JPH1059929A - シクロヘキサンジオン誘導体および除草剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、水田雑草および畑地雑草に対して
優れた除草効果を有し、かつ有用作物に害がない新規な
シクロヘキサンジオン誘導体を提供することを目的とす
る。 【解決手段】 一般式（Ｉ）： 〔式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｙは式−Ｓ(Ｏ)_m−
Ｒ（式中、Ｒは低級アルキル基もしくは低級アルケニル
基を表し、但しＲが低級アルキル基の場合にはｍは０、
１または２の整数であり、またＲが低級アルケニル基の
場合にはｍはゼロである）の基を表し、またはＹは式 （式中、ｎは０または１である）の基を表す〕で示され
るシクロヘキサンジオン誘導体が合成された。この誘導
体は優れた除草活性を有し、しかも作物と雑草間に優れ
た選択性を示す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なシクロヘキ
サンジオン誘導体に関し、またこの新規なシクロヘキサ
ンジオン誘導体を活性成分として含有する除草剤組成物
に関する。また、本発明は該シクロヘキサンジオン誘導
体を用いる除草方法も包含する。したがって、本発明は
化学工業ならびに農業、特に農薬製造業の分野で有用で
ある。

【０００２】

【従来の技術】本発明により提供される新規なシクロヘ
キサンジオン誘導体は下記〜の７群のシクロヘキサ
ンジオン誘導体を包含する既知のシクロヘキサンジオン
類と化学構造上で近似するものであり、下記の既知のシ
クロヘキサンジオン誘導体はいずれも除草活性を有する
ことが知られている。

【０００３】 一般式（ａ） （式中、Ｒは低級アルキル基、低級アルケニル基、低級
アルキニル基、低級アルコキシ低級アルキル基または低
級アルキルチオ低級アルキル基を表し、Ｒ₁、Ｒ₂は各々
が水素原子または低級アルキル基を表し、Ｘは塩素原子
または臭素原子を表す）で示される化合物（特開平６−
２４７８９１号公報参照）。

【０００４】 一般式（ｂ） （式中、Ｒ₁、Ｒ₂およびＲ₃は各々が水素原子または低
級アルキル基を表し、Ｘは塩素原子または臭素原子を表
し、Ｙは酸素原子または硫黄原子を表し、Ｚは低級アル
キル基で置換されてもよい低級アルキレン基を表し、ｍ
は１または２の整数を表す）で示される化合物（特開平
６−２７１５６２号公報参照）。

【０００５】 一般式（ｃ） （式中Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃およびＲ₄は各々が水素原子または
低級アルキル基を表し、Ｘは塩素原子または臭素原子を
表す)で示される化合物(特開平６−３２１９３２号公報
参照）。

【０００６】 一般式（ｄ） （式中、Ｒは塩素原子または臭素原子を示し、Ｒ₁、
Ｒ₂、Ｒ₃は各々が水素原子またはＣ₁〜Ｃ₄アルキル基を
示し、Ｒ₄は水酸基、水素原子またはＣ₁〜Ｃ₄アルキル
基を示し、あるいはＲ₁、Ｒ₂、Ｒ₅およびＲ₆のすべてが
Ｃ₁〜Ｃ₄アルキル基であるとき、Ｒ₃とＲ₄は共同して一
つのカルボニル基を示し、またＲ₅は水素原子またはＣ₁
〜Ｃ₄アルキル基を示し、Ｒ₆は水素原子、Ｃ₁〜Ｃ₄アル
キル基、Ｃ₁〜Ｃ₄アルキルチオ基またはＣ₁〜Ｃ₄アルキ
ルスルホニル基を示し、Ｒ₇はメチル基またはエチル基
を示し、Ｒ₈はハロゲン原子、ニトロ基などを示し、Ｘ
は酸素原子または硫黄原子を示す）で示される化合物ま
たはその塩（国際出願ＰＣＴ／US８９／０５０５６号の
国内公開である特表平４-５０１７２６号公報参照)。

【０００７】 一般式（ｅ） （式中、Ｒ₁、Ｒ₂およびＲ₃は各々が水素原子またはＣ₁
〜Ｃ₄のアルキル基を示し、Ｒ₄は水酸基、水素原子また
はＣ₁〜Ｃ₄のアルキル基などを示し、Ｒ₅は水素原子ま
たはＣ₁〜Ｃ₄のアルキル基を示し、Ｒ₆は水素原子また
はＣ₁〜Ｃ₄のアルキル基などを示し、Ｒ₇はメチル基ま
たはエチル基を示し、Ｒ₈はハロゲン原子、ニトロ基な
どを示す）で示される化合物（米国特許第５０９２９１
９号明細書参照）。

【０００８】 一般式（ｆ） （式中、Ｒ₁はＣ₁〜Ｃ₄のアルキル基、Ｃ₁〜Ｃ₄のハロ
アルキル基、メトキシエチル基またはエトキシエチル基
を示し、Ｒ₇〜Ｒ₁₂は各々が水素原子またはＣ₁〜Ｃ₄の
アルキル基を示し、Ｑはハロゲン原子またはニトロ基な
どを示す）で示される化合物（米国特許第５１１０９７
９号明細書参照）。

【０００９】 一般式（ｇ） （式中、Ｒはハロゲン原子などを示し、Ｒ₁、Ｒ₂、
Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆は各々が水素原子またはＣ₁〜Ｃ₂の
アルキル基を示し、Ｒ₇、Ｒ₈は各々がハロゲン原子、メ
トキシエチル基またはエトキシエチル基などを示す）で
示される化合物（国際出願のＷＩＰＯ公開ＷＯ ９２／
１９１０７号公報参照）。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の前記の〜の文献に記載の既知化合物は、実際に
は、後記の試験例に示すように、除草効力が不十分であ
ったり、作物に薬害を与えたりすることから、除草剤と
して必ずしも満足すべきものとはいいがたい。そのた
め、前記のような欠点のない新しい除草剤の提供と開発
が望まれている。

【００１１】本発明の目的は、前記の既知の化合物に代
わり、優れた除草活性を有するが作物に対して低い薬害
しか示さずに安全性があり優れた選択性を有することの
できる新規なシクロヘキサンジオン誘導体を提供するこ
とである。また、本発明の別の目的は、水稲の湛水下水
田ならびに種々な作物の畑に生ずる主要雑草を駆除する
のに有用であって上記の新規なシクロヘキサンジオン誘
導体を有効成分として含有する水稲および畑作物用除草
剤組成物を提供することにある。本発明のその他の目的
は次の説明から明らかであろう。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成するために、数多くのシクロヘキサンジオン誘
導体を合成し、そして合成されたシクロヘキサンジオン
誘導体の除草活性と有用性について鋭意検討した。その
結果、後記の一般式（Ｉ）で示される新規なシクロヘキ
サンジオン誘導体が水稲および種々な畑作物の栽培場所
における主要雑草、特に水田の主要雑草に対して低い施
用薬量でも優れた除草効果を示し得ること、また作物に
薬害を与えないことを見いだした。

【００１３】したがって、第１の本発明の要旨によれ
ば、一般式（Ｉ）： 〔式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｙは式−Ｓ(Ｏ)_m−
Ｒ（式中、Ｒは低級アルキル基もしくは低級アルケニル
基を表し、但しＲが低級アルキル基の場合にはｍは０、
１または２の整数であり、またＲが低級アルケニル基の
場合にはｍはゼロである）の基を表し、またはＹは式 （式中、ｎは０または１である）の基を表す〕で示され
るシクロヘキサンジオン誘導体が提供される。

【００１４】第１の本発明による一般式（Ｉ）で示され
る化合物において、式中の置換基Ｙが式−Ｓ(Ｏ)_m−Ｒ
である場合、そのＲである低級アルキル基は炭素数が１
〜６のアルキル基であり、直鎖状もしくは分岐鎖状であ
ってよい。その低級アルキル基Ｒとしては、例えば、メ
チル基、エチル基、ｎ-プロピル基、イソプロピル基、
ｎ-ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、ｔ-ブチル
基、ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル基、ヘ
キシル基、イソヘキシル基などが挙げられる。この場
合、ｍはゼロ、１または２の整数である。またＲが低級
アルケニル基である場合、これは、炭素数２〜６のアル
ケニル基であり、直鎖状もしくは分岐鎖状であってよ
い。その低級アルケニル基Ｒとしては、例えば、ビニル
基、１-プロペニル基、アリル（allyl）基、１-メチル
ビニル基、２-メチルアリル基、１-ブテニル基、２-ブ
テニル基、３-ブテニル基、２-ペンテニル基、２-ヘキ
セニル基などが挙げられる。Ｒが低級アルケニル基であ
る場合、ｍはゼロである。

【００１５】また、一般式（Ｉ）の化合物における置換
基Ｙが次式 （但しｎは０もしくは１を表す）で示される含酸素の脂
環族式基である場合に、この脂環族式基はｎがゼロの時
にテトラヒドロフラン-２-イル基を示し、またｎが１の
時にテトラヒドロピラン-２-イル基を示す。

【００１６】一般式（Ｉ）の化合物において、Ｘである
ハロゲン原子は、塩素、臭素、沃素またはフッ素が挙げ
られるが、塩素または臭素であるのが好ましい。

【００１７】第１の本発明による一般式（Ｉ）の新規シ
クロヘキサンジオン誘導体は、下記の４種の型（Ａ）、
（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）の化合物を包含する。

【００１８】（Ａ）一般式（Ia） 〔式中、Ｘは塩素、臭素、沃素またはフッ素原子を表
し、Ｒ^aは直鎖状または分岐鎖状の（Ｃ₁〜Ｃ₆）アルキ
ル基を表す〕で示されるシクロヘキサンジオン誘導体。

【００１９】（Ｂ）一般式（Ib） 〔式中、Ｘは塩素、臭素、沃素またはフッ素原子を表
し、Ｒ^aは直鎖状または分岐鎖状の（Ｃ₁〜Ｃ₆）アルキ
ル基を表し、ｐは１または２の整数である〕で示される
シクロヘキサンジオン誘導体。

【００２０】（Ｃ）一般式（Ic） 〔式中、Ｘは塩素、臭素、沃素またはフッ素原子を表
し、Ｒ^bは直鎖状または分岐鎖状の（Ｃ₂〜Ｃ₆）アルケ
ニル基を表す〕で示されるシクロヘキサンジオン誘導
体。

【００２１】（Ｄ）一般式（Id） 〔式中、Ｘは塩素、臭素、沃素またはフッ素原子を表
し、Ｙ′は式 （式中、ｎは０または１である）のテトラヒドロフラン
-２-イル基またはテトラヒドロピラン-２-イル基を表
す〕で示されるシクロヘキサンジオン誘導体。

【００２２】前記一般式(Ia)の誘導体の好ましい例は、
２-〔２′,４′-ジクロロ-３′-(メチルチオメチルオキ
シ)ベンゾイル〕-１,３-シクロヘキサンジオン、２-
〔２′,４′-ジブロモ-３′-(メチルチオメチルオキシ)
ベンゾイル〕-１,３-シクロヘキサンジオン、２-
〔２′,４′-ジクロロ-３′-(エチルチオメチルオキシ)
ベンゾイル〕-１,３-シクロヘキサンジオンおよび２-
〔２′,４′-ジブロモ-３′-(エチルチオメチルオキシ)
ベンゾイル〕-１,３-シクロヘキサンジオンである。

【００２３】前記の一般式(Ib）の誘導体の好ましい例
は、２-〔２′,４′-ジクロロ-３′-(メチルスルホニル
メチルオキシ)ベンゾイル〕-１,３-シクロヘキサンジオ
ン、２-〔２′,４′-ジブロモ-３′-(メチルスルホニル
メチルオキシ)ベンゾイル〕-１,３-シクロヘキサンジオ
ン、２-〔２′,４′-ジクロロ-３′-(メチルスルフィニ
ルオキシ)ベンゾイル〕-１,３-シクロヘキサンジオンお
よび２-〔２′,４′-ジブロモ-３′-(メチルスルフィニ
ルメチルオキシ)ベンゾイル〕-１,３-シクロヘキサンジ
オンである。

【００２４】前記の一般式(Ic）の誘導体の好ましい例
は、２-〔２′,４′-ジクロロ-３′-(アリルチオメチル
オキシ)ベンゾイル〕-１,３-シクロヘキサンジオンおよ
び２-〔２′,４′-ジブロモ-３′-(アリルチオメチルオ
キシ)ベンゾイル〕-１,３-シクロヘキサンジオンであ
る。

【００２５】前記の一般式(Id）の誘導体の好ましい例
は、２-〔２′,４′-ジクロロ-３′-(テトラヒドロピラ
ン-２-イル-メチルオキシ)ベンゾイル〕-１,３-シクロ
ヘキサンジオンおよび２-〔２′,４′-ジブロモ-３′-
(テトラヒドロピラン-２-イル-メチルオキシ)ベンゾイ
ル〕-１,３-シクロヘキサンジオンである。

【００２６】次に、本発明の一般式（Ｉ）の誘導体の代
表的な具体例を表１に示す。なお、表１に示した化合物
Ｎo.は以下の実施例および試験例でも参照される。

【００２７】

【表１】 第１の本発明による一般式(Ｉ)の化合物はすべて新規化
合物である。そして、この一般式（Ｉ）の化合物は、水
田、畑作地に生ずる各種の雑草を防除するのに有効であ
る活性成分として作用する。

【００２８】従って、第２の本発明の要旨によれば、一
般式（Ｉ） 〔式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｙは式−Ｓ(Ｏ)_m−
Ｒ（式中、Ｒは低級アルキル基もしくは低級アルケニル
基を表し、但しＲが低級アルキル基の場合にはｍは０、
１または２の整数であり、またＲが低級アルケニル基の
場合にはｍはゼロである）の基を表し、またはＹは式 （式中、ｎは０または１である）の基を表す〕で示され
るシクロヘキサンジオン誘導体を活性成分として固体ま
たは液体状担体とともに含有することを特徴とする除草
剤組成物が提供される。

【００２９】次に、本発明による一般式（Ｉ）の化合物
の製造法について詳しく説明する。一般式(Ｉ)のシクロ
ヘキサンジオン誘導体の置換基Ｙが低級アルキルチオ
基、低級アルケニルチオ基、テトラヒドロフラン-２-イ
ル基またはテトラヒドロピラン-２-イル基である場合、
すなわち該誘導体が前記の一般式（Ia）、（Ic）または
（Id）で示される誘導体である場合には、出発原料とし
て、次式（II） で示されるシクロヘキサンジオンと、一般式（III） （式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｙ^aは低級アルキル
チオ基、低級アルケニルチオ基、テトラヒドロフラン-
２-イル基またはテトラヒドロピラン-２-イル基を表
す）で示されるベンゾイックアシッド誘導体とをジシク
ロヘキシルカーボジイミド（ＤＣＣ）の存在下に有機溶
媒中で反応させることにより一般式（IV） （式中、ＸおよびＹ^aは前記の意味を表す）で示される
エノールエステル化合物を中間体として生成する第１工
程と、次いでシアナイド源を触媒として用いて式（IV）
のエノールエステル化合物を転位反応にかけることによ
り、一般式(Ｉ′) （式中、ＸおよびＹ^aは前記の意味を表す）で示される
シクロヘキサンジオン誘導体を生成する第２工程とから
成る第１の方法によって上記の一般式（Ｉ′）のシクロ
ヘキサンジオン誘導体を製造できる。

【００３０】上記の第１の方法において、式（II）の化
合物と式（III）の化合物とを反応させて式（IV）の化
合物を生成する第１工程は、それぞれ当量の反応成分を
使用し、式(II)又は式(III）の化合物に対し１当量の量
で加えられたジシクロヘキシルカーボジイミド(ＤＣＣ)
の存在下に且つ触媒量で添加された４-ジメチルアミノ
ピリジンの存在下に適当な有機溶媒中で反応を行うこと
からなる。反応温度は０〜５０℃の範囲にあるのが適当
であり、実質的に反応が完結するまで反応混合物を攪拌
する。有機溶媒としては、ベンゼン、トルエンなどの炭
化水素類、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲ
ン化炭化水素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ンなどのエーテル類、アセトンなどのケトン類、アセト
ニトリルなどのニトリル類、酢酸エチルなどのエステル
類などを使用することができる。好ましくは酢酸エチル
を用いる。

【００３１】反応終了後に、反応液から析出したジシク
ロヘキシルウレアを濾過して除き、生成された式（IV）
のエノールエステル化合物を含む濾液を濃縮などの通常
の後処理にかける。さらに必要ならば、クロマトグラフ
ィーなどの操作により式(IV)のエノールエステル化合物
を精製することもできる。

【００３２】次に、中間体の式（IV）のエノールエステ
ル化合物を転位反応にかける第２工程を行う。この工程
は、過剰（好ましくは約２当量）の塩基および触媒量
（好ましくは、０.０１〜０.１当量）のシアナイド源の
存在下、適当な溶媒中エノールエステル化合物を転位反
応にかける。反応温度は溶媒の沸点に近い温度、好まし
くは２０〜４０℃の範囲の温度であり、実質的に転位が
完結するまで反応混合物を攪拌する。前記の塩基として
はトリエチルアミン、トリエタノールアミン、ピリジン
などの有機塩基あるいは炭酸カリウム、トリナトリウム
ホスフェートなどの無機塩基が使用できる。

【００３３】また、前記のシアナイド源としては、シア
ン化ナトリウム、シアン化カリウムなどのアルカリメタ
ルシアナイド、アセトンシアノヒドリン、メチルイソブ
チルケトンシアノヒドリンのようなメチルアルキルケト
ンのシアノヒドリン、あるいはベンズアルデヒドシアノ
ヒドリン、アセトアルデヒドシアノヒドリン、プロピオ
ンアルデヒドシアノヒドリンのような脂肪族アルデヒド
のシアノヒドリン、さらにシアン化亜鉛、トリメチルシ
リルシアナイドなどが使用できる。溶媒としては、ベン
ゼン、トルエン、キシレンなどの炭化水素類、クロロホ
ルム、ジクロロメタン、１,２-ジクロロエタン、クロル
ベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル
類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、ア
セトニトリル、酢酸エチル、ジメチルホルムアミドなど
を使用することができる。

【００３４】反応終了後は、反応液から減圧下に溶媒を
留去して上記の式（Ｉ′）の目的化合物を採取する。必
要ならばクロマトグラフィーまたは再結晶の操作によっ
て目的化合物を精製することもできる。

【００３５】他方、一般式（Ｉ）のシクロヘキサンジオ
ン誘導体の置換基Ｙが低級アルキルスルホニル基または
低級アルキルスルフィニル基である場合、すなわち該誘
導体が前記の一般式（Ib）で示される誘導体である場合
には、式（II）のシクロヘキサンジオンと、一般式（II
I′） （式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｙ^bは低級アルキル
チオ基を表す）で示されるベンゾイックアシッド誘導体
とをＤＣＣの存在下に有機溶媒中で反応させることによ
り一般式（IV′） （式中、ＸおよびＹ^bは前記の意味を表す）で示される
エノールエステル化合物を中間体として生成する第１工
程と、式（IV′）のエノールエステル化合物の置換基Ｙ
のアルキルチオ基を酸化剤で酸化して一般式（IV″） （式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｒ^aは低級アルキル
基を表し、ｐは１または２の整数である）のスルホニル
化またはスルフィニル化エノールエステル化合物を生成
する第２工程と、次いでシアナイド源を触媒として用い
て式（IV″）のエノールエステル化合物を転位反応にか
けることにより、一般式（Ib） （式中、Ｘ、Ｒ^bおよびｐは前記の意味を表す）で示さ
れるシクロヘキサンジオン誘導体を生成する第３工程と
から成る第２の方法によって上記の一般式（Ib）のシク
ロヘキサンジオン誘導体を製造できる。

【００３６】後者の第２の方法の第１工程は、前者の第
１の方法の第１工程と全く同じ要領で実施できる。第２
の方法の第２工程（酸化工程）は、式（IV″）の化合物
としてスルフィニル体（ｐ＝１）を得るべき場合には式
（IV′）のエノールエステル化合物に対して１当量の割
合の酸化剤を用い、あるいはスルホニル体（ｐ＝２）を
得るべき場合には（IV′）のエノールエステル化合物に
対して２当量の割合の酸化剤を用いて、式（IV′）の化
合物を酸化することによって実施できる。

【００３７】すなわち、この酸化工程においては、式
（IV′）の化合物に対して、１当量の酸化剤または２当
量の酸化剤を適当な溶媒中で反応させる。反応温度は通
常０℃から溶媒の沸点に近い温度、好ましくは２０〜４
０℃の範囲である。実質的に酸化が完結するまで反応混
合物を攪拌する。

【００３８】前記の酸化剤としては過酸化水素水、過マ
ンガン酸カリなどの無機酸化剤あるいは過酢酸、過安息
香酸、３-クロロ過安息香酸などの有機酸化剤が使用で
き、好ましくは３-クロロ過安息香酸である。溶媒とし
ては酢酸などの有機酸類、アセトン、メチルエチルケト
ンなどのケトン類、クロロホルム、ジクロロメタンなど
のハロゲン化炭化水素類が使用でき、好ましくはクロロ
ホルムである。酸化反応の終了後は、生成された式(I
V″)のスルフィニル化またはスルホニル化エノールエス
テル化合物を含む溶液を濃縮などの通常の後処理にかけ
て目的物を回収する。さらに必要ならば、クロマトグラ
フィーや再結晶などの操作により式(IV″)のエノールエ
ステル化合物を精製することもできる。

【００３９】第２の方法の第３工程は、式（IV″）の化
合物をシアナイド源の触媒の存在下に転位反応にかけて
式（Ib）のシクロヘキサンジオン誘導体を生成する工程
であるが、この工程は前記の第１の方法の第２工程と全
く同じ要領で実施できる。この第３工程の反応終了後
に、反応液から減圧下に溶媒を留去して式（Ib）の目的
化合物を採取する。必要ならばクロマトグラフィーまた
は再結晶の操作によって目的化合物を精製することもで
きる。

【００４０】前記の２工程よりなる第１の方法による式
（Ia）または式（Id）の化合物の製造例を後記の実施例
１〜２に示した。なお、前記の３工程よりなる第２の方
法による式（Ib）の化合物の製造例は、後記の実施例３
〜４に示した。

【００４１】なお、出発原料である式（II）のシクロヘ
キサンジオンは公知のものである。また、一般式（II
I）の出発原料は新規の化合物であり、公知の方法によ
り合成することができ、その製造例を後記の参考製造例
１〜２に示した。

【００４２】実施例１ 2-[2′,4′-ジブロモ-3′-(テトラヒドロピラン-2-イル
-メチルオキシ)ベンゾイル]-1,3-シクロヘキサンジオン
(表１の化合物No.18)の製造 (a）1,3-シクロヘキサンジオン1.1gと 2,4-ジブロモ-3-
(テトラヒドロピラン-2-イル-メチルオキシ)-ベンゾイ
ックアシッド3.5gと触媒量の4-ジメチルアミノピリジン
とを酢酸エチル80mlに溶解した。その溶液へ室温でジシ
クロヘキシルカーボジイミド(ＤＣＣ) 2.1gの酢酸エチ
ル20ml溶液を加え、得られた混合物を室温にて３時間攪
拌し反応を行った。次いで析出したジシクロヘキシルウ
レアを反応液から濾過した。濾液を濃縮して、得られた
エノールエステルの粗生成物をシリカゲルクロマトグラ
フィーにて精製した。これにより4.0ｇのエノールエス
テル化合物を油状物として得た(収率92％)。このエノー
ルエステル化合物は、1-[2′,4′-ジブロモ-3′-(テト
ラヒドロピラン-2-イル-メチルオキシ)ベンゾイル]オキ
シ-シクロヘキセン-3-オンである。

【００４３】(b）このエノールエステル4.0gをアセトニ
トリル80mlに溶解し、その溶液へ室温でアセトンシアノ
ヒドリン0.1gを加え、次いでトリエチルアミン3.3gを加
え室温で混合物を一夜放置した（転位反応）。得られた
反応液からアセトニトリルを留去し、残渣をクロロホル
ム120mlに溶かし、その溶液を1規定塩酸水溶液で洗浄
し、次いで水洗後に無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾
燥された溶液から減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカ
ゲルクロマトグラフィーにて精製すると、標記化合物の
3.8gが油状物として得られた(収率95％，ｎ_D ²³ 1.570
2)。

【００４４】実施例２ 2-[2′,4′-ジブロモ-3′-(メチルチオメチルオキシ)ベ
ンゾイル]-1,3-シクロヘキサンジオン(表１の化合物No.
２)の製造 (a）1,3-シクロヘキサンジオン1.1gと2,4-ジブロモ-3-
(メチルチオメトキシ)-ベンゾイックアシッド3.5gと触
媒量の4-ジメチルアミノピリジンとを80mlの酢酸エチル
に溶解し、その溶液へ室温でジシクロヘキシルカーボジ
イミド(ＤＣＣ)2.1gの酢酸エチル20ml溶液を加えた。室
温にて混合物を１時間攪拌して反応を行った。得られた
反応液から析出したジシクロヘキシルウレアを濾過し
た。濾液を濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルクロ
マトグラフィーにて精製し、3.3 gのエノールエステル
を油状物として得た（収率75％)。このエノールエステ
ルは、1-[2′,4′-ジブロモ-3′-(メチルチオメチルオ
キシ）ベンゾイル]オキシ-シクロヘキセン-3-オンであ
る。

【００４５】(b）このエノールエステル3.3gをアセトニ
トリル50mlに溶かし、その溶液へ室温でアセトンシアノ
ヒドリン0.1gを加え、次いでトリエチルアミン2.9gを加
え、混合物を室温で一夜放置した(転位反応)。反応液か
らアセトニトリルを留去し、残渣をクロロホルム100ml
に溶かし、その溶液を１規定塩酸水溶液で洗浄し、次い
で水洗後に無水硫酸ナトリウムで乾燥した。その溶液か
ら減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィーにて精製すると、標記化合物の3.1g(収率94
％、融点82-84℃)が得られた。

【００４６】実施例３ 2-[2′,4′-ジブロモ-3′-(メチルスルホニルメチルオ
キシ)ベンゾイル]-1,3-シクロヘキサンジオン(表１の化
合物No.１９)の製造 (a）実施例２（ａ）と同様にして、1,3-シクロヘキサン
ジオン1.1gと2,4-ジブロモ-3-(メチルチオメトキシ)-ベ
ンゾイックアシッド3.5gと触媒量の4-ジメチルアミノピ
リジンとを80mlの酢酸エチルに溶解し、その溶液へ室温
でジシクロヘキシルカーボジイミド(ＤＣＣ) 2.1gの酢
酸エチル20ml溶液を加えた。室温にて混合物を１時間攪
拌した。得られた反応液から析出したジシクロヘキシル
ウレアを濾過した。濾液を濃縮し得られた粗生成物をシ
リカゲルクロマトグラフィーにて精製し、3.3gのエノー
ルエステルを油状物として得た(収率75％)。

【００４７】(b）このエノールエステル3.0gをクロロホ
ルム80mlに溶かし、その溶液へ室温で3-クロロ過安息香
酸2.4gを加えた。室温にて混合物を１時間攪拌して酸化
反応を行った。その後、２％炭酸水素ナトリウム水溶液
100mlで反応液を洗浄し、クロロホルム層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。乾燥したクロロホルム層から、減
圧下に溶媒を留去すると、白色結晶として1-[2′,4′-
ジブロモ-3′-(メチルスルホニルメチルオキシ)ベンゾ
イル]オキシ-シクロヘキセン-3-オンの3.0g（収率94
％、融点133〜134℃)が得られた。

【００４８】(c）この白色結晶3.0gをアセトニトリル50
mlに溶かし、その溶液へアセトンシアノヒドリン0.1gを
加えた。次いでトリエチルアミン2.6gを加え、混合物を
室温で一夜放置した（転位反応）。反応液からアセトニ
トリルを留去し、残渣をクロロホルム100mlに溶かし
た。その溶液を１規定塩酸水溶液で洗浄し、次いで水洗
後に無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留
去すると、標記化合物の2.9g(収率97％、融点155〜156
℃)が得られた。

【００４９】実施例４ 2-[2′,4′-ジブロモ-3′-(メチルスルフィニルメチル
オキシ)ベンゾイル]-1,3-シクロヘキサンジオン(表１の
化合物No.２０)の製造 (a）実施例２(a）と同様にして、1,3-シクロヘキサンジ
オン1.1gと2,4-ジブロモ-3-(メチルチオメトキシ)-ベン
ゾイックアシッド3.5gと触媒量の4-ジメチルアミノピリ
ジンとを80mlの酢酸エチルに溶解し、その溶液へ室温で
ジシクロヘキシルカーボジイミド(ＤＣＣ) 2.1gの酢酸
エチル20ml溶液を加えた。室温にて混合物を１時間攪拌
した。得られた反応液から析出したジシクロヘキシルウ
レアを濾過した。濾液を濃縮し得られた粗生成物をシリ
カゲルクロマトグラフィーにて精製し、3.3gのエノール
エステルを油状物として得た(収率75％)。

【００５０】(b）このエノールエステル3.0gをクロロホ
ルム80mlに溶かし、その溶液へ室温で3-クロロ過安息香
酸1.2gを加えた。室温にて混合物を１時間攪拌して酸化
反応を行った。その後、２％炭酸水素ナトリウム水溶液
100mlで反応液を洗浄し、クロロホルム層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。乾燥したクロロホルム層から、減
圧下に溶媒を留去すると白色結晶として1-[2′,4′-ジ
ブロモ-3′-(メチルスルフィニルメチルオキシ)ベンゾ
イル]オキシ-シクロヘキセン-3-オンの2.9g(収率94％、
融点117〜118℃)が得られた。

【００５１】(c）この白色結晶2.9gをアセトニトリル50
mlに溶かし、その溶液へアセトンシアノヒドリン0.1gを
加えた。次いでトリエチルアミン2.5gを加え、混合物を
室温で一夜放置した（転位反応）。反応液からアセトニ
トリルを留去し、残渣をクロロホルム100mlに溶かし
た。その溶液を１規定塩酸水溶液で洗浄し、次いで水洗
後に無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留
去すると、標記化合物の2.8g(収率96％、ｎ_D ²² 1.6024)
が得られた。

【００５２】参考製造例１ 2,4-ジブロモ-3-(テトラヒドロピラン-2-イル-メチルオ
キシ)-ベンゾイックアシッド〔式（III）の化合物に相
当〕の製造 (a) テトラヒドロピラン-2-イル-メチルブロミドの製造 テトラヒドロピラン-2-イル-メタノール18gとトリフェ
ニルホスフィン40.5gとの混合物に対して、攪拌下にN-
ブロモサクシンイミド(ＮＢＳ) 24.8gを少しづつ室温下
に40分かけて加えた。この間、反応温度は最高55℃まで
上昇した。ＮＢＳの添加後、反応混合物を一夜放置し、
反応液を減圧下に蒸留すると、テトラヒドロピラン-2-
イル-メチルブロミドが12.5g得られた(収率45％、沸点7
5℃/15mmHg）。

【００５３】(b) エチル 2,4-ジブロモ-3-ヒドロキシベ
ンゾエートの製造 t-ブチルアミン73.0gとジクロロメタン500mlの混合物に
ドライアイス/アセトン浴上(−50℃)で臭素80.0gを１時
間かけて添加した。臭素の添加後に、混合物を−50℃で
１時間攪拌し、エチル 3-ヒドロキシベンゾエート41.5g
を一度に加えた。この混合物を室温にて一夜放置した。
生成した白色固体を濾別し、少量のジクロロメタンで洗
った。その固体を50mlのジクロロメタンと500mlの10％
塩酸の混液から晶出させると、エチル 2,4-ジブロモ-3-
ヒドロキシベンゾエートを白色結晶として60.8g(収率75
％)得た。

【００５４】(c) エチル 2,4-ジブロモ-3-(テトラヒド
ロピラン-2-イル-メチルオキシ)-ベンゾエートの製造 上記エチル 2,4-ジブロモ-3-ヒドロキシベンゾエート4.
5gとテトラヒドロピラン-2-イル-メチルブロミド4.4gと
炭酸カリウム3.6gをジメチルホルムアミド80mlに加え
た。この混合物を90〜95℃にて４時間攪拌した。氷冷後
トルエン100mlと水100mlを加え抽出し、トルエン層を飽
和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶
媒を留去後、シリカゲルクロマトグラフィーにより精製
するとエチル 2,4-ジブロモ-3-(テトラヒドロピラン-2-
イル-メチルオキシ)-ベンゾエートが5.0g得られた(収率
85％)。

【００５５】(d) 2,4-ジブロモ-3-(テトラヒドロピラン
-2-イル-メチルオキシ)-ベンゾイックアシッドの製造 上記エチル 2,4-ジブロモ-3-(テトラヒドロピラン-2-イ
ル-メチルオキシ)-ベンゾエート5.0gをメタノール50m
l、水酸化ナトリウム0.8g、水30mlの混合溶液に加え、
得られた溶液を40℃で40分間攪拌した。放冷後、水50ml
と１規定塩酸22mlと酢酸エチル100mlを加え抽出し、酢
酸エチル層を飽和食塩水で洗浄した。その後に無水硫酸
ナトリウムで乾燥し、さらに溶媒を留去すると標記化合
物が3.5g(収率75％)得られた。

【００５６】参考製造例２ 2,4-ジブロモ-3-(メチルチオメトキシ）ベンゾイックア
シド〔式（III′）の化合物に相当〕の製造 t-ブチルアミン73.0gとジクロロメタン500mlの混合物に
ドライアイス／アセトン浴上(−50℃)で臭素80.0gを１
時間かけて添加した。添加後、混合物を−50℃で１時間
攪拌し、エチル 3-ヒドロキシベンゾエート41.5gを一度
に加えた。この混合物を室温にて１夜放置した。生成し
た白色固体を濾別し、少量のジクロロメタンで洗い、そ
の固体を50mlのジクロロメタンと500mlの10％塩酸との
混合物から晶出させると、エチル 2,4-ジブロモ-3-ヒド
ロキシベンゾエートを白色結晶として60.8g(収率75％）
得た。

【００５７】得られた上記エチル 2,4-ジブロモ-3-ヒド
ロキシベンゾエート2.6g、アセトニトリル50ml、炭酸カ
リウム2.4gの混合物を45℃に加温した。これにクロロメ
チルメチルスルフィド1.3gを加え80℃で３時間攪拌し
た。水冷後、無機塩を濾過し濃縮した。残渣をトルエン
100mlに溶解し、３％炭酸カリウム水溶液で洗浄後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去することにより
エチル 2,4-ジブロモ-3-（メチルチオメトキシ）ベンゾ
エート3.1g(収率97％）を淡褐色油状物として得た。得
られた上記エステル3.1gを水酸化ナトリウム0.5g、水15
ml、メタノール50mlの溶液に加え50℃で２時間攪拌し
た。この後に水50mlを加えトルエン50mlで中性区を除去
した。水層に酢酸エチル80mlを加え1N塩酸で酸性にし抽
出した。酢酸エチル層を飽和食塩水で洗い、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥し、溶媒を留去することにより2,4-ジブ
ロモ-3-(メチルチオメトキシ）ベンゾイックアシッドを
淡黄色固体として2.8g得た(収率96％、融点129-130
℃）。

【００５８】

【発明の実施の形態】第２の本発明による除草剤組成物
の製剤化方法について次に説明する。一般式（Ｉ）の本
発明化合物を除草剤の活性成分として用いて除草剤組成
物を製剤化する場合は、通常、固体担体、液体担体、界
面活性剤、その他の製剤の補助剤と混合して慣用の処方
により乳剤、水和剤、液剤、フロアブル（ゾル）剤、粉
剤、ドリフトレス剤、粒剤、微粒剤、錠剤などの適宜の
形態として除草剤組成物は調製できる。

【００５９】ここに使用される担体としては、農園芸用
薬剤に常用される担体ならば固体または液体のいずれの
ものでも使用でき、特定のものに限定されるものではな
い。例えば、これら担体としては、鉱物質粉末（カオリ
ン、ベントナイト、クレー、モンモリロナイト、タル
ク、珪藻土、雲母、バーミキュライト、石英、炭酸カル
シウム、リン灰石、ホワイトカーボン、消石灰、珪砂、
硫安、尿素など）、植物質粉末(大豆粉、小麦粉、木
粉、タバコ粉、デンプン、結晶セルロースなど)、高分
子化合物（石油樹脂、ポリ塩化ビニル、ケトン樹脂、ダ
ンマルガムなど）アルミナ、ケイ酸塩、糖重合体、高分
散性ケイ酸、ワックス類などが挙げられる。

【００６０】また、液体担体としては、水、アルコール
類（メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピ
ルアルコール、イソプロピルアルコール、ブタノール、
エチレングリコール、ベンジルアルコールなど）、芳香
族炭化水素類（トルエン、ベンゼン、キシレン、エチル
ベンゼン、メチルナフタレンなど）、ハロゲン化炭化水
素類（クロロホルム、四塩化炭素、ジクロルメタン、ク
ロルエチレン、モノクロルベンゼン、トリクロロフルオ
ルメタン、ジクロルフルオルメタンなど）、エーテル類
（エチルエーテル、エチレンオキシド、ジオキサン、テ
トラヒドロフランなど）、ケトン類（アセトン、メチル
エチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケ
トン、イソホロンなど)、エステル類(酢酸エチル、酢酸
ブチル、エチレングリコールアセテート、酢酸アミルな
ど）、酸アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミドなど）、ニトリル類（アセトニトリル、プロ
ピオニトリル、アクリロニトリルなど）、スルホキシド
類（ジメチルスルホキシドなど）、アルコールエーテル
類（エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレン
グリコールモノエチルエーテルなど)、脂肪族または脂
環式炭化水素類(ｎ−ヘキサン、シクロヘキサンな
ど）、工業用ガソリン（石油エーテル、ソルベントナフ
サなど)、石油留分（パラフィン類、灯油、軽油など)な
どが挙げられる。

【００６１】また、乳剤、水和剤、フロアブル剤などの
形に除草剤組成物を製剤化する場合には、乳化、分散、
可溶化、湿潤、発泡、潤滑、拡展などの目的で各種の界
面活性剤（または乳化剤）が使用される。このような界
面活性剤としては、非イオン型界面活性剤（ポリオキシ
エチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキ
ルエステル、ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエ
ステルなど）、陰イオン型界面活性剤（アルキルベンゼ
ンスルホネート、アルキルスルホサクシネート、アルキ
ルサルフェート、ポリオキシエチレンアルキルサルフェ
ート、アリールスルホネートなど）、陽イオン型界面活
性剤〔アルキルアミン類（ラウリルアミン、ステアリル
トリメチルアンモニウムクロライド、アルキルジメチル
ベンジルアンモニウムクロライドなど）、ポリオキシエ
チレンアルキルアミン類〕、両性型界面活性剤〔カルボ
ン酸（ベタイン型）、硫酸エステル塩など〕などが挙げ
られるが、これらの例示されたもののみに限定されるも
のではない。

【００６２】また、これらの他にポリビニルアルコール
（ＰＶＡ）、カルボキシメチルセルロース（ＣＭＣ）、
アラビアゴム、ポリビニルアセテート、アルギン酸ソー
ダ、ゼラチン、トラガカントゴムなどの各種補助剤を使
用することができる。

【００６３】第２の本発明の除草剤組成物においては、
前記した各種製剤を製造するに際して、一般式(Ｉ）の
本発明化合物を0.001％〜95％(重量％；以下同じ)、好
ましくは0.01％〜75％の範囲で含有するように組成物中
に配合できる。例えば、通常、粉剤、ＤＬ粉剤、微粉剤
（Ｆ）の場合は、0.01％〜5％、粒剤の場合は、0.01％
〜10％、水和剤、乳剤、液剤の場合は、1％〜75％の範
囲で式（Ｉ）の化合物を含有できる。

【００６４】このように調製された除草剤組成物の製剤
は、例えば粒剤の場合は、そのまま土壌表面、土壌中ま
たは水中に散布すればよい。水和剤、乳剤およびゾル剤
などの場合には、水または適当な溶剤に希釈し、その希
釈された薬液を散布すればよい。

【００６５】本発明の除草剤組成物を水田用除草剤とし
て使用する場合は10アール当り0.3g〜300g程度の範囲の
量で式（Ｉ）の化合物を散布すればよく畑作用除草剤と
して使用する場合は10アール当り活性成分の換算量とし
て0.3g〜300g程度の範囲で散布すればよい。本発明の除
草剤組成物が水和剤、乳剤およびゾル剤などの場合に
は、水または適当な溶剤に希釈した後に、水田用除草剤
として施用するが、この場合は、活性成分の換算量とし
て10アール当り0.3g〜300g程度の範囲の量で式（Ｉ）の
化合物を散布すればよく畑作用除草剤として使用する場
合は活性成分の換算量として10アール当り0.3g〜300g程
度の範囲で散布すればよい。

【００６６】本発明の別の要旨においては、稲の水田ま
たは畑作物の畑における雑草を、水田または畑の10アー
ル当り0.3g〜300gの範囲、好ましくは0.3g〜50gの範囲
の量で散布された一般式（Ｉ）で示されるシクロヘキサ
ンジオン誘導体で処理することから成る、雑草の除草方
法が提供される。

【００６７】また、本発明による式（Ｉ）の化合物を活
性成分として含む除草剤組成物中には、既知の除草剤、
殺虫剤あるいは植物調節剤などを追加して配合すること
ができ、これにより組成物の適用性の拡大を図ることが
でき、また場合によっては相乗効果を期待することもで
きる。

【００６８】前記した一般式（Ｉ）の本発明化合物を含
む除草剤組成物の種々な製剤の具体的な例は以下の実施
例５〜８をもって説明する。ただし、本発明はこれらの
実施例のみに限定されるものではなく、本発明の組成物
には他の種々の添加物を任意の割合で配合でき、また他
の除草剤などを任意の割合で配合し、そして種々な形で
製剤化することもできる。なお、後記の例に示される化
合物Ｎo.は前記の表１に示した番号であり、また実施例
で部とは、すべて重量部を示す。

【００６９】実施例５（粒剤） 化合物No.１〜22の何れか１つの化合物１部、ラウリル
サルフェート１部、リグニンスルホン酸カルシウム１
部、ベントナイト30部および白土67部の混合物に水15部
を加えて混練機で混練した後、造粒機で造粒した。造粒
物を流動乾燥機で乾燥した。この手法により、活性成分
の１重量％を含む各種の粒剤を得る。

【００７０】実施例６（水和剤） 化合物No.1〜22の何れか１つの化合物15部、ホワイトカ
ーボン15部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ポリ
オキシエチレンノニルフェニルエーテル２部、珪藻土５
部およびクレー60部を粉砕混合機で均一に混合した。こ
の手法により活性成分の15重量％を含む各種の水和剤を
得る。

【００７１】実施例７（乳剤） 化合物No.１〜22の何れか１つの化合物20部、ソルポー
ル700H（東邦化学工業株式会社製乳化剤）20部およびキ
シレン60部を混合した。この手法により活性成分の20重
量％を含む各種の乳剤を得る。

【００７２】実施例８（粉剤） 化合物No.１〜22の何れか１つの化合物0.5部、無水珪酸
微粉末0.5部、ステアリン酸カルシウム0.5部、クレー50
部およびタルク48.5部を均一に混合し粉砕した。この手
法により活性成分の0.5重量％を含む各種の粉剤を得
る。

【００７３】次に本発明の式（Ｉ）のシクロヘキサンジ
オン誘導体の除草効果を例証するために試験例１〜６に
示す。

【００７４】試験例１ タイヌビエに対する除草効果試
験および移植水稲に対する薬害試験 5000分の１アールの大きさのプラスチック製ポットに水
田土壌（植壌土）を充填し、水を加えて代かきを行っ
た。含水土壌の表層０〜２cmにタイヌビエ種子50粒を播
種した。さらにその土壌に２葉期の水稲を、２cmの深さ
に根を挿入し、１株２本植えてポット当たり３株移植し
た。ポットに湛水して、水深を３cmに保った。そしてタ
イヌビエの２葉期に、実施例７に準じて調製した乳剤を
活性成分の所定濃度に水で希釈した薬液を調製して、そ
の薬液をポット当たり10mlづつ滴下した。活性成分とし
ての本発明化合物の施用量は、換算すると１アール当た
りに0.65gを施用したことに相当した。本試験は１薬液
濃度区あたり２連制で行い、除草剤処理21日後に下記の
計算式により除草率（％）を求めた。なお、以下に示す
評価の指標に基づいて水稲への薬害を調査した。また、
後記の比較薬剤Ａ〜Ｇを用いて同様に試験した。その結
果は表２に示したとおりである。

【００７５】

【００７６】 薬害の評価値 薬害程度 ５ 枯 死 ４ 薬 害 大 ３ 薬 害 中 ２ 薬 害 少 １ 薬 害 僅少 ０ 薬 害 無

【００７７】 注１）比較薬剤Ａ〜Ｇは、次に示す既知化合物を本発明
化合物と同様に製剤した除草剤である。 注２）表中の（ ）内数字はポット当りの各雑草の平均
乾燥重量(ｇ)を示す。

【００７８】比較薬剤Ａ； （特開平６−２４７８９１号公報に記載の化合物） 比較薬剤Ｂ； （特開平６−２７１５６２号公報に記載の化合物） 比較薬剤Ｃ； （特開平６−３２１９３２号公報に記載の化合物)。

【００７９】比較薬剤Ｄ； （特表平４−５０１７２６号公報に記載の化合物） 比較薬剤Ｅ； （特表平４−５０１７２６号公報に記載の化合物） 比較薬剤Ｆ； （米国特許第５０９２９１９号明細書に記載の化合物） 比較薬剤Ｇ； （米国特許第５１１０９７９号明細書に記載の化合
物）。

【００８０】試験例２ 上記の試験例１の試験手順を反復したが、但し実施例７
に準じて調製した乳剤を水で活性成分の所定濃度に希釈
した薬液の散布量は、ポット当たり5mlづつに減量し
た。本試験では、活性成分としての本発明化合物および
比較化合物の施用量は換算すると１アール当り0.32gに
相当した。得られた結果を次の表３に示す。

【００８１】 注１）比較薬剤は表２と同じである。 注２）表中の（ ）内数字はポット当りの各雑草の平均
乾燥重量(ｇ)を示す。

【００８２】試験例３ 水田雑草に対する除草効果試験
および移植水稲に対する薬害試験 5000分の１アールの大きさのプラスチック製ポットに水
田土壌（植壌土）を充填し、タイヌビエ、広葉雑草（ア
ゼナ、キカシグサ、ミゾハコベ）、ホタルイの種子を１
〜２cmの深さにそれぞれ30粒ずつを播種した。播種１日
後にポットに湛水し、水深を２cmに保った。播種３日後
に2.5葉期の水稲を移植し、温室内で育成した。水稲移
植１日後に、実施例７に準じて調製した乳剤を活性成分
の所定濃度となるように水で希釈した薬液をポット当た
り10mlづつ滴下した。活性成分の施用量は1アール当り
0.16gに相当した。本試験は１薬液濃度区あたり２連制
で行い、処理21日後に除草効果および水稲の薬害を試験
例１と同様の評価の指標に基づいて調査した。また、前
記の比較薬剤Ａ〜Ｇを用いて同様に試験した。その結果
は表４に示したとおりである。

【００８３】 注１）比較薬剤Ａ〜Ｇは、表２と同じである。 注２）表中の（ ）内の数字はポット当りの各雑草の平
均乾燥重量（ｇ）を示す。

【００８４】試験例４ 上記の試験例３の試験手順を反復したが、但し実施例７
に準じて調製した乳剤を水で活性成分の所定濃度に希釈
した薬液の散布量は、ポット当たり6.3mlづつに減量し
た。本試験では、活性成分としての本発明化合物および
比較化合物の施用量は換算すると１アール当り0.1gに相
当した。得られた結果を次の表５に示す。

【００８５】 注１）比較薬剤Ａ〜Ｇは、表２と同じである。 注２）表中の（ ）内の数字はポット当りの各雑草の平
均乾燥重量（ｇ）を示す。

【００８６】試験例５ 畑作雑草に対する除草効果試験
および薬害試験 １）畑作雑草に対する除草効果試験 5000分の１アールの大きさの素焼製ポットに畑土壌(沖
積壌土)をつめ、表層１cmの土壌とメヒシバ、エノコロ
グサ、シロザ、イヌビユ、イヌタデの各雑草種子それぞ
れ５０粒を均一に混合し、表層を軽く押圧した。実施例
７に準じて調製した乳剤を水で希釈した薬液を調製し
た。播種２日後に、希釈薬液を10アール当り100リット
ルの割合の量でポットの土壌表面に噴霧した。活性成分
の施用量は、換算すると10アール当り50gに相当した。
本試験は１薬液濃度区当り２連制で行い、薬剤処理30日
後に除草効果を試験例１と同様の算式で除草率（％）と
して評価した。

【００８７】２）作物に対する薬害試験 10,000分の１アールの素焼製ポットに畑土壌（沖積壌
土）をつめ、下記の表６に示した各作物の種子（ダイズ
５粒、トウモロコシ５粒、ビート１０粒、ナタネ10粒お
よびコムギ10粒）をそれぞれ別のポットに播種した。土
壌の表層を軽く押圧した。実施例７に準じて調製した乳
剤を水で希釈した薬液を、播種した１日後に、10アール
当り100リットルの割合の量でポットの土壌表面に噴霧
した。活性成分量の施用量は換算すると10アール当り50
gに相当した。本試験は１薬液濃度区当り２連制で行
い、薬剤処理30日後に各作物に対する薬害程度を、試験
例１と同様の評価の指標に基づいて調査した。その結果
は表６に示したとおりである。

【００８８】 注１）比較薬剤Ａ〜Ｇは、表２と同じである。 注２）表中の（ ）内の数字はポット当りの各雑草の平
均乾燥重量（ｇ）を示す。

【００８９】試験例６ 上記の試験例５の１）および２）の試験手順を反復した
が、但し実施例７に準じて調製した乳剤を水で活性成分
の所定濃度に希釈した薬液の散布量は、ポット当たり5m
lづつに減量した。本試験では、活性成分としての本発
明化合物および比較化合物の施用量は換算すると10アー
ル当り25gに相当した。得られた結果を次の表７に示
す。

【００９０】 注１）比較薬剤Ａ〜Ｇは、表２と同じである。 注２）表中の（ ）内の数字はポット当りの各雑草の平
均乾燥重量（ｇ）を示す。

【００９１】

【発明の効果】本発明による一般式（Ｉ）のシクロヘキ
サンジオン誘導体は、既知の類似化合物に比べ、優れた
除草効力を有し、かつ作物と雑草間に優れた選択性を示
す。すなわち、本発明化合物は湛水下の水田の除草処理
において、問題となる望ましくない種々の雑草、例えば
タイヌビエなどのイネ科雑草、アゼナ、キカシグサ、ミ
ゾハコベなどの広葉雑草、タマガヤツリ、ホタルイ、マ
ツバイ、ミズガヤツリなどのカヤツリグサ科雑草、コナ
ギ、ウリカワなどの幅広い種類の雑草に有効に作用する
ことができ、ほぼ完全に除草することができる。しかも
水稲に対しては全く薬害を与えない。

【００９２】また、本発明化合物は畑地の茎葉処理及び
土壌処理において、問題となるソバカズラ、イヌビユ、
イヌタデ、ハコベ、シロザ、アオゲイトウ、ナズナ、イ
チビ、マルバアサガオなどの広葉雑草、タイヌビエ、イ
ヌビエ、エノコログサ、メヒシバ、スズメノカタビラ、
カラスムギなどのイネ科雑草、ハマスゲなどのカヤツリ
グサ科雑草に対しても幅広く作用することができ、それ
らをほぼ完全に除草することができる。しかも本発明化
合物はトウモロコシ、コムギ、イネ、ダイズ、ナタネ、
ビートなどの主要作物に対し薬害を与えない。その上、
人畜毒性や魚毒性もない。したがって、安全に使用でき
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 323/14 7419−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 323/14 Ｃ０７Ｄ 309/06 Ｃ０７Ｄ 309/06 (72)発明者 吉澤 裕和 宮城県仙台市青葉区宮町２丁目１番37号 フレツクスビル211

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（Ｉ） 〔式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｙは式−Ｓ(Ｏ)_m−
   Ｒ（式中、Ｒは低級アルキル基もしくは低級アルケニル
   基を表し、但しＲが低級アルキル基の場合にはｍは０、
   １または２の整数であり、またＲが低級アルケニル基の
   場合にはｍはゼロである）の基を表し、またはＹは式 （式中、ｎは０または１である）の基を表す〕で示され
   るシクロヘキサンジオン誘導体。
2. 【請求項２】 一般式（Ｉ）のシクロヘキサンジオン誘
   導体が次の一般式（Ia） （式中、Ｘは塩素、臭素、沃素またはフッ素原子を表
   し、Ｒ^aは直鎖状または分岐鎖状の（Ｃ₁〜Ｃ₆）アルキ
   ル基を表す）で示されるシクロヘキサンジオン誘導体で
   ある請求項１に記載の誘導体。
3. 【請求項３】 一般式（Ｉ）のシクロヘキサンジオン誘
   導体が次の一般式（Ib） （式中、Ｘは塩素、臭素、沃素またはフッ素原子を表
   し、Ｒ^aは直鎖状または分岐鎖状の（Ｃ₁〜Ｃ₆）アルキ
   ル基を表し、ｐは１または２の整数である）で示される
   シクロヘキサンジオン誘導体である請求項１に記載の誘
   導体。
4. 【請求項４】 一般式（Ｉ）のシクロヘキサンジオン誘
   導体が次の一般式（Ic） （式中、Ｘは塩素、臭素、沃素またはフッ素原子を表
   し、Ｒ^bは直鎖状または分岐鎖状の（Ｃ₂〜Ｃ₆）アルケ
   ニル基を表す）で示されるシクロヘキサンジオン誘導体
   である請求項１に記載の誘導体。
5. 【請求項５】 一般式（Ｉ）のシクロヘキサンジオン誘
   導体が次の一般式（Id） 〔式中、Ｘは塩素、臭素、沃素またはフッ素原子を表
   し、Ｙ′は式 （式中、ｎは０または１である）のテトラヒドロフラン
   -２-イル基あるいはテトラヒドロピラン-２-イル基を表
   す〕で示されるシクロヘキサンジオン誘導体である請求
   項１に記載の誘導体。
6. 【請求項６】 一般式（Ｉ）のシクロヘキサンジオン誘
   導体が２-〔２′,４′-ジクロロ-３′-(メチルチオメチ
   ルオキシ)ベンゾイル〕-１,３-シクロヘキサンジオン、
   ２-〔２′,４′-ジブロモ-３′-(メチルチオメチルオキ
   シ)ベンゾイル〕-１,３-シクロヘキサンジオン、２-
   〔２′,４′-ジクロロ-３′-(エチルチオメチルオキシ)
   ベンゾイル〕-１,３-シクロヘキサンジオン、２-
   〔２′,４′-ジブロモ-３′-（エチルチオメチルオキ
   シ)ベンゾイル〕-１,３-シクロヘキサンジオン、２-
   〔２′,４′-ジブロモ-３′-(アリルチオメチルオキシ)
   ベンゾイル〕-１,３-シクロヘキサンジオン、２-
   〔２′,４′-ジクロロ-３′-(テトラヒドロピラン-２-
   イル-メチルオキシ)ベンゾイル〕-１,３-シクロヘキサ
   ンジオン、２-〔２′,４′-ジブロモ-３′-(テトラヒド
   ロピラン-２-イル-メチルオキシ)ベンゾイル〕-１,３-
   シクロヘキサンジオン、２-〔２′,４′-ジクロロ-３′
   -(メチルスルホニルメチルオキシ)ベンゾイル〕-１,３-
   シクロヘキサンジオン、２-〔２′,４′-ジブロモ-３′
   -(メチルスルホニルメチルオキシ)ベンゾイル〕-１,３-
   シクロヘキサンジオン、２-〔２′,４′-ジクロロ-３′
   -(メチルスルフィニルメチルオキシ）ベンゾイル〕-１,
   ３-シクロヘキサンジオンまたは２-〔２′,４′-ジブロ
   モ-３′-(メチルスルフィニルメチルオキシ)ベンゾイ
   ル〕-１,３-シクロヘキサンジオンである請求項１に記
   載の誘導体。
7. 【請求項７】 一般式（Ｉ） 〔式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｙは式−Ｓ(Ｏ)_m-Ｒ
   （式中、Ｒは低級アルキル基もしくは低級アルケニル基
   を表し、但しＲが低級アルキル基の場合にはｍは０、１
   または２の整数であり、またＲが低級アルケニル基の場
   合にはｍはゼロである）の基を表し、またはＹは式 （式中、ｎは０または１である）の基を表す〕で示され
   るシクロヘキサンジオン誘導体を活性成分として固体ま
   たは液体状担体とともに含有することを特徴とする除草
   剤組成物。
8. 【請求項８】 稲の水田または畑作物の畑における雑草
   を、水田または畑の１０アール当りに０.３ｇ〜３００
   ｇの範囲、好ましくは０.３ｇ〜５０ｇの範囲の量で散
   布された一般式（Ｉ） 〔式中、Ｘはハロゲン原子を表し、Ｙは式−Ｓ(Ｏ)_m-Ｒ
   （式中、Ｒは低級アルキル基もしくは低級アルケニル基
   を表し、但しＲが低級アルキル基の場合にはｍは０、１
   または２の整数であり、またＲが低級アルケニル基の場
   合にはｍはゼロである）の基を表し、またはＹは式 （式中、ｎは０または１である）の基を表す〕で示され
   るシクロヘキサンジオン誘導体で処理することから成
   る、雑草の除草方法。