JPH105578A - 有害物処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 小型のものでも廃ガス、廃液、あるいはそれ
らの混合物から所要成分を効率よく除去することができ
る有害物処理装置を提供する。 【解決手段】 チャンバー１０の上部に設けた複合エジ
ェクタ１４から処理対象となる廃ガス等と処理液を混合
させた状態でチャンバー内に噴射するとともに、チャン
バー１０内では回転ブラシ２０を回転させながら、この
回転ブラシから処理液を噴射させる。チャンバー内にあ
る処理液と廃ガス等との気液混合物は、旋回しながら下
方へ降り、金網３０を通過して、処理液タンク１１内に
至る。処理液はタンクに回収され、所要成分が除去され
た排気ガスは煙突３２から大気に放散される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、有害ガスや有毒ガ
ス、異臭等を含む廃ガス、または廃液、あるいは廃ガス
・廃液混合物から所要成分の有害物を除去することがで
きる有害物処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ロケットの推進薬及び人工衛星
の姿勢制御装置の燃料として使用される、ヒドラジンや
４酸化２窒素等は有害ガスであることは知られている。
これらの有害なガスがロケット等の燃料試験あるいは打
ち上げ準備作業段階で燃料充填装置、またはロケットの
燃料充填口等から漏洩することを防ぐことができ、か
つ、スムーズに排気処理できる有害物処理装置が必要と
なる。また、飲食店、化学工場その他の廃棄物中から異
臭や有害成分あるいは有毒成分を除去するようなことも
多々要求されている。

【０００３】図９は、従来の一般的な有害物処理装置を
示す。図に示すように、廃ガス導入管１からブロワ２を
介して導入される、処理対象の廃ガスは、中央よりも若
干下部の廃ガス導入口３ａから容器３内に導入される。
この導入された廃ガスは、多段散水装置４を通過しなが
ら容器３の上部に至る。

【０００４】ここで、多段散水装置４は、容器３の下部
から容器３と一体的に設けられた処理液タンク５に貯留
されている処理液が、ポンプ付きの処理液供給管６を介
して容器３の上部に配置されたスプレーガン７に供給さ
れ、処理液はそこから散布された後、多段に設けられた
液受け４ａ，…を順に通過しながら下方へ流れ、最終的
に処理液タンク５に戻る。

【０００５】このように処理液が多段の液受け４ａ，…
を順に通過しながら下方へ流れるときに、それら液受け
４ａの間を通過する、前記容器３内に導入された廃ガス
と接触し、該廃ガスから有害・有毒・異臭等の対象成分
が除去される。対象成分が除去された排ガスは、容器３
の上部に接続された排気筒８から大気へ放散される。

【０００６】なお、上記した多段散水装置４としては、
スプレーガン７から散布された処理液を多段の液受け４
ａ，…を通過させながら水滴の形で順に下方へ流れ落と
す構造の他に、多数の孔が形成された球状あるいは半球
状のプラスチックボール片を多数積層した充填槽の中を
通過させて、廃ガスと処理液の接触面積を広げる構造の
ものもある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記し
た従来の有害物処理装置にあっては、次の問題があっ
た。すなわち、多段散水装置４を処理液が通過するとき
の処理液の分散状態が、液受け４ａ，…の間を通過す
る、処理対象である廃ガスの分子の大きさに対して粗
く、処理液と廃ガスが接触する確率が低い。このため、
十分な処理を行うには廃ガス処理区間が長大化せざるを
得ず、この結果、装置が必然的に大型化するという問題
があった。

【０００８】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、小型のものでも廃ガス等から所要成分の有害
物を効率よく除去することができる有害物処理装置を提
供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明では、上部に処理対象となる有害物を含む
廃ガスまたは廃液の少なくとも一方を導入するための廃
ガス廃液導入部が設けられるとともに、下部に所要成分
除去後の排ガスを外部へ排出する排ガス排出部が設けら
れたチャンバーと、該チャンバーの下方に設けられ、か
つ、前記廃ガスまたは廃液の少なくとも一方と接触され
てそれらから所要成分の有害物を除去する処理液を貯留
する処理液貯留タンクと、前記チャンバーに回転自在に
設けられ、かつ、前記処理液タンクから処理液供給手段
を介して供給される前記処理液を放射方向へ噴射する多
数の噴射口を有する回転ブラシと、前記回転ブラシを回
転させる回転手段とを備える構成としている。チャンバ
ーの上部に設けられる前記廃ガス廃液導入部には、前記
処理液が導入されて該処理液と廃ガスまたは廃液の少な
くとも一方とを混合させた状態で噴射するエジェクタを
設けてもよい。前記エジェクタは、前記処理液が導入さ
れて該処理液と廃ガスまたは廃液の少なくとも一方とを
混合させた状態で噴射するメイン噴射ノズルと、該メイ
ン噴射ノズルの先方に設けられ、該メイン噴射ノズルの
吹き出し方向と交差するように所定の傾斜角をもってか
つ該メイン噴射ノズルを間にしてその両側に対向配置さ
れて前記処理液を噴射する補助の噴射ノズルとを備える
複合エジェクタによって構成してもよい。前記処理液供
給手段は、回転ブラシを支持する上下方向に延びる中空
軸と、該中空軸の下方であって前記処理液タンク内に浸
される部分に中空軸と一体的に回転するように設けられ
たポンプ用の羽根によって構成してもよい。前記チャン
バー内であって、前記回転ブラシよりも下方で前記排ガ
ス排出部の上方には、チャンバーを上下方向に仕切るメ
ッシュを設けてもよい。前記チャンバー内であって、前
記回転ブラシよりも下方で前記排ガス排出部の上方に
は、前記廃ガスまたは廃液の少なくとも一方と処理液と
の接触面積を広くするためのシェル槽を設けてもよい。
廃ガスまたは廃液の少なくとも一方を処理液中で回転ブ
ラシから噴射するように構成してもよい。タイプが異な
る有害物処理装置である、処理液をミスト状にした処理
液に廃ガスまたは廃液の少なくとも一方を接触させるタ
イプの処理装置と、処理液中に直接廃ガスまたは廃液の
少なくとも一方を噴射させることによって処理液と廃ガ
ス等を接触させるタイプの処理装置とを直列的に接続さ
せてもよい。前記チャンバーの上部には廃ガス導入部に
代えて排ガス排出部を設けるとともに、チャンバーの下
部には排ガス排出部に代えて廃ガス導入部を設ける構成
にしてもよい。

【００１０】本発明によれば、チャンバー内に廃ガスま
たは廃液の少なくとも一方が導入されるとともに、回転
ブラシが回転しながら処理液供給手段から供給される処
理液を、該回転ブラシの噴射口から噴射させる。噴射さ
れた処理液の一部はチャンバーの内壁に直接衝突して微
細化される一方、他の処理液は回転ブラシに当たって微
細化される。結果的に、チャンバー内では処理液が微細
化あるいは霧化した状態で浮遊旋回することとなる。前
記チャンバー内に供給された廃ガス等は、これら微細化
あるいは霧化した処理液と混合、撹拌、接触し、前記距
離を移動しながら、該廃ガスまたは廃液中に含まれる所
要成分がこれら処理液によって溶解し、または化学反応
を生じる。また、前記回転ブラシが回転することによ
り、チャンバー内では処理液ミストと廃ガス等が混合さ
れた状態で該回転ブラシに追従して旋回および撹拌され
ることとなる。このため、旋回流中の前記所要成分の有
害物が溶解、吸収されて比較的大きく成長した処理液の
ミスト粒子は遠心力を受けながら、チャンバーの内壁に
接触して付着され、その後、自重により下方へ流れて処
理液貯留タンクに回収される。なお、処理液貯留タンク
内の液は、回転ブラシから噴射された後降下する液よっ
て補充される。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて本発明の実
施の形態を説明する。 ＜発明の第１の実施の形態＞図１は本発明にかかる有害
物処理装置を示す断面図である。図において符号１０は
処理対象となる例えば廃ガスが導入される円筒状のチャ
ンバーである。チャンバー１０の下側には、廃ガス等に
含まれる有害あるいは有毒物質を溶解させ、また必要に
応じて変質、固体化させて沈殿させる処理液を貯留する
処理液貯留タンク１１がシールを介して気密的に取り付
けられている。なお、処理液貯留タンク１１の容量は、
このタンク内に貯留された処理液によって廃ガス等から
所要成分（ヒドラジンや４酸化２窒素等）を吸収したと
きでも、ガス溶解濃度が急速には上昇しない程度の大き
さに設定される。

【００１２】チャンバー１０の上部には廃ガスをチャン
バー１０内に導入するための廃ガス廃液導入管１３が管
接続部１３ａを介して接続されており、この管接続部１
３ａの内側には、廃ガスと前記処理液とを混合させた状
態でチャンバー１０内に供給する複合エジェクタ１４が
設けられている。なお、廃ガス廃液導入管１３には、必
ずしも廃ガスのみが導入されるに限られることなく、そ
のほか、廃液、あるいは、廃ガスと廃液との混合物が導
入される場合もある。

【００１３】複合エジェクタ１４は、処理液と廃ガス等
とを混合させた状態で噴射するメイン噴射ノズル１５
と、このメイン噴射ノズル１５の先方に設けられて処理
液を噴射する補助の噴射ノズル１６とを備える。

【００１４】前記メイン噴射ノズル１５は、前記処理液
貯留タンク１１の側部に設けられたモータ１７ａが付設
されたポンプ１７から処理液供給管１８を介して圧送さ
れる処理液がノズル本体１５ａから膨張室１９で膨張さ
れながら噴射され、膨張室１９の近傍には予め前記廃ガ
ス廃液導入管１３から廃ガスまたは廃液等が導入されて
おり、この導入された廃ガス等が、圧力の関係上、前記
膨張されながら噴射される処理液に膨張室１９につなが
る隙間から吸い込まれてその噴射中に混入され、結局、
膨張室１９の下流側では処理液と廃ガス等とが共に混合
された状態で噴射される。

【００１５】また、前記補助の噴射ノズル１６は、基端
側が前記処理液供給管１８に分岐接続されて、この供給
管１８を介して前記処理液が供給されるものである。そ
して、補助の噴射ノズル１６は、互いに対をなすものど
うしの軸線が、メイン噴射ノズル１５の吹き出し方向に
対して、３０〜４５度の適宜傾斜角度をもって、ほぼ同
一の箇所で交差するように、しかも、このメイン噴射ノ
ズル１５を間にしてその両側に対向するように配置され
ている。補助の噴射ノズル１６は、この実施の形態では
図３に示すように、周方向へ９０度ずれて２対設けら
れ、合計４個設けられている。

【００１６】また、上記複合エジェクタ１４は、図２に
示すように、チャンバー１０の中心から側方へずれるよ
うにチャンバー１０の側壁上部に偏心して取り付けられ
ており、複合エジェクタ１４から噴射される処理液と廃
ガス等との混合物は、チャンバー１０内で旋回されなが
ら下降するようになっている。すなわち、前記チャンバ
ー１０はいわゆるサイクロンチャンバーとして機能す
る。

【００１７】前記チャンバー１０内であって、前記複合
エジェクタ１４が取り付けられた高さよりも若干下がっ
た箇所には、回転ブラシ２０が水平方向に回転自在に設
けられている。回転ブラシ２０は、チャンバー１０の中
心に沿って上下方向に延びる中空軸２１の外周に回転筒
２２が中空軸２１を囲んで同心状にかつ一体的に回転す
るように設けられ、この回転筒２２にブラシ２３が半径
方向外方へ延びるように、回転筒２２の全域にわたって
取り付けられて構成されている。

【００１８】また、中空軸２１の上部は、チャンバー１
０の天井部を貫通して上方へ突出しており、そこにはモ
ータ２４が連結されている。なお、中空軸２１の回転筒
２２よりも上側部分は図に示すように必ずしも中空であ
る必要はなく、中実にしても中空にしてもいずれの構成
にしてもよい。

【００１９】前記中空軸２１の下部は、チャンバー１０
の下端に設けられた軸受け２５に支持されるとともにそ
こからさらに下方へ延びており、前記処理液貯留タンク
１１に貯留される処理液中に浸されている。また、中空
軸２１の下端は拡径されており、そこにはポンプを形成
するための複数（例えば４枚）の羽根２６が中空軸２１
と一体的に回転するように取り付けられている（図４参
照）。

【００２０】そして、この回転ブラシ２０では、前記モ
ータ２４によって中空軸２１が回転されると、該中空軸
２１と一体的に回転する前記羽根２６によってポンプ作
用がなされ、中空軸２１の下端から処理液が吸い上げら
れる。吸い上げられた処理液は中空軸２１内を通って中
空軸２１の長さ方向略中央部分に至り、そこから中空軸
２１に形成された連通孔２１ａを通って、中空軸２１の
外周面と回転筒２２の内周面及び上下の蓋部材２７ａ，
２７ｂで囲まれる空間２８に至り、そこからさらに回転
筒２２に形成された複数の噴射孔２２ａ，…を通ってチ
ャンバー１０内に放射状に噴射されるようになってい
る。

【００２１】チャンバー１０内であって、前記回転ブラ
シ２０よりも下方には図５に示すような金網３０が取り
付けられている。金網３０は、図５に示すように、上方
へ向かうに従い漸次拡がるテーパー状の大径部３０ａ
と、該大径部３０ａよりも小径とされ上方に向かうに従
い漸次狭まる小径部３０ｂとが、互いの下端部を断面Ｖ
字状となるように連結されたものである。また、金網３
０は、その表面に処理液が供給されたときに該処理液に
よって幕を張るとともに、その幕に廃ガス等を通過させ
得る孔が形成されるのを許容するものであり、それら処
理液と廃ガス等とが接触する機会をできるだけ多く確保
するために配されるものである。

【００２２】チャンバー１０の下端であって前記処理液
貯留タンク１１との接続部分には、多数の貫通孔３１
ａ，…を有する底板３１が設けられ、この底板３１によ
って前記軸受け２５及び金網３０がそれぞれが支持され
ている。また、前記処理液貯留タンク１１の上部であっ
てチャンバー１０との接続部から側方へずれた位置に
は、処理後の排ガスを大気等に放散させるための煙突３
２が接続されている。すなわち、チャンバー１０内の排
ガスは、底板３１ａに形成された多数の貫通孔３１ａ、
処理液貯留タンク１１の上部空間及び煙突３２からなる
排ガス排出部を介して大気等に放散される。

【００２３】次に、上記構成の有害物処理装置の作用に
ついて説明する。モータ１７ａが始動されてポンプ１７
が駆動すると、処理液貯留タンク１１内に貯留されてい
る処理液が処理液供給管１８を介して複合エジェクタ１
４へ供給される。具体的には、処理液供給管１８から圧
送される処理液がメイン噴射ノズル１５のノズル本体１
５ａから噴射され、このとき、廃ガス廃液導入管１３を
介して膨張室１９の近傍に導入されている廃ガス、また
は廃液、あるいは、廃ガスと廃液との混合物が、膨張さ
れながら噴射される処理液に吸い込まれてその噴射流中
に混入され、結局、膨張室１９の下流側では、処理液と
廃ガス等とが共に混合させた状態でメイン噴射ノズル１
５から噴射される。

【００２４】メイン噴射ノズル１５から噴射される気液
混合物は、噴射された直後では外周部分に排気ガスが高
密度で偏って配された状態となっているが、補助の噴射
ノズル１６から噴射される処理液噴射ミストの衝突によ
って、それら気液混合物中に含まれる比較的大きなミス
ト粒子が破砕されて微細化されるとともに、それら廃ガ
ス等の密度の多い部分と少ない部分との混合が促進さ
れ、廃ガス等の偏った部分が広く分散されて均一化され
る。この結果、処理液と廃ガス等がより広い面積で接触
することとなって、廃ガス等の所要成分が処理液ミスト
中に吸収・溶解しやすくなる。

【００２５】このように、複合エジェクタ１４から噴出
される処理液粒子と廃ガス等の気液混合物がチャンバー
１０内に入り、チャンバー１０の内壁に沿って旋回しな
がらしだいに下降する。

【００２６】一方、前記モータ１７ａが始動する際に同
時にモータ２４も始動するが、このモータ２４によって
中空軸２１とともに羽根２６が回転され、該羽根２６の
ポンプ作用によって処理液貯留タンク１１内に貯留され
ている処理液が中空軸２１の内部を通って上方へ押し上
げられ、中空軸２１の側部の連通孔２１ａを通って回転
筒２２の内部空間２８に至り、そこからさらに噴射孔２
２ａを介してチャンバー１０内に噴射される。このと
き、この回転ブラシ２１から粒子の形で噴射される処理
液は、比較的大きな粒子はチャンバー１０の内壁に高速
で衝突して霧化される。また、比較的小さな粒子は低速
で径方向外方へ振り飛ばされるとき、あるいは、チャン
バー１０内を旋回するときに、回転するブラシ２３に当
たって、破砕されて微細化される。このように、霧化あ
るいは微細化された処理液は、前記複合エジェクタ１４
から噴射される処理液と廃ガス等との気液混合物旋回流
に対し、直角に近い角度で突入し、それらと衝突、撹
拌、接触、溶解しながら一体になり、前記回転ブラシ２
０の回転に伴ってチャンバー１０内を旋回する。

【００２７】なお、前記したように回転する羽根２６の
ポンプ作用によって処理液が中空軸２１中を押し上げら
れる際、回転筒２２内の空間２８にある処理液は遠心力
を受けて噴射孔２２ａから外方へ噴射されるが、このと
き、回転筒２２内に圧力低下に伴う吸い込み作用によっ
ても中空軸内にある処理液は吸い上げられて前記空間２
８内に補給される。つまり、羽根２６のポンプ作用と回
転筒２２内の負圧による吸い込み作用の双方によって、
処理液は回転筒２２内の空間２８に補給される。

【００２８】上記したように複合エジェクタ１４及び前
記回転ブラシ２０からチャンバー１０内に噴射される処
理液はミストの形で同チャンバー１０内に充満し、廃ガ
スを吸収・溶解する。回転ブラシから振り飛ばされる粒
子は、エジェクタ噴出流を横断し、衝突する。そして、
飽和状態近くまで廃ガス等を溶解したミストは、前記回
転ブラシ２０によって旋回されながら遠心力をうけてチ
ャンバー１０の内壁に付着する。一方、チャンバー１０
内には、回転ブラシ２０から低濃度の溶解処理液ミスト
が補充されるため、廃ガス等に含まれる所要成分を吸収
・溶解させ易い環境が保たれる。前記チャンバー１０の
内壁に付着された処理液ミストは、ある程度の大きさに
成長すると自重によって下方へ滴り、処理液貯留タンク
１１側へと流れる。

【００２９】処理液が下方へ流れるときに、回転ブラシ
２０の下方に配された金網３０を通過するが、このと
き、処理液は金網３０の表面に幕を形成し、同時に幕に
形成される孔を廃ガス等が通過する。このとき、金網３
０の隙間を通過する廃ガス等に含まれる所要成分が処理
液中に吸収・溶解される。つまり、廃ガス等は、この金
網３０を通過するときにも、内部に含まれる所要成分が
処理液中に吸収・溶解される。

【００３０】その後、廃ガス等から所要成分を吸収・溶
解した処理液は、底板３１に形成された貫通孔３１ａを
通って下方の処理液貯留タンク１１に回収される。他
方、前記金網３０を通過した、所要成分が除去された廃
ガス等は、前記処理液と同様に、底板３１の貫通孔３１
ａを通過した後、処理液貯留タンク１１の上側に形成さ
れる空間部分を通って、煙突３２から大気中に放散され
る。なお、上記した第１の実施の形態では、前記複合エ
ジェクタ１４から処理液や廃ガス等が噴射されることに
よりチャンバー１０内で発生する気液混合物の旋回方向
と、回転ブラシ２０の回転方向は同方向に設定されてい
るが、必ずしもこれに限定されるものではなく、複合エ
ジェクタ１４による旋回方向に対して逆方向となるよう
に回転ブラシ２０を回転させる構成にしてもよい。

【００３１】＜発明の第２の実施の形態＞図６は本発明
の第２の実施の形態を示す。この第２の実施の形態で
は、第１の実施の形態で説明した排気ガス処理装置４０
Ａを前段とし、そのさらに後方に他の排気ガス処理装置
４０Ｂを直列的に接続したものである。

【００３２】他の排気ガス処理装置４０Ｂについて説明
すると、図７に示すように、４１は処理液を貯留する処
理液貯留タンクであり、この処理液貯留タンク４１には
回転ブラシ４２が水平方向に回転可能に設けられてい
る。回転ブラシ４２からは支持軸４３が上方へ延びてお
り、この支持軸４３はタンク４１の側壁から延びるステ
ー４４ａに取り付けられた軸受け４４によって回転可能
に支持され、その上端はタンクの蓋を貫通してモータ４
５に連結されている。

【００３３】回転ブラシ４２は、前記支持軸４３と一体
的に回転し、かつ、側壁部分に多数の孔４６ａを有する
中空回転体４６の外周にブラシ４７が半径方向外方へ延
びるように取り付けられて構成されている。前記ブラシ
４７は、上側が長く下方に向かうに従い漸次短くなるよ
うに、高さ位置に応じてその長さが変えられている。

【００３４】また、中空回転体４６の下端開口部４６ｂ
には、ブロア４８ａが介装されかつ処理液貯留タンク４
１の側壁を貫通する廃ガス廃液導入管４８の先端が挿入
され、そこから廃ガス等が導入されるようになってい
る。さらに、前記処理液貯留タンク１１の上部であって
モータ４５から側方へずれた位置には、処理後の排ガス
を大気等に放散させる煙突４９が接続されている。

【００３５】上記した他の有害物処理装置４０Ｂでは、
前段の有害物処理装置４０Ａで処理された後の廃ガスは
ブロア４８ａにより廃ガス廃液導入管４８を介して中空
回転体４６内に導入される。中空回転体４６内に導入さ
れた廃ガスは、中空回転体４６の多数の孔４６ａ、また
は、ガス量が多いときは中空回転体４６の下端からタン
クの処理液中へ気泡の形で放出される。放散された排気
ガスの気泡は処理液中を上昇することになるが、前記回
転ブラシ４２がモータ４５によって回転されているた
め、廃ガスの気泡は、回転するブラシ４７によって分断
されて微細化され、処理液との接触面積が増大する。

【００３６】この微細化された廃ガスの気泡は、旋回す
る処理液中を該処理液とともに回転しながらゆっくりと
上昇し、その上昇する間に廃ガス中に含まれる所要成分
が処理液に吸収・反応される。そして、処理液貯留タン
ク１１の上部空間に達した、所要成分を除去された排ガ
スは、煙突４９から大気へ放散される。このように、前
段の有害物処理装置４０Ａで処理された後の廃ガスが、
後段の他の有害物処理装置４０Ｂによっても所要成分が
除去されるので、排ガス中に含まれる所要成分を高精度
で除去できる。なお、上記した実施の形態では、他の有
害物処理装置４０Ｂを第１の実施の形態で説明した有害
物処理装置４０Ａの後段に接続させているが、これに限
られることなく、逆に、他の有害物処理装置４０Ｂを有
害物処理装置４０Ａの前段に接続させてもよく、さらに
他の有害物処理装置４０Ｂを単独で使用することも勿論
可能である。また、他の有害物処理装置４０Ｂで処理す
る対象物は、廃ガスに限られることなく、廃液、あるい
は、廃ガスと廃液との混合物でも勿論かまわない。

【００３７】＜発明の第３の実施の形態＞図８は本発明
の第３の実施の形態を示すものである。ここで示す第３
の実施の形態が前記した第１の実施の形態と大きく異な
るところは、第１の実施の形態では、廃ガス、廃液、ま
たは廃ガスと廃液の混合物がチャンバーの上部から導入
されてチャンバーの下部へ抜ける構造としたのに対し、
この第３の実施の形態では廃ガス等がチャンバーの下部
から導入されてチャンバーの上側へ抜けるように構成し
た点、並びに、第１の実施の形態では処理液と廃ガス等
とが混合された状態で複合エジェクタからチャンバー内
に噴射されるようにしているが、第３の実施の形態で
は、処理液と廃ガス等とは別々にチャンバー内に導入さ
れるようにした点である。

【００３８】有害物処理装置の具体的構造について説明
すると、タンク５０は、上部の廃ガス廃液吸収用のチャ
ンバー５１と下部の処理液貯留タンク５２とが一体的に
構成されたものであって、廃ガス廃液吸収用のチャンバ
ー５１の下部にはブロア５３ａが介装された廃ガス廃液
導入管５３が接続されると共に、廃ガス廃液吸収用のチ
ャンバー５１の上部には、ブロア５４ａが介装された排
ガス排出管５４が接続されている。また、廃ガス廃液吸
収用のチャンバー５１の下部であって、前記廃ガス廃液
導入管５３との接続部と対向する位置には処理液貯留タ
ンク５２の壁面に沿って旋回流を生じるような角度でエ
ジェクタ５５が配置されている。

【００３９】エジェクタ５５は、前記処理液貯留タンク
５２に接続された、ポンプ５６を有する処理液供給管５
７に分岐接続されたメインノズル５５ａと、このメイン
ノズルを囲むように設けられ、廃液供給管５８に接続さ
れた第１の補助ノズル５５ｂと、メインノズル５５ａの
下流側に設けられ、かつ、前記処理液供給管５７に分岐
接続された第２の補助ノズル５５ｃとから成っている。

【００４０】そして、このエジェクタ５５ではメインノ
ズル５５ａから処理液が噴射されるが、この噴射された
処理液ミストにはその下流側で第２の補助ノズル５５ｃ
から噴射される処理液が衝突し、これによって、処理液
ミストは細分化されてミストの表面積が拡大すると同時
に、噴射流の向きを幅広となるように変えられ、廃ガス
廃液導入管５３からの流れに横方向から噴射される。こ
の結果、前記廃ガス廃液導入管５３から供給される廃ガ
ス噴出粒子ミストと、エジェクタ５５からの粒子ミスト
の衝突、混合が起こり、両者の所要成分が、処理液中に
吸収溶解され易くなる。

【００４１】前記排気ガス吸収用のチャンバー５１に
は、下部から上部にかけて、気液接触用シェル層６０、
第１の金網６１、第２の金網６２、回転ブラシ６３が順
に設けられている。

【００４２】気液接触用シェル層６０は、気体、液体を
共に通過させ得るよう多数の貫通孔を有する支持板６０
ａ上に、多数の孔が形成された球状あるいは半球状のプ
ラスチックボール片６０ｂ，…を積層して構成されてい
る。

【００４３】第１の金網６１は、前記第１の実施の形態
で説明したものと同様に、その表面に処理液が供給され
たときに該処理液の幕を張るとともに、その幕に廃ガス
等が通過するだけの孔を形成するものである。また、第
１の金網６１から、気液接触シェル層６０へ落下する処
理液の分布を略均等に分散させることにより、気液接触
用シェル層６０内に略均等な量の処理液が分散して流れ
るように調節する。換言すれば、液の少なく抵抗の小さ
いところを選択してガス等が通過することを防止する。
なお、第２の金網６２も同様な構成である。

【００４４】回転ブラシ６３は、チャンバー５１の中心
に沿って上下方向に延びる中空軸６５の下端外周に回転
筒６６が同心状にかつ一体的に回転するように設けら
れ、この回転筒６６にブラシ６７が半径方向外方へ延び
るように、回転筒６６の全域にわたって取り付けられて
構成されている。また、回転筒６６には多数の噴射口６
６ａが形成されている。

【００４５】また、中空軸６５の上部は、チャンバー５
１の天井部を貫通して上方へ突出しており、そこにはプ
ーリ７０が取り付けられるとともに、その上端には処理
液受け用の皿部７１が設けられている。プーリ７０には
ベルト７２を介してモータ７３が連結されている。ま
た、皿部７１には、前記処理液供給管５７から分岐接続
された枝管が延びており、この枝管から処理液が供給さ
れるようになっている。また、図８に示すように、ブラ
シ上面に設けた孔１００へ液を放出する構造としてもよ
い。なお、このような孔１００を設ける場合、外部のゴ
ミが入らない、あるいは、中空軸６５が詰まっても液が
系外にこぼれない等の利点がある。

【００４６】回転ブラシ６３では、前記皿部７１へ供給
された処理液は中空軸６５内を通って中空軸６５の下方
へ至り、そこから中空軸６５の側壁に形成された連通孔
６５ａを通って、中空軸６５の外周面と回転筒６６で囲
まれる空間７４に至り、そこからさらに回転筒６６に形
成された前記複数の噴射孔６６ａ，…を通ってチャンバ
ー５１内に噴射されるようになっている。

【００４７】上記した有害物処理装置によれば、廃ガス
廃液吸収用チャンバー５１内に、廃ガス廃液導入管５３
から廃ガス等が導入されるとともに、エジェクタ５５か
ら処理液及び必要に応じて廃液が共に混入されて噴射さ
れる。ここで、エジェクタ５５から噴射される処理液は
ミスト状となっているため、廃ガス等に対して広い接触
面積を有し、該廃ガス等中の所要成分を効率良く吸収す
ることができる。廃ガス等は、気液接触用シェル層６
０、第１の金網６１、第２の金網６２等を順次通過して
チャンバー５１内の上部に至る。

【００４８】一方、前記処理液供給管５７から回転ブラ
シ４２へ処理液が供給されるが、供給された処理液は、
モータ７３が駆動することによってベルト７２、プーリ
７０を介して中空軸６５が回転され、これと一体的に回
転筒６６が回転する。この回転筒６６の回転により、前
記受け皿７１から供給される処理液は回転筒６６の噴射
口６６ａから放射方向へミスト状の形で放出されて、チ
ャンバー５１内に充満する。一方、廃ガス等は前記した
ようにチャンバー５１内で下方から上方へ流れる。つま
り、廃ガス等の流れと噴射液の噴射方向が直交する。こ
のため、両者が衝突、接触する確率が高くなり、廃ガス
等の所要成分が処理液中に効率よく吸収・溶解されるこ
ととなる。また、これと同時に、チャンバー５１の内壁
に衝突した処理液のミストが、回転ブラシ６３の回転に
伴いチャンバー５１内を旋回するため、ミスト状の処理
液の移動距離が長くなり、その分前記廃ガス等に含まれ
る所要成分が処理液中により吸収され易くなる。

【００４９】廃ガス等の所要成分を吸収した処理液ミス
トは、チャンバー５１の内壁に付着し、ある程度の大き
さに成長すると自重によって下方へ滴り、第２の金網６
２に流れる。ここでは幕を形成するとともに、幕の間に
成形される孔を前記下方から上方へ抜ける廃ガスと接触
し、ここでも廃ガス中に含まれる所要成分が処理液に吸
収・溶解される。なお、前記処理液ミストは前記チャン
バー５１の内壁を伝わることなく、第２の金網６２に直
接付着する場合もある。第２の金網６２に付着した処理
液は、直接下方へ垂れたりあるいはチャンバー５１の内
壁を通じて下方へ流れたりして、第１の金網６１に至
る。ここでも、幕を形成し、廃ガス等と接触してそこか
ら所要成分を吸収・溶解する。そして、廃ガス等に含ま
れる所要成分を吸収した処理液は、第１の金網６１から
下方へ流れて処理液貯留タンク５２に回収される。ま
た、所要成分が取り除かれた排ガスはチャンバー５１の
上部からブロア５４ａが介装された排ガス排出管５４を
介して大気へ放散される。

【００５０】なお、前記した第３の実施の形態では、排
気ガスと処理液とを別々にチャンバー５１内に供給して
いるが、第１の実施の形態で示したように、複合エジェ
クタを用いて予め混合させた状態でチャンバー５１内に
供給するようにしてもよい。また、前記した第１の実施
の形態、あるいは、第３の実施の形態では、処理液と排
気ガスとが接触する機会を多く得るためのメッシュとし
て金属製の網を利用しているが、これに限られることな
く、処理液に対抗できる性質のガラス繊維あるいはプラ
スチック性のメッシュを利用してもよい。

【００５１】

【発明の効果】以上説明したように本発明は以下の優れ
た効果を奏する。請求項１記載の発明によれば、回転ブ
ラシから噴射される処理液が回転ブラシに付設されたブ
ラシによって粉砕されて微細化されるため、チャンバー
内に導入される廃ガス等との接触面積を広くすることが
でき、もって、廃ガス等に含まれる所要成分の有害物の
溶解吸収効率を高めることができる。また、回転ブラシ
の回転に伴い、チャンバー内の廃ガス等と処理液との気
液混合物を旋回させ、処理液のミスト粒子をチャンバー
の内壁に接触させて付着させて下方の処理液貯留タンク
へ回収できる。このため、処理液の循環サイクルが良好
となり、この点からも廃ガス等に含まれる所要成分の有
害物の溶解吸収効率を高めることができる。請求項２記
載の発明によれば、エジェクタから処理液を噴射させる
時点で、廃ガス等を処理液の噴射流中に混入させること
ができ、廃ガス等と処理液とが接触する機会を多く与え
ることによって、廃ガス等に含まれる所要成分の吸収効
率をより高めることができる。また、廃ガス等をエジェ
クタにより吸い込みながら処理液ミスト中に混入させた
状態で噴射させるので、廃ガス等をチャンバー内に導入
するのに、ブロア等の特別な搬送装置が不要となる。請
求項３記載の発明によれば、メイン噴射ノズルから処理
液と廃ガス等とを混合させた状態で噴射するとともに、
その気液混合物の噴射流に交差するように補助噴射ノズ
ルから処理液を噴射するので、メイン噴射ノズルから噴
射される廃ガス等と処理液との気液混合物の噴射流が、
補助噴射ノズルからの処理液ミストの衝突によって、噴
射流中に含まれる処理液ミストの破砕、細分化および混
合が促進され、この結果、処理液と廃ガス等とをより広
い接触面積で接触させることができる。請求項４記載の
発明によれば、回転ブラシを支持する中空軸及びその端
部に設けられた羽根によって回転ブラシへ処理液を供給
する処理液供給手段を構成しているので、独立したポン
プを用いて処理液を圧送する場合に比べて、部品点数の
削減と構成の簡素化が実現できる。請求項５記載の発明
によれば、チャンバーにメッシュを配置しているので、
このメッシュによっても処理液と廃ガス等との接触面積
を稼ぐことができ、廃ガス等に含まれる所要成分の吸収
効率を高めることができる。また、シェル全面に処理液
を分散して散布できるので、処理液が少ない部分すなわ
ち流路抵抗が小さい部分をガスが流れることを防止でき
る。請求項６記載の発明によれば、チャンバー内にシェ
ル層を設けているので、このシェル層によっても、処理
液と廃ガス等との接触面積を稼ぐことができ、廃ガス等
に含まれる所要成分の吸収効率を高めることができる。
請求項７記載の発明によれば、処理液中で回転ブラシを
廻しながら、該回転ブラシから廃ガス等を噴射させるの
で、処理液中に噴射される廃ガス等の気泡を微細化する
ことができ、廃ガス等に含まれる所要成分の有害物の吸
収効率を高めることができる。請求項８記載の発明によ
れば、異なるタイプの有害物処理装置を直列的に接続さ
せているので、気体中で除去できなかった成分を液中で
より厳密に効率よく除去できる。請求項９記載の発明に
よれば、回転ブラシから噴射される処理液の流れと廃ガ
ス等の流れを、ともに略直交流とすることができ、廃ガ
ス等をまず飽和状態に近い処理液に接触させて、最後に
飽和状態にほど遠く成分吸収力のある処理液に接触させ
ることができるので、廃ガス等から所要成分の有害物を
高精度で除去することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態を示す有害物処理装
置の縦断面図である。

【図２】図１のＡーＡ線に沿う拡大図である。

【図３】図１のＢーＢ線に沿う矢視図である。

【図４】図１のＣ矢視図である。

【図５】前記有害物処理装置に組み込まれる金網の斜視
図である。

【図６】本発明の第２の実施の形態を示す有害物処理装
置の一部を断面した側面図である。

【図７】前記した第２の実施の形態の有害物処理装置の
後段側の装置を説明する断面図である。

【図８】本発明の第３の実施の形態を示す有害物処理装
置の縦断面図である。

【図９】従来の有害物処理装置の縦断面図である。

【符号の説明】

１０ チャンバー １１ 処理液貯留タンク １３ 廃ガス廃液導入管（廃ガス廃液導入部） １４ 複合エジェクタ １５ メイン噴射ノズル １６ 補助の噴射ノズル ２０ 回転ブラシ ２１ 中空軸 ２４ モータ（回転ブラシを回転させる回転手段） ２６ ポンプ用の羽根（処理液供給手段） ３０ 金網（メッシュ） ３２ 煙突（排気ガス排出部） ４１ 処理液貯留タンク ４２ 回転ブラシ ４５ モータ（回転ブラシを回転させる回転手段） ４９ 煙突（排ガス排出部） ５３ 廃ガス廃液導入管（廃ガス廃液導入部） ５４ 排ガス排出管（排ガス排出管） ６０ シェル層

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 上部に処理対象となる有害物を含む廃ガ
   スまたは廃液の少なくとも一方を導入するための廃ガス
   廃液導入部（１３）が設けられるとともに、下部に所要
   成分除去後の排ガスを外部へ排出する排ガス排出部（３
   ２）が設けられたチャンバー（１０）と、 該チャンバーの下方に設けられ、かつ、前記廃ガスまた
   は廃液の少なくとも一方と接触されてそれらから所要成
   分の有害物を除去する処理液を貯留する処理液貯留タン
   ク（１１）と、 前記チャンバーに回転自在に設けられ、かつ、前記処理
   液タンクから処理液供給手段（２６）を介して供給され
   る前記処理液を放射方向へ噴射する多数の噴射口（２２
   ａ）を有する回転ブラシ（２０）と、 前記回転ブラシを回転させる回転手段（２４）とを備え
   てなる有害物処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載の有害物処理装置におい
   て、 チャンバーの上部に設けられる前記廃ガス廃液導入部に
   は、前記処理液が導入されて該処理液と廃ガスまたは廃
   液の少なくとも一方とを混合させた状態で噴射するエジ
   ェクタ（１４）が設けられていることを特徴とする有害
   物処理装置。
3. 【請求項３】 請求項２記載の有害物処理装置におい
   て、 前記エジェクタ（１４）は、前記処理液が導入されて該
   処理液と廃ガスまたは廃液の少なくとも一方とを混合さ
   せた状態で噴射するメイン噴射ノズル（１５）と、該メ
   イン噴射ノズルの先方に設けられ、該メイン噴射ノズル
   の吹き出し方向と交差するように所定の傾斜角をもって
   かつ該メイン噴射ノズルを間にしてその両側に対向配置
   されて前記処理液を噴射する補助の噴射ノズル（１６，
   …）とを備える複合エジェクタによって構成されている
   ことを特徴とする有害物処理装置。
4. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかに記載の有害物
   処理装置において、 前記処理液供給手段は、回転ブラシを支持する上下方向
   に延びる中空軸（２１）と、該中空軸の下方であって前
   記処理液タンク内に浸される部分に中空軸と一体的に回
   転するように設けられたポンプ用の羽根（２６）によっ
   て構成されていることを特徴とする有害物処理装置。
5. 【請求項５】 請求項１〜４のいずれかに記載の有害物
   処理装置において、 前記チャンバー内であって、前記回転ブラシよりも下方
   で前記排ガス排出部の上方には、チャンバーを上下方向
   に仕切るメッシュ（３０）が設けられていることを特徴
   とする有害物処理装置。
6. 【請求項６】 請求項１〜５のいずれかに記載の有害物
   処理装置において、 前記チャンバー内であって、前記回転ブラシよりも下方
   で前記排ガス排出部の上方には、前記廃ガスまたは廃液
   の少なくとも一方と処理液との接触面積を広くするため
   のシェル槽（６０）が設けられていることを特徴とする
   有害物処理装置。
7. 【請求項７】 処理対象となる廃ガスまたは廃液の少な
   くとも一方と接触されてそれらから所要成分の有害物を
   除去する処理液を貯留する処理液貯留タンク（４１）
   と、 前記処理液貯留タンクに回転自在に設けられ、かつ、前
   記処理対象となる廃ガスまたは廃液の少なくとも一方が
   導入されてそれらを噴射する多数の噴射口（４６ａ）を
   有する回転ブラシ（４２）と、 回転ブラシを回転させる回転手段（４５）と、 前記処理液貯留タンクの上部に設けられ、所要成分除去
   後の排ガスを外部へ排出する排ガス排出部（４９）とを
   備えていることを特徴とする有害物処理装置。
8. 【請求項８】 請求項１〜６のいずれかに記載の有害物
   処理装置と、請求項７記載の有害物処理装置とが直列的
   に接続されていることを特徴とする有害物処理装置。
9. 【請求項９】 請求項１〜６のいずれかに記載の有害物
   処理装置において、 前記チャンバーの上部には廃ガス廃液導入部に代えて排
   ガス排出部（５４）が設けられるとともに、チャンバー
   の下部には排ガス排出部に代えて廃ガス廃液導入部（５
   ３）が設けられていることを特徴とする有害物処理装
   置。