JPH1055943A - ガス充填方法及び設備 - Google Patents

ガス充填方法及び設備

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JPH1055943A
JPH1055943A JP8211352A JP21135296A JPH1055943A JP H1055943 A JPH1055943 A JP H1055943A JP 8211352 A JP8211352 A JP 8211352A JP 21135296 A JP21135296 A JP 21135296A JP H1055943 A JPH1055943 A JP H1055943A
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filling
gas filling
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充秀 竹原田
Narusada Nozawa
成禎 野沢
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Teisan KK
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 充填されるガスの純度低下を抑制するガス充
填設備及び方法を提供する。 【解決手段】 本発明のガス充填設備１０では、ガス供
給管４４とガス容器１２に取り付けられたガス充填管２
８との接続を専用のクリーンルーム４２で行い、ガス充
填管２８の保管等は別個のクリーンルーム２６で行うこ
ととした。これにより、クリーンルームの小容積化を図
ることが可能となり、各クリーンルームの清浄度を高め
ることが可能となった。従って、ガス充填管２８の取扱
い時に、ガス充填管の内部がクリーンルーム内の空気に
さらされても、浮遊粒子が侵入する危険性が低減され
る。また、本発明では、ガス充填管の保管時、その内部
に超高純度窒素ガスを流通させておくこととしたので、
ガス充填に使用されるガス充填管の内部は極めて清浄な
状態で保たれることとなる。これによっても、ガス純度
低下を防止することが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体製造
等に用いられる高純度或は超高純度のガスをガス容器に
充填するための方法及び設備に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体デバイスの製造に用いられる高純
度の窒素ガスやシランガス等のガスは、可搬型のガス容
器に充填されたものを用いるのが一般的である。半導体
デバイス製造用ガスのガス容器への充填は、通常、ガス
充填設備において行われる。
【０００３】従来一般のガス充填設備は、充填すべきガ
スが蓄えられたガス貯槽と、そのガス貯槽から延びるガ
ス供給管とを備えている。このようなガス充填設備にお
いてガス容器にガスを充填する場合、まず、複数のガス
容器を保持枠にて束ね、これをガス供給管のガス供給端
部の近傍に移送する。次いで、各ガス容器の接続口にマ
ニホールドの各枝管を接続し、マニホールドのヘッダ管
をガス供給管のガス供給端部に接続する。そして、適
宜、弁操作等を行い、ガス貯槽からガス供給管、マニホ
ールドを経てガス容器にガスの充填を行うのである。
【０００４】かかるガス充填作業は、充填ガスに汚染粒
子が混入しないよう、極めて清浄度の高い環境で行うの
が好ましい。特に、近年の半導体デバイスの高集積化に
伴い、ガスの純度を高く維持する必要がある。このた
め、従来のガス充填設備では、充填作業エリアをクリー
ンルームで構成し、そのクリーンルーム内にガス容器を
搬入して上記ガス充填作業を行うこととしている。ま
た、クリーンルーム内は使用前のマニホールドの保管エ
リアともなっており、マニホールドの内部をクリーンル
ーム内の清浄度と実質的に同じレベルに維持するように
している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】前述したように、従来
のガス充填設備におけるクリーンルームの内部は、複数
のガス容器を搬入して作業者がガス充填を行うガス充填
作業エリアであると共に、マニホールドの保管エリアと
なっている。従って、クリーンルームの容積は相当に大
きいのが一般的であった。
【０００６】大容積のクリーンルームでは清浄空間の実
現及び維持は一般的に困難であるため、従来のガス充填
設備では、ガスの充填作業時にガス容器に汚染粒子が混
入し易いという問題点があり、また、当該クリーンルー
ムに保管されるマニホールドの内面にも汚染粒子が付着
し易く、それがガス充填時にガス容器に送り込まれるお
それがある。
【０００７】そこで本発明は、上記問題点を解決するた
めのガス充填設備及び充填方法を提供することを目的と
する。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、ガス供給源から延びるガス供給管の接続
端部に、ガス容器に取り付けられたガス充填管の接続端
部を接続し、ガス供給源から所定のガスをガス供給管及
びガス充填管を経て前記ガス容器に供給し充填するガス
充填方法において、ガス供給管の接続端部とガス充填管
の接続端部との接続を内部が清浄化された開閉可能な貫
通区画内にて、該貫通区画の外部にガス容器を置いた状
態で行うことを特徴としている。
【０００９】この方法では、ガス容器を貫通区画（例え
ば、クリーンルームや箱体等）の外部に置き、接続端部
同士の接続のみを貫通区画内で行うため、貫通区画を小
さくすることができ、内部の清浄度を上げることが可能
となる。
【００１０】また、接続作業を行う場合、作業者が貫通
区画内に入ることとすると、作業者の占める空間が必要
となるため、接続端部同士の接続は貫通区画の外部から
の操作により行うことが好適である。
【００１１】また、本発明は、ガス供給源から延びるガ
ス供給管の接続端部に、ガス容器に取外し可能に取り付
けられたマニホールド等のガス充填管の接続端部を接続
し、ガス供給源から所定のガスをガス供給管及びガス充
填管を経てガス容器に供給し充填するよう構成されたガ
ス充填設備であって、ガス充填管を保管すると共に、こ
の保管されたガス充填管をガス容器に取り付ける作業を
行うことができ、且つ、内部が清浄化されるようになっ
ている第１の区画と、第１の区画内に設けられ、第１の
区画内で保管されたガス充填管に養生用ガスを流通させ
る手段と、ガス供給管の接続端部が配設されており、当
該接続端部にガス充填管の接続端部を接続すべく外部か
らガス充填管を挿入することのできる開閉可能な貫通孔
を有しており、且つ、内部が清浄化されるようになって
いる第２の区画と、を備えるものを特徴としている。
【００１２】このような構成の設備を用いてガスを充填
する場合、請求項３に記載したように、まず予め、使用
前のガス充填管を、その内部に養生用ガスを流通させた
状態で第１の区画内で保管する。このような保管方法に
よれば、ガス充填管の内部は極めて清浄な状態とされ
る。次いで、第１の区画内に空のガス容器を搬入し、ガ
ス充填管を当該ガス容器に取り付けると共に、接続端部
に盲栓を施す。この後、ガス充填管が取り付けられたガ
ス容器を前記第１の区画から搬出するが、ガス充填管の
接続端部に盲栓が取り付けられているので、養生された
ガス充填管の内部の清浄状態は保たれる。第１の区画か
ら搬出したガス容器を第２の区画の外部で貫通孔に隣接
する位置に配置し、貫通孔からガス充填管の接続端部を
第２の区画内に挿入したならば、盲栓を取り外し、ガス
供給管の接続端部に接続してガス供給源からガスを供給
しガス容器に充填するのである。第２の区画は接続作業
専用となるので、小型化を図ることができ、その結果、
清浄化が容易となり、清浄度を上げることができ、ひい
ては、接続作業時におけるガス充填管内への汚染粒子の
侵入を防止することできる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施形態に
ついて図面を参照して詳細に説明する。なお、図中、同
一又は相当部分には同一符号を付すこととする。
【００１４】図１は本発明によるガス充填設備の一実施
形態を概略的に示すレイアウト図である。このガス充填
設備１０は、半導体デバイスの製造等に用いられる高純
度ないしは超高純度のガス、例えば超高純度の窒素ガス
やシランガスを、図２に示すような可搬型のガス容器１
２に充填するための設備である。
【００１５】図１に示すガス充填設備１０では、設備建
屋１４内に、充填すべきガスを貯蔵するガス貯槽１６が
格納された貯槽室１８と、ガス充填の際にガス容器１２
を真空にする真空ポンプ２０が格納されたポンプ室２２
と、ガス容器１２の搬送及び充填作業を行う作業エリア
２４とが区画設定されている。
【００１６】ガス充填設備１０は、更に、第１のクリー
ンルーム（第１の区画）２６を備えている。この第１の
クリーンルーム２６は、ガスを充填する際にガス容器１
２の口金に接続されるガス充填管２８を保管するための
ものである。図示実施形態では、複数のガス容器１２に
ガスを一括して充填することとしているので、ガス充填
管２８として図２に示すような移動可能（ポータブル）
のマニホールドが用いられている。第１のクリーンルー
ム２６では、通常、複数のマニホールド２８が保管され
る。保管時、各マニホールド２８は、ガス容器１０側と
なる各枝管２８ａの端部が養生用ガス供給装置３０から
延びる養生用ガス供給管３２に適当な接続手段、例えば
ユニオン継手方式の接続手段３４により接続され、且
つ、ヘッダ管２８ｂが排気管３６に同様な接続手段３８
により接続される。養生用ガス供給装置３０は、超高純
度窒素ガスのような養生用の不活性ガスを供給するため
のものである。また、排気管３８は、第１のクリーンル
ーム２６から建屋１４の外部に延びている。かかる構成
において、マニホールド２８を接続した状態で養生用ガ
ス供給装置３０を動作させると、養生用ガスが養生用ガ
ス供給管３２、マニホールド２８及び排気管３６を流
れ、外部に排出される。これによって、マニホールド２
８は、その内部に異物が付着しないよう養生された状態
で保管されることとなる。
【００１７】なお、この第１のクリーンルーム２６は、
搬入されたガス容器１０にマニホールド２８を取り付け
るためのエリアとしても用いられるため、マニホールド
２８の保管に必要な空間の他、図２に示すような保持枠
４０で保持された複数のガス容器１０を搬入でき且つ作
業者がマニホールド２８の取付作業を行うことのできる
空間が形成されている。但し、この空間は、当該クリー
ンルーム２６の清浄度を高く維持するため、可能な限り
小さいことが好ましい。
【００１８】また、作業エリア２４には第２のクリーン
ルーム（貫通区画ないしは第２の区画）４２が設けられ
ている。第２のクリーンルーム４２内には、ガス貯槽１
６から延びるガス供給管４４の接続端部４６が配設され
ている。好ましくは、ガス供給管４４のこの接続端部４
６は、第２のクリーンルーム４２を画成する仕切り壁４
８の近傍に、当該仕切り壁４８に向けて配置されてい
る。
【００１９】ガス供給管４４の接続端部４６に正対する
仕切り壁４８の部分には貫通孔５０が形成されている。
この貫通孔５０は、図２に示すように、マニホールド２
８のヘッダ管２８ｂを挿入できる程度の比較的小さなも
のとされている。また、通常時には貫通孔５０を閉じ、
第２のクリーンルーム４２内の清浄度を維持するよう、
貫通孔５０には閉鎖手段が設けられている。閉鎖手段と
しては開閉プレート等、種々考えられるが、この実施形
態では、放射状にスリットが入れられたゴム板５２が貫
通孔５０に設けられている。第２のクリーンルーム４２
は、従来一般のクリーンルームと同様、清浄空気を室内
に圧送すると共に、室内の圧力を利用して室内の空気を
外部に排出することで、内部の清浄化を図る構造となっ
ている。このため、第２のクリーンルーム４２内は、稼
働時、その周囲の圧力より高い「正圧」ないしは「陽
圧」と呼ばれる状態となる。このように、第２のクリー
ンルーム４２は稼働時に正圧状態とされるので、多少の
隙間があったとしても、内部空気が外部に放出されるの
みで、外気が入りこむことはなく、清浄度は維持され
る。よって、貫通孔５０の閉鎖手段としてスリット入り
のゴム板５２を用いることは何ら問題ない。
【００２０】ガス供給管４４には、第２のクリールーム
４２外の作業エリア２４で操作することのできる第１及
び第２の開閉弁５４，５６が設けられている。また、ガ
ス供給管４４は、第１及び第２の開閉弁５４，５６の間
で、一端が真空ポンプ２０に接続された真空排気管５８
の他端と接続されている。この真空排気管５８には、第
２のクリールーム４２外の作業エリア２４で操作するこ
とのできる第３の開閉弁６０が設けられている。ガス供
給管４４には圧力計６２が、好ましくは接続端部４６側
の適所に接続されており、ガス容器１２及びガス供給管
４４内部の圧力をモニタすることができるようになって
いる。
【００２１】なお、図示しないが、真空ポンプ２０は第
２のクリーンルーム４２外の操作盤によって遠隔操作可
能とするのが好適である。また、真空ポンプ２０は、有
害なガスを取り扱う場合においては排気口にガス処理装
置６３が設けられる。更に、図１において、符号６４
は、空のガス容器１２を保持枠４０に装荷するための装
荷室であり、符号６６は、ガス容器１２に充填されたガ
スの品質を調べるための分析室であるが、これらの室６
４，６６は建屋１４の外部に設けてもよい。
【００２２】次に、上記構成のガス充填設備１０を用い
てガスをガス容器１０に充填する手順について説明す
る。
【００２３】まず、第１及び第２のクリーンルーム２
６，４２を稼働させ、各クリーンルーム２６，４２の内
部を所望の清浄度としておく。また、第１、第２及び第
３の開閉弁５４，５６，６０を閉じておく。更に、予め
複数のマニホールド２８を第１のクリーンルーム２６に
搬入し、それぞれの枝管２８ａを養生用ガス供給装置３
０の対応の養生用ガス供給管３２に接続すると共に、ヘ
ッダ管２８ｂを排気管３６に接続する。そして、養生用
ガス供給装置３０を作動させて、微量の超高純度窒素ガ
ス等の養生用ガスをマニホールド２８に流し続けなが
ら、マニホールド２８を養生しておく。これにより、マ
ニホールド２８は、その内部が極めて清浄化された状態
で保管される。
【００２４】このような状態が整ったならば、装荷室６
４において保持枠４０に組み込まれた複数のガス容器１
２を、例えば無人フォークリフトのような搬送装置（図
示せず）を用いて、装荷室６４から作業エリア２４を経
て第１のクリーンルーム２６内に搬送し、所定の位置に
ガス容器１２を配置する。その後、使用するマニホール
ド２８に対する養生用ガスの供給を停止し、このマニホ
ールド２８を排気管３６及び養生用ガス供給管３２から
取り外す。そして、この取り外したマニホールド２８の
各枝管２８ａを対応のガス容器１２の口金に接続し、ヘ
ッダ管２８ｂの接続端部６８には盲栓７０を取り付ける
（図２参照）。第１のクリーンルーム２６は比較的小さ
く、内部の清浄度も相当に高められているので、マニホ
ールド２８の前記脱着作業中に、マニホールド２８内に
第１のクリーンルーム２６内の浮遊粒子が入り込む可能
性は極めて少ないが、かかるマニホールド２８の脱着作
業は可能な限り短時間で行うことが好ましい。勿論、マ
ニホールド２８をガス容器１２に取り付けられた後は、
ヘッダ管２８ｂの接続端部６８に盲栓７０が取り付けら
れるので、マニホールド２８内に粒子が入り込むことは
ない。
【００２５】次いで、再度、搬送装置を用いて複数のマ
ニホールド付きガス容器１２を保持枠４０と共に第１の
クリーンルーム２６から搬出し、第２のクリーンルーム
４２外の作業エリア２４であって貫通孔５０の近傍に配
置する。この際、図２に示すように、マニホールド２８
のヘッダ管２８ｂの接続端部６８が貫通孔５０を通って
第２のクリーンルーム４２内に延びるよう、ガス容器１
２を配置する。このようにガス容器１２が配置された
時、マニホールド２８のヘッダ管２８ｂが貫通孔５０の
ゴム板５２を押し開くこととなるが、前述したように、
第２のクリーンルーム４２内は正圧状態にあるので、外
気が内部に入ることはなく、第２のクリーンルーム４２
内の清浄度が低下することはない。
【００２６】次に、作業者が第２のクリーンルーム４２
に入室してマニホールド２８とガス供給管４４との接続
作業を開始する。すなわち、マニホールド２８のヘッダ
管２８ｂに取り付けられていた盲栓７０を取り外し、ガ
ス供給管４４の接続端部４６とマニホールド２８のヘッ
ダ管２８ｂの接続端部６８とをガスケット（図示せず）
を介して接続する。この接続手段としては種々考えられ
るが、ユニオン継手方式により両接続端部６８，４６を
接続するのが簡便であり好ましい。清浄化された第２の
クリーンルーム４２内の浮遊粒子は微量であるので、マ
ニホールド２８内への浮遊粒子の侵入の可能性は極めて
少ないが、そのような可能性を更に少なくするために、
接続作業は迅速に行う必要がある。
【００２７】マニホールド２８とガス供給管４４との接
続作業が完了した後、作業者は第２のクリーンルーム４
２から退出し、以降、従来と同様の手順でガスの充填を
行う。詳細に述べるならば、第１の開閉弁５４を閉じた
まま第２及び第３の開閉弁５６，６０を開状態にして、
真空ポンプ２０を起動してガス容器１２を真空にする。
圧力計６２の値からガス容器１２が所望の真空度になっ
たことを確認した後、真空ポンプ２０を停止すると共
に、第３の開閉弁６０を閉状態にする。次に、第１の開
閉弁５４を開いてガス容器１２及びガス貯槽１６を連通
した状態にすると、両者の差圧によってガス貯槽１６の
ガスがガス容器１２に流れ、充填される。圧力計６２の
値が所望の充填圧力に達したならば、第１の開閉弁５
４、第２の開閉弁５６、更には各ガス容器１２の開閉弁
（図示せず）を閉状態にする。この後、必要に応じて、
各配管２８，４４中の滞留ガスを取り除くために、第２
及び第３の開閉弁５６，６０を開状態にして真空ポンプ
２０を起動する。なお、この取り除かれたガスはガス処
理装置６３により適宜処理される。最後に、真空ポンプ
２０を停止し、開閉弁５４，５６，６０が全て閉状態と
なっていることを確認して、ガスの充填が完了する。
【００２８】ガスの充填が完了したならば、作業者が第
２のクリーンルーム４２に再び入室し、ガス供給管４４
からマニホールド２８を取り外す。この際、後のマニホ
ールド２８の洗浄処理の手間等を考慮して、マニホール
ド２８の接続端部６８に再度盲栓７０をしておくことが
好適である。そして、搬送装置を用いて、保持枠４０に
より保持された複数のガス容器１２を第２のクリーンル
ーム４２から引き離して、マニホールド２８のヘッダ管
２８ｂを貫通孔５０から抜き、分析室６６に搬送する。
分析室６６においては、充填されたガスの分析等を行
い、その後、保持枠４０を解体して荷姿整備し、各ガス
容器１２をガス使用現場となる需要先に出荷する。
【００２９】以上述べたように、第２のクリーンルーム
４２では、ガス容器１２が搬入されずに、マニホールド
２８とガス供給管４４の接続作業と充填後の取外し作業
のみが行われる。従って、第２のクリーンルーム４２内
の空間は作業者が入ることのできる大きさがあれば十分
であり、ガス容器１２の搬入やマニホールド２８の保
管、着脱、ガス充填のための弁操作等が全て行われてい
た従来のガス充填設備におけるクリーンルームに比し
て、相当に小さくすることができる。可能な限り小容積
とされた第２のクリーンルーム４２では、従来と同一の
清浄化装置を用いても、極めて清浄度の高い空間を得る
ことができる。例えば、従来のクリーンルームでは、清
浄度は米国規準のクリンネスで表すと１０００程度であ
った。しかし、本実施形態による第２のクリーンルーム
４２では、１００程度のクリンネスをも達成することが
可能となる。
【００３０】また、塵埃の発生の原因となるガス容器１
２の搬送作業や弁操作等を第２のクリーンルーム４２の
外部で行うため、第２のクリーンルーム４２内の清浄度
は常に高いレベルで維持されることとなる。
【００３１】このように、第２のクリーンルーム４２内
の清浄度を極めて高くしておくことができるので、当該
クリーンルーム４２内でのマニホールド２８の接続作業
に際し、マニホールド２８内に浮遊粒子が侵入する可能
性は極めて低い。しかも、マニホールド２８は保管時に
超高純度窒素ガス等の養生用ガスを流通させているた
め、使用されるマニホールド２８の内面に付着している
粒子の数も極めて少なく、皆無に近い。従って、上記態
様でガス容器１２に超高純度ガスを充填した場合、充填
されるガスの純度が低下するのを有効に防止することが
できる。
【００３２】以上、本発明の好適な実施形態について詳
細に説明したが、本発明は上記実施形態に限られないこ
とはいうまでもない。例えば、上記実施形態では、１種
類のガスを１群のガス容器にのみ供給する構成となって
いるが、ガス供給管の先端を分岐させて接続端部を複数
形成し、それぞれにガス容器群を接続する構成としても
よく、また、多種類のガスを取り扱うべく複数のガス貯
槽を設けて、それぞれのガス貯槽から延びるガス供給管
を第２のクリーンルーム内に配設してもよい。勿論、複
数のガス容器にガスを一括充填する必要性はなく、一つ
のガス容器に１本のガス充填管を接続し、そのガス充填
管を第２のクリーンルームに挿入してガス供給管に接続
することとしてもよい。また、複数本（約７本〜約５０
本）のガス容器を束ね、該各ガス容器の口金を配管によ
り連結し、ガスの充填と供給を一箇所で行えるようにし
たカードルやローダーのガス充填に際しても、その接続
端部と前記ガス供給管の接続端部との接続を第２のクリ
ーンルーム内で行うことにより、同じ効果を得ることが
できるるまた、接続作業がなされる第２のクリーンルー
ム４２も、清浄化が可能な区画ないしは容器であれは他
の形態であってもよく、その一例として、図３に、第２
のクリーンルーム４２をグローブボックス（貫通区画な
いしは第２の区画）８０に置き換えた構成を示す。グロ
ーブボックス８０は、小さな箱体８２と、この箱体８２
に形成された２つの穴８４に取り付けられたゴム等から
成る手袋８６とから構成されている。また、この箱体８
２の一側面を貫通してガス供給管４４が取り付けられて
おり、このガス供給管４４の接続端部４６に対向する面
に、ガス容器１２からのマニホールド（ガス充填管）２
８を挿入するための貫通孔８８が形成されている。この
貫通孔８８には、第２のクリーンルーム４２と同様に、
スリット入りのゴム板９０が取り付けられている。
【００３３】このようなグローブボックス８０を用いた
場合、グローブボックス８０内を適当な手段で清浄化し
た後、ガス容器１２に接続されたマニホールド２８のヘ
ッダ管２８ｂを貫通孔８８からグローブボックス８０内
に挿入する。そして、作業者は手袋８６に手をはめ、グ
ローブボックス８０の外部から接続作業を行うこととな
る。グローブボックス８０には汚染源となり得る作業者
さえも出入りすることがないので、清浄度の低下をより
一層抑制することが可能となる。また、グローブボック
ス８０はクリーンルームよりも小さいので、この点でも
高度な清浄化を図ることが可能となり、ガス汚染防止効
果が向上する。
【００３４】なお、グローブボックス８０のように手の
入るものでなくとも、ガス供給管の接続端部とガス充填
管の接続端部との接続及び取外しを確実に行うことがで
きるならば、マジックハンド等の器具を備える外部操作
可能なクリーンな小型の箱体であってもよい。また、ガ
ス供給管の接続端部及びガス充填管の接続端部を規格化
すれば、例えば図３において符号９２で示すようなガイ
ドをクリーンな箱体内部に設け、そのガイド９２に沿っ
て接続端部６８を案内させることが可能となり、接続端
部同士の接続及び取外しが容易になる。
【００３５】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、ガ
ス充填管の保管とその取付作業のための第１の区画と、
ガス供給管とガス充填管との接続作業を行うための第２
の区画とを分けて設けたことで、各区画の容積を相当に
小さくすることが可能となった。その結果として、各区
画を清浄化した場合、大容積の区画を同様な方法で清浄
化したときと比べて、清浄度を向上させることができ
る。特に、第２の区画は接続作業専用となり、ガス容器
は第２の区画の外部に置いた状態で接続作業を行うこと
としたので、極めて高い清浄度を得ることができる。こ
れにより、ガス充填管をガス供給管に接続する際、及
び、ガス充填管をガス容器に取り付ける際、ガス充填管
に汚染粒子が侵入する可能性が低くなり、充填ガスの純
度の低下が防止されることとなる。
【００３６】また、ガス充填管の保管時、内部に超高純
度窒素ガス等の養生用ガスを流通させているので、ガス
充填管の内部は極めて清浄な状態となる。しかも、ガス
充填管をガス容器に取り付けてから、ガス供給管に接続
されるまでは、ガス充填管は盲栓により密封されるの
で、ガス充填管の内部の清浄状態は維持される。従っ
て、ガス供給管に接続されるガス充填管の内部の清浄度
が、従来に比して相当に高められているので、充填ガス
の純度低下防止効果は著しく向上されることとなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のガス充填設備の一実施形態を概略的に
示したレイアウト図である。
【図２】複数のガス容器に取り付けられたマニホールド
を第２のクリーンルーム内のガス供給管に接続する際の
状態を概略的に示す斜視図である。
【図３】本発明の別の実施形態を示す図であり、グロー
ブボックスを用いて、複数のガス容器に取り付けられた
マニホールドをガス供給管に接続する際の状態を概略的
に示す斜視図である。
【符号の説明】
１０…ガス充填設備、１２…ガス容器、１４…建屋、１
６…ガス貯槽、２０…真空ポンプ、２４…作業エリア、
２６…第１のクリーンルーム（第１の区画）、２８…マ
ニホールド（ガス充填管）、３０…養生用ガス供給装
置、４０…保持枠、４２…第２のクリーンルーム（貫通
区画ないしは第２の区画）、４４…ガス供給管、４６…
ガス供給管の接続端部、５０…貫通孔、５２…スリット
入りゴム板、６８…マニホールドの接続端部、７０…盲
栓、８０…グローブボックス（貫通区画ないしは第２の
区画）。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ガス供給源から延びるガス供給管の接続
    端部に、ガス容器に取り付けられたガス充填管の接続端
    部を接続し、前記ガス供給源から所定のガスを前記ガス
    供給管及び前記ガス充填管を経て前記ガス容器に供給し
    充填するガス充填方法において、 前記ガス供給管の接続端部と前記ガス充填管の接続端部
    との接続を内部が清浄化された開閉可能な貫通区画内
    で、前記ガス容器を前記貫通区画の外部に置いた状態
    で、行うことを特徴とするガス充填方法。
  2. 【請求項２】 前記貫通区画内での前記接続を前記貫通
    区画の外部からの操作により行うことを特徴とする請求
    項１に記載のガス充填方法。
  3. 【請求項３】 ガス供給源から延びるガス供給管の接続
    端部に、ガス容器に取外し可能に取り付けられたガス充
    填管の接続端部を接続し、前記ガス供給源から所定のガ
    スを前記ガス供給管及び前記ガス充填管を経て前記ガス
    容器に供給し充填するガス充填方法において、 内部が清浄化された第１の区画を用意し、 前記ガス供給管の前記接続端部が配設され、開閉可能な
    貫通孔を有し、且つ、内部が清浄化された第２の区画を
    用意し、 使用前の前記ガス充填管を、その内部に養生用ガスを流
    通させた状態で前記第１の区画内で保管し、 前記第１の区画内に空のガス容器を搬入し、前記ガス充
    填管を当該ガス容器に取り付けると共に、前記ガス充填
    管の前記接続端部に盲栓を施し、 前記ガス充填管が取り付けられた前記ガス容器を前記第
    １の区画から搬出し、前記第２の区画の外部で前記貫通
    孔に隣接する位置に配置し、 前記貫通孔から前記ガス充填管の前記接続端部を前記第
    ２の区画内に挿入し、前記盲栓を取り外した後、前記ガ
    ス充填管の前記接続端部を前記ガス供給管の前記接続端
    部に接続してガスの充填を行う、ことを特徴とするガス
    充填方法。
  4. 【請求項４】 ガス供給源から延びるガス供給管の接続
    端部に、ガス容器に取外し可能に取り付けられたガス充
    填管の接続端部を接続し、前記ガス供給源から所定のガ
    スを前記ガス供給管及び前記ガス充填管を経て前記ガス
    容器に供給し充填するよう構成されたガス充填設備にお
    いて、 前記ガス充填管を保管すると共に、この保管された前記
    ガス充填管をガス容器に取り付ける作業を行うことがで
    き、且つ、内部が清浄化されるようになっている第１の
    区画と、 前記第１の区画内に設けられ、前記第１の区画内で保管
    された前記ガス充填管に養生用ガスを流通させる手段
    と、 前記ガス供給管の前記接続端部が配設されており、当該
    接続端部に前記ガス充填管の前記接続端部を接続すべく
    外部から前記ガス充填管を挿入することのできる開閉可
    能な貫通孔を有しており、且つ、内部が清浄化されるよ
    うになっている第２の区画と、 を備えることを特徴とするガス充填設備。
JP8211352A 1996-08-09 1996-08-09 ガス充填方法及び設備 Pending JPH1055943A (ja)

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