JPH1060644A - 基体上に薄膜を形成させるための真空処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 いずれか１つの基体室、少なくともそれ
ぞれ対応する基体室への直接的なアクセスを許容する入
口／出口スルースゲート室２０が、カバー３３を備えて
おり、かつ、入口／出口スルースゲート室が内部シリン
ダ１４に向かって移動可能であり、かつ内部シリンダの
外壁に又は基体室３のフレーム状の端面に圧着可能であ
り、かつ、入口／出口スルースゲート室の壁部分３６，
３６′・・・の、カバー３３に面して位置する足部分４
０，４０′・・・が、フレキシブルな材料から成るフレ
ーム状の平面パッキン４１の半径方向内側部分に耐圧的
に結合されており、かつ、この平面パッキンがその半径
方向外側部分で、真空室壁１６，１６′′′の開口２４
の縁領域に耐圧的に結合されている。 【効果】 スルースゲート室と、基体室を支持する部分
又はそれぞれの基体室壁との間の耐圧的な結合が可能で
ある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基体例えば投光器
反射体上に薄膜を形成させるための真空処理装置であっ
て、定置の真空室壁により保持された複数の処理ステー
ション及び又は入口／出口スルースゲートステーション
と、真空室壁により囲われていて基体室を支持している
回転可能に支承された内部シリンダを備えており、真空
室壁に開口が設けられており、基体室がこれらの開口に
合致した位置にもたらされるようになっており、かつこ
れらの開口を通して、処理媒体が基体に作用することが
でき、及び又は搬入及び搬出可能である形式のものに関
する。

【０００２】

【従来の技術】この種の公知装置の欠点とするところ
は、構造が不経済であり、かつしばしば極めて特定され
た被コーティング物、例えば偏平な板状物にしか適用可
能でないことにある。被コーティング物の搬入及び搬出
はしばしば、高価なスルースゲート構造によってしか解
決されない困難なシール問題を抱えていた。

【０００３】ドイツ連邦共和国特許公開第２２４１６３
４号明細書からは冒頭に記載した形式の真空コーティン
グ装置が公知であり、この真空コーティング装置では搬
送装置が、処理すべき被コーティング物の受容のため
に、共通の１軸線の周りに配置されていてこの軸線を中
心として旋回可能なポット状のフレームを備えており、
その場合、処理位置、要するに搬入・搬出位置において
この種のフレーム自体が入口・出口室の壁を形成し、か
つ、入口・出口室の一部分を形成するフレームの端面を
遮断するための可動の弁板が設けられている。この公知
の真空コーティング装置では、被コーティング物の搬入
及び搬出は構造的に簡単に解決されている。しかし、特
に蒸着位置への被コーティング物の引続き行われる移動
は複雑である。被コーティング物を収容したコップ状の
フレームは搬送装置の引続く回転により引渡位置へもた
らされ、この引渡位置から個々の基体が、下方から係合
する持上装置によりコップ状のフレームから押し出され
て、上向きに蒸着室内へ運動させられる。このことによ
り、著しい構造的な費用が生じるのみならず、複雑かつ
時間のかかる作業を余儀なくされる。

【０００４】さらにドイツ連邦共和国特許第２４５４５
４４号明細書からは薄膜を基体上に蒸着するための真空
コーティング装置が公知であり、この装置は入口室と、
基体の処理もしくはコーティングのための別の室と出口
室とを備えており、さらに、脱気可能な主室内に、この
室を通して基体を搬送するために配置された搬送装置を
備えており、その場合、前述の複数の室と主室との間を
一時的にシールするためのシール装置が設けられてお
り、かつ搬送装置が共通の１軸線の周りに配置されてい
て、この軸線を中心として旋回可能なフレームを被コー
ティング物の受容のために備えており、その場合、少な
くとも２つの処理位置、即ち入口位置と出口位置及び蒸
着位置では、この種のフレーム自体が、処理室、要する
に入口室、出口室及び蒸着室の壁の一部を形成してお
り、その場合、これらの処理位置の少なくとも１つに
は、処理室の一部を形成しているフレームの端面の遮断
のための可動の弁板が設けられている。

【０００５】真空状態で担体上に膜を形成するための装
置、特に電気的なフィルムコンデンサの製作時に担体上
に金属層及びゴム重合層を交互に形成するための装置も
公知であり（ドイツ連邦共和国特許第２８４８４８０号
明細書）、この装置は少なくとも２つの真空室を備えて
おり、これらの真空室は真空スルースゲートにより互い
に仕切られており、その場合、第１の真空室には運転中
に第２の真空室又は搬送装置を備えたその他の室内に比
して低い残留圧が形成されるようになっており、この搬
送装置は別個の真空スルースゲートを通して第１の真空
室から第２の真空室内へ、かつ再び第１の真空室又は第
３の真空室内へ被コーティング担体を搬送することがで
きる。さらに、真空室内には、搬送装置上に位置する担
体に膜を形成させるための装置が設けられており、真空
スルースゲートは、搬送装置の単数又は複数の面に直に
対向して位置していてこの単数又は複数の面に対して狭
い隙間しか開放しないチークをそれぞれ備えており、か
つそれぞれ２つのチークの間には残留ガスの吸引のため
の吸出管が設けられており、その場合、搬送装置は１方
向にのみ運動可能であり、かつ搬送装置の運動方向で第
１の真空室の手前に位置する真空スルースゲートが、搬
送装置の搬送方向で第１の真空室の後方に位置する真空
スルースゲートに比して長い拡散距離を有している。

【０００６】さらに、基体又はワークの表面処理のため
の真空加工装置も公知であり（ヨーロッパ特許公開Ａ−
０５５５７６４号明細書）、この装置はシリンダ状に形
成されており、その場合、被加工基体を受容するための
少なくとも１つの受容室もしくは容器が円形もしくは円
筒形の分配室の外套に沿って配置されており、周囲に外
向きの室開口を備えており、この室開口がそれぞれの加
工位置で、加工室もしくはプロセス室を形成すべく、シ
リンダ外套内に配置された対応する加工ステーションに
向けられており、これらの受容室もしくは容器又はシリ
ンダ外套がシリンダ中央軸線を中心として回転可能に配
置されており、これにより、受容室もしくは容器が１つ
の加工ステーションから次の加工ステーションへ運動す
るためにシリンダ外套に対して相対的に運動可能であ
り、その場合、加工プロセス時に加工室もしくはプロセ
ス室をシールにより仕切るべく、一部又はすべての受容
室もしくは容器及び又は加工ステーションに空気力式又
は液圧式に作動するパッキンが設けられている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題とすると
ころは、入口・出口スルースゲートステーションと、基
体室を支持する部分又はそれぞれの基体室壁との間の耐
圧的な結合が形成されるように冒頭に記載した形式の装
置を製作することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明の構成では、いずれか１つの基体室、少なくと
もそれぞれ対応する基体室への直接的なアクセスを許容
する入口／出口スルースゲート室が、カバー又はスルー
スゲートフラップを備えており、かつ、入口／出口スル
ースゲート室が内部シリンダに対して移動可能であり、
かつ内部シリンダの外壁に又は基体室のフレーム状の端
面に圧着可能であり、かつ、入口／出口スルースゲート
室の壁部分の、カバー又はスルースゲートフラップに面
して位置する足部分が、フレキシブルな材料から成るフ
レーム状の平面パッキンの半径方向内側部分に耐圧的に
結合されており、かつ、この平面パッキンがその半径方
向外側部分で、真空室壁の開口の縁領域に耐圧的に結合
されているようにした。

【０００９】

【発明の実施の形態】次に図示の実施例につき本発明を
詳しく説明する。

【００１０】本装置は真空室７を備えており、この真空
室７はその外壁に均一に分配されて配置された複数の窓
状の開口２４，２５，２６，２７を備えており、その場
合、各開口２４，２５，２６，２７に対応して、それぞ
れの開口２４，２５，２６，２７の方向へ開いた箱形シ
ェル状のケーシングから成る処理ステーション８，９，
１０又は入口／出口スルースゲートステーション２０が
配置されており、その環状の縁部分が真空室７の壁１
６，１６′，１６′′，１６′′′に固定的に結合され
ている。真空室７は開口１１，１２，１３，２１を備え
た内部シリンダ１４を囲んでおり、これらの開口は真空
室７の上述した開口と対応しており、かつ同様にこれら
の開口内にはシェル状の基体室３，４，５，６が挿入さ
れており、これらの基体室は処理ステーション８，９，
１０もしくは入口／出口スルースゲートステーション２
０と一緒に、内部シリンダ１４の図示の位置でそれぞれ
すべての側で閉鎖された容器を形成している。真空室壁
は外壁部分１６，１６´，１６´´，１６′′′から形
成されており、これらの外壁部分はそれぞれ処理ステー
ション８，９，１０もしくは入口／出口スルースゲート
ステーション２０の壁部分に固定的に結合されており、
かつこれにより室壁部分及び内部シリンダ１４と一緒に
外室１５，１５′，１５′′，１５′′′を形成してい
る。２つのこの外室１５′，１５′′は孔１７，１７′
を介して２つの処理ステーション８，１０の内壁に結合
されており、その場合、これら両方の外室１５′，１
５′′の外壁部分１６′，１６′′は供給源２２もしく
は２３に固定的に結合されており、この供給源を介して
ガスもしくはモノマーが切欠１８，１８′を介して外室
１５′もしくは１５′′内に流入可能であり、その結
果、例えば処理ステーション８内ではグロープロセス
を、処理ステーション１０内ではコーティングプロセス
を実施することができる。処理ステーション９のケーシ
ング内では２つのスパッタカソード２８，２９が取付け
られており、その場合、所要の電流供給部３０が処理ス
テーション９の外壁に固定されている。外室１５′′′
は孔３２を介してスルースゲートステーション２０に連
通しており、これは真空ポンプ（図示せず）の吸込管継
手１９に接続されている。スルースゲート室２０内への
搬入もしくは同室からの搬出の目的で、シェル状のケー
シングの底部を形成しているカバー３３が一点鎖線で示
された位置へ移動可能である。全室、要するに処理ステ
ーション８，９，１０、スルースゲート室２０、基体室
３，４，５，６、外室１５，１５´，１５´´，１
５′′′及び内部シリンダ１４は共通の１つの底板と図
示されていないカバー板とにより覆われており、その結
果、装置の特別簡単な構造が得られている。内部シリン
ダ１４はアーム３５，３５′，３５′′，３５′′′を
介してモータ３４に回動不能に結合されており、これに
より、内部シリンダ１４及び基体室３，４，５，６から
成る構造物は、底板とカバー板と外壁部分１６，１６
´，１６´´，１６′′′とから成る真空室の内部で回
転することができる。

【００１１】カバー３３を開放位置へ移動することによ
り入口・出口スルースゲート室２０を、その他の処理室
８，９，１０内の圧力を変化させることなしに開放する
ことができるように、スルースゲートステーション２０
の側壁３６，３６′，３６´´，３６´´´が矢印Ａで
示す方向にわずかな量だけ移動可能に形成されている。
スルースゲートステーション２０の側壁もしくはフレー
ム状の部分を内部シリンダ１４へ向けてこのように移動
させることにより、スルースゲートステーション２０は
真空密に壁１４に当接し、その結果、真空室７内の圧力
を変化させることなく、このスルースゲートステーショ
ンの開放及び通気が許される。スルースゲートステーシ
ョン２０の側壁３６，３６′，３６´´，３６´´´の
この移動は、側壁３６，３６′，３６´´，３６´´´
に固定的に配置された従動子３８，３８′，３８´´，
３８´´´と協働するカム軸３７，３７′，３７´´，
３７´´´を介して行われる（従動子及びカム軸は図面
簡単のため図１にはそれぞれ１つを示すのみである）。

【００１２】図２に（拡大して）示すように、側壁３
６，３６′，３６´´，３６´´´はフレーム状のパッ
キン３９を備えており、このパッキンは円筒状の壁１４
の外面にシール作用下で圧着される。このことのため
に、足部分４０は同様に矢印Ａで示す閉鎖方向（図３及
び図４も参照）で、それも図４に詳細に示した出発位置
から運動する。真空室７の壁部分１６，１６′′′と側
面３６，３６′，３６´´，３６´´´との間の所望の
シールを保証するために、足部分４０，４０′はそれぞ
れフレーム状の平面パッキン４１に固定的に結合されて
おり、その半径方向外側部分はフレーム４２により壁部
分１６，１６′′′もしくは補助フレーム４３に圧着さ
れる。この補助フレーム４２もしくはその外面Ｆはスル
ースゲートフラップもしくはカバー３３のためのシール
面を形成している。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明にもとづく装置の断面を示す図である。

【図２】図１に示す装置のスルースゲートステーション
のフレーム状の部分を拡大して断面した図である。

【図３】図２に示すスルースゲートステーションのシー
ルエレメントを閉鎖位置で拡大して示す断面図である。

【図４】図３に示すシールエレメントを開放位置で断面
して示す図である。

【符号の説明】

２，２′ 基体、 ３，４，５，６ 基体室、 ７ 真
空室、 ８，９，１０処理ステーション（処理室）、
１１，１２，１３ 開口、 １４ 円筒状の壁（内部シ
リンダ）、 １５，１５′，１５′′，１５′′′ 外
室、 １６，１６′，１６′′，１６′′′ 外壁（真
空室壁）、 １７，１７′ 孔、 １８，１８′ 切
欠、 １９ 吸込管継手、 ２０ 入口・出口スルース
ゲートステーション（入口・出口スルースゲート室）、
２１ 開口、 ２２ ガス供給源、 ２３ モノマー
供給源、 ２４，２５，２６，２７ 開口、 ２８，２
９スパッタカソード、 ３０ 電流供給部、 ３１ 外
壁、 ３２ 孔、 ３３カバー（スルースゲートフラッ
プ）、 ３４ モータ、 ３５，３５′，３５′′，３
５′′′ アーム、 ３６，３６′ 側壁、 ３７，３
７′ カム軸、３８，３８′ 従動子、 ３９ パッキ
ン、 ４０，４０′ 足部分、 ４１平面パッキン、
４２ フレーム（締付フレーム）、 ４３ 補助フレー
ム、４４ 締付条片、 ４５，４６ シールリング

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ユルゲン ヘンリッヒ ドイツ連邦共和国 リメスハイン アム ゲオルゲンヴァルト ５

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基体（２，２´，２´´，２′′′）例
   えば投光器反射体上に薄膜を形成させるための真空処理
   装置であって、定置の真空室壁（１６，１６´，１６´
   ´，１６′′′）により保持された複数の処理ステーシ
   ョン（８，９，１０）及び又は入口／出口スルースゲー
   トステーション（２０）と、真空室壁により囲われてい
   て基体室（３，４，５，６）を支持している回転可能に
   支承された架台又は内部シリンダ（１４）とを備えてお
   り、真空室壁（１６，１６´，１６´´，１６′′′）
   に開口（２４，２５，２６，２７）が設けられており、
   基体室（３，４，５，６）がこれらの開口に合致した位
   置にもたらされるようになっており、かつこれらの開口
   を通して、処理媒体が基体（２，２´，２´´，
   ２′′′）に作用することができ、及び又は搬入及び搬
   出可能である形式のものにおいて、 いずれか１つの基体室、少なくともそれぞれ対応する基
   体室への直接的なアクセスを許容する入口／出口スルー
   スゲート室（２０）が、カバー又はスルースゲートフラ
   ップ（３３）を備えており、かつ、入口／出口スルース
   ゲート室（２０）が内部シリンダ（１４）に向かって移
   動可能であり、かつ内部シリンダ（１４）の外壁に又は
   基体室（３）のフレーム状の端面に圧着可能であり、か
   つ、入口／出口スルースゲート室（２０）の壁部分（３
   ６，３６′，３６´´，３６´´´）の、カバー（３
   ３）に面して位置する足部分（４０，４０′，４０´
   ´，４０´´´）が、フレキシブルな材料から成るフレ
   ーム状の平面パッキン（４１）の半径方向内側部分に耐
   圧的に結合されており、かつ、この平面パッキン（４
   １）がその半径方向外側部分で、真空室壁（１６，１
   ６′′′）の開口（２４）の縁領域に耐圧的に結合され
   ていることを特徴とする、基体上に薄膜を形成させるた
   めの真空処理装置。
2. 【請求項２】 フレーム状の平面パッキン（４１）が一
   方ではその半径方向外側縁部分で側壁（３６，３６′）
   の足部分と締付条片（４４，４４′）との間に、かつ他
   方では半径方向内側部分で真空室壁（１６，１６′）又
   は補助フレーム（４３）と締付フレーム（４２）又は締
   付片との間に締め込まれており、その場合、互いに平行
   な締込箇所の相互間隔（ｘ）が、真空室壁（１６，１
   ６′′′）に対する側壁（３６，３６′）の最大移動距
   離（ｙ）のほぼ１２倍である、請求項１記載の真空処理
   装置。
3. 【請求項３】 フレーム状の平面パッキン（４１）が真
   空室側でそれぞれ、足部分（４０）及び補助フレーム
   （４３）又は真空室壁（１６，１６′）に切削された溝
   内に保持されたシール隆起部又はシールリング（４５，
   ４６）に当接している、請求項２記載の真空処理装置。
4. 【請求項４】 足部分（４０）の、及び補助フレーム
   （４３）又は真空室壁（１６，１６′′′）の、平面パ
   ッキン（４１）に対向して位置する面があいまって、平
   面パッキン（４１）のための互いに協働する支持面又は
   当接面を形成するように寸法決めされかつ形成されてい
   る、請求項２記載の真空処理装置。