JPH1050796A - ウエハ検出機構 - Google Patents

ウエハ検出機構

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JPH1050796A
JPH1050796A JP21614096A JP21614096A JPH1050796A JP H1050796 A JPH1050796 A JP H1050796A JP 21614096 A JP21614096 A JP 21614096A JP 21614096 A JP21614096 A JP 21614096A JP H1050796 A JPH1050796 A JP H1050796A
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JP21614096A
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Munetoshi Nagasaka
旨俊 長坂
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Tokyo Electron Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 キャリア等の収納体内に収納されたウエハの
前後方向の傾斜を読み取り、収納体内のウエハの取り残
しを防止できるウエハ検出機構を提供する。 【解決手段】 キャリアCが昇降する時に光線Lを照射
する発光素子11と、この発光素子11からの光線Lを
受光するようにキャリアCの後方に配設された受光素子
12と、キャリアCの昇降により変動する受光素子12
の受光量に基づいてウエハWを検出する。ウエハWの光
線通過前後における受光量の多寡を電圧値に基づいて比
較する比較器16の比較結果に基づき、通過直前の受光
量が通過直後の受光量より多い時にはウエハWが前上が
りであると判定し、通過直前の受光量が通過直後の受光
量より少ない時にはウエハWが前下がりであると判定す
る傾斜方向判定器17を設け、更に、傾斜方向判定器1
7の判定結果を加味してウエハ搬送機構30のピンセッ
ト31の挿入位置を補正する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、キャリア等の収納
体内に収納された半導体ウエハ(以下、単に「ウエハ」
と称す。)を検出するウエハ検出機構に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置を製造する場合には成膜処理
装置やエッチング処理装置等によりウエハに種々の処理
を施した後、処理後のウエハの電気的検査を行って各種
の処理に欠陥があるか否かを検査するようにしている。
この一連の処理を行うに当たって、ウエハはキャリア単
位で各工程間を搬送するようにしてある。
【0003】例えば図6はウエハに形成されたICチッ
プを検査するプローブ装置を示す平面図である。このプ
ローブ装置は、同図に示すように、ローダ部1と、この
ローダ部1に隣接するプローバ部2とを備えている。ロ
ーダ部1にはウエハ搬送機構が配設され、ウエハ搬送機
構のピンセット3を用いてキャリアC内のウエハWを1
枚ずつ取り出し、サブチャック4において例えばオリエ
ンテーションフラット(オリフラ)を基準にプリアライ
メントを行った後、プローバ部2内のメインチャック5
へウエハWを引き渡すようにしてある。プローバ部2で
はメインチャック5がX、Y及びθ方向で移動し、ウエ
ハWをプローブ針6に対して正確に位置決めを行った
後、ウエハWの電気的検査を行うようにしてある。検査
後、ウエハWは逆の経路を辿ってキャリアC内の元の位
置へ戻されるようになっている。
【0004】ところで、ローダ部1においてキャリアC
内からウエハWを1枚ずつ取り出すに当たり、ウエハ検
出機構を用いてキャリアC内のウエハWの収納枚数、収
納場所、ウエハの厚さ、更にウエハ間の間隔を検出し、
検出結果に基づいてウエハ搬送機構のピンセット3をキ
ャリアC内に挿入してウエハWを1枚ずつ正確に取り出
し、その後収納するようにしている。
【0005】一方、キャリアは所定の規格に従って形成
され、その外形寸法、ウエハ収納枚数、ウエハ間の間隔
等が詳細に規定されている。例えばキャリアを支持する
支持段の間隔は、4〜6インチ用の場合には4.75m
m、8インチ用の場合には6.35mmと規定されてい
る。従って、ウエハを出し入れする場合には、上述の狭
い間隔にウエハ搬送機構のピンセット3を出し入れしな
くてはならない。また、ピンセット3自体にも例えば2
mm以上の厚みがあり、しかもピンセット3の撓みやウ
エハ自体の厚みを加味すれば3mmを超え、それだけピ
ンセット3を挿入できる許容範囲は益々厳しくなる。更
に、スループットの向上などを勘案すれば、ウエハ検出
機構によるウエハの検出もさることながら、ウエハ間の
間隔を精度良く検出する必要がある。
【0006】従来のウエハ検出機構の場合には、図7に
示すように、キャリアに収納されたウエハWの前後に発
光素子11と受光素子12を配置し、受光素子12での
照射光の受光の有無によりウエハWの厚さ、ウエハW間
の間隔δを精度良く検出し、その読み取り結果に基づい
てピンセット3をウエハW間の間隔δに挿入し、キャリ
アからウエハWを取り出し、キャリア内へ収納してい
る。そして、ピンセット3の挿入位置は、キャリアCの
ウエハ支持段間の間隔に合わせ、あるいはウエハW間の
隙間がその間隔に近い隙間があれば、ソフト的にその隙
間に合わせようにしている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ウエハ検出機構の場合には、ウエハWの厚さやウエハW
間の間隔を読み取るようにしているが、これはウエハW
がキャリアC内に水平に収納されていることを前提とし
ていると共に、その読取精度を考慮していないため、読
取値が必ずしも正確なものとは云い難い。例えば図7に
示すようにウエハWが前後方向に傾斜していると、ウエ
ハ検出機構はただ単に照射光の遮断時間に基づいてその
寸法d1、d2をウエハWの厚さとして読み取り、ウエ
ハW間の間隔δを厚く読み取った分だけ狭く読み取り、
ウエハWの傾斜具合によって間隔δが所定の値より狭い
と、本来ピンセット3を挿入できる隙間δがあるにも拘
らず、ソフト的にピンセット3の挿入位置を調整するこ
とができず、ウエハWの取り残しを生じるという課題が
あった。そして、ウエハWの傾斜傾向はウエハが大口径
化するほど顕著になる。
【0008】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、キャリア等の収納体内に収納されたウエハ
に傾斜があるか否か、特に前後方向の傾斜があるか否か
を読み取ることができるウエハ検出機構を提供すること
を目的としている。また、ウエハの前後方向の傾斜を読
み取り、収納体内のウエハの取り残しを防止することが
できるウエハ検出機構を併せて提供することを目的とし
ている。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者は、ウエハ検出
機構による読取精度について種々検討した結果、ウエハ
に傾斜があり、しかもウエハWの傾斜角が±0.25°
付近を境に受光素子の受光 量に基づいた検出電圧に微
妙な波形変動を生じ、概略±0.25°以下の傾斜では
この波形変動に基づいてウエハWが前後方向のいずれの
方向に傾斜しているかを知ることができることを知見し
た。
【0010】本発明は、上記知見に基づいてなされたも
ので、請求項1に記載のウエハ検出機構は、複数のウエ
ハが上下方向等間隔を空けて収納された収納体の前方に
配設され且つ上記収納体が昇降する時に光線を照射する
発光素子と、この発光素子からの光線を受光するように
上記収納体の後方に配設された受光素子と、上記収納体
の昇降により変動する上記受光素子の受光量に基づいて
上記ウエハを検出するウエハ検出機構において、上記ウ
エハの上記光線通過前後における上記受光量の多寡を電
気量に基づいて比較する比較手段を設けると共に、上記
比較手段の比較結果に基づき、通過直前の受光量が通過
直後の受光量より多い時には上記ウエハが前上がりであ
ると判定し、通過直前の受光量が通過直後の受光量より
少ない時には上記ウエハが前下がりであると判定する傾
斜方向判定手段を設けたことを特徴とするものである。
【0011】また、本発明の請求項2に記載のウエハ検
出機構は、複数のウエハが上下方向等間隔を空けて収納
された収納体の前方のウエハ搬送機構に配設され且つ上
記収納体が昇降する時に光線を照射する発光素子と、こ
の発光素子からの光線を受光するように上記収納体の後
方に配設された受光素子と、この受光素子での上記収納
体の昇降により変動する受光量に基づいて上記ウエハを
検出するウエハ検出機構において、上記ウエハの上記光
線通過前後における上記受光量の多寡を電気量に基づい
て比較する比較手段を設けると共に、上記比較手段の比
較結果に基づき、通過直前の受光量が通過直後の受光量
より多い時には上記ウエハが前上がりであると判定し、
通過直前の受光量が通過直後の受光量より少ない時には
上記ウエハが前下がりであると判定する傾斜方向判定手
段を設け、更に、上記傾斜方向判定手段の判定結果を加
味してウエハ搬送機構の搬送用プレートの挿入位置を補
正することを特徴とするものである。
【0012】また、本発明の請求項3に記載のウエハ検
出機構は、請求項1または請求項2に記載の発明におい
て、上記収納体を載置する載置台にその傾斜方向を調整
する傾斜方向調整機構を設け、この傾斜方向調整機構を
上記傾斜方向判定手段の判定信号に基づいて制御するこ
とを特徴とするものである。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、図1〜図5に示す実施形態
に基づいて本発明を説明する。本実施形態のウエハ検出
機構は例えばウエハWの電気的特性検査を行うプローブ
装置のローダ部に配設されている。このウエハ検出機構
10は、例えば図1に示すように、例えば25枚のウエ
ハWが上下方向等間隔を空けて収納されたキャリアCの
前方に配設された発光素子11と、この発光素子11の
後方でキャリアCを介して配設された受光素子12とを
備え、例えばキャリアCが上方から下方へ移動する間に
発光素子11からの光線Lを受光素子12で受光するか
否かによってキャリアC内のウエハWの存否、ウエハW
の厚さ、ウエハW間の隙間を検出するように構成されて
いる。そして、受光素子12では光電変換された電気
量、例えば電圧値の変動によりウエハWを検出するよう
にしてある。また、キャリアCの昇降機構20は、キャ
リアCを載置する載置台21に連結されたボールネジ2
2と、このボールネジ22を正逆回転させるモータ23
とを備え、モータ23の駆動力を得て正逆回転するボー
ルネジ22を介してキャリアCを昇降させるようにして
ある。
【0014】また、ローダ部にはウエハWを搬送するウ
エハ搬送機構30が配設され、このウエハ搬送機構30
によりキャリアC内のウエハWを1枚ずつ搬出入するよ
うにしてある。そして、ローダ部に配設されたプリアラ
イメント機構40を用いてプローバ部へウエハWを引き
渡す前にオリフラを基準にしてウエハWのプリアライメ
ントを行うようにしてある。また、昇降機構20、ウエ
ハ搬送機構30及びプリアライメント機構40は所定の
プログラムに従って作動するコントローラ50の制御下
で駆動するようにしてある。
【0015】上記ウエハ搬送機構30は、図1に示すよ
うに、例えばウエハWを真空吸着して搬送するピンセッ
ト31と、このピンセット31を前後方向(同図では実
線位置と仮想線位置との間)で進退動するように支持す
る支持台32と、この支持台32の下面に連結された支
持ロッド33と、この支持ロッド33の下端に固定され
た大プーリ34と、この大プーリ34にタイミングベル
ト35を介して連結された小プーリ36と、この小プー
リ36を正逆回転させるモータ37とを備えている。ま
た、支持台32には図示しない駆動機構が配設され、こ
の駆動機構によりピンセット31が支持台32上を前後
方向で往復移動するようにしてある。
【0016】ところで、ウエハWは前述したようにキャ
リアC内では必ずしも水平に収納されているとは限ら
ず、ウエハWによっては図1に示すように前後方向に傾
斜していることがある。図1ではウエハWが前上がりの
傾斜になっているが、逆にの場合もある。しかし、1個
のキャリアC内では傾斜方向が前上がりなら前上がりで
揃っており、前上がりのウエハWと前下がりのウエハW
が混在することはない。勿論、ウエハWによっては左右
方向に傾斜している場合もある。このようにウエハWが
キャリアC内で傾斜していると、図2に示すように、そ
の傾斜具合により光線LがウエハWの表面で反射され、
この反射光L1あるいはL2を受光素子12で受光し、
これがウエハWの読取厚に影響することが判った。
【0017】本発明者の実験結果では、傾斜角が±0.
25°以上であれば、反射光の影響が少なく、傾斜角が
±0.25°内になると反射光の影響が顕著になること
が判った。更に、受光素子12による電圧波形の分析結
果によれば、傾斜角が±0.25°以上の場合には、ウ
エハWが光線Lを通過する前後における受光量に即した
電圧波形としては、図3の(a)で示すように略左右対
称の波形が得られ、傾斜角が±0.25°内の場合に
は、図3の(b)の破線で示すように左右非対称の波形
が 得られることが判った。これらの波形はいずれもウ
エハWが、図1及び図2の破線で示すように、前上がり
に傾斜(傾斜角θ)している場合のものである。また、
図3の(b)では前者の電圧波形と後者の電圧波形とを
重ねて表示してあるが、この図からも明らかなように、
傾斜の小さい後者の場合には通過直前の基準電圧(3ボ
ルト)より高い部分の山型波形(左側の山型)が通過直
後の基準電圧より高い部分の山型波形(右側の山型)よ
りも大きくなっていることが判った。ここで、通過直前
とは、ウエハWが光線Lに到達する直前で隣のウエハW
の反射光L1の影響を受けている期間を云い、通過直後
とは、ウエハWが光線Lを通過し、通過後に隣のウエハ
Wの反射光L1の影響を受けている期間を云う。
【0018】一方、前下がりの傾斜(傾斜角−θ)の場
合にはついて同様の検討をしたところ、傾斜角が±0.
25°以内の場合には通過直前の山型波形が通過直後の
山型波形よりも小さく、前上がり(傾斜角θ)の場合と
は山型波形の大きさが逆(左側が小さく、右側が大き
い)になることが判った。従って、傾斜角が極めて小さ
い場合には電圧波形の形状により傾斜方向を判別できる
ことが判った。尚、ウエハWに傾斜がなければ、反射光
の影響はないため、図3の基準電圧を超える山型波形は
現れず、平坦になる。
【0019】ところで、図3の(a)、(b)におい
て、電圧値3ボルトは受光素子12によって光電変換さ
れた電圧の比較対象となる後述するAD変換器の基準電
圧を示し、2ボルトは受光素子12のしきい値となる電
圧を示している。従って、しきい値間の時間とウエハW
の下降速度とからウエハWの厚さを算出することができ
る。図3の(b)では、傾斜角が±0.25°以内のウ
エハWの場合には、しきい値における波形幅が反射光の
影響で狭くなり、実際のウエハ厚より薄く読み取られる
傾向にある。具体的には実際の厚さより0.1〜0.15
mm薄く読み取られることが判った。
【0020】さて、本実施形態のウエハ検出機構10
は、上述の現象を利用したもので、図1に示すように、
ウエハWの傾斜方向を自動的に判定できるように構成さ
れている。即ち、受光素子12には図示しない増幅器を
介してAD変換器13が接続され、このAD変換器13
により検出電圧であるアナログ信号をその電圧値に即し
たデジタル信号に変換するようにしてある。このAD変
換器13には通過直前山型波形演算器14及び通過直後
山型波形演算器15が接続され、それぞれの山型波形電
圧(基準電圧より高い部分)に基づいたデジタル信号を
逐次サンプリングし、サンプリング信号を加算して山型
波形の大きさを求めるようにしてある。各演算器14、
15には比較器16が接続され、通過直前の受光量の山
型波形と通過直後の受光量の山型波形との大小を各演算
器14、15からの受信信号に基づいて比較し、その比
較結果を比較器16に接続された傾斜方向判定器17へ
送信するようにしてある。
【0021】上記傾斜方向判定器17は、比較器16か
らの信号に基づいてウエハWの前後の傾斜方向を判定
し、その判定結果を後述するピンセット挿入位置演算器
19へ送信し、ウエハW間の隙間の中心を演算する指令
を送信するようにしてある。即ち、比較器16による比
較結果が通過直前山型波形演算器14の演算結果が通過
直後山型波形演算器15の演算結果より大きければ、図
3の(b)で示す通過直前の山型波形(左側の山型)が
通過直後の山型波形(右側に山型)よりも大きく、ウエ
ハWが前上がりの傾斜になっていると判定し、その比較
結果が逆であればウエハWが前下がりの傾斜であると判
定するようにしてある。比較結果が等しければ、ウエハ
Wの傾斜方向を判定することができず、傾斜角が±0.
25°以上で あるとのみ判定するようにしてある。
【0022】また、上記AD変換器13には厚さ・隙間
演算器18が接続され、この厚さ・隙間演算器18によ
りウエハWの厚さ及びウエハW間の隙間を算出するよう
にしてある。即ち、受光素子12からの電圧が図3に示
すように下降してしきい値に達した時点と、その後電圧
が上昇して再びしきい値に達した時点までの間を光線L
が完全に遮断されたものと判定し、遮断されている時間
とウエハWの下降速度とからウエハWの厚さを求めるよ
うにしてある。また、電圧が3ボルトで一定の時間を光
線LがキャリアCを透過する時間であると判定し、その
時間に基づいてウエハW間の隙間を求めるようにしてあ
る。
【0023】また、上記厚さ・隙間演算器18にはピン
セット挿入位置演算器19が接続され、厚さ・隙間演算
器18の算出結果に基づいてピンセット31を挿入する
位置(隙間の上下方向の中心)を求めるようにしてあ
る。また、このピンセット挿入位置演算器19には傾斜
方向判定器17に接続され、傾斜方向判定器17からの
判定信号に基づいて厚さ・隙間演算器18から得られた
隙間を補正するようにしてある。即ち、ウエハWが前後
方向に傾斜していると、厚さ・隙間演算器19で求めら
れた値は実際の厚さとは相違する。傾斜角が±0.25
°以上の場合その傾き具合に比例してウエハWの厚さを
大きな値になるが、傾斜角が±0.25°以下の場合に
は図3の(b)からも明らかなように実際の厚さより薄
くなる。前者の場合には厚さ・隙間演算器19で求めら
れた値がそのまま隙間の寸法であるが、後者の場合(±
0.25°以下の場合)には算出厚さが実際の厚さより
も薄いため、隙間の値を修正する必要がある。その補正
値は上述したように0.1〜0.15mmの範囲である。
このような補正をしないと隙間での挿入位置が中心から
ずれ、ウエハWによっては接触する虞がある。また、ピ
ンセット挿入位置演算器19はコントローラ50に接続
され、コントローラ50を介してキャリアCの昇降機構
20を挿入位置を制御するようにしてある。
【0024】また、上記傾斜判定器17の判定結果に基
づいて傾斜方向を調整する傾斜機構(図示せず)を上記
載置台21に設け、この傾斜機構を介して載置台21を
ウエハwの傾斜方向とは逆方向へ傾斜させ、ウエハWを
水平に調整するようにしても良い。
【0025】次に動作について説明する。プローブ装置
の載置台21にウエハWが収納されたキャリアCを載置
し、各ウエハWについて検査を行う前に、まずウエハ検
出機構10によりウエハWの存否、ウエハ厚、ウエハW
間の隙間を検出する。それにはまず昇降機構20により
キャリアCを上昇端に位置させ、次いで所定の速度でキ
ャリアCを下降させる。この際、発光素子11からの光
線LにウエハW間の隙間が位置する時には光線Lはキャ
リアCを透過し、受光素子12により受光される。ウエ
ハWが光線Lに差し掛かると光線Lが遮断され、ウエハ
Wが光線Lを通過すると再び受光素子12により光線L
が受光される。
【0026】キャリアC内のウエハWが水平であれば、
ウエハWによる反射光の影響はないため、受光素子12
の電圧には図3に示すような山型波形はできない。従っ
て、受光素子1からの電圧がAD変換器13でデジタル
信号に変換されても通過直前山型波形演算器14等は作
動しない。従って、AD変換器13からサンプリングさ
れたデジタル信号に基づいて厚さ・隙間演算器18によ
りウエハ厚及び隙間のみが正確に演算され、この演算結
果に基づいてピンセット挿入位置演算器によりピンセッ
ト31の挿入位置が求められる。そして、この数値に基
づいてコントローラ50が作動してキャリアCの昇降機
構2を制御し、ウエハ搬送機構30によりウエハWをキ
ャリアCから1枚ずつ正確に取り出し、プリアライメン
ト機構40によるウエハWをプリアライメントした後、
プローバ部へ引き渡し、プローバ部での検査後にはウエ
ハ搬送機構30を介してキャリアCの元の場所へ戻され
る。全ウエハWについて以上の動作を繰り返す。
【0027】ところが、キャリアC内のウエハWが傾斜
していると、ウエハW表面からの光線Lの反射光L1ま
たはL2があり、ウエハ検出機構10はその影響を受け
る。即ち、ウエハWが光線Lに近づくと、図3に示すよ
うに反射光の影響で受光素子12の電圧に山型波形がで
きる。そこで、AD変換器13により受光素子12から
の電圧がデジタル信号に変換される。ウエハWが光線L
に達する直前にAD変換器13から山型波形を示すデジ
タル信号が通過直前山型波形演算器14により逐次サン
プリングされる。通過直前山型波形演算器14ではAD
変換器13から逐次サンプリングしたデジタル信号に基
づいてウエハWに達する直前の受光量を演算し、その山
型波形の大きさを求める。その後、通過直後山型波形演
算器15でも同様にしてウエハWを通過した直後の受光
量を演算し、その山型波形の大きさを求める。両方の山
型の大きさが求められると、それぞれの信号が比較器1
6に送信される。比較器16では両信号を比較し、その
比較結果を傾斜方向判定器17へ送信する。通過直前の
山型波形が通過直後の山型波形より大きいという比較結
果を受信すれば、傾斜方向判定器17においてウエハW
が前上がりの傾斜になっていると判定し、その比較結果
が逆であればウエハWが前下がりの傾斜であると判定す
る。比較結果が等しければ、ウエハWのその傾斜方向は
判定でず、傾斜角が±0.25°以上であることのみを
判定する。
【0028】その後、ピンセット挿入位置演算器19が
傾斜方向判定器17から前上がりであるとの判定信号を
受信すると、厚さ・隙間演算器19から受信した厚さを
補正し、ピンセット31の挿入位置を補正後の厚さに従
って求める。この操作をキャリアC内の全てのウエハW
ついて行う。これらの数値は図示しないメモリに登録し
ておく。このようにしてウエハ厚、隙間及び挿入位置を
登録することで、ウエハWをピンセット31で取り出す
時、あるいは収納する時に、登録された数値内容に従っ
て作動するコントローラ50を介してキャリアCの昇降
機構20を制御し、それぞれの位置へピンセット31を
挿入することができ、ウエハWを取り残すことがない。
また、ウエハWが±0.25°以上傾斜しているとの判
定信号をピンセット挿入位置演算器19が受信した場合
には、ウエハ厚を補正することなく、厚さ・隙間演算器
18の演算値に従って挿入位置を求めることにより、ピ
ンセット31を正確に挿入することができ、ウエハWを
取り残すことがない。
【0029】以上説明したように本実施形態によれば、
ウエハWが光線Lを通過する前後における受光素子12
での受光量の多寡を電圧に基づいて比較する比較器16
を設けると共に、比較手段16の比較結果に基づき、ウ
エハ通過直前の受光量が通過直後の受光量より多い時に
はウエハWが前上がりであると判定し、通過直前の受光
量が通過直後の受光量より少ない時にはウエハWが前下
がりであると判定する傾斜方向判定器17を設け、更
に、傾斜方向判定手段17の判定結果を加味してウエハ
搬送機構30のピンセット31の挿入位置を補正するよ
うにしたため、キャリアC内に収納されたウエハWに傾
斜があるか否か、特に前後方向の傾斜があるか否かを読
み取ることができ、しかも、ピンセット31をウエハW
間の隙間の中心に正確に挿入し、キャリアC内のウエハ
Wの取り残しを防止することができる。
【0030】また、上記傾斜判定器17の判定結果に基
づいて載置台21の傾斜方向を傾斜機構(図示せず)に
よりウエハWの傾斜方向とは逆方向へ傾斜させることに
より、ウエハWを水平に調整することができ、ピンセッ
ト31を正確に挿入ででき、ウエハWの取り残しを防止
することができる。
【0031】また、キャリアC内のウエハWが左右に傾
斜している場合には図4に示すようにしてその傾斜、傾
斜方向及び傾斜角を知ることができる。即ち、本実施形
態のウエハ検出機構10Aは、キャリアの前方左右に配
設され発光素子(図示せず)と、この発光素子からの光
線を受光するようにキャリアの後方左右に配設された受
光素子12A、12Bとを備え、これらの受光素子12
A、12Bでのキャリアの昇降により変動する受光量に
基づいてウエハW、その厚さ及びウエハW間の隙間を検
出するようにしてある。その他は上記実施形態に準じて
構成されている。本実施形態の場合には、光線の遮断に
時間差が生じ、受光素子12A、12Bによる受光量の
変動にも図5に示すような時間差が生じる。この時間差
によりウエハWの傾斜による高低差を求めることができ
る。また、受光素子12A、12B間の距離は既知であ
るから、この距離と高低差に基づいてウエハWの計や傾
斜、傾斜方向及び傾斜角を求めることができる。
【0032】尚、上記実施形態ではウエハ検出機構をプ
ローブ装置のローダ部に設けたものを例に挙げて説明し
たが、本発明は、上記実施形態に何等制限されるもので
はなく、カセット単位でウエハを取り扱う半導体製造装
置の各分野に適用することが
【0033】
【発明の効果】本発明の請求項1に記載の発明によれ
ば、キャリア等の収納体内に収納されたウエハに傾斜が
あるか否か、特に前後方向の傾斜があるか否かを読み取
ることができるウエハ検出機構を提供することができ
る。
【0034】また、本発明の請求項2に記載の発明によ
れば、ウエハの前後方向の傾斜を読み取り、収納体内の
ウエハの取り残しを防止することができるウエハ検出機
構を提供することができる。
【0035】また、本発明の請求項3に記載の発明によ
れば、収納体を載置する載置台にその傾斜方向を調整す
る傾斜方向調整機構を設け、この傾斜方向調整機構を上
記傾斜方向判定手段の判定信号に基づいて制御するよう
にしたため、ウエハが傾斜していてもウエハを水平に補
正することができるウエハ検出機構を提供することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のウエハ検出機構の一実施形態を示す構
成図である。
【図2】ウエハの傾斜により受光素子に反射光が入射す
る状態を説明するための説明図である。
【図3】(a)はウエハの前後方向の傾斜角が所定角度
以上の時の受光素子の電圧値の変動を示す説明図、
(b)はウエハの前後方向の傾斜角が所定角度以下の時
の受光素子の電圧値の変動を示す説明図である。
【図4】ウエハが左右に傾斜している時の受光素子とウ
エハとの関係を示す説明図である。
【図5】ウエハが左右に傾斜している時の左右の受光素
子の電圧変動のタイミングを説明するための説明図であ
る。
【図6】従来のプローブ装置の内部の概要を示す平面図
である。
【図7】従来のウエハ検出機構の検出態様を説明するた
めの説明図である。
【符号の説明】
10 ウエハ検出機構 11 発光素子 12 受光素子 14 通過直前山型波形演算器 15 通過直後山型波形演算器 16 比較器 17 傾斜方向判定器 21 載置台 30 ウエハ搬送装置 31 ピンセット(搬送用プレート) W ウエハ C キャリア

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のウエハが上下方向等間隔を空けて
    収納された収納体の前方に配設され且つ上記収納体が昇
    降する時に光線を照射する発光素子と、この発光素子か
    らの光線を受光するように上記収納体の後方に配設され
    た受光素子と、上記収納体の昇降により変動する上記受
    光素子の受光量に基づいて上記ウエハを検出するウエハ
    検出機構において、上記ウエハの上記光線通過前後にお
    ける上記受光量の多寡を電気量に基づいて比較する比較
    手段を設けると共に、上記比較手段の比較結果に基づ
    き、通過直前の受光量が通過直後の受光量より多い時に
    は上記ウエハが前上がりであると判定し、通過直前の受
    光量が通過直後の受光量より少ない時には上記ウエハが
    前下がりであると判定する傾斜方向判定手段を設けたこ
    とを特徴とするウエハ検出機構。
  2. 【請求項2】 複数のウエハが上下方向等間隔を空けて
    収納された収納体の前方のウエハ搬送機構に配設され且
    つ上記収納体が昇降する時に光線を照射する発光素子
    と、この発光素子からの光線を受光するように上記収納
    体の後方に配設された受光素子と、この受光素子での上
    記収納体の昇降により変動する受光量に基づいて上記ウ
    エハを検出するウエハ検出機構において、上記ウエハの
    上記光線通過前後における上記受光量の多寡を電気量に
    基づいて比較する比較手段を設けると共に、上記比較手
    段の比較結果に基づき、通過直前の受光量が通過直後の
    受光量より多い時には上記ウエハが前上がりであると判
    定し、通過直前の受光量が通過直後の受光量より少ない
    時には上記ウエハが前下がりであると判定する傾斜方向
    判定手段を設け、更に、上記傾斜方向判定手段の判定結
    果を加味してウエハ搬送機構の搬送用プレートの挿入位
    置を補正することを特徴とするウエハ検出機構。
  3. 【請求項3】 上記収納体を載置する載置台にその傾斜
    方向を調整する傾斜方向調整機構を設け、この傾斜方向
    調整機構を上記傾斜方向判定手段の判定信号に基づいて
    制御することを特徴とする請求項1または請求項2に記
    載のウエハ検出機構。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100416292B1 (ko) * 2001-02-24 2004-01-31 (주)지우텍 위치 불량 감지 장치 및 방법
JP2019149478A (ja) * 2018-02-27 2019-09-05 オムロン株式会社 センサシステム、および、傾き検出方法
JP2022531326A (ja) * 2019-06-28 2022-07-06 川崎重工業株式会社 基板搬送装置

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