JPH1055558A - 光ディスク原盤記録装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】従来の光ディスク原盤記録装置は、光源に短波
長レーザ等を用いていたため、光自身の持つ回折という
物理的性質から微細化の限界は、０．１５ミクロンと言
われており、それ以降の微細化の目途はたっていない。 【解決手段】真空状態のチャンバ８内で励起した電子ビ
ームを高速偏向して、陽極回転型Ｘ線管１２に照射し、
この陽極回転型Ｘ線管１２で発生させたＸ線をフレネル
レンズ１６で収束させ、高純度Ｈｅ雰囲気のチャンバ１
９内を通過させて、動圧型スライダ１８によって支持さ
れるＸ線マスク１７に到達させる。動圧型スライダ１８
は、光ディスク原盤１の回転による動圧を利用し、Ｘ線
マスク１７と光ディスク原盤１を微小ギャップに保ち、
前記高速偏向されＸ線マスク１７から照射される高強度
のＸ線により、光ディスク原盤１上に０．１５μｍ以下
の微小ピットを形成できる光ディスク原盤記録装置であ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、記録用光源として
Ｘ線を用いて光ディスク原盤等に情報を記録する光ディ
スク原盤記録装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、光ディスクは大量な情報を光学
的に記録・読出しすることが可能で、情報化杜会を支え
る大容量の記憶媒体として知られている。今後は、さら
に記憶容量の増大が望まれており、５インチのディスク
で１０Ｇbyte程度の高密度の光ディスクが望まれてい
る。このような光ディスクを製造するためには、まず、
マスターとなるガラス原盤に現在よりさらに狭いトラッ
クピッチで、記録情報に基づく微細なピッ卜を形成した
光ディスク原盤を作成することが不可欠となる。

【０００３】図６に従来の光ディスク原盤記録装置の構
成例を示す。この光ディスク原盤記録装置は、定盤１０
１上にエアスピンドル１０２が固定され、光ディスク原
盤１０３を着脱可能とするターンテーブル１０４が取り
付けられる。このターンテーブル１０４は、静圧空気ガ
イドによって案内されるスピンドルモータ１１２によっ
て高速に定回転する。

【０００４】そして、例えば、モータとボールネジ若し
くは、リニアモータ等により、一軸方向ａに移動可能
で、静圧軸受けガイド１０５によりガイドされるスライ
ダ１０６が配置される。そのスライダ１０６の端部に
は、合焦機能を有する記録用対物レンズ１０７や導入光
学系（折り返し用ミラ−）１０８が備えられている。

【０００５】また、定盤１０１上には記録用レーザ本体
１０９が固定され、出射されたレーザ光１１０は、拡大
光学系やＡＯＭ、ＥＯＭ等からなるレーザ用光学系１１
１を通ってスライダ端部に導かれ、導入光学系１０８、
対物レンズ１０７を介して、レジストが塗布された光デ
ィスク原盤１０３面で結像し、露光がおこなわれる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】通常、光ディスクの記
憶容量の大容量化を実現するためには、大容量化とピッ
トサイズとが密接にリンクするため、ピットサイズをい
かに小さく形成するかが鍵となる。従って、マスクとし
て使用されるディスク原盤を作成する場合にもピットサ
イズの微細化が重要な課題となる。

【０００７】図６で示したような従来の光ディスク原盤
記録装置では、露光に使用する光源に短波長レーザ等の
光を用いている。しかし、光自身の持つ回折という物理
的性質から、一般的にはその波長に比例した解像限界を
持つことになる。このため、より波長の短いレーザ光を
使った光ディスク原盤記録装置の開発が行われている。
しかし、仮にＡｒ+ イオンレーザのＳＨＧ（第２高調
波）を使ったとしても、微細化の限界は、０．１５ミク
ロンと言われており、それ以降の微細化の目途はたって
いない。

【０００８】また、０．１５ミクロン以下のピットサイ
ズ形成が可能な光ディスク原盤記録装置には、従来から
用いられてきたようなレーザ光の短波長化だけでは十分
ではない。

【０００９】そこで本発明は、光ディスク原盤の記録面
に、微細なサイズのピットを形成し、高密度に情報を記
録する光ディスク原盤を製造可能な光ディスク原盤記録
装置を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、光ディスクを製造するための光ディスク原
盤を作成するディスク原盤記録装置において、前記光デ
ィスク原盤を装着して回転する回転機構を搭載し、前記
光ディスク原盤の外周と中心を結ぶ一軸方向に、定盤上
で移動可能なスライダ手段と、 チャンバ内に設置され
た電子ビーム発生部及び、前記電子ビーム発生部が発生
した電子ビームの照射を受け、Ｘ線を発生するＸ線発生
部とからなるＸ線発生手段と、前記Ｘ線発生手段が発生
したＸ線をＸ線低減衰雰囲気内で所定径に絞り込み、前
記回転機構上の光ディスク原盤に照射する照射手段と、
前記Ｘ線を予め定めた径に絞り込むＸ線マスクと、前記
Ｘ線マスクを支持するヘッド部と、前記ヘッド部をＸ線
の放射方向に移動可能に弾性的に支持し、回転する前記
光ディスク原盤と前記Ｘ線マスクとの間隔を、前記弾性
的に支持する力と相対移動で発生する動圧効果による力
とのバランスによって、非接触で近接した一定のギャッ
プで保持する動圧型スライダ手段と、前記電子ビーム発
生部が発生した電子ビームを任意の方向に偏向可能で、
前記Ｘ線発生部までの電子ビームの到達を書き込むべき
情報に基づき制御し、Ｘ線の発生をオン・オフする制御
手段とを備えた光ディスク原盤記録装置を提供する。

【００１１】以上のような構成の光ディスク原盤記録装
置は、回転機構により回転される光ディスク原盤とヘッ
ド部との相対移動の際に生じる動圧効果による力と、ヘ
ッド部を支持する弾性力とのバランスによって、ヘッド
部は光ディスク原盤に対して、非接触で限りなく近接し
て浮上走行する。そしてヘッド部のＸ線マスクから光デ
ィスク原盤上に微小なピットを形成するための微小スポ
ット化された高強度Ｘ線が制御手段により高速に変調し
て照射され、０．１５ミクロン以下の微細ピットが形成
される。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態について詳細に説明する。図１には、本発明によ
る光ディスク原盤記録装置の第１の実施形態を示し、説
明する。但し、図１に示した光ディスク原盤記録装置
は、本発明の特徴となる構成部分のみを示しており、書
き込むべき情報を制御する制御部や電源等は図示してい
ないが、一般的な構成のものが備えられているものとす
る。

【００１３】この光ディスク原盤記録装置は、大きく
は、光ディスク原盤１に所定の回転速度を与える回転駆
動部２を搭載して、一軸方向（矢印ａ）に移動可能なス
ライダ５と、情報を光ディスク原盤１に書き込むヘッド
部３とで構成され、それぞれ定盤４上に配置される。
前記回転駆動部２は、前記スライダ５上に設けられた所
定の回転速度で回転を行うエアスピンドル６と、該エア
スピンドル６の回転部上に一体的に設けられ、真空吸着
により光ディスク原盤１をチャックするターンテーブル
７とで構成される。

【００１４】前記ヘッド部３は、例えば、ステンレス等
のアウトガス発生の少ない部材からなる真空状態のチャ
ンバ８と、そのチャンバ８の外壁面に取り付けられ、電
子線（電子ビーム）９を発生させてチャンバ内に照射す
る電子銃１０と、該チャンバ８内に設けられ、照射され
る電子ビーム９の照射方向を偏向する磁石等からなる偏
向器１１と、該チャンバ８内で電子銃１０と対向して設
けられ、照射された電子ビームからＸ線を発生させるＸ
線発生装置１２と、該Ｘ線発生装置１２のＸ線発生部の
所定位置に電子ビーム９が照射するように且つ、偏向さ
れた電子ビーム９が到達しないようにするためにマスク
として機能するピンホール１３が形成された窓部１４
と、チャンバ８内の真空状態を保ち、外部へＸ線を取り
出すための窓となるベリリウム（Ｂｅ）からなるＢｅ窓
１５と、前記Ｘ線発生装置から散乱して出てくるＸ線を
集光させるために、Ｂｅ窓１５の前若しくは後に配置さ
れる透過型のフレネルレンズ（フレネル格子）１６と、
光ディスク原盤１上に配置され、後述するＸ線マスク１
７を備え、片側若しくは両側からバネ２１によりバネ支
持される動圧型スライダ１８と、Ｘ線マスク１７からＢ
ｅ窓１５までの空間が高純度Ｈｅ雰囲気となるように、
ＨｅパージされているＨｅチャンバ１９と、Ｈｅパージ
状態を保持し、動圧型スライダ１８の動きが損なわれな
いように設けられる耐Ｘ線のゴムシール２０とで構成さ
れる。前記チャンバ８には、図示しない排気系が設けら
れてもよい。

【００１５】前記フレネルレンズ１６は、Ｘ線発生装置
１２が散乱して発生させるＸ線を有効利用するために、
フレネル型の透過回折格子をＢｅ窓の前か後ろに配置
し、Ｘ線を収束光にして、Ｘ線マスク１７上でのＸ線強
度を高めるものである。なお、必要なＸ線強度が得られ
る場合には、フレネルレンズは設けなくともよい。

【００１６】このような構成において、前記Ｘ線発生装
置１２には、一般的な陽極回転型Ｘ線発生管を用いる。
これは、真空中で高速回転する円錐状のタングステン体
に電子銃から電子ビームを打ち込みＸ線を発生するもの
である。また、前記フレネル格子１６は、Ｂｅ窓１５上
に密着して成されていてもよい。

【００１７】図２は、図１に示した本実施形態に用いら
れるＸ線マスクとそれを支持する動圧型スライダの構成
例を示す。この動圧型スライダ１８は、Ｂｅ窓１５が形
成されたチャンバ８の壁部８ａ若しくは、図１に示すよ
うにＨｅチャンバ１９に取り付けられたダンパーとして
機能するバネ２１に片持ち支持されるように設けられて
いる。勿論、本実施形態では、１つのバネ２１による片
持ち支持であるが、これがバネ２１を複数用いた両側か
らの支持でも良し、Ｂｅ窓１５は長方形であるが、これ
に限定されるものではない。

【００１８】前記動圧型スライダ１８のヘッド部に支持
されるＸ線マスク１７は、ＳｉＮやＳｉＣなどの比較的
Ｘ線を透過させやすい薄膜によって形成される。その薄
膜上には、タンタルや金等の重金属を蒸着させ、該重金
属膜に、光ディスク原盤面上に微小なピットを形成する
ためのＸ線を透過させる微小なスポット（孔）を形成す
る。前記重金属膜は、Ｘ線を透過させない機能を有する
ものであれば、他のものを代用しても良い。

【００１９】このＸ線マスク１７に形成された微小なス
ポットと同じ形状のスポットがレジストを塗布した光デ
ィスク原盤面上に転写されることになる。また、Ｈｅチ
ャンバ１９は、例えば、１atm 程度の高純度Ｈｅ雰囲気
となるように、Ｈｅパージされている。

【００２０】この動圧型スライダ１８は、回転する光デ
ィスク原盤１に近接すると、相対移動の関係で、これら
の間にバネ２１による力と動圧とのバランス力が働き、
動圧型スライダ１８と光ディスク原盤１は接触せずに、
わずかな微小ギャップで保持される。つまり、動圧型ス
ライダ１８は、光ディスク原盤１上を極低浮上した状態
で走行する。この状態で情報の書き込み、即ち、ピット
の形成が行われる。

【００２１】次に、本実施形態の光ディスク原盤記録装
置による光ディスク原盤への情報記録について説明す
る。一般に、０．１５ミクロン以下の微小ピット形成が
可能な光ディスク原盤記録を構成するためには、新た
に、（１）微小スポット形成技術、（２）高速変調方
式、（３）高強度Ｘ線の確保が必要となる。

【００２２】そこで本実施形態においては、以下の構成
を有している。 （１）微小スポットを形成するために、Ｘ線を用いた微
細加工を採用して、微細なＸ線透過窓を持つＸ線マスク
１７と光ディスク原盤１のギャップを狭くするほど、解
像度は向上すると考えられる。

【００２３】そこで、前述したように、ＨＤＤのピック
アップとして用いられる動圧型スライダ１８によって、
Ｘ線マスク１７を支持し、光ディスク原盤１の回転によ
る動圧を利用した微小ギャップでＸ線マスク１７と光デ
ィスク原盤１を保つ。

【００２４】そして、Ｘ線マスク１７に形成されたスポ
ットを透過したＸ線が微小ギャップを経て、光ディスク
原盤１に塗布されたレジストに照射され、情報が光ディ
スク原盤１の記録面上に高解像度で転写される。以後
は、通常の処理工程により光ディスク原盤１の作成を行
う。

【００２５】（２）光ディスク原盤１に情報を記録する
には、光ディスク原盤１に長短のピットを形成する。そ
のためには、照射するＸ線に情報を待たせる、即ち、高
速なスイッチング（変調）によるＸ線の照射，未照射が
要求される。

【００２６】しかし、シャッタとして機能してＸ線を透
過・不透過することができる好適な変調素子はなく、本
実施形態では、Ｘ線光源として陽極回転型Ｘ線発生管を
用いて、そのＸ線発生部に照射される電子ビーム９の照
射方向を偏向器１１によって高速に偏向し、若しくは、
電子ビームをＯＮ/ ＯＦＦして、ピンホール１３からず
らし、Ｘ線発生部に到達しないように制御して、Ｘ線の
変調を行う。このような偏向により、Ｘ線に情報を待た
せることができる。

【００２７】（３）高速なスイッチングによる記録を可
能とするためには、短時間でピット形成を行う高強度の
Ｘ線が必要となる。一般に、Ｘ線は空気中での減衰が激
しいことから、Ｘ線の進行する雰囲気をＸ線低減衰雰囲
気、即ち、Ｘ線の通り道を真空にする、若しくは、高純
度のＨｅ雰囲気にする必要がある。本実施形態の動圧型
スライダ１８を使用するためには、雰囲気は必ず気体で
なければならないので、装置メンテナンスのし易さを考
慮して、Ｈｅチャンバ１９内を高純度Ｈｅで満たし、真
空中のＸ線発生管が発生させたＸ線は、Ｈｅチャンバ内
にＢｅ窓によって導入され、Ｘ線マスクまでＨｅ雰囲気
内を通過させる。

【００２８】また、前記フレネルレンズ１６により、散
乱したＸ線を収束して、Ｘ線マスク１７上でのＸ線強度
を高めているので、記録時間の短縮が達成される。次に
図３には、本発明による第２の実施形態として、光ディ
スク原盤記録装置のＸ線の変調方式について説明する。

【００２９】前述した図１に示したＸ線の変調方式は、
偏向器１１で照射される電子ビーム９の照射方向を偏向
して、Ｘ線発生装置１２から発生したＸ線が到達しない
ように構成したが、本実施形態では、図３に示すような
庄電素子２１で駆動される、ピンホールを有する可動シ
ャッタ（可動マスク）２２と、この可動シャッタ２２の
ピンホールと、同じ径かそれ以下の径のピンホールが形
成された固定シャッタ（固定マスク）２３とが、これら
のピンホールが一軸上に並び、Ｘ線マスク１７の微小ス
ポットを通過するように重ねられて、Ｈｅチャンバ１９
内のＢｅ窓１５と動圧型スライダ１８との間に取り付け
られる。前記可動シャッタ２２と固定シャッタ２３は、
Ｘ線を吸収する若しくは、不通過の特性を有する材料で
形成される。

【００３０】これらのシャッタにおいて、開時は、可動
シャッタ２２と固定シャッタ２３の各ピンホールが１軸
上に並び、図１に示したＢｅ窓１５を透過してきたＸ線
をビーム状にして、Ｘ線マスク１７に微小スポットで照
射する。閉時には、圧電素子２１に電圧を印加し、予め
定めた任意の方向に伸縮させ、可動シャッタ２２のピン
ホールの位置をずらす。これにより、固定シャッタ２３
を通過したビーム状のＸ線は、可動シャッタ２２のピン
ホール以外の面で吸収され、Ｘ線マスク１７まで到達さ
れない。

【００３１】このような圧電素子２１をシャッタ駆動部
として用いて、印加する電圧信号を情報に基づいて生成
することにより、Ｘ線がＸ線マスク１７まで到達するか
否かを制御して、光ディスク原盤に所望するピットを形
成することができる。

【００３２】次に、図４には、本発明による光ディスク
原盤記録装置の第３の実施形態を示し、説明する。但
し、図４に示した光ディスク原盤記録装置は、本発明の
特徴となる構成部分のみを示しており、書き込むべき情
報を制御する制御部や電源等は図示していないが、一般
的な構成で備えられているものとする。

【００３３】前述した第１の実施形態では、電子銃１０
とＸ線発生装置１２との組み合わせにより、Ｘ線を発生
させたが、本実施形態では、Ｘ線源として、ＳＯＲ( Sy
nchrotron Orbital Radiation ) リング３１を用いる。
このＳＯＲリング３１から分岐され、照射されるＸ線
は、水平に放射されるため、スライダやスピンドルは、
縦方向に移動するために、すべて縦型配置となる。

【００３４】すなわち、図４に示すように、定盤３２上
に固定された縦型スライダ３３は、光ディスク原盤３４
を真空吸着するターンテーブル３６と一体的に設けられ
たエアスピンドル３５を搭載する。

【００３５】前記ＳＯＲリング３１には、リング本体か
ら分岐され、真空状態に保たれたビームライン３７が設
けられる。ビームライン３７には、リング本体で加速さ
れた電子が減速された際に発生したＸ線ビームを取り出
すためのＸ線透過窓３８が設けられている。さらに、そ
のＸ線透過窓３８に密着するように、即ち、空気などに
よる損失がない状態に取り付けられた、図１に示したと
同様なＨｅチャンバ３９が設けられている。

【００３６】このＨｅチャンバ３９は、Ｘ線透過窓３８
からのＸ線を取り込むＢｅ窓４０と、動圧型スライダ４
１と、該動圧型スライダ４１をバネ支持するバネ４２
と、Ｈｅパージ状態を保持し、動圧型スライダ４１の動
きが損なわれないように設けられる耐Ｘ線のゴムシール
４３とで構成される。尚、ＳＯＲリングが発生させるＸ
線は、指向性が高く、Ｘ線強度が高いため、透過型のフ
レネルレンズ（フレネル格子）は設けなくともよい。

【００３７】このような構成による光ディスク原盤への
Ｘ線の照射について説明する。まず、ＳＯＲリング３１
から取り出されてビームライン３７及びＸ線透過窓３８
ＸからＢｅ窓４０を経て、Ｈｅチャンバ内に指向性の強
いＸ線が取り込まれる。Ｘ線は、高純度Ｈｅ雰囲気のＨ
ｅチャンバ内を通り、動圧型スライダ４１のＸ線マスク
４４に照射される。

【００３８】そして、前述したように光ディスク原盤３
４の回転による動圧を利用して、Ｘ線マスク４４と光デ
ィスク原盤が微小ギャップで保たれる。そして、Ｘ線の
変調は、ＳＯＲリング３１内を移動する加速電子をＳＯ
Ｒリング３１内に設けた電磁偏光器４５によって、移動
方向を変え、Ｂｅ窓４０まで到達するＸ線のＯＮ／ＯＦ
Ｆを制御する。

【００３９】次に、図５には、本発明による第４の実施
形態について説明する。本実施形態は、前述した第２の
実施形態の変形例であり、第２の実施形態では、一度に
１ラインの記録であったが、本実施形態では、図５
（ａ）に示すように、３列のピットを同時に形成するこ
とができるものである。この場合のピット列は、例え
ば、同心円状のピット列であり、螺旋状のピット列を形
成する場合には、ヘッド部のアクセスを螺旋が形成でき
るように移動制御する。

【００４０】本実施形態は、Ｘ線マスク５１として、複
数の、例えば３つの微小スポットが光ディスク原盤１の
半径方向に等間隔で並んで形成された動圧型スライダ５
０と、それぞれが独立して動作する圧電素子５２ａ，５
２ｂ，５２ｃと、それらの圧電素子に設けられた可動シ
ャッタ５３ａ，５３ｂ，５３ｃと、３つのピンホール５
４ａ，５４ｂ，５４ｃが設けられた固定シャッタ５４と
で構成される。

【００４１】このような構成により、Ｘ線を照射するラ
インが光ディスク原盤１の半径方向に等間隔で並んで３
列設けられ、各圧電素子５２ａ，５２ｂ，５２ｃに書き
込む情報に基づく制御信号を印加することで、光ディス
ク原盤面上に照射するＸ線は、それぞれ独立して変調す
ることができる。

【００４２】従って、長方形状のＸ線５５を発生させ、
それぞれのシャッタに照射すると、光ディスク原盤面に
は、図５（ｂ）に示すような３個のピットパターン５６
ａ，５６ｂ，５６ｃが同時に形成されることになり、光
ディスク原盤への報記録時間の大幅な短縮を実現するこ
とができる。本実施形態では、同時に３個のピット形成
を例としたが、これに限定されるものではなく、任意に
構成することができる。

【００４３】

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、光
ディスク原盤の記録面に、微細なサイズのピットを形成
し、高密度に情報を記録する光ディスク原盤を製造可能
な光ディスク原盤記録装置を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による光ディスク原盤記録装置の第１の
実施形態の構成例を示す図である。

【図２】第１の実施形態に用いられるＸ線マスクとそれ
を支持する動圧型スライダの構成例を示す図である。

【図３】第２の実施形態としての光ディスク原盤記録装
置のＸ線の変調方式について説明するための図である。

【図４】本発明による光ディスク原盤記録装置の第３の
実施形態の構成例を示す図である。

【図５】図５（ａ），（ｂ）は、本発明による光ディス
ク原盤記録装置の第４の実施形態の構成例を示す図であ
る。

【図６】従来の光ディスク原盤記録装置の構成例を示す
図である。

【符号の説明】

１…光ディスク原盤 ２…回転駆動部 ３…ヘッド部 ４…定盤 ５…スライダ ６…エアスピンドル ７…ターンテーブル ８…チャンバ ９…電子線（電子ビーム） １０…電子銃 １１…偏向器 １２…Ｘ線発生装置 １３…ピンホール １４…窓部 １５…Ｂｅ窓 １６…フレネルレンズ（フレネル格子） １７…Ｘ線マスク １８…動圧型スライダ １９…Ｈｅチャンバ ２０…ゴムシール ２１…バネ

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光ディスクを製造するための光ディスク
   原盤を作成するディスク原盤記録装置において、 Ｘ線を発生させるＸ線発生手段と、 前記Ｘ線発生手段が発生したＸ線を所定径に絞り込み、
   前記光ディスク原盤に照射する照射手段と、を具備する
   ことを特徴とする光ディスク原盤記録装置。
2. 【請求項２】 光ディスクを製造するための光ディスク
   原盤を作成するディスク原盤記録装置において、 前記光ディスク原盤を装着して回転する回転機構を搭載
   し、前記光ディスク原盤の外周と中心を結ぶ一軸方向
   に、定盤上で移動可能なスライダ手段と、 チャンバ内に設置された電子ビーム発生部及び、前記電
   子ビーム発生部が発生した電子ビームの照射を受け、Ｘ
   線を発生するＸ線発生部とからなるＸ線発生手段と、 前記Ｘ線発生手段が発生したＸ線をＸ線低減衰雰囲気内
   で所定径に絞り込み、前記回転機構上の光ディスク原盤
   に照射する照射手段と、 前記電子ビーム発生部が発生した電子ビームを任意の方
   向に偏向可能で、前記Ｘ線発生部までの電子ビームの到
   達を書き込むべき情報に基づき制御し、Ｘ線の発生をオ
   ン・オフする制御手段と、を具備することを特徴とする
   光ディスク原盤記録装置。
3. 【請求項３】 光ディスクを製造するための光ディスク
   原盤を作成するディスク原盤記録装置において、 前記ディスク原盤を装着して回転する回転機構を搭載
   し、前記光ディスク原盤の外周と中心を結ぶ一軸方向
   に、定盤上で移動可能なスライダ手段と、 Ｘ線を発生させるＸ線発生手段と、 前記Ｘ線発生手段が発生したＸ線をＸ線低減衰雰囲気内
   で所定径に絞り込み、前記回転機構上の光ディスク原盤
   に照射する照射手段と、 前記照射手段と前記光ディスク原盤との間に配設され、
   駆動手段により移動可能な可動シャッタを有し、書き込
   むべき情報に基づき該可動シャッタを移動させ、前記照
   射手段により絞り込まれたＸ線の照射を遮光若しくは透
   過させることにより、Ｘ線マスクを経て、光ディスク原
   盤に到達するＸ線の照射をオン・オフ制御する制御手段
   と、を具備することを特徴とする光ディスク原盤記録装
   置。
4. 【請求項４】 前記照射手段は、 前記Ｘ線発生手段が発生したＸ線を収束させる収束手段
   を備えてなることを特徴とする請求項１乃至記載の請求
   項３のいずれか１つに記載の光ディスク原盤記録装置。
5. 【請求項５】 前記Ｘ線を予め定めた径に絞り込むＸ線
   マスクと、 前記Ｘ線マスクを支持するヘッド部と、 前記ヘッド部をＸ線の放射方向に移動可能に弾性的に支
   持し、回転する前記光ディスク原盤と前記Ｘ線マスクと
   の間隔を、前記弾性的に支持する力と相対移動で発生す
   る動圧効果による力とのバランスによって、非接触で近
   接した一定のギャップで保持する動圧型スライダ手段
   と、を具備し、 前記ギャップ保持時に情報が前記光ディスク原盤に記録
   されることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれ
   か１つに記載の光ディスク原盤記録装置。
6. 【請求項６】 前記収束手段にフレネル格子を用いたこ
   とを特徴とする請求項４記載の光ディスク原盤記録装
   置。
7. 【請求項７】 前記Ｘ線マスクは、Ｘ線を透過させやす
   い薄膜と、Ｘ線が不透過な重金属膜との積層で構成さ
   れ、前記重金属膜に、光ディスク原盤面上に形成するべ
   きピット径のＸ線を透過させる孔を有することを特徴と
   する請求項３記載の光ディスク原盤記録装置。
8. 【請求項８】 前記可動シャッタは、前記光ディスク原
   盤の外周と中心を結ぶ方向に、複数配列され、それぞれ
   が個々に記録動作可能に設けられることを特徴とする請
   求項３記載の光ディスク原盤記録装置。