表示電極６のうち共通電極として働く表
示電極６２と背面基板２に設けたアドレス電極１０の間
で発生させる。
セルを選択するための放電を、前面基板１に設けた表示
電極６が伸延する方向に配列した表示セルに固有な表示
電極６１と背面基板２に設けたアドレス電極１０との間
で発生させる。それに対し、図１０に示した第１０の実
施の形態では、表示セルを選択するための放電を、前面
基板１に設けた表示電極６のうち共通電極として働く表
示電極６２と背面基板２に設けたアドレス電極１０の間
で発生させる。
【００５６】第９の実施の形態と第１０実施の形態のい
ずれの場合にも、本発明を適用したところは第８の実施
の形態の場合と同じであり、第８の実施の形態と同じ効
果を得ることができる。さらに、これらの実施の形態で
は、アドレス電極１０が伸延する方向に配列した表示セ
ルが、前面基板１に設けられた表示電極６のうち共通電
極として働く表示電極６２をこの並びの方向で隣り合う
一方の表示セルと共有しているために第８の実施の形態
に比べて放電空間を大きくでき、また、共通電極として
働く表示電極６２に対するバス電極７２をバリアリブ１
１上に形成しているために第８の実施の形態に比べて開
口率を大きくすることができる。このため、これらの実
施の形態では輝度を第８の実施の形態に比べて高くでき
る効果を得ることができる。この輝度が高くなる効果
は、主放電空間１００が格子状のバリアリブ１１によっ
て各表示セルごとに分離されているために得られるもの
である。
ずれの場合にも、本発明を適用したところは第８の実施
の形態の場合と同じであり、第８の実施の形態と同じ効
果を得ることができる。さらに、これらの実施の形態で
は、アドレス電極１０が伸延する方向に配列した表示セ
ルが、前面基板１に設けられた表示電極６のうち共通電
極として働く表示電極６２をこの並びの方向で隣り合う
一方の表示セルと共有しているために第８の実施の形態
に比べて放電空間を大きくでき、また、共通電極として
働く表示電極６２に対するバス電極７２をバリアリブ１
１上に形成しているために第８の実施の形態に比べて開
口率を大きくすることができる。このため、これらの実
施の形態では輝度を第８の実施の形態に比べて高くでき
る効果を得ることができる。この輝度が高くなる効果
は、主放電空間１００が格子状のバリアリブ１１によっ
て各表示セルごとに分離されているために得られるもの
である。
【００５７】（実施の形態１１，１２）本発明の第１１
の実施の形態を図１１により、第１２の実施の形態を図
１２により説明する。これらの図も本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図１１と図１２において、（ａ）はアドレス電極に平行
な断面を、（ｂ）は（ａ）に示したアドレス電極に垂直
なＡ−Ｂ断面を、（ｃ）は（ａ）に示したアドレス電極
に垂直なＣ−Ｄ断面を示している。
の実施の形態を図１１により、第１２の実施の形態を図
１２により説明する。これらの図も本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図１１と図１２において、（ａ）はアドレス電極に平行
な断面を、（ｂ）は（ａ）に示したアドレス電極に垂直
なＡ−Ｂ断面を、（ｃ）は（ａ）に示したアドレス電極
に垂直なＣ−Ｄ断面を示している。
【００５８】図１１と図１２よりわかるように、これら
の実施の形態と第８の実施の形態の相違点は、アドレス
電極１０が伸延する方向に配列した表示セルがこの並び
の方向で隣り合う両側の表示セルと表示電極６のうち共
通電極として働く表示電極６２をバリアリブ１１を介し
て共有している点と、バリアリブ１１上に表示電極６２
に対するバス電極７２を形成している点である。これ以
外の構成や本発明を適用した点、製造方法は第８の実施
の形態の場合と同じである。
の実施の形態と第８の実施の形態の相違点は、アドレス
電極１０が伸延する方向に配列した表示セルがこの並び
の方向で隣り合う両側の表示セルと表示電極６のうち共
通電極として働く表示電極６２をバリアリブ１１を介し
て共有している点と、バリアリブ１１上に表示電極６２
に対するバス電極７２を形成している点である。これ以
外の構成や本発明を適用した点、製造方法は第８の実施
の形態の場合と同じである。
【００５９】図１１に示した第１１の実施の形態では、
表示セルを選択するための放電を、前面基板１に設けら
れた表示電極６が伸延する方向に配列した表示セルに固
有な表示電極６１と背面基板２に設けられたアドレス電
極１０の間で発生させる。それに対し、図１２に示した
第１２の実施の形態では、表示セルを選択するための放
電を、前面基板１に設けられた表示電極６のうち共通電
極として働く表示電極６２と背面基板２に設けられたア
ドレス電極１０との間で発生させる。
表示セルを選択するための放電を、前面基板１に設けら
れた表示電極６が伸延する方向に配列した表示セルに固
有な表示電極６１と背面基板２に設けられたアドレス電
極１０の間で発生させる。それに対し、図１２に示した
第１２の実施の形態では、表示セルを選択するための放
電を、前面基板１に設けられた表示電極６のうち共通電
極として働く表示電極６２と背面基板２に設けられたア
ドレス電極１０との間で発生させる。
【００６０】第１１の実施の形態と第１２の実施の形態
のいずれの場合にも、本発明を適用したところは第８の
実施の形態の場合と同じであり、第８の実施の形態と同
じ効果を得ることができる。
のいずれの場合にも、本発明を適用したところは第８の
実施の形態の場合と同じであり、第８の実施の形態と同
じ効果を得ることができる。
【００６１】さらに、これらの実施の形態では、アドレ
ス電極１０が伸延する方向に配列した表示セルが、前面
基板１に設けられた表示電極６のうち共通電極として働
く表示電極６２をこの並びの方向で隣り合う表示セルと
共有しているために放電空間を大きくでき、また、共通
電極として働く表示電極６２に対するバス電極７２をバ
リアリブ１１上に形成しているために開口率を大きくす
ることができる。これらの効果は、前面基板１に設けら
れた表示電極６が伸延する方向に配列した表示セルに固
有な表示電極６１が共通電極として働く表示電極６２の
間に配置しているため、第９の実施の形態や第１０の実
施の形態に比べて大きくなる。また、これらの実施の形
態では、各表示セルは、表示電極６が伸延する方向に配
列した表示セルに固有な表示電極６１と共通電極として
働く２つの表示電極６２を有しているため、２組の表示
電極６によって２組の主放電（表示のための放電）が発
生する。このため、主放電によって発生する紫外線の強
度が大きくなり、蛍光体から発生する可視光の強度も大
きくなる。これによって、輝度がさらに大きくなる。こ
のように、第１１の実施の形態と第１２の実施の形態の
ガス放電型表示装置では、第８〜第１０の実施の形態に
比べて輝度を高くできる効果を得られる。この輝度が高
くなる効果は、主放電空間１００が格子状のバリアリブ
１１によって各表示セルごとに分離されているために得
られるものである。
ス電極１０が伸延する方向に配列した表示セルが、前面
基板１に設けられた表示電極６のうち共通電極として働
く表示電極６２をこの並びの方向で隣り合う表示セルと
共有しているために放電空間を大きくでき、また、共通
電極として働く表示電極６２に対するバス電極７２をバ
リアリブ１１上に形成しているために開口率を大きくす
ることができる。これらの効果は、前面基板１に設けら
れた表示電極６が伸延する方向に配列した表示セルに固
有な表示電極６１が共通電極として働く表示電極６２の
間に配置しているため、第９の実施の形態や第１０の実
施の形態に比べて大きくなる。また、これらの実施の形
態では、各表示セルは、表示電極６が伸延する方向に配
列した表示セルに固有な表示電極６１と共通電極として
働く２つの表示電極６２を有しているため、２組の表示
電極６によって２組の主放電（表示のための放電）が発
生する。このため、主放電によって発生する紫外線の強
度が大きくなり、蛍光体から発生する可視光の強度も大
きくなる。これによって、輝度がさらに大きくなる。こ
のように、第１１の実施の形態と第１２の実施の形態の
ガス放電型表示装置では、第８〜第１０の実施の形態に
比べて輝度を高くできる効果を得られる。この輝度が高
くなる効果は、主放電空間１００が格子状のバリアリブ
１１によって各表示セルごとに分離されているために得
られるものである。
【００６２】（実施の形態１３，１４）本発明の第１３
の実施の形態を図１３により、第１４の実施の形態を図
１４により説明する。これらの図は本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図１３および図１４の（ａ）はアドレス電極に平行な断
面を、同図（ｂ）はアドレス電極に垂直である同図
（ａ）に示したＡ−Ｂ断面を、同図（ｃ）はアドレス電
極に垂直である同図（ａ）に示したＣ−Ｄ断面を示して
いる。
の実施の形態を図１３により、第１４の実施の形態を図
１４により説明する。これらの図は本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図１３および図１４の（ａ）はアドレス電極に平行な断
面を、同図（ｂ）はアドレス電極に垂直である同図
（ａ）に示したＡ−Ｂ断面を、同図（ｃ）はアドレス電
極に垂直である同図（ａ）に示したＣ−Ｄ断面を示して
いる。
【００６３】図１３と図１４よりわかるように、これら
の実施の形態と第１の実施の形態の相違点は、主放電空
間１０と背面基板２を分離するための隔壁１３と背面基
板２の間にストライプ状の放電空間２００が設けられ、
当該背面基板側の放電空間２００と主放電空間１００は
開口部１４で接続されている点にある。第１３の実施の
形態では、背面基板側の放電空間２００は背面基板２に
設けられたアドレス電極１０が伸延する方向に伸びてお
り、この方向に配列した表示セルによって共有されてい
る。第１４の実施の形態では、背面基板側の放電空間２
００は前面基板１に設けられた表示電極６が伸延する方
向に伸びており、表示電極６が伸延する方向に配列した
表示セルによって共有されている。これらの実施の形態
では、表示セルを選択するための前面基板１に設けられ
た表示電極６と背面基板２に設けられたアドレス電極１
０の間の放電を隔壁１３に設けられた開口部１４と、主
放電空間１００、背面基板側の放電空間２００を介して
行うことになる。これ以外の構成や製造方法は第１の実
施の形態の場合と同じである。
の実施の形態と第１の実施の形態の相違点は、主放電空
間１０と背面基板２を分離するための隔壁１３と背面基
板２の間にストライプ状の放電空間２００が設けられ、
当該背面基板側の放電空間２００と主放電空間１００は
開口部１４で接続されている点にある。第１３の実施の
形態では、背面基板側の放電空間２００は背面基板２に
設けられたアドレス電極１０が伸延する方向に伸びてお
り、この方向に配列した表示セルによって共有されてい
る。第１４の実施の形態では、背面基板側の放電空間２
００は前面基板１に設けられた表示電極６が伸延する方
向に伸びており、表示電極６が伸延する方向に配列した
表示セルによって共有されている。これらの実施の形態
では、表示セルを選択するための前面基板１に設けられ
た表示電極６と背面基板２に設けられたアドレス電極１
０の間の放電を隔壁１３に設けられた開口部１４と、主
放電空間１００、背面基板側の放電空間２００を介して
行うことになる。これ以外の構成や製造方法は第１の実
施の形態の場合と同じである。
【００６４】第１３の実施の形態と第１４の実施の形態
では、ストライプ状の背面基板側の放電空間２００を背
面基板２上に設けたバリアリブ１５０によって形成して
いる。この背面基板側の放電空間２００を形成するため
のバリアリブ１５０を備えた背面基板２の製造方法の一
例を図２２に従って説明する。 （１） ソーダライムガラス等を背面ガラス基板５とし
て購入し、中性洗剤等を用いて洗浄する。 （２） 洗浄した背面ガラス基板５上にスパッタリング
法や電子線蒸着法等の成膜手法によりＣｒ膜でＣｕ膜を
サンドイッチしたＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層膜を形成する。
次いで、周知のフォトエッチング法を用いてＣｒ／Ｃｕ
／Ｃｒ積層膜を加工し、アドレス電極１０とする電極パ
ターンを形成する。Ｃｕ膜の膜厚とアドレス電極のパタ
ーン寸法はアドレス電極に要求される抵抗値によって定
めれば良い。 （３） アドレス電極１０を形成した背面ガラス基板５
の所定の場所に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｏを主成分とする加水分
解型コーティング剤（アルコキシドなど）をブレード法
やスプレー法等の手法を用いて塗布し、１００〜４００
℃の温度で１〜６０分間の加熱を行い、０．００５〜
０．０３ｍｍの誘電体層８を形成する。 （４） 誘電体層８を形成した前面基板１上に厚膜印刷
法によりガラスペーストを格子状のパターンに印刷し、
１００〜１５０℃の温度で乾燥する。次いで、５００〜
６００℃の温度で焼成し、バリアリブ１５０を形成す
る。第１３の実施の形態と第１４の実施の形態では、こ
の工程における厚膜印刷パターンの形状が異なる。 （５） スパッタリング法や電子線蒸着法等の成膜手法
を用いてＭｇＯを所定の場所に成膜し、保護膜９とす
る。 以上の工程により、バリアリブ１５０を備えた背面基板
２が完成する。なお、背面基板２には、パネル組み立て
後に行う排気とガス導入のためにチップ管（図示せず）
を取り付ける。
では、ストライプ状の背面基板側の放電空間２００を背
面基板２上に設けたバリアリブ１５０によって形成して
いる。この背面基板側の放電空間２００を形成するため
のバリアリブ１５０を備えた背面基板２の製造方法の一
例を図２２に従って説明する。 （１） ソーダライムガラス等を背面ガラス基板５とし
て購入し、中性洗剤等を用いて洗浄する。 （２） 洗浄した背面ガラス基板５上にスパッタリング
法や電子線蒸着法等の成膜手法によりＣｒ膜でＣｕ膜を
サンドイッチしたＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層膜を形成する。
次いで、周知のフォトエッチング法を用いてＣｒ／Ｃｕ
／Ｃｒ積層膜を加工し、アドレス電極１０とする電極パ
ターンを形成する。Ｃｕ膜の膜厚とアドレス電極のパタ
ーン寸法はアドレス電極に要求される抵抗値によって定
めれば良い。 （３） アドレス電極１０を形成した背面ガラス基板５
の所定の場所に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｏを主成分とする加水分
解型コーティング剤（アルコキシドなど）をブレード法
やスプレー法等の手法を用いて塗布し、１００〜４００
℃の温度で１〜６０分間の加熱を行い、０．００５〜
０．０３ｍｍの誘電体層８を形成する。 （４） 誘電体層８を形成した前面基板１上に厚膜印刷
法によりガラスペーストを格子状のパターンに印刷し、
１００〜１５０℃の温度で乾燥する。次いで、５００〜
６００℃の温度で焼成し、バリアリブ１５０を形成す
る。第１３の実施の形態と第１４の実施の形態では、こ
の工程における厚膜印刷パターンの形状が異なる。 （５） スパッタリング法や電子線蒸着法等の成膜手法
を用いてＭｇＯを所定の場所に成膜し、保護膜９とす
る。 以上の工程により、バリアリブ１５０を備えた背面基板
２が完成する。なお、背面基板２には、パネル組み立て
後に行う排気とガス導入のためにチップ管（図示せず）
を取り付ける。
【００６５】以上の工程で作製した背面基板２と第１の
実施の形態と同じ方法で作製した前面基板１と第１の隔
壁基板の位置合せを行い、周辺にフリットガラスをディ
スペンサで塗布した後、３００〜４００℃の熱処理によ
ってこれらの基板を固定する。この場合、前面基板１に
設けた表示電極６およびバス電極７と背面基板５に設け
たアドレス電極１０をほぼ直交させる。本実施の形態に
おいても、前面基板１および背面基板２に保護膜（Ｍｇ
Ｏ）９を形成してからフリットガラスの塗布を行ってい
るが、保護膜９の汚染防止を考えると、フリットガラス
の塗布、乾燥を行ってから保護膜９を形成することが望
ましい。次に、背面基板に設けたチップ管（図示せず）
を通して前面基板１と背面基板２の間に形成される放電
空間３の真空排気を行った後、例えば３％のＸｅを含む
Ｎｅを放電空間３に導入し、放電空間３内の圧力を３５
〜７０ｋＰａに調節する。次いで、チップ管（図示せ
ず）の局部加熱によってチップオフを行うことにより図
１３あるいは図１４に示したガス放電型表示装置が完成
する。本実施の形態では、バリアリブ１５０の形成方法
として厚膜印刷法を用いているが、これに限定するもの
ではない。例えば、ガラスペーストをベタ印刷、乾燥後
にドライフィルムパターンを形成してサンドブラスト法
によって加工する方法やドライフィルムパターンを形成
した後にリブ材料を埋め込む方法なども有効な方法とし
て考えられる。
実施の形態と同じ方法で作製した前面基板１と第１の隔
壁基板の位置合せを行い、周辺にフリットガラスをディ
スペンサで塗布した後、３００〜４００℃の熱処理によ
ってこれらの基板を固定する。この場合、前面基板１に
設けた表示電極６およびバス電極７と背面基板５に設け
たアドレス電極１０をほぼ直交させる。本実施の形態に
おいても、前面基板１および背面基板２に保護膜（Ｍｇ
Ｏ）９を形成してからフリットガラスの塗布を行ってい
るが、保護膜９の汚染防止を考えると、フリットガラス
の塗布、乾燥を行ってから保護膜９を形成することが望
ましい。次に、背面基板に設けたチップ管（図示せず）
を通して前面基板１と背面基板２の間に形成される放電
空間３の真空排気を行った後、例えば３％のＸｅを含む
Ｎｅを放電空間３に導入し、放電空間３内の圧力を３５
〜７０ｋＰａに調節する。次いで、チップ管（図示せ
ず）の局部加熱によってチップオフを行うことにより図
１３あるいは図１４に示したガス放電型表示装置が完成
する。本実施の形態では、バリアリブ１５０の形成方法
として厚膜印刷法を用いているが、これに限定するもの
ではない。例えば、ガラスペーストをベタ印刷、乾燥後
にドライフィルムパターンを形成してサンドブラスト法
によって加工する方法やドライフィルムパターンを形成
した後にリブ材料を埋め込む方法なども有効な方法とし
て考えられる。
【００６６】第１３の実施の形態および第１４の実施の
形態において本発明を適用した点は、第１の実施の形態
において本発明を適用した点と、主放電空間１００と背
面基板２を分離するための隔壁１３と背面基板２の間に
表示セルのある並びの方向に伸延した放電空間２００を
設けた点である。従って、第１３の実施の形態と第１４
の実施の形態においても、第１の実施の形態と同じ効果
を得ることができる。すなわち、本実施の形態のガス放
電型表示装置では、図１７と図１８に示した従来のガス
放電型表示装置に比べてコントラストと寿命が改善され
るとともに、表示電極とアドレス電極の間の放電電圧を
低くでき、さらに、バリアリブの製造不良による背面基
板２の損失を無くすことができる効果がある。
形態において本発明を適用した点は、第１の実施の形態
において本発明を適用した点と、主放電空間１００と背
面基板２を分離するための隔壁１３と背面基板２の間に
表示セルのある並びの方向に伸延した放電空間２００を
設けた点である。従って、第１３の実施の形態と第１４
の実施の形態においても、第１の実施の形態と同じ効果
を得ることができる。すなわち、本実施の形態のガス放
電型表示装置では、図１７と図１８に示した従来のガス
放電型表示装置に比べてコントラストと寿命が改善され
るとともに、表示電極とアドレス電極の間の放電電圧を
低くでき、さらに、バリアリブの製造不良による背面基
板２の損失を無くすことができる効果がある。
【００６７】また、第１３の実施の形態や第１４の実施
の形態では、前面基板側の表示電極６と背面基板側のア
ドレス電極１０の間に放電を発生させると、放電が背面
基板側の放電空間２００まで広がるため、アドレス電極
１０がカソードとして働く場合にアドレス電極側で発生
する紫外線は隔壁１３によって遮蔽された背面基板側の
放電空間２００で強くなり、主放電空間１００側に存在
する蛍光体１２の発光が抑制される。このため、アドレ
ス放電電圧低下のための壁電荷形成や表示セルの線順次
選択過程における蛍光体１２の余分な発光が抑制され、
ガス放電型表示装置のコントラストがさらに改善され
る。ただし、前面基板１と背面基板２の間隔が第１の実
施の形態より大きくなるため、表示電極とアドレス電極
の間の放電電圧は第１の実施の形態の場合より高くなる
傾向がある。
の形態では、前面基板側の表示電極６と背面基板側のア
ドレス電極１０の間に放電を発生させると、放電が背面
基板側の放電空間２００まで広がるため、アドレス電極
１０がカソードとして働く場合にアドレス電極側で発生
する紫外線は隔壁１３によって遮蔽された背面基板側の
放電空間２００で強くなり、主放電空間１００側に存在
する蛍光体１２の発光が抑制される。このため、アドレ
ス放電電圧低下のための壁電荷形成や表示セルの線順次
選択過程における蛍光体１２の余分な発光が抑制され、
ガス放電型表示装置のコントラストがさらに改善され
る。ただし、前面基板１と背面基板２の間隔が第１の実
施の形態より大きくなるため、表示電極とアドレス電極
の間の放電電圧は第１の実施の形態の場合より高くなる
傾向がある。
【００６８】（実施の形態１５，１６）本発明の第１５
の実施の形態を図１５により、第１６の実施の形態を図
１６により説明する。これらの図は本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図１５および図１６の（ａ）はアドレス電極に平行な断
面を、同図（ｂ）はアドレス電極に垂直である同図
（ａ）に示したＡ−Ｂ断面を、同図（ｃ）はアドレス電
極に垂直である同図（ａ）に示したＣ−Ｄ断面を示して
いる。
の実施の形態を図１５により、第１６の実施の形態を図
１６により説明する。これらの図は本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図１５および図１６の（ａ）はアドレス電極に平行な断
面を、同図（ｂ）はアドレス電極に垂直である同図
（ａ）に示したＡ−Ｂ断面を、同図（ｃ）はアドレス電
極に垂直である同図（ａ）に示したＣ−Ｄ断面を示して
いる。
【００６９】図１５と図１６よりわかるように、これら
の実施の形態と第１３の実施の形態あるいは第１４の実
施の形態との相違点は、表示セルのある並びの方向に伸
延した背面基板側の放電空間２００をバリアリブ１５０
を有する隔壁基板（ここでは、第４の隔壁基板と呼ぶこ
とにする）によって形成している点である。この第４の
隔壁基板の製造方法は第２の実施の形態２における第２
の隔壁基板の製造方法と同じである。これ以外の構成や
本発明を適用した点、製造方法は第１３の実施の形態あ
るいは第１４の実施の形態と同じである。
の実施の形態と第１３の実施の形態あるいは第１４の実
施の形態との相違点は、表示セルのある並びの方向に伸
延した背面基板側の放電空間２００をバリアリブ１５０
を有する隔壁基板（ここでは、第４の隔壁基板と呼ぶこ
とにする）によって形成している点である。この第４の
隔壁基板の製造方法は第２の実施の形態２における第２
の隔壁基板の製造方法と同じである。これ以外の構成や
本発明を適用した点、製造方法は第１３の実施の形態あ
るいは第１４の実施の形態と同じである。
【００７０】第１５の実施の形態と第１６の実施の形態
では、背面基板側の放電空間２００の伸延する方向が異
なっている。すなわち、第１５の実施の形態での背面基
板側の放電空間２００は背面基板２に設けたアドレス電
極１０が伸延する方向に伸びることによってこの方向に
配列された表示セルによって共有され、第１６の実施の
形態では前面基板１に設けた表示電極６が伸延する方向
に伸びることによって表示電極６が伸延する方向に配列
した表示セルによって共有されている。
では、背面基板側の放電空間２００の伸延する方向が異
なっている。すなわち、第１５の実施の形態での背面基
板側の放電空間２００は背面基板２に設けたアドレス電
極１０が伸延する方向に伸びることによってこの方向に
配列された表示セルによって共有され、第１６の実施の
形態では前面基板１に設けた表示電極６が伸延する方向
に伸びることによって表示電極６が伸延する方向に配列
した表示セルによって共有されている。
【００７１】第１５の実施の形態と第１６の実施の形態
において本発明を適用したところは、第１３の実施の形
態や第１４の実施の形態の場合と同じであり、第１３の
実施の形態や第１４の実施の形態の場合と同じ効果を得
ることができる。ただし、第１３の実施の形態や第１４
の実施の形態では、バリアリブ１５０を背面基板２上に
直接形成するため、バリアリブ１５０の形成不良による
背面基板２の損失が発生する。それに対し、第１５の実
施の形態や第１６の実施の形態では、バリアリブ１５０
を背面基板２とは関係なく別個の部品（第４の隔壁基
板）として作製できるので、バリアリブ１５０の形成不
良により背面基板２の損失が発生することはない。
において本発明を適用したところは、第１３の実施の形
態や第１４の実施の形態の場合と同じであり、第１３の
実施の形態や第１４の実施の形態の場合と同じ効果を得
ることができる。ただし、第１３の実施の形態や第１４
の実施の形態では、バリアリブ１５０を背面基板２上に
直接形成するため、バリアリブ１５０の形成不良による
背面基板２の損失が発生する。それに対し、第１５の実
施の形態や第１６の実施の形態では、バリアリブ１５０
を背面基板２とは関係なく別個の部品（第４の隔壁基
板）として作製できるので、バリアリブ１５０の形成不
良により背面基板２の損失が発生することはない。
【００７２】（実施の形態１７，１８）本発明の第１７
の実施の形態を図２３により、第１８の実施の形態を図
２４により説明する。これらの図は本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図２３および図２４の（ａ）はアドレス電極に平行な断
面を、同図（ｂ）はアドレス電極に垂直である同図
（ａ）に示したＡ−Ｂ断面を、同図（ｃ）はアドレス電
極に垂直である同図（ａ）に示したＣ−Ｄ断面を示して
いる。
の実施の形態を図２３により、第１８の実施の形態を図
２４により説明する。これらの図は本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図２３および図２４の（ａ）はアドレス電極に平行な断
面を、同図（ｂ）はアドレス電極に垂直である同図
（ａ）に示したＡ−Ｂ断面を、同図（ｃ）はアドレス電
極に垂直である同図（ａ）に示したＣ−Ｄ断面を示して
いる。
【００７３】図２３と図２４よりわかるように、第１７
の実施の形態および第１８の実施の形態と第１３〜１６
の実施の形態の相違点は、隔壁１３が前面基板１と対向
する側の面にストライプ状のバリアリブ１１と隔壁１３
が背面基板２と対向する側の面にストライプ状のバリア
リブ１５を有する隔壁基板（ここでは、第５の隔壁基板
と呼ぶことにする）によって、前面基板１側の主放電空
間１００と背面基板２側の放電空間２００を形成してい
る点にある。これ以外の構成や本発明を適用した点、製
造方法は第１３〜１６の実施の形態と同じである。これ
らの実施の形態で放電空間を形成する第５の隔壁基板
は、第１の実施の形態の説明した第１の隔壁基板の製造
方法と同じ方法で形成される。
の実施の形態および第１８の実施の形態と第１３〜１６
の実施の形態の相違点は、隔壁１３が前面基板１と対向
する側の面にストライプ状のバリアリブ１１と隔壁１３
が背面基板２と対向する側の面にストライプ状のバリア
リブ１５を有する隔壁基板（ここでは、第５の隔壁基板
と呼ぶことにする）によって、前面基板１側の主放電空
間１００と背面基板２側の放電空間２００を形成してい
る点にある。これ以外の構成や本発明を適用した点、製
造方法は第１３〜１６の実施の形態と同じである。これ
らの実施の形態で放電空間を形成する第５の隔壁基板
は、第１の実施の形態の説明した第１の隔壁基板の製造
方法と同じ方法で形成される。
【００７４】第１７の実施の形態では、第１３の実施の
形態や第１５の実施の形態と同じように、背面基板側の
放電空間２００はアドレス電極１０が伸延する方向に伸
延しており、この方向に配列した表示セルにより共有さ
れている。それに対し、第１８の実施の形態では、第１
４の実施の形態や第１６の実施の形態と同じように、背
面基板側の放電空間２００は前面基板に設けた表示電極
６が伸延する方向に伸びており、表示電極６が伸延する
方向に配列した表示セルにより共有されている。前面基
板１に設けた表示電極６と背面基板に設けたアドレス電
極１０の間の表示セルを選択するための放電は隔壁１３
に設けられた開口部１４と、放電空間１００、背面基板
側の放電空間２００を介して行われる。
形態や第１５の実施の形態と同じように、背面基板側の
放電空間２００はアドレス電極１０が伸延する方向に伸
延しており、この方向に配列した表示セルにより共有さ
れている。それに対し、第１８の実施の形態では、第１
４の実施の形態や第１６の実施の形態と同じように、背
面基板側の放電空間２００は前面基板に設けた表示電極
６が伸延する方向に伸びており、表示電極６が伸延する
方向に配列した表示セルにより共有されている。前面基
板１に設けた表示電極６と背面基板に設けたアドレス電
極１０の間の表示セルを選択するための放電は隔壁１３
に設けられた開口部１４と、放電空間１００、背面基板
側の放電空間２００を介して行われる。
【００７５】第１７の実施の形態と第１８の実施の形態
において本発明を適用したところは第１３〜１６の実施
の形態の場合と同じであり、第１３〜１６の実施の形態
と同じ効果を得ることができる。また、これらの実施の
形態では、バリアリブ１１とバリアリブ１５、隔壁１３
を一体化して作製しており、第１３〜１６の実施の形態
と比べて部品点数の低減され、組み立て時の位置合せ等
が容易になる。
において本発明を適用したところは第１３〜１６の実施
の形態の場合と同じであり、第１３〜１６の実施の形態
と同じ効果を得ることができる。また、これらの実施の
形態では、バリアリブ１１とバリアリブ１５、隔壁１３
を一体化して作製しており、第１３〜１６の実施の形態
と比べて部品点数の低減され、組み立て時の位置合せ等
が容易になる。
【００７６】（実施の形態１９）本発明の第１９の実施
の形態を図２５により説明する。この図は本発明を適用
したガス放電型表示装置の一部を断面図で示したもので
ある。図２５（ａ）はアドレス電極に平行な断面を、同
図（ｂ）はアドレス電極に垂直である同図（ａ）に示し
たＡ−Ｂ断面を、同図（ｃ）はアドレス電極に垂直であ
る同図（ａ）に示したＣ−Ｄ断面を示している。
の形態を図２５により説明する。この図は本発明を適用
したガス放電型表示装置の一部を断面図で示したもので
ある。図２５（ａ）はアドレス電極に平行な断面を、同
図（ｂ）はアドレス電極に垂直である同図（ａ）に示し
たＡ−Ｂ断面を、同図（ｃ）はアドレス電極に垂直であ
る同図（ａ）に示したＣ−Ｄ断面を示している。
【００７７】図２５よりわかるように、第１９の実施の
形態と第１７の実施の形態との相違点は、前面基板１と
ストライプ状の主放電空間１００の境界に格子状のバリ
アリブ１１０を設け、放電空間を前面基板１の表面にお
いて各表示セルごとの放電空間１０１として分離した点
にある。これ以外の構成や本発明の適用した点、製造方
法は１７の実施の形態と同じである。また、第１９の実
施の形態と第２の実施の形態の相違点は、主放電空間１
００と背面基板２を分離する隔壁１３と背面基板２の間
にストライプ状の放電空間２００を設け、当該背面基板
側の放電空間２００と主放電空間１００を開口部１４で
つないでいる点にある。これ以外の構成や本発明を適用
した点、製造方法は第２の実施の形態の場合と同じであ
る。すなわち、第１９の実施の形態は、第１７の実施の
形態と第２の実施の形態の特徴を合せ持っている。その
ため、第２の実施の形態と第１７の実施の形態で得られ
た発明の効果が得られる。
形態と第１７の実施の形態との相違点は、前面基板１と
ストライプ状の主放電空間１００の境界に格子状のバリ
アリブ１１０を設け、放電空間を前面基板１の表面にお
いて各表示セルごとの放電空間１０１として分離した点
にある。これ以外の構成や本発明の適用した点、製造方
法は１７の実施の形態と同じである。また、第１９の実
施の形態と第２の実施の形態の相違点は、主放電空間１
００と背面基板２を分離する隔壁１３と背面基板２の間
にストライプ状の放電空間２００を設け、当該背面基板
側の放電空間２００と主放電空間１００を開口部１４で
つないでいる点にある。これ以外の構成や本発明を適用
した点、製造方法は第２の実施の形態の場合と同じであ
る。すなわち、第１９の実施の形態は、第１７の実施の
形態と第２の実施の形態の特徴を合せ持っている。その
ため、第２の実施の形態と第１７の実施の形態で得られ
た発明の効果が得られる。
【００７８】ここで示した第１９の実施の形態では、背
面基板側の放電空間２００はアドレス電極１０が伸延す
る方向に伸びてこの方向に配列された表示セルによって
共有され、主放電空間１００と背面基板側の放電空間２
００はバリアリブ１１とバリアリブ１５、隔壁１３を備
えた第５の隔壁基板によって形成されている。しかし、
背面基板側の放電空間２００の伸延する方向はアドレス
電極１０の伸延する方向に限定されるものではなく、ア
ドレス電極１０の伸延する方向に対して直交する方向に
伸延しても差支えない。また、背面基板側の放電空間２
００の形成方法も第５の隔壁基板による方法に限定され
るものではなく、第１３〜第１６の実施の形態で示した
方法によって形成しても差支えない。
面基板側の放電空間２００はアドレス電極１０が伸延す
る方向に伸びてこの方向に配列された表示セルによって
共有され、主放電空間１００と背面基板側の放電空間２
００はバリアリブ１１とバリアリブ１５、隔壁１３を備
えた第５の隔壁基板によって形成されている。しかし、
背面基板側の放電空間２００の伸延する方向はアドレス
電極１０の伸延する方向に限定されるものではなく、ア
ドレス電極１０の伸延する方向に対して直交する方向に
伸延しても差支えない。また、背面基板側の放電空間２
００の形成方法も第５の隔壁基板による方法に限定され
るものではなく、第１３〜第１６の実施の形態で示した
方法によって形成しても差支えない。
【００７９】（実施の形態２０，２１）本発明の第２０
の実施の形態を図２６により、第２１の実施の形態を図
２７により説明する。これらの図は本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図２６と図２７において、（ａ）はアドレス電極に平行
な断面を、（ｂ）は（ａ）に示したアドレス電極に垂直
なＡ−Ｂ断面を、（ｃ）は（ａ）に示したアドレス電極
に垂直なＣ−Ｄ断面を示している。
の実施の形態を図２６により、第２１の実施の形態を図
２７により説明する。これらの図は本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図２６と図２７において、（ａ）はアドレス電極に平行
な断面を、（ｂ）は（ａ）に示したアドレス電極に垂直
なＡ−Ｂ断面を、（ｃ）は（ａ）に示したアドレス電極
に垂直なＣ−Ｄ断面を示している。
【００８０】図２６と図２７よりわかるように、これら
の実施の形態と第１９の実施の形態の相違点は、主放電
空間１００の伸延する方向に配列した表示セルがこの並
びの方向で隣り合う一方の表示セルと共通電極として働
く表示電極６２をバリアリブ１１０を介して共有してい
る点と、バリアリブ１１０の上に表示電極６２に対する
バス電極７２を形成している点である。これ以外の構成
や本発明を適用した点、製造方法は第１９の実施の形態
の場合と同じである。
の実施の形態と第１９の実施の形態の相違点は、主放電
空間１００の伸延する方向に配列した表示セルがこの並
びの方向で隣り合う一方の表示セルと共通電極として働
く表示電極６２をバリアリブ１１０を介して共有してい
る点と、バリアリブ１１０の上に表示電極６２に対する
バス電極７２を形成している点である。これ以外の構成
や本発明を適用した点、製造方法は第１９の実施の形態
の場合と同じである。
【００８１】図２６に示した第２０の実施の形態では、
表示セルを選択するための放電を背面基板２に設けられ
たアドレス電極１０と前面基板１に設けられた表示電極
６が伸延する方向に配列した表示セルに固有な表示電極
６１の間で発生させる。それに対し図２７に示した第２
１の実施の形態では、表示セルを選択するための放電
を、背面基板２に設けられたアドレス電極１０と前面基
板１に設けられた共通電極として働く表示電極６２の間
で発生させる。第２１の実施の形態は、共通電極として
働く表示電極６２に３００Ｖ程度の高い電圧を加えるこ
とによってすべての表示セルに放電を発生させ、これに
より、表示電極６２を被覆している保護膜９とアドレス
電極１０を被覆している保護膜９の表面に壁電荷を形成
し、アドレス電極１０が伸延する方向に配列した表示セ
ルを線順次選択するためにアドレス電圧１０に印加する
走査電圧を低くする場合に有効である。また、図２７の
（ｂ）には、隔壁１３とそれに設けられた開口部１４が
図示されていないが、開口部１４が隣り合うバリアリブ
１５まで届くまで大きく設けられた場合を図示している
ためである。
表示セルを選択するための放電を背面基板２に設けられ
たアドレス電極１０と前面基板１に設けられた表示電極
６が伸延する方向に配列した表示セルに固有な表示電極
６１の間で発生させる。それに対し図２７に示した第２
１の実施の形態では、表示セルを選択するための放電
を、背面基板２に設けられたアドレス電極１０と前面基
板１に設けられた共通電極として働く表示電極６２の間
で発生させる。第２１の実施の形態は、共通電極として
働く表示電極６２に３００Ｖ程度の高い電圧を加えるこ
とによってすべての表示セルに放電を発生させ、これに
より、表示電極６２を被覆している保護膜９とアドレス
電極１０を被覆している保護膜９の表面に壁電荷を形成
し、アドレス電極１０が伸延する方向に配列した表示セ
ルを線順次選択するためにアドレス電圧１０に印加する
走査電圧を低くする場合に有効である。また、図２７の
（ｂ）には、隔壁１３とそれに設けられた開口部１４が
図示されていないが、開口部１４が隣り合うバリアリブ
１５まで届くまで大きく設けられた場合を図示している
ためである。
【００８２】第２０の実施の形態と第２１の実施の形態
のいずれの場合にも、本発明を適用したところは第１９
の実施の形態の場合と同じである。このため、これらの
実施の形態においても第１９の実施の形態で得られた効
果と同じ効果が得られる。さらに、第２０の実施の形態
と第２１の実施の形態では、主放電空間１００の伸延す
る方向に配列した表示セルが、前面基板１に設けられた
共通電極として働く表示電極６２をこの並びの方向で隣
り合う一方の表示セルと共有しているために第２の実施
の形態に比べて放電空間を大きくでき、また、共通電極
として働く表示電極６２に対するバス電極７２をバリア
リブ１１０上に形成しているので第２の実施の形態に比
べて開口率を大きくすることができる。このため、これ
らの実施の形態では、第１９の実施の形態に比べて輝度
を高くできる効果を得ることができる。この輝度が高く
なる効果が得られた理由は、前面基板１とストライプ状
の主放電空間１００の境界に格子状のバリアリブ１１０
が設けられ、放電空間が前面基板１の表面において各表
示セルごとの放電空間１０１として分離されている点に
ある。
のいずれの場合にも、本発明を適用したところは第１９
の実施の形態の場合と同じである。このため、これらの
実施の形態においても第１９の実施の形態で得られた効
果と同じ効果が得られる。さらに、第２０の実施の形態
と第２１の実施の形態では、主放電空間１００の伸延す
る方向に配列した表示セルが、前面基板１に設けられた
共通電極として働く表示電極６２をこの並びの方向で隣
り合う一方の表示セルと共有しているために第２の実施
の形態に比べて放電空間を大きくでき、また、共通電極
として働く表示電極６２に対するバス電極７２をバリア
リブ１１０上に形成しているので第２の実施の形態に比
べて開口率を大きくすることができる。このため、これ
らの実施の形態では、第１９の実施の形態に比べて輝度
を高くできる効果を得ることができる。この輝度が高く
なる効果が得られた理由は、前面基板１とストライプ状
の主放電空間１００の境界に格子状のバリアリブ１１０
が設けられ、放電空間が前面基板１の表面において各表
示セルごとの放電空間１０１として分離されている点に
ある。
【００８３】なお、第２０の実施の形態と第２１の実施
の形態では、背面基板側の放電空間２００がアドレス電
極１０が伸延する方向に伸び、主放電空間１００と背面
基板側の放電空間２００がバリアリブ１１と隔壁１３、
バリアリブ１５を有する第５の隔壁基板によって形成さ
れているが、これらに限定されるものではない。すなわ
ち、主放電空間１００と背面基板側の放電空間２００を
第１３〜第１６の実施の形態や第１８の実施の形態で示
したように形成しても差支えない。また、前面基板１と
主放電空間１００の間の前面基板側の放電空間１０１を
バリアリブ１１０を備えた第２の隔壁基板によって形成
しているが、前面基板側の放電空間１０１の形成方法も
これに限定されるものではなく、第３の実施の形態のよ
うに形成しても差支えない。
の形態では、背面基板側の放電空間２００がアドレス電
極１０が伸延する方向に伸び、主放電空間１００と背面
基板側の放電空間２００がバリアリブ１１と隔壁１３、
バリアリブ１５を有する第５の隔壁基板によって形成さ
れているが、これらに限定されるものではない。すなわ
ち、主放電空間１００と背面基板側の放電空間２００を
第１３〜第１６の実施の形態や第１８の実施の形態で示
したように形成しても差支えない。また、前面基板１と
主放電空間１００の間の前面基板側の放電空間１０１を
バリアリブ１１０を備えた第２の隔壁基板によって形成
しているが、前面基板側の放電空間１０１の形成方法も
これに限定されるものではなく、第３の実施の形態のよ
うに形成しても差支えない。
【００８４】（実施の形態２２，２３）本発明の第２２
の実施の形態を図２８により、第２３の実施の形態を図
２９により説明する。これらの図も本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図２８と図２９において、（ａ）はアドレス電極に平行
な断面を、（ｂ）は（ａ）に示したアドレス電極に垂直
なＡ−Ｂ断面を、（ｃ）は（ａ）に示したアドレス電極
に垂直なＣ−Ｄ断面を示している。
の実施の形態を図２８により、第２３の実施の形態を図
２９により説明する。これらの図も本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図２８と図２９において、（ａ）はアドレス電極に平行
な断面を、（ｂ）は（ａ）に示したアドレス電極に垂直
なＡ−Ｂ断面を、（ｃ）は（ａ）に示したアドレス電極
に垂直なＣ−Ｄ断面を示している。
【００８５】図２８と図２９よりわかるように、これら
の実施の形態と第１９の実施の形態の相違点は、主放電
空間１００の伸延する方向に配列した表示セルがこの並
びの方向で隣り合う両側の表示セルと共通電極として働
く表示電極６２をバリアリブ１１０を介して共有してい
る点と、バリアリブ１１０上に共通電極として働く表示
電極６２に対するバス電極７２を形成している点であ
る。これ以外の構成や本発明を適用した点、製造方法は
第１９の実施の形態と同じである。
の実施の形態と第１９の実施の形態の相違点は、主放電
空間１００の伸延する方向に配列した表示セルがこの並
びの方向で隣り合う両側の表示セルと共通電極として働
く表示電極６２をバリアリブ１１０を介して共有してい
る点と、バリアリブ１１０上に共通電極として働く表示
電極６２に対するバス電極７２を形成している点であ
る。これ以外の構成や本発明を適用した点、製造方法は
第１９の実施の形態と同じである。
【００８６】図２８に示した第２２の実施の形態では、
表示セルを選択するための放電を背面基板２に設けられ
たアドレス電極１０と前面基板１に設けられた表示電極
６が伸延する方向に配列した表示セルに固有な表示電極
６１の間で発生させる。それに対し、図２９に示した第
２３の実施の形態では、表示セルを選択するための放電
を、背面基板２に設けられたアドレス電極１０と前面基
板１に設けられた共通電極として働く表示電極６２の間
で発生させる。図２９に示した第２３の実施の形態は、
共通電極として働く表示電極６２に３００Ｖ程度の高い
電圧を加えることによってすべての表示セルに放電を発
生させ、これにより表示電極６２を被覆している保護膜
９とアドレス電極１０を被覆している保護膜９の表面に
壁電荷を形成し、アドレス電極１０が伸延する方向に配
列した表示セルを線順次選択するためにアドレス電圧１
０に印加する走査電圧を低くしようとする場合に有効で
ある。また、図２９の（ｂ）では、隔壁１３とそれに設
けられた開口部１４が図示されていないが、開口部１４
が隣り合うバリアリブ１５に渡って大きく設けられた場
合を図示しているためである。
表示セルを選択するための放電を背面基板２に設けられ
たアドレス電極１０と前面基板１に設けられた表示電極
６が伸延する方向に配列した表示セルに固有な表示電極
６１の間で発生させる。それに対し、図２９に示した第
２３の実施の形態では、表示セルを選択するための放電
を、背面基板２に設けられたアドレス電極１０と前面基
板１に設けられた共通電極として働く表示電極６２の間
で発生させる。図２９に示した第２３の実施の形態は、
共通電極として働く表示電極６２に３００Ｖ程度の高い
電圧を加えることによってすべての表示セルに放電を発
生させ、これにより表示電極６２を被覆している保護膜
９とアドレス電極１０を被覆している保護膜９の表面に
壁電荷を形成し、アドレス電極１０が伸延する方向に配
列した表示セルを線順次選択するためにアドレス電圧１
０に印加する走査電圧を低くしようとする場合に有効で
ある。また、図２９の（ｂ）では、隔壁１３とそれに設
けられた開口部１４が図示されていないが、開口部１４
が隣り合うバリアリブ１５に渡って大きく設けられた場
合を図示しているためである。
【００８７】第２２の実施の形態と第２３の実施の形態
のいずれの場合にも、本発明を適用したところは第１９
の実施の形態の場合と同じであることから、第１９の実
施の形態で得られた効果と同じ効果を得ることができ
る。さらに、第２２の実施の形態と第２３の実施の形態
では、アドレス電極１０が伸延する方向に配列した表示
セルが、前面基板１に設けられた共通電極として働く表
示電極６２をこの並びの方向で隣り合う表示セルで共有
しているために放電空間を大きくでき、また、共通電極
として働く表示電極６２に対するバス電極７２をバリア
リブ１１０上に形成しているために開口率を大きくする
ことができる。これらの効果は第２０の実施の形態や第
２１の実施の形態に比べて大きくなるが、この理由は、
表示電極６が伸延する方向に配列した表示セルに固有な
表示電極６１が共通電極として働く表示電極６２の間に
配置されている点にある。また、これらの実施の形態で
は、各表示セルが表示電極６の伸延する方向に配列した
表示セルに固有な表示電極６１と共通電極として働く２
つの表示電極６２を有しているため、２組の表示電極６
によって２組の主放電（表示のための放電）が発生す
る。このため、主放電によって発生する紫外線の強度が
大きくなり、蛍光体から発生する可視光の強度も大きく
なる。これによって、輝度がさらに高くなる。このよう
に、第２２の実施の形態と第２３の実施の形態における
ガス放電型表示装置では、第１９の実施の形態〜第２１
の実施の形態に比べて輝度を高くできる効果を得ること
ができる。この輝度が高くなる効果が得られた理由は、
前面基板１とストライプ状の主放電空間１００の境界に
格子状のバリアリブ１１０が設けられ、放電空間が前面
基板１の表面において各表示セルごとの放電空間１０１
として分離されている点にある。
のいずれの場合にも、本発明を適用したところは第１９
の実施の形態の場合と同じであることから、第１９の実
施の形態で得られた効果と同じ効果を得ることができ
る。さらに、第２２の実施の形態と第２３の実施の形態
では、アドレス電極１０が伸延する方向に配列した表示
セルが、前面基板１に設けられた共通電極として働く表
示電極６２をこの並びの方向で隣り合う表示セルで共有
しているために放電空間を大きくでき、また、共通電極
として働く表示電極６２に対するバス電極７２をバリア
リブ１１０上に形成しているために開口率を大きくする
ことができる。これらの効果は第２０の実施の形態や第
２１の実施の形態に比べて大きくなるが、この理由は、
表示電極６が伸延する方向に配列した表示セルに固有な
表示電極６１が共通電極として働く表示電極６２の間に
配置されている点にある。また、これらの実施の形態で
は、各表示セルが表示電極６の伸延する方向に配列した
表示セルに固有な表示電極６１と共通電極として働く２
つの表示電極６２を有しているため、２組の表示電極６
によって２組の主放電（表示のための放電）が発生す
る。このため、主放電によって発生する紫外線の強度が
大きくなり、蛍光体から発生する可視光の強度も大きく
なる。これによって、輝度がさらに高くなる。このよう
に、第２２の実施の形態と第２３の実施の形態における
ガス放電型表示装置では、第１９の実施の形態〜第２１
の実施の形態に比べて輝度を高くできる効果を得ること
ができる。この輝度が高くなる効果が得られた理由は、
前面基板１とストライプ状の主放電空間１００の境界に
格子状のバリアリブ１１０が設けられ、放電空間が前面
基板１の表面において各表示セルごとの放電空間１０１
として分離されている点にある。
【００８８】なお、第２２の実施の形態と第２３の実施
の形態では、背面基板側の放電空間２００がアドレス電
極１０が伸延する方向に伸びており、主放電空間１００
と背面基板側の放電空間２００がバリアリブ１１と隔壁
１３、バリアリブ１５を有する第５の隔壁基板によって
形成されているが、これらに限定されるものではない。
すなわち、主放電空間１００と背面基板側の放電空間２
００を第１３〜第１６の実施の形態や第１８の実施の形
態で示したように形成しても差支えない。また、前面基
板１と主放電空間１００の間の前面基板側の放電空間１
０１をバリアリブ１１０を備えた第２の隔壁基板によっ
て形成しているが、前面基板側の放電空間１０１の形成
方法もこれに限定されるものではなく、第３の実施の形
態のように形成しても差支えない。
の形態では、背面基板側の放電空間２００がアドレス電
極１０が伸延する方向に伸びており、主放電空間１００
と背面基板側の放電空間２００がバリアリブ１１と隔壁
１３、バリアリブ１５を有する第５の隔壁基板によって
形成されているが、これらに限定されるものではない。
すなわち、主放電空間１００と背面基板側の放電空間２
００を第１３〜第１６の実施の形態や第１８の実施の形
態で示したように形成しても差支えない。また、前面基
板１と主放電空間１００の間の前面基板側の放電空間１
０１をバリアリブ１１０を備えた第２の隔壁基板によっ
て形成しているが、前面基板側の放電空間１０１の形成
方法もこれに限定されるものではなく、第３の実施の形
態のように形成しても差支えない。
【００８９】（実施の形態２４，２５）本発明の第２４
の実施の形態を図３０により、第２５の実施の形態を図
３１により説明する。これらの図は本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図３０および図３１の（ａ）はアドレス電極に平行な断
面を、同図（ｂ）はアドレス電極に垂直である同図
（ａ）に示したＡ−Ｂ断面を、同図（ｃ）はアドレス電
極に垂直である同図（ａ）に示したＣ−Ｄ断面を示して
いる。
の実施の形態を図３０により、第２５の実施の形態を図
３１により説明する。これらの図は本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図３０および図３１の（ａ）はアドレス電極に平行な断
面を、同図（ｂ）はアドレス電極に垂直である同図
（ａ）に示したＡ−Ｂ断面を、同図（ｃ）はアドレス電
極に垂直である同図（ａ）に示したＣ−Ｄ断面を示して
いる。
【００９０】図３０と図３１よりわかるように、第２４
の実施の形態と第１３の実施の形態の間の相違点および
第２５の実施の形態と第１４の実施の形態の間の相違点
は、表示のための放電を発生させる主放電空間１００が
格子状に形成されたバリアリブ１１によって表示セルご
と分離されている点にある。ここで示した実施の形態で
は、主放電空間１００は、格子状のバリアリブ１１と隔
壁１３、開口部１４を備えた隔壁基板（ここでは、第６
の隔壁基板と呼ぶことにする）と前面基板１によって形
成されている。蛍光体１２はこの第６の隔壁基板の主放
電空間１００にさらされる面に形成される。これ以外の
構成や製造方法は、第２４の実施の形態と第１３の実施
の形態が同じであり、第２５の実施の形態と第１４の実
施の形態が同じである。
の実施の形態と第１３の実施の形態の間の相違点および
第２５の実施の形態と第１４の実施の形態の間の相違点
は、表示のための放電を発生させる主放電空間１００が
格子状に形成されたバリアリブ１１によって表示セルご
と分離されている点にある。ここで示した実施の形態で
は、主放電空間１００は、格子状のバリアリブ１１と隔
壁１３、開口部１４を備えた隔壁基板（ここでは、第６
の隔壁基板と呼ぶことにする）と前面基板１によって形
成されている。蛍光体１２はこの第６の隔壁基板の主放
電空間１００にさらされる面に形成される。これ以外の
構成や製造方法は、第２４の実施の形態と第１３の実施
の形態が同じであり、第２５の実施の形態と第１４の実
施の形態が同じである。
【００９１】図３０に示した第２４の実施の形態では、
表示セル選択のための放電を前面基板１に設けた表示電
極６の一方の電極である表示電極６が伸延する方向に配
列した表示セルに固有な表示電極６１と背面基板２に設
けたアドレス電極１０の間で発生させる。それに対し、
図３１に示した第２５の実施の形態では、表示セル選択
のための放電を、前面基板１に設けた表示電極６で共通
電極として働く表示電極６２と背面基板２に設けたアド
レス電極１０の間で発生させる。第２５の実施の形態
は、表示電極６で共通電極として働く表示電極６２に３
００Ｖ程度の高い電圧を加えることによってすべての表
示セルに放電を発生させ、これにより表示電極６２を被
覆している保護膜９とアドレス電極１０を被覆している
保護膜９の表面に壁電荷を形成し、アドレス電極１０が
伸延する方向に配列した表示セルの線順次選択を行う場
合にアドレス電極１０に印加する走査電圧を低くするの
に有効である。
表示セル選択のための放電を前面基板１に設けた表示電
極６の一方の電極である表示電極６が伸延する方向に配
列した表示セルに固有な表示電極６１と背面基板２に設
けたアドレス電極１０の間で発生させる。それに対し、
図３１に示した第２５の実施の形態では、表示セル選択
のための放電を、前面基板１に設けた表示電極６で共通
電極として働く表示電極６２と背面基板２に設けたアド
レス電極１０の間で発生させる。第２５の実施の形態
は、表示電極６で共通電極として働く表示電極６２に３
００Ｖ程度の高い電圧を加えることによってすべての表
示セルに放電を発生させ、これにより表示電極６２を被
覆している保護膜９とアドレス電極１０を被覆している
保護膜９の表面に壁電荷を形成し、アドレス電極１０が
伸延する方向に配列した表示セルの線順次選択を行う場
合にアドレス電極１０に印加する走査電圧を低くするの
に有効である。
【００９２】第２４の実施の形態および第２５の実施の
形態において本発明を適用した点は、第１の実施の形態
で本発明を適用した点と、主放電空間１００と背面基板
２を分離する隔壁１３と背面基板２の間に表示セルのあ
る並びの方向に伸延した放電空間２００を設けることに
よって表示電極６とアドレス電極１０の間の放電を主放
電空間１００と隔壁１３に設けた開口部１４、背面基板
側の放電空間２００を介して行うようにした点と、主放
電空間１００を隔壁１３と格子状のバリアリブ１３を有
する第６の隔壁基板と前面基板１によって形成すること
により表示セルごとに分離した点にある。従って、第２
４の実施の形態と第２５の実施の形態の場合にも、第１
の実施の形態で得られた効果を得ることができる。すな
わち、図１７と図１８に示した従来のガス放電型表示装
置に比べて、コントラストと寿命が改善され、表示電極
とアドレス電極の間の放電電圧を低くできるガス放電型
表示装置ををバリアリブ１１の製造欠陥による背面基板
２の損失を伴うことなく提供できる効果がある。
形態において本発明を適用した点は、第１の実施の形態
で本発明を適用した点と、主放電空間１００と背面基板
２を分離する隔壁１３と背面基板２の間に表示セルのあ
る並びの方向に伸延した放電空間２００を設けることに
よって表示電極６とアドレス電極１０の間の放電を主放
電空間１００と隔壁１３に設けた開口部１４、背面基板
側の放電空間２００を介して行うようにした点と、主放
電空間１００を隔壁１３と格子状のバリアリブ１３を有
する第６の隔壁基板と前面基板１によって形成すること
により表示セルごとに分離した点にある。従って、第２
４の実施の形態と第２５の実施の形態の場合にも、第１
の実施の形態で得られた効果を得ることができる。すな
わち、図１７と図１８に示した従来のガス放電型表示装
置に比べて、コントラストと寿命が改善され、表示電極
とアドレス電極の間の放電電圧を低くできるガス放電型
表示装置ををバリアリブ１１の製造欠陥による背面基板
２の損失を伴うことなく提供できる効果がある。
【００９３】また、第２４の実施の形態と第２５の実施
の形態では、前面基板に設けた表示電極６と背面基板に
設けたアドレス電極１０の間に放電を発生させた場合に
放電が背面基板側の放電空間２００まで引き込まれ、こ
のために、アドレス電極１０がカソードとして働く場合
に強く発生する紫外線は隔壁１３によって遮蔽され、主
放電空間１００側に存在する蛍光体１２の発光が抑制さ
れる。これにより、アドレス放電電圧の低下のために行
う壁電荷形成や表示セルの線順次選択の過程において蛍
光体１２からの余分な発光が低減され、ガス放電型表示
装置のコントラストがさらに改善される。ただし、前面
基板１と背面基板２の間隔が第１の実施の形態より大き
くなるため、表示電極６とアドレス電極１０の間の放電
電圧は第１の実施の形態に比べて高くなる傾向がある。
さらに、これらの実施の形態では、主放電空間１００が
格子状のバリアリブ１１によって囲まれているため、次
の効果を得ることができる。 （１） 図１７と図１８に示した従来のガス放電型表示
装置に比べて蛍光体１２の塗布面積が広くなるため、発
光輝度が高くなる。 （２） 表示電極６が伸延する方向に直交する方向に配
列した表示セル間の電極間隔を従来のガス放電型表示装
置に比べて狭くできるので、開口率増大による輝度向上
や高精細化が期待される。
の形態では、前面基板に設けた表示電極６と背面基板に
設けたアドレス電極１０の間に放電を発生させた場合に
放電が背面基板側の放電空間２００まで引き込まれ、こ
のために、アドレス電極１０がカソードとして働く場合
に強く発生する紫外線は隔壁１３によって遮蔽され、主
放電空間１００側に存在する蛍光体１２の発光が抑制さ
れる。これにより、アドレス放電電圧の低下のために行
う壁電荷形成や表示セルの線順次選択の過程において蛍
光体１２からの余分な発光が低減され、ガス放電型表示
装置のコントラストがさらに改善される。ただし、前面
基板１と背面基板２の間隔が第１の実施の形態より大き
くなるため、表示電極６とアドレス電極１０の間の放電
電圧は第１の実施の形態に比べて高くなる傾向がある。
さらに、これらの実施の形態では、主放電空間１００が
格子状のバリアリブ１１によって囲まれているため、次
の効果を得ることができる。 （１） 図１７と図１８に示した従来のガス放電型表示
装置に比べて蛍光体１２の塗布面積が広くなるため、発
光輝度が高くなる。 （２） 表示電極６が伸延する方向に直交する方向に配
列した表示セル間の電極間隔を従来のガス放電型表示装
置に比べて狭くできるので、開口率増大による輝度向上
や高精細化が期待される。
【００９４】（実施の形態２６，２７）本発明の第２６
の実施の形態を図３２により、第２７の実施の形態を図
３３により説明する。これらの図は本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図３２および図３３の（ａ）はアドレス電極に平行な断
面を、同図（ｂ）はアドレス電極に垂直である同図
（ａ）に示したＡ−Ｂ断面を、同図（ｃ）はアドレス電
極に垂直である同図（ａ）に示したＣ−Ｄ断面を示して
いる。
の実施の形態を図３２により、第２７の実施の形態を図
３３により説明する。これらの図は本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図３２および図３３の（ａ）はアドレス電極に平行な断
面を、同図（ｂ）はアドレス電極に垂直である同図
（ａ）に示したＡ−Ｂ断面を、同図（ｃ）はアドレス電
極に垂直である同図（ａ）に示したＣ−Ｄ断面を示して
いる。
【００９５】図３２と図３３よりわかるように、第２６
の実施の形態と第２４の実施の形態の間の相違点および
第２７の実施の形態と第２５の実施の形態の間の相違点
は、主放電空間１００と背面基板２を分離するための隔
壁１３と背面基板２の間に設けられる放電空間２００が
ストライプ状のバリアリブ１５０を有する隔壁基板（こ
こでは、第４の隔壁基板と呼ぶことにする）によって形
成されている点にある。これ以外の構成や製造方法は、
第２６の実施の形態と第２４の実施の形態で同じであ
り、第２７の実施の形態と第２５の実施の形態で同じで
ある。
の実施の形態と第２４の実施の形態の間の相違点および
第２７の実施の形態と第２５の実施の形態の間の相違点
は、主放電空間１００と背面基板２を分離するための隔
壁１３と背面基板２の間に設けられる放電空間２００が
ストライプ状のバリアリブ１５０を有する隔壁基板（こ
こでは、第４の隔壁基板と呼ぶことにする）によって形
成されている点にある。これ以外の構成や製造方法は、
第２６の実施の形態と第２４の実施の形態で同じであ
り、第２７の実施の形態と第２５の実施の形態で同じで
ある。
【００９６】第２６の実施の形態では、第２４の実施の
形態と同じように、背面基板側の放電空間２００はアド
レス電極１０が伸延する方向に伸延しており、この方向
に配列された表示セルによって共有されている。それに
対し第２７の実施の形態では、第２５の実施の形態と同
じように、背面基板側の放電空間２００はアドレス電極
１０が伸延する方向に対して直交する方向に伸びてお
り、アドレス電極１０が伸延する方向に対して直交する
方向に配列した表示セルによって共有されている。前面
基板１に設けた表示電極６と背面基板２に設けたアドレ
ス電極１０の間で行う表示セルを選択するための放電
は、隔壁１３に設けられた開口部１４と、主放電空間１
００、背面基板側の放電空間２００を介して行われる。
形態と同じように、背面基板側の放電空間２００はアド
レス電極１０が伸延する方向に伸延しており、この方向
に配列された表示セルによって共有されている。それに
対し第２７の実施の形態では、第２５の実施の形態と同
じように、背面基板側の放電空間２００はアドレス電極
１０が伸延する方向に対して直交する方向に伸びてお
り、アドレス電極１０が伸延する方向に対して直交する
方向に配列した表示セルによって共有されている。前面
基板１に設けた表示電極６と背面基板２に設けたアドレ
ス電極１０の間で行う表示セルを選択するための放電
は、隔壁１３に設けられた開口部１４と、主放電空間１
００、背面基板側の放電空間２００を介して行われる。
【００９７】第２６の実施の形態と第２７の実施の形態
において本発明を適用した点は、第２４の実施の形態あ
るいは第２５の実施の形態で本発明を適用した点と同じ
であり、第２４の実施の形態や第２５の実施の形態で得
られた効果と同じ効果が得られる。
において本発明を適用した点は、第２４の実施の形態あ
るいは第２５の実施の形態で本発明を適用した点と同じ
であり、第２４の実施の形態や第２５の実施の形態で得
られた効果と同じ効果が得られる。
【００９８】また、第２６の実施の形態と第２７の実施
の形態の場合には、バリアリブ１１を第６の隔壁基板と
して、バリアリブ１５０を第４の隔壁基板として形成し
ているため、バリアリブ１５０やバリアリブ１１の形成
不良による背面基板２の損失を防止できる効果がある。
の形態の場合には、バリアリブ１１を第６の隔壁基板と
して、バリアリブ１５０を第４の隔壁基板として形成し
ているため、バリアリブ１５０やバリアリブ１１の形成
不良による背面基板２の損失を防止できる効果がある。
【００９９】（実施の形態２８，２９）本発明の第２８
の実施の形態を図３４により、第２９の実施の形態を図
３５により説明する。これらの図は本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図３４および図３５の（ａ）はアドレス電極に平行な断
面を、同図（ｂ）はアドレス電極に垂直である同図
（ａ）に示したＡ−Ｂ断面を、同図（ｃ）はアドレス電
極に垂直である同図（ａ）に示したＣ−Ｄ断面を示して
いる。
の実施の形態を図３４により、第２９の実施の形態を図
３５により説明する。これらの図は本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図３４および図３５の（ａ）はアドレス電極に平行な断
面を、同図（ｂ）はアドレス電極に垂直である同図
（ａ）に示したＡ−Ｂ断面を、同図（ｃ）はアドレス電
極に垂直である同図（ａ）に示したＣ−Ｄ断面を示して
いる。
【０１００】図３４と図３５よりわかるように、第２８
の実施の形態と第２４、第２６の実施の形態の間の相違
点および第２９の実施の形態と第２５、第２７の実施の
形態の間の相違点は、主放電空間１００と背面基板２を
分離する隔壁１３の一方の面に格子状のバリアリブ１１
を備え、隔壁１３の他方の面にストライプ状のバリアリ
ブ１５を備えた隔壁基板（ここでは、第７の隔壁基板と
呼ぶことにする）を用いて主放電空間１００と背面基板
側の放電空間２００を形成している点にある。これ以外
の構成や製造方法は、第２８の実施の形態と第２４の実
施の形態や第２６の実施の形態では同じであり、第２９
の実施の形態と第２５の実施の形態や第２７の実施の形
態では同じである。第２８の実施の形態および第２９の
実施の形態において主放電空間１００と背面基板側の放
電空間２００を形成する第７の隔壁基板は、第１の実施
の形態の説明した第１の隔壁基板の製造方法と同じ方法
で形成される。
の実施の形態と第２４、第２６の実施の形態の間の相違
点および第２９の実施の形態と第２５、第２７の実施の
形態の間の相違点は、主放電空間１００と背面基板２を
分離する隔壁１３の一方の面に格子状のバリアリブ１１
を備え、隔壁１３の他方の面にストライプ状のバリアリ
ブ１５を備えた隔壁基板（ここでは、第７の隔壁基板と
呼ぶことにする）を用いて主放電空間１００と背面基板
側の放電空間２００を形成している点にある。これ以外
の構成や製造方法は、第２８の実施の形態と第２４の実
施の形態や第２６の実施の形態では同じであり、第２９
の実施の形態と第２５の実施の形態や第２７の実施の形
態では同じである。第２８の実施の形態および第２９の
実施の形態において主放電空間１００と背面基板側の放
電空間２００を形成する第７の隔壁基板は、第１の実施
の形態の説明した第１の隔壁基板の製造方法と同じ方法
で形成される。
【０１０１】第２８の実施の形態では、第２４の実施の
形態や第２６の実施の形態と同じように、背面基板側の
放電空間２００はアドレス電極１０が伸延する方向に伸
延しており、この方向に配列した表示セルによって共有
されている。それに対し、第２９の実施の形態では、第
２５の実施の形態や第２７の実施の形態と同じように、
背面基板側の放電空間２００はアドレス電極１０が伸延
する方向に対して直交する方向に伸びており、アドレス
電極１０が伸延する方向に対して直交する方向に配列し
た表示セルによって共有されている。前面基板１に設け
た表示電極６と背面基板２に設けたアドレス電極１０の
間の表示セルを選択するための放電は、隔壁１３に設け
られた開口部１４と、主放電空間１００、背面基板側の
放電空間２００を介して行われる。
形態や第２６の実施の形態と同じように、背面基板側の
放電空間２００はアドレス電極１０が伸延する方向に伸
延しており、この方向に配列した表示セルによって共有
されている。それに対し、第２９の実施の形態では、第
２５の実施の形態や第２７の実施の形態と同じように、
背面基板側の放電空間２００はアドレス電極１０が伸延
する方向に対して直交する方向に伸びており、アドレス
電極１０が伸延する方向に対して直交する方向に配列し
た表示セルによって共有されている。前面基板１に設け
た表示電極６と背面基板２に設けたアドレス電極１０の
間の表示セルを選択するための放電は、隔壁１３に設け
られた開口部１４と、主放電空間１００、背面基板側の
放電空間２００を介して行われる。
【０１０２】第２８の実施の形態および第２９の実施の
形態において本発明を適用した点は、第２４〜第２７の
実施の形態で本発明を適用した点と同じであり、第２４
〜第２７の実施の形態で得られた効果と同じ効果が得ら
れる。また、第２８の実施の形態と第２９の実施の形態
では、バリアリブ１１とバリアリブ１５、隔壁１３を一
体化して作製しており、第２４〜２７の実施の形態と比
べて部品点数が少なくなり、組み立て時の位置合せ等が
容易になる。
形態において本発明を適用した点は、第２４〜第２７の
実施の形態で本発明を適用した点と同じであり、第２４
〜第２７の実施の形態で得られた効果と同じ効果が得ら
れる。また、第２８の実施の形態と第２９の実施の形態
では、バリアリブ１１とバリアリブ１５、隔壁１３を一
体化して作製しており、第２４〜２７の実施の形態と比
べて部品点数が少なくなり、組み立て時の位置合せ等が
容易になる。
【０１０３】（実施の形態３０，３１）本発明の第３０
の実施の形態を図３６により、第３１の実施の形態を図
３７により説明する。これらの図は本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図３６と図３７において、（ａ）はアドレス電極に平行
な断面を、（ｂ）は（ａ）に示したアドレス電極に垂直
なＡ−Ｂ断面を、（ｃ）は（ａ）に示したアドレス電極
に垂直なＣ−Ｄ断面を示している。
の実施の形態を図３６により、第３１の実施の形態を図
３７により説明する。これらの図は本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図３６と図３７において、（ａ）はアドレス電極に平行
な断面を、（ｂ）は（ａ）に示したアドレス電極に垂直
なＡ−Ｂ断面を、（ｃ）は（ａ）に示したアドレス電極
に垂直なＣ−Ｄ断面を示している。
【０１０４】図３６と図３７よりわかるように、これら
の実施の形態と第２８の実施の形態あるいは第２９の実
施の形態の間の相違点は、アドレス電極１０が伸延する
方向に配列した表示セルがこの並びの方向で隣り合う一
方の表示セルと表示電極６で共通電極として働く表示電
極６２をバリアリブ１１を介して共有している点と、バ
リアリブ１１上にバス電極７２を形成している点であ
る。これ以外の構成や本発明を適用した点、製造方法は
第２８の実施の形態や第２９の実施の形態と同じであ
る。
の実施の形態と第２８の実施の形態あるいは第２９の実
施の形態の間の相違点は、アドレス電極１０が伸延する
方向に配列した表示セルがこの並びの方向で隣り合う一
方の表示セルと表示電極６で共通電極として働く表示電
極６２をバリアリブ１１を介して共有している点と、バ
リアリブ１１上にバス電極７２を形成している点であ
る。これ以外の構成や本発明を適用した点、製造方法は
第２８の実施の形態や第２９の実施の形態と同じであ
る。
【０１０５】図３６に示した第３０の実施の形態では、
表示セル選択のための放電を表示電極６が伸延する方向
に配列した表示セルに固有な表示電極６１と背面基板２
に設けたアドレス電極１０との間で発生させる。それに
対し、図３７に示した第３１の実施の形態では、表示セ
ル選択のための放電を、共通電極として働く表示電極６
２とアドレス電極１０の間で発生させる。第３１の実施
の形態は、共通電極として働く表示電極６２に３００Ｖ
程度の高い電圧を加えることによりすべての表示セルに
おいて放電を発生させ、これにより、表示電極６２を被
覆している保護膜９の表面とアドレス電極１０を被覆し
ている保護膜９の表面に壁電荷を形成し、アドレス電極
１０が伸延する方向に配列した表示セルの線順次選択を
行うためにアドレス電圧１０に印加する走査電圧を低く
する場合に有効である。
表示セル選択のための放電を表示電極６が伸延する方向
に配列した表示セルに固有な表示電極６１と背面基板２
に設けたアドレス電極１０との間で発生させる。それに
対し、図３７に示した第３１の実施の形態では、表示セ
ル選択のための放電を、共通電極として働く表示電極６
２とアドレス電極１０の間で発生させる。第３１の実施
の形態は、共通電極として働く表示電極６２に３００Ｖ
程度の高い電圧を加えることによりすべての表示セルに
おいて放電を発生させ、これにより、表示電極６２を被
覆している保護膜９の表面とアドレス電極１０を被覆し
ている保護膜９の表面に壁電荷を形成し、アドレス電極
１０が伸延する方向に配列した表示セルの線順次選択を
行うためにアドレス電圧１０に印加する走査電圧を低く
する場合に有効である。
【０１０６】第３０の実施の形態と第３１の実施の形態
において本発明を適用したところは、第２８の実施の形
態や第２９の実施の形態の場合と同じである。このこと
から、これらの実施の形態においても、第２８の実施の
形態や第２９の実施の形態の場合と同じ効果を得ること
ができる。さらに、第３０の実施の形態と第３１の実施
の形態では、アドレス電極１０が伸延する方向に配列し
た表示セルが、共通電極として働く表示電極６２をこの
並びの方向で隣り合う一方の表示セルと共有しているた
めに第２８の実施の形態や第２９の実施の形態に比べて
放電空間を大きくでき、また、共通電極として働く表示
電極６２に対するバス電極７２をバリアリブ１１上に形
成しているために第２８の実施の形態や第２９の実施の
形態に比べて開口率を大きくすることができる。このた
め、第３０の実施の形態と第３１の実施の形態の場合、
第２８の実施の形態や第２９の実施の形態に比べて輝度
が高くなる効果を得ることができる。この輝度が高くな
る効果が得られる理由は、主放電空間１００を格子状の
バリアリブ１１によって表示セルごとに分離していると
ころにある。
において本発明を適用したところは、第２８の実施の形
態や第２９の実施の形態の場合と同じである。このこと
から、これらの実施の形態においても、第２８の実施の
形態や第２９の実施の形態の場合と同じ効果を得ること
ができる。さらに、第３０の実施の形態と第３１の実施
の形態では、アドレス電極１０が伸延する方向に配列し
た表示セルが、共通電極として働く表示電極６２をこの
並びの方向で隣り合う一方の表示セルと共有しているた
めに第２８の実施の形態や第２９の実施の形態に比べて
放電空間を大きくでき、また、共通電極として働く表示
電極６２に対するバス電極７２をバリアリブ１１上に形
成しているために第２８の実施の形態や第２９の実施の
形態に比べて開口率を大きくすることができる。このた
め、第３０の実施の形態と第３１の実施の形態の場合、
第２８の実施の形態や第２９の実施の形態に比べて輝度
が高くなる効果を得ることができる。この輝度が高くな
る効果が得られる理由は、主放電空間１００を格子状の
バリアリブ１１によって表示セルごとに分離していると
ころにある。
【０１０７】なお、第３０の実施の形態と第３１の実施
の形態では、背面基板側の放電空間２００がアドレス電
極１０が伸延する方向に伸びているためにこの方向に配
列した表示セルによって共有され、また、主放電空間１
００と背面基板側の放電空間２００が格子状のバリアリ
ブ１１と隔壁１３、ストライプ状のバリアリブ１５を有
する第７の隔壁基板によって形成されているが、これら
に限定されるものではない。すなわち、主放電空間１０
０と背面基板側の放電空間２００を第３０〜第３３の実
施の形態や第３５の実施の形態で示した場合と同じよう
に形成しても差支えない。
の形態では、背面基板側の放電空間２００がアドレス電
極１０が伸延する方向に伸びているためにこの方向に配
列した表示セルによって共有され、また、主放電空間１
００と背面基板側の放電空間２００が格子状のバリアリ
ブ１１と隔壁１３、ストライプ状のバリアリブ１５を有
する第７の隔壁基板によって形成されているが、これら
に限定されるものではない。すなわち、主放電空間１０
０と背面基板側の放電空間２００を第３０〜第３３の実
施の形態や第３５の実施の形態で示した場合と同じよう
に形成しても差支えない。
【０１０８】（実施の形態３２，３３）本発明の第３２
の実施の形態を図３８により、第３３の実施の形態を図
３９により説明する。これらの図も本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図３８と図３９において、（ａ）はアドレス電極に平行
な断面を、（ｂ）は（ａ）に示したアドレス電極に垂直
なＡ−Ｂ断面を、（ｃ）は（ａ）に示したアドレス電極
に垂直なＣ−Ｄ断面を示している。
の実施の形態を図３８により、第３３の実施の形態を図
３９により説明する。これらの図も本発明を適用したガ
ス放電型表示装置の一部を断面図で示したものである。
図３８と図３９において、（ａ）はアドレス電極に平行
な断面を、（ｂ）は（ａ）に示したアドレス電極に垂直
なＡ−Ｂ断面を、（ｃ）は（ａ）に示したアドレス電極
に垂直なＣ−Ｄ断面を示している。
【０１０９】図３８と図３９よりわかるように、これら
の実施の形態と第２８の実施の形態あるいは第２９の実
施の形態との相違点は、背面基板２に設けたアドレス電
極１０が伸延する方向に配列した表示セルがこの並びの
方向で隣り合う両側の表示セルと共通電極として働く表
示電極６２をバリアリブ１１を介して共有している点
と、バリアリブ１１上にバス電極７２を形成している点
である。これ以外の構成や本発明を適用した点、製造方
法は第２８の実施の形態あるいは第２９の実施の形態と
同じである。
の実施の形態と第２８の実施の形態あるいは第２９の実
施の形態との相違点は、背面基板２に設けたアドレス電
極１０が伸延する方向に配列した表示セルがこの並びの
方向で隣り合う両側の表示セルと共通電極として働く表
示電極６２をバリアリブ１１を介して共有している点
と、バリアリブ１１上にバス電極７２を形成している点
である。これ以外の構成や本発明を適用した点、製造方
法は第２８の実施の形態あるいは第２９の実施の形態と
同じである。
【０１１０】図３８に示した第３２の実施の形態では、
表示セルを選択するための放電を表示電極６が伸延する
方向に配列した表示セルに固有な表示電極６１と背面基
板２に設けたアドレス電極１０の間で発生させる。それ
に対し、図３９に示した第３３の実施の形態では、表示
セルを選択するための放電を、アドレス電極１０と共通
電極として働く表示電極６２の間で発生させる。第３３
の実施の形態は、共通電極として働く表示電極６２に３
００Ｖ程度の高い電圧を加えてすべての表示セルにおい
て放電を発生させ、これにより、表示電極６２を被覆し
ている保護膜９の表面とアドレス電極１０を被覆してい
る保護膜９の表面に壁電荷を形成し、アドレス電極１０
が伸延する方向に配列した表示セルを線順次選択するた
めにアドレス電圧１０に印加する走査電圧を低くする場
合に有効である。
表示セルを選択するための放電を表示電極６が伸延する
方向に配列した表示セルに固有な表示電極６１と背面基
板２に設けたアドレス電極１０の間で発生させる。それ
に対し、図３９に示した第３３の実施の形態では、表示
セルを選択するための放電を、アドレス電極１０と共通
電極として働く表示電極６２の間で発生させる。第３３
の実施の形態は、共通電極として働く表示電極６２に３
００Ｖ程度の高い電圧を加えてすべての表示セルにおい
て放電を発生させ、これにより、表示電極６２を被覆し
ている保護膜９の表面とアドレス電極１０を被覆してい
る保護膜９の表面に壁電荷を形成し、アドレス電極１０
が伸延する方向に配列した表示セルを線順次選択するた
めにアドレス電圧１０に印加する走査電圧を低くする場
合に有効である。
【０１１１】第３２の実施の形態と第３３の実施の形態
において、本発明を適用した点は第２８の実施の形態あ
るいは第２９の実施の形態で本発明を適用した点と同じ
である。このため、これらの実施の形態においても、第
２８の実施の形態あるいは第２９の実施の形態で得られ
た効果と同じ効果を得ることができる。さらに、第３２
の実施の形態と第３３の実施の形態では、アドレス電極
１０が伸延する方向に配列した表示セルが、共通電極と
して働く表示電極６２をこの並びの方向で隣り合う両側
の表示セルで共有しているために放電空間を大きくで
き、また、共通電極として働く表示電極６２に対するバ
ス電極７２をバリアリブ１１上に形成していることによ
り開口率を大きくできる。これらの効果は第３０の実施
の形態や第３１の実施の形態に比べて大きくなる。この
理由は、アドレス電極１０が伸延する方向に対して直角
な方向に配列された表示セルに固有な表示電極６１が共
通電極として働く表示電極６２の間にはさまれて配置さ
れていることによる。また、これらの実施の形態では、
各表示セルにおいて、アドレス電極１０が伸延する方向
に対して直角な方向に配列した表示セルに固有な表示電
極６１と共通電極として働く２つの表示電極６２からな
る２組の表示電極６を有しているため、２組の主放電
（表示のための放電）が発生する。このため、主放電に
よって発生する紫外線の強度が大きくなり、蛍光体から
発生する可視光の強度も大きくなる。これにより、輝度
がさらに高くなる。このように、第３２の実施の形態と
第３３の実施の形態におけるガス放電型表示装置では、
第２４〜第３１の実施の形態でのガス放電型表示装置に
比べて輝度が高くなる効果が得られる。この輝度が高く
なる効果は、主放電空間１００が格子状のバリアリブ１
１により各表示セルごとに分離されているために得られ
たものである。
において、本発明を適用した点は第２８の実施の形態あ
るいは第２９の実施の形態で本発明を適用した点と同じ
である。このため、これらの実施の形態においても、第
２８の実施の形態あるいは第２９の実施の形態で得られ
た効果と同じ効果を得ることができる。さらに、第３２
の実施の形態と第３３の実施の形態では、アドレス電極
１０が伸延する方向に配列した表示セルが、共通電極と
して働く表示電極６２をこの並びの方向で隣り合う両側
の表示セルで共有しているために放電空間を大きくで
き、また、共通電極として働く表示電極６２に対するバ
ス電極７２をバリアリブ１１上に形成していることによ
り開口率を大きくできる。これらの効果は第３０の実施
の形態や第３１の実施の形態に比べて大きくなる。この
理由は、アドレス電極１０が伸延する方向に対して直角
な方向に配列された表示セルに固有な表示電極６１が共
通電極として働く表示電極６２の間にはさまれて配置さ
れていることによる。また、これらの実施の形態では、
各表示セルにおいて、アドレス電極１０が伸延する方向
に対して直角な方向に配列した表示セルに固有な表示電
極６１と共通電極として働く２つの表示電極６２からな
る２組の表示電極６を有しているため、２組の主放電
（表示のための放電）が発生する。このため、主放電に
よって発生する紫外線の強度が大きくなり、蛍光体から
発生する可視光の強度も大きくなる。これにより、輝度
がさらに高くなる。このように、第３２の実施の形態と
第３３の実施の形態におけるガス放電型表示装置では、
第２４〜第３１の実施の形態でのガス放電型表示装置に
比べて輝度が高くなる効果が得られる。この輝度が高く
なる効果は、主放電空間１００が格子状のバリアリブ１
１により各表示セルごとに分離されているために得られ
たものである。
【０１１２】なお、第３２の実施の形態と第３３の実施
の形態では、背面基板側の放電空間２００がアドレス電
極１０が伸延する方向に伸びてこの方向に配列した表示
セルによって共有され、主放電空間１００と背面基板側
の放電空間２００がバリアリブ１１と隔壁１３、バリア
リブ１５を有する第７の隔壁基板によって形成されてい
るが、これらに限定されるものではない。すなわち、主
放電空間１００と背面基板側の放電空間２００を第３０
〜第３３の実施の形態や第３５の実施の形態で示した場
合と同じように形成しても差支えない。
の形態では、背面基板側の放電空間２００がアドレス電
極１０が伸延する方向に伸びてこの方向に配列した表示
セルによって共有され、主放電空間１００と背面基板側
の放電空間２００がバリアリブ１１と隔壁１３、バリア
リブ１５を有する第７の隔壁基板によって形成されてい
るが、これらに限定されるものではない。すなわち、主
放電空間１００と背面基板側の放電空間２００を第３０
〜第３３の実施の形態や第３５の実施の形態で示した場
合と同じように形成しても差支えない。
【０１１３】
【発明の効果】本発明によれば、表示セルの選択や走査
電圧の低下のために行う前面基板に設けた表示電極と背
面基板に設けたアドレス電極の間の放電時の発光や蛍光
体のイオンダメージを少なくできるので、ガス放電型表
示装置のコントラストと寿命を改善できる効果がある。
また、前面基板と背面基板に挟まれた放電空間を隔壁基
板という背面基板とは別個の部品により作製できるの
で、従来のガス放電型表示装置とは異なり、放電空間を
形成するためのバリアリブの形成不良による背面基板の
損失をなくすことができる効果がある。
電圧の低下のために行う前面基板に設けた表示電極と背
面基板に設けたアドレス電極の間の放電時の発光や蛍光
体のイオンダメージを少なくできるので、ガス放電型表
示装置のコントラストと寿命を改善できる効果がある。
また、前面基板と背面基板に挟まれた放電空間を隔壁基
板という背面基板とは別個の部品により作製できるの
で、従来のガス放電型表示装置とは異なり、放電空間を
形成するためのバリアリブの形成不良による背面基板の
損失をなくすことができる効果がある。
【図１】本発明の第１の実施の形態を示す断面図であ
る。
る。
【図２】本発明の第２の実施の形態を示す断面図であ
る。
る。
【図３】本発明の第３の実施の形態を示す断面図であ
る。
る。
【図４】本発明の第４の実施の形態を示す断面図であ
る。
る。
【図５】本発明の第５の実施の形態を示す断面図であ
る。
る。
【図６】本発明の第６の実施の形態を示す断面図であ
る。
る。
【図７】本発明の第７の実施の形態を示す断面図であ
る。
る。
【図８】本発明の第８の実施の形態を示す断面図であ
る。
る。
【図９】本発明の第９の実施の形態を示す断面図であ
る。
る。
【図１０】本発明の第１０の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図１１】本発明の第１１の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図１２】本発明の第１２の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図１３】本発明の第１３の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図１４】本発明の第１４の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図１５】本発明の第１５の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図１６】本発明の第１６の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図１７】ガス放電型表示パネルの従来例を示す斜視図
である。
である。
【図１８】ガス放電型表示パネルの従来例を示す断面図
である。
である。
【図１９】本発明の第１の実施の形態の製造方法の一例
を示す工程フロー図である。
を示す工程フロー図である。
【図２０】本発明の第２の実施の形態の製造方法の一例
を示す工程フロー図である。
を示す工程フロー図である。
【図２１】本発明の第３の実施の形態の製造方法の一例
を示す工程フロー図である。
を示す工程フロー図である。
【図２２】本発明の第１３の実施の形態の製造方法の一
例を示す工程フロー図である。
例を示す工程フロー図である。
【図２３】本発明の第１７の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図２４】本発明の第１８の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図２５】本発明の第１９の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図２６】本発明の第２０の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図２７】本発明の第２１の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図２８】本発明の第２２の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図２９】本発明の第２３の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図３０】本発明の第２４の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図３１】本発明の第２５の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図３２】本発明の第２６の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図３３】本発明の第２７の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図３４】本発明の第２８の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図３５】本発明の第２９の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図３６】本発明の第３０の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図３７】本発明の第３１の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図３８】本発明の第３２の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
【図３９】本発明の第３３の実施の形態を示す断面図で
ある。
ある。
１…前面基板，２…背面基板，３…放電空間，４…前面
ガラス基板，５…背面ガラス基板，６…表示電極（透明
電極），７…バス電極，８…誘電体層（ＭｇＯ），９…
保護膜，１０…アドレス電極，１１…バリアリブ，１２
…蛍光体，１３…隔壁，１４…開口部，１５…バリアリ
ブ，３０…隔壁用ガラス基板，３１…ドライフィルム，
６１…表示電極（透明電極），６２…表示電極（透明電
極），７１…バス電極，７２…バス電極，１００…主放
電空間，１０１…前面基板側の放電空間，１１０…バリ
アリブ，１５０…バリアリブ，２００…背面基板側の放
電空間，３００…隔壁基板
ガラス基板，５…背面ガラス基板，６…表示電極（透明
電極），７…バス電極，８…誘電体層（ＭｇＯ），９…
保護膜，１０…アドレス電極，１１…バリアリブ，１２
…蛍光体，１３…隔壁，１４…開口部，１５…バリアリ
ブ，３０…隔壁用ガラス基板，３１…ドライフィルム，
６１…表示電極（透明電極），６２…表示電極（透明電
極），７１…バス電極，７２…バス電極，１００…主放
電空間，１０１…前面基板側の放電空間，１１０…バリ
アリブ，１５０…バリアリブ，２００…背面基板側の放
電空間，３００…隔壁基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 和雄 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式 会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 高井 輝男 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式 会社日立製作所映像情報メディア事業部内
Claims (30)
- 【請求項１】表示を行うための主放電を発生させる表示
電極を形成した前面基板と表示セルを選択するためのア
ドレス電極を形成した背面基板が互いに並行かつ対向し
て配設され、前記前面基板と前記背面基板の間にバリア
リブによって分離された放電空間を有する複数個の放電
セルが存在し、当該放電セル中に少なくとも１種類以上
の発光色を示す蛍光面が形成されてなるガス放電型表示
装置において、前記表示電極が伸延する方向に配列した
表示セルの放電空間が互いに並行に設けられたバリアリ
ブによって分離されるとともに、各表示セルの放電空間
と前記背面基板が隔壁によって分離されており、蛍光体
層が前記バリアリブと前記隔壁の前記放電空間に接する
面上に形成され、前記隔壁には前記放電空間と前記背面
基板を連絡する開口部が背面基板に設けた前記アドレス
電極の少なくとも一部と前面基板側から見て重なるよう
に設けられていることを特徴とするガス放電型表示装
置。 - 【請求項２】表示を行うための主放電を発生させる表示
電極を形成した前面基板と表示セルを選択するためのア
ドレス電極を形成した背面基板が互いに平行かつ対向し
て配設され、前記前面基板と前記背面基板の間にバリア
リブによって分離された放電空間を有する複数個の放電
セルが存在し、当該放電セル中に少なくとも１種類以上
の発光色を示す蛍光面が形成されてなるガス放電型表示
装置において、前記表示電極が伸延する方向に配列した
表示セルの放電空間を分離するために設けられた互いに
並行な複数個のバリアリブと前記背面基板と各表示セル
の放電空間を分離するための隔壁を有し、前記バリアリ
ブと前記放電空間に接する面上に蛍光体層を形成した第
１の隔壁基板を前記前面基板に接触させることによって
各表示セルの放電空間が形成され、かつ、前記背面基板
と前記放電空間を分離する前記隔壁の中には前記放電空
間と前記背面基板を連絡する開口部が背面基板に設けた
前記アドレス電極の少なくとも一部と前面基板側から見
て重なるように設けられていることを特徴とするガス放
電型表示装置。 - 【請求項３】請求項２に記載のガス放電型表示装置にお
いて、前記第１の隔壁基板が電気的絶縁材料によって被
覆した金属板により形成されることを特徴とするガス放
電型表示装置。 - 【請求項４】請求項１乃至３いずれかに記載のガス放電
型表示装置において、前記放電空間の伸延する方向に配
列した表示セルを分離するためのバリアリブが前記放電
空間内の前記前面基板の表面において設けられ、前記前
面基板の表面において放電空間が各表示セルごとに分離
されていることを特徴とするガス放電型表示装置。 - 【請求項５】請求項４に記載のガス放電型表示装置にお
いて、前記前面基板の表面と接触することにより放電空
間を各表示セルごとに分離するバリアリブが、各表示セ
ルの放電空間を規定するための開口部を設けた第２の隔
壁基板によって形成されることを特徴とするガス放電型
表示装置。 - 【請求項６】請求項５に記載のガス放電型表示装置にお
いて、前面基板の表面と接触させて各表示セルの放電空
間を規定する前記第２の隔壁基板が、電気的絶縁材料に
よって被覆した金属板で形成されることを特徴とするガ
ス放電型表示装置。 - 【請求項７】表示を行うための主放電を発生させる表示
電極を形成した前面基板と表示セルを選択するためのア
ドレス電極を形成した背面基板が互いに並行かつ対向し
て配設され、前記前面基板と前記背面基板の間にバリア
リブによって分離された放電空間を有する複数個の放電
セルが存在し、当該放電セル中に少なくとも１種類以上
の発光色を示す蛍光面が形成されてなるガス放電型表示
装置において、それぞれの表示セルの放電空間が周囲に
設けられたバリアリブによって周囲に存在する表示セル
から個々に分離されるとともに、前記放電空間と前記背
面基板が隔壁によって分離されており、蛍光体層は前記
バリアリブと前記隔壁の前記放電空間に接する面上に形
成され、前記隔壁には前記放電空間と前記背面基板を連
絡する開口部が背面基板に設けた前記アドレス電極の少
なくとも一部と前面基板側から見て重なるように設けら
れ、かつ、前記隔壁に設けられた開口部が前記アドレス
電極が伸延する方向に対して直交する方向に伸延するこ
とによって前記表示電極が伸延する方向に配列した表示
セルの開口部は接続されていることを特徴とするガス放
電型表示装置。 - 【請求項８】表示を行うための主放電を発生させる表示
電極を形成した前面基板と表示セルを選択するためのア
ドレス電極を形成した背面基板が互いに平行かつ対向し
て配設され、前記前面基板と前記背面基板の間にバリア
リブによって分離された放電空間を有する複数個の放電
セルが存在し、当該放電セル中に少なくとも１種類以上
の発光色を示す蛍光面が形成されてなるガス放電型表示
装置において、前記背面基板と放電空間を分離するため
の隔壁と放電空間を表示セルごとに分離するためのバリ
アリブを備えるとともに前記バリアリブと前記放電空間
に接する面上に蛍光体層を形成した第３の隔壁基板を前
記前面基板に接触させることによって各表示セルの放電
空間が形成され、前記隔壁の中には前記放電空間と前記
背面基板を連絡する開口部が背面基板に設けられた前記
アドレス電極の少なくとも一部と前面基板側から見て重
なるように設けられ、かつ、前記隔壁に設けられた開口
部が前記アドレス電極が伸延する方向に対して直交する
方向に伸延することにより前記表示電極が伸延する方向
に配列した表示セルの開口部は接続されていることを特
徴とするガス放電型表示装置。 - 【請求項９】請求項８に記載のガス放電型表示装置にお
いて、前記第３の隔壁基板が電気的絶縁材料によって被
覆した金属板により形成されることを特徴とするガス放
電型表示装置。 - 【請求項１０】表示を行うための主放電を発生させる表
示電極を形成した前面基板と表示セルを選択するための
アドレス電極を形成した背面基板が互いに並行かつ対向
して配設され、前記前面基板と前記背面基板の間にバリ
アリブによって分離された放電空間を有する複数個の放
電セルが存在し、当該放電セル中に少なくとも１種類以
上の発光色を示す蛍光面が形成されてなるガス放電型表
示装置において、各表示セルの放電空間が前記前面基板
と前記背面基板の間に設けた隔壁によって前面基板側の
放電空間と背面基板側の放電空間に分離されており、前
記隔壁の前記前面基板と対向する面には前記表示電極が
伸延する方向に配列した表示セルの前面基板側の放電空
間を分離するためのバリアリブが互いに並行に設けられ
とともに、前記隔壁の前記背面基板と対向する面には表
示セルのある並びの方向に配列した表示セルの背面基板
側の放電空間を分離するためのバリアリブが互いに並行
に設けられ、かつ、前記隔壁には、前記前面基板側の放
電空間と前記背面基板側の放電空間を接続するための開
口部が設けられ、当該開口部は前記背面基板に設けられ
た前記アドレス電極の少なくとも一部と前記前面基板側
から見て重なるように配置され、少なくとも背面基板が
背面基板側の放電空間と接する場所において、前記アド
レス電極が放電ガスに対するスパッタ率が低く、２次電
子放出係数が高い保護膜によって被覆され、蛍光体層は
前記前面基板側の放電空間と接する側の前記バリアリブ
と前記隔壁の面に形成されることを特徴とするガス放電
型表示装置。 - 【請求項１１】請求項１０に記載のガス放電型表示装置
において、前記背面基板側の放電空間が前記表示電極の
伸延する方向に配列した表示セルを分離するために設け
られた互いに並行な複数個のバリアリブによって形成さ
れ、当該バリアリブが前記アドレス電極が伸延する方向
に配列した表示セルによって共有される開口部を有する
第４の隔壁基板によって形成されることを特徴とするガ
ス放電型表示装置。 - 【請求項１２】請求項１０に記載のガス放電型表示装置
において、前記背面基板側の放電空間が前記アドレス電
極の伸延する方向に配列した表示セルを分離するために
設けられた互いに並行な複数個のバリアリブによって形
成され、当該バリアリブが前記表示電極が伸延する方向
に配列した表示セルによって共有される開口部を有する
第４の隔壁基板によって形成されることを特徴とするガ
ス放電型表示装置。 - 【請求項１３】請求項１１又は１２に記載のガス放電型
表示装置において、前記第４の隔壁基板が電気的絶縁材
料によって被覆した金属板により形成されることを特徴
とするガス放電型表示装置。 - 【請求項１４】表示を行うための主放電を発生させる表
示電極を形成した前面基板と表示セルを選択するための
アドレス電極を形成した背面基板が互いに並行かつ対向
して配設され、前記前面基板と前記背面基板の間にバリ
アリブによって分離された放電空間を有する複数個の放
電セルが存在し、当該放電セル中に少なくとも１種類以
上の発光色を示す蛍光面が形成されてなるガス放電型表
示装置において、各表示セルの放電空間を前面基板側の
放電空間と前記背面基板側の放電空間に分離するための
隔壁と 当該隔壁の前面基板に対向する面に設けられた
前記表示電極が伸延する方向に配列した表示セルの前面
基板側の放電空間を分離するための互いに並行な複数個
のバリアリブと前記隔壁の背面基板に対向する面に設け
られた前記表示電極が伸延する方向に配列した表示セル
の背面基板側の放電空間を分離するための互いに並行な
複数個のバリアリブを有し、かつ、前記隔壁の中に、前
記前面基板側の放電空間と前記背面基板側の放電空間を
接続する開口部を設けられてなる第５の隔壁基板を前記
前面基板と前記背面基板によって挟むことにより各表示
セルの放電空間が形成され、かつ、蛍光体層が前記隔壁
基板の前面基板側の放電空間と接する面に形成され、前
記隔壁に設けられた前記開口部は前記背面基板に形成さ
れたアドレス電極の少なくとも一部と前記前面基板側か
ら見て重なるとともに、少なくとも前記背面基板が放電
空間と接する場所において前記アドレス電極が放電ガス
に対するスパッタ率が低く、２次電子放出係数が高い保
護膜により被覆されていることを特徴とするガス放電型
表示装置。 - 【請求項１５】表示を行うための主放電を発生させる表
示電極を形成した前面基板と表示セルを選択するための
アドレス電極を形成した背面基板が互いに並行かつ対向
して配設され、前記前面基板と前記背面基板の間にバリ
アリブによって分離された放電空間を有する複数個の放
電セルが存在し、当該放電セル中に少なくとも１種類以
上の発光色を示す蛍光面が形成されてなるガス放電型表
示装置において、各表示セルの放電空間を前面基板側の
放電空間と前記背面基板側の放電空間に分離するための
隔壁と当該隔壁の前面基板に対向する面に設けられた前
記表示電極が伸延する方向に配列した表示セルの放電空
間を分離するための互いに並行な複数個のバリアリブと
前記隔壁の背面基板に対向する面に設けられた前記アド
レス電極が伸延する方向に配列した表示セルの放電空間
を分離するための互いに並行な複数個のバリアリブを有
し、かつ、前記隔壁の中に、前記前面基板側の放電空間
と前記背面基板側の放電空間を接続する開口部を設けら
れてなる第５の隔壁基板を前記前面基板と前記背面基板
によって挟むことにより各表示セルの放電空間が形成さ
れ、かつ、蛍光体層が前記隔壁基板の前面基板側の放電
空間と接する面に形成され、前記隔壁に設けられた前記
開口部は前記背面基板に形成されたアドレス電極の少な
くとも一部と前記前面基板側から見て重なるとともに、
少なくとも前記背面基板が放電空間と接する場所におい
て前記アドレス電極が放電ガスに対するスパッタ率が低
く、２次電子放出係数が高い保護膜により被覆されてい
ることを特徴とするガス放電型表示装置。 - 【請求項１６】請求項１４又は１５に記載のガス放電型
表示装置において、前記第５の隔壁基板が電気的絶縁材
料によって被覆した金属板により形成されることを特徴
とするガス放電型表示装置。 - 【請求項１７】請求項１０乃至１６いずれかに記載のガ
ス放電型表示装置において、前記前面基板側の放電空間
が伸延する方向に配列した表示セルを分離するためのバ
リアリブが前記前面基板の放電空間と接触する側の表面
上に設けられ、前記前面基板側の放電空間が前面基板の
表面において各表示セルごとに分離されていることを特
徴とするガス放電型表示装置。 - 【請求項１８】請求項１７に記載のガス放電型表示装置
において、前記前面基板側の放電空間の伸延する方向に
配列した表示セルを分離するためのバリアリブが、各表
示セルの放電空間を規定する開口部を設けた第２の隔壁
基板によって形成されることを特徴とするガス放電型表
示装置。 - 【請求項１９】請求項１８に記載のガス放電型表示装置
において、前記前面基板の表面において各表示セルの放
電空間を規定する前記第２の隔壁基板が、電気的絶縁材
料によって被覆した金属板により形成されることを特徴
とするガス放電型表示装置。 - 【請求項２０】表示を行うための主放電を発生させる表
示電極を形成した前面基板と表示セルを選択するための
アドレス電極を形成した背面基板が互いに平行かつ対向
して配設され、前記前面基板と前記背面基板の間にバリ
アリブによって分離された放電空間を有する複数個の放
電セルが存在し、当該放電セル中に少なくとも１種類以
上の発光色を示す蛍光面が形成されてなるガス放電型表
示装置において、前記前面基板と前記背面基板の間に各
表示セルの放電空間を前面基板側の放電空間と背面基板
側の空間を分離する隔壁が設けられ、当該隔壁の前記背
面基板と対向する面側に、ある並びの方向に配列した表
示セルの背面基板側の放電空間を分離するバリアリブが
互いに並行に設けられるとともに、前記隔壁の前記前面
基板と対向する面側に各表示セルの前面基板側の放電空
間を個々に分離するバリアリブが設けられ、蛍光体層が
前面基板側の放電空間と接する側の前記隔壁とバリアリ
ブ上に形成され、かつ、前記隔壁には前面基板側の放電
空間と背面基板側の放電空間を接続する開口部が前記背
面基板の前記アドレス電極の少なくとも一部と前面基板
側から見てと重なるように設けられ、少なくとも前記背
面基板が放電空間と接する場所において前記アドレス電
極が放電ガスに対するスパッタ率が低く、２次電子放出
係数が高い保護膜により被覆されていることを特徴とす
るガス放電型表示装置。 - 【請求項２１】請求項２０に記載のガス放電型表示装置
において、前記隔壁の前記前面基板に対向する面側に設
けられた前面基板側の放電空間が、各表示セルごとに分
離するバリアリブと、前面基板側の放電空間と背面基板
側の放電空間を分離する前記隔壁と、前記隔壁の中に設
けられた前面基板側の放電空間と背面基板側の放電空間
を接続する開口部を有する第６の隔壁基板より構成する
ことを特徴とするガス放電型表示装置。 - 【請求項２２】請求項２１に記載のガス放電型表示装置
において、前記第４の隔壁基板を電気的絶縁材料によっ
て被覆した金属板で形成することを特徴とするガス放電
型表示装置。 - 【請求項２３】請求項２０乃至２２いずれかに記載のガ
ス放電型表示装置において、前記背面基板側の放電空間
を形成するバリアリブが前記アドレス電極が伸延する方
向に配列した表示セルによって共有される開口部を有す
る第４の隔壁基板によって形成されることを特徴とする
ガス放電型表示装置。 - 【請求項２４】請求項２０乃至２２いずれかに記載のガ
ス放電型表示装置において、前記背面基板側の放電空間
を形成するバリアリブが前記表示電極が伸延する方向に
配列した表示セルによって共有される開口部を有する第
４の隔壁基板によって形成されることを特徴とするガス
放電型表示装置。 - 【請求項２５】請求項２３又は２４に記載のガス放電型
表示装置において、前記第４の隔壁基板が電気的絶縁材
料によって被覆した金属板によって形成されることを特
徴とするガス放電型表示装置。 - 【請求項２６】表示を行うための主放電を発生させる表
示電極を形成した前面基板と表示セルを選択するための
アドレス電極を形成した背面基板が互いに平行かつ対向
して配設され、前記前面基板と前記背面基板の間にバリ
アリブによって分離された放電空間を有する複数個の放
電セルが存在し、当該放電セル中に少なくとも１種類以
上の発光色を示す蛍光面が形成されてなるガス放電型表
示装置において、各表示セルの放電空間を、前面基板側
の放電空間と前記背面基板側の放電空間に分離するため
の隔壁と、当該隔壁の前記背面基板と対向する面上に設
けられた前記表示電極が伸延する方向に配列した表示セ
ルの背面基板側の放電空間を分離するための複数個の並
行なバリアリブと、前記隔壁の前面基板と対向する側の
面上に設けられた前記前面基板側の放電空間を各表示セ
ルごとの放電空間として分離するためのバリアリブを有
するとともに、前記前面基板側の放電空間と前記背面基
板側の放電空間を接続する開口部を前記隔壁の中に設け
られてなる第７の隔壁基板を前記前面基板と前記背面基
板によって挟むことにより各表示セルの放電空間を形成
し、かつ、蛍光体層が前記第７の隔壁基板の前面基板側
の放電空間と接する面に形成され、前記隔壁に設けた前
記開口部は前面基板側から見て少なくとも前記アドレス
電極の一部と重なり、少なくとも前記背面基板が背面基
板側の放電空間と接する場所において、前記アドレス電
極が放電ガスに対するスパッタ率が低く、２次電子放出
係数が高い保護膜により被覆されていることを特徴とす
るガス放電型表示装置。 - 【請求項２７】表示を行うための主放電を発生させる表
示電極を形成した前面基板と表示セルを選択するための
アドレス電極を形成した背面基板が互いに平行かつ対向
して配設され、前記前面基板と前記背面基板の間にバリ
アリブによって分離された放電空間を有する複数個の放
電セルが存在し、当該放電セル中に少なくとも１種類以
上の発光色を示す蛍光面が形成されてなるガス放電型表
示装置において、各表示セルの放電空間を、前面基板側
の放電空間と前記背面基板側の放電空間に分離するため
の隔壁と、当該隔壁の前記背面基板と対向する面上に設
けられた前記アドレス電極が伸延する方向に配列した表
示セルの背面基板側の放電空間を分離するための複数個
の並行なバリアリブと、前記隔壁の前面基板と対向する
側の面上に設けられた前記前面基板側の放電空間を各表
示セルごとの放電空間として分離するためのバリアリブ
を有するとともに、前記前面基板側の放電空間と前記背
面基板側の放電空間を接続する開口部を前記隔壁の中に
設けられてなる第７の隔壁基板を前記前面基板と前記背
面基板によって挟むことにより各表示セルの放電空間を
形成し、かつ、蛍光体層が前記第７の隔壁基板の前面基
板側の放電空間と接する面に形成され、前記隔壁に設け
た前記開口部は前面基板側から見て少なくとも前記アド
レス電極の一部と重なり、少なくとも前記背面基板が背
面基板側の放電空間と接する場所において、前記アドレ
ス電極が放電ガスに対するスパッタ率が低く、２次電子
放出係数が高い保護膜により被覆されていることを特徴
とするガス放電型表示装置。 - 【請求項２８】請求項２６又は２７に記載のガス放電型
表示装置において、前記第７の隔壁基板が電気的絶縁材
料によって被覆した金属板により形成されることを特徴
とするガス放電型表示装置。 - 【請求項２９】請求項１乃至２８いずれかに記載のガス
放電型表示装置において、前記保護膜をＭｇＯ、Ｃａ
Ｏ、ＳｒＯの中から選んだ少なくとも１種類以上の材料
から形成することを特徴とするガス放電型表示装置。 - 【請求項３０】請求項１乃至２９いずれかに記載のガス
放電型表示装置において、前記保護膜と前記アドレス電
極の層間に電気的絶縁材料からなる誘電体層を形成する
ことを特徴とするガス放電型表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8219680A JPH1064433A (ja) | 1996-08-21 | 1996-08-21 | ガス放電型表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8219680A JPH1064433A (ja) | 1996-08-21 | 1996-08-21 | ガス放電型表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1064433A true JPH1064433A (ja) | 1998-03-06 |
Family
ID=16739298
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8219680A Pending JPH1064433A (ja) | 1996-08-21 | 1996-08-21 | ガス放電型表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1064433A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101651072A (zh) * | 2008-08-12 | 2010-02-17 | 三星Sdi株式会社 | 等离子体显示面板 |
| KR101022660B1 (ko) * | 2009-08-28 | 2011-03-22 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
-
1996
- 1996-08-21 JP JP8219680A patent/JPH1064433A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101651072A (zh) * | 2008-08-12 | 2010-02-17 | 三星Sdi株式会社 | 等离子体显示面板 |
| EP2157596A2 (en) | 2008-08-12 | 2010-02-24 | Samsung SDI Co., Ltd. | Plasma Display Panel and Method of Manufacturing the Same |
| KR100979946B1 (ko) * | 2008-08-12 | 2010-09-03 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
| EP2157596A3 (en) * | 2008-08-12 | 2010-11-24 | Samsung SDI Co., Ltd. | Plasma Display Panel and Method of Manufacturing the Same |
| US8183773B2 (en) | 2008-08-12 | 2012-05-22 | Samsung Sdi Co., Ltd. | Plasma display panel with auxiliary discharge space and method of manufacturing the same |
| KR101022660B1 (ko) * | 2009-08-28 | 2011-03-22 | 삼성에스디아이 주식회사 | 플라즈마 디스플레이 패널 |
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