|
SE511721C2
(sv)
*
|
1997-06-18 |
1999-11-15 |
Ericsson Telefon Ab L M |
Substrat för integrerade högfrekvenskretsar samt förfarande för substratframställning
|
|
EP1214737B1
(en)
*
|
2000-03-03 |
2011-06-01 |
Nxp B.V. |
A method of producing a schottky varicap diode
|
|
EP1139434A3
(en)
*
|
2000-03-29 |
2003-12-10 |
Tyco Electronics Corporation |
Variable capacity diode with hyperabrubt junction profile
|
|
US6995068B1
(en)
*
|
2000-06-09 |
2006-02-07 |
Newport Fab, Llc |
Double-implant high performance varactor and method for manufacturing same
|
|
DE10032389A1
(de)
*
|
2000-07-06 |
2002-01-17 |
Philips Corp Intellectual Pty |
Empfänger mit Kapazitätsvariationsdiode
|
|
US6521939B1
(en)
|
2000-09-29 |
2003-02-18 |
Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd. |
High performance integrated varactor on silicon
|
|
US6933774B2
(en)
*
|
2000-11-28 |
2005-08-23 |
Precision Dynamics Corporation |
Rectifying charge storage element with transistor
|
|
US6859093B1
(en)
|
2000-11-28 |
2005-02-22 |
Precision Dynamics Corporation |
Rectifying charge storage device with bi-stable states
|
|
US7031182B2
(en)
*
|
2000-11-28 |
2006-04-18 |
Beigel Michael L |
Rectifying charge storage memory circuit
|
|
US6982452B2
(en)
*
|
2000-11-28 |
2006-01-03 |
Precision Dynamics Corporation |
Rectifying charge storage element
|
|
US6414543B1
(en)
|
2000-11-28 |
2002-07-02 |
Precision Dynamics Corporation |
Rectifying charge storage element
|
|
US6924691B2
(en)
*
|
2000-11-28 |
2005-08-02 |
Precision Dynamics Corporation |
Rectifying charge storage device with sensor
|
|
US6835977B2
(en)
*
|
2002-03-05 |
2004-12-28 |
United Microelectronics Corp. |
Variable capactor structure
|
|
US7204425B2
(en)
*
|
2002-03-18 |
2007-04-17 |
Precision Dynamics Corporation |
Enhanced identification appliance
|
|
CN100353567C
(zh)
*
|
2003-11-19 |
2007-12-05 |
联华电子股份有限公司 |
制作可变电容的方法
|
|
CN100442542C
(zh)
*
|
2003-12-15 |
2008-12-10 |
松下电器产业株式会社 |
制造可变电容二极管的方法及可变电容二极管
|
|
WO2006022623A1
(en)
*
|
2004-07-22 |
2006-03-02 |
Precision Dynamics Corporation |
Rectifying charge storage device with sensor
|
|
US7919382B2
(en)
*
|
2008-09-09 |
2011-04-05 |
Freescale Semicondcutor, Inc. |
Methods for forming varactor diodes
|
|
CN101834134B
(zh)
*
|
2009-03-12 |
2012-03-21 |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
提高金属-氧化物半导体变容二极管的品质因子的方法
|
|
DE102009059873A1
(de)
|
2009-12-21 |
2011-06-22 |
Epcos Ag, 81669 |
Varaktor und Verfahren zur Herstellung eines Varaktors
|
|
KR101138407B1
(ko)
*
|
2010-03-15 |
2012-04-26 |
고려대학교 산학협력단 |
버랙터가 구비된 반도체 집적 회로, 및 그 제조 방법
|
|
RU2447541C1
(ru)
*
|
2010-12-03 |
2012-04-10 |
Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-исследовательский институт микроприборов-К" |
Мдп-варикап
|
|
RU2569906C1
(ru)
*
|
2014-08-26 |
2015-12-10 |
Акционерное общество "Научно-исследовательский институт микроприборов-К" (АО "НИИМП-К") |
Многоэлементный мдп варикап
|
|
KR102013867B1
(ko)
|
2015-08-05 |
2019-08-26 |
한국전자통신연구원 |
병렬 처리 장치 및 방법
|
|
RU2614663C1
(ru)
*
|
2015-12-29 |
2017-03-28 |
Общество с ограниченной ответственностью "Лаборатория Микроприборов" |
Варикап и способ его изготовления
|
|
RU167582U1
(ru)
*
|
2016-06-08 |
2017-01-10 |
Акционерное общество "Научно-исследовательский институт микроприборов-К" |
Свч мдп-варикап с переносом заряда
|
|
JP6299835B1
(ja)
*
|
2016-10-07 |
2018-03-28 |
株式会社Sumco |
エピタキシャルシリコンウェーハおよびエピタキシャルシリコンウェーハの製造方法
|
|
RU192894U1
(ru)
*
|
2019-07-09 |
2019-10-04 |
Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Национальный исследовательский университет "Московский институт электронной техники" |
СВЧ МДП-варикап
|
|
CN115911136A
(zh)
*
|
2022-11-21 |
2023-04-04 |
捷捷半导体有限公司 |
芯片结构及其制备方法
|