JPH1048636A - 液晶表示装置 - Google Patents
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- JPH1048636A JPH1048636A JP8205616A JP20561696A JPH1048636A JP H1048636 A JPH1048636 A JP H1048636A JP 8205616 A JP8205616 A JP 8205616A JP 20561696 A JP20561696 A JP 20561696A JP H1048636 A JPH1048636 A JP H1048636A
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1343—Electrodes
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 横電界により液晶を制御する液晶表示装置に
おいて、スペーサを最適化し、ラビング処理による液晶
の配向不良を防止し、表示特性に優れた液晶表示装置を
提供する。 【解決手段】 透明基板上にゲート配線と、ドレイン配
線と、それらの交差部近傍にスイッチ素子を有するアク
ティブマトリクス基板上に、前記スイッチ素子に接続さ
れるソース電極と、これに平行なコモン電極を有し、前
記アクティブマトリクス基板面に平行な電界により液晶
を制御する横電界駆動方式型の液晶表示装置において、
ゲート配線とドレイン配線の交差部に対応する対向基板
上に、カラーフィルタと同質の材料で円柱、楕円柱また
は半球体のスペーサを形成する。
おいて、スペーサを最適化し、ラビング処理による液晶
の配向不良を防止し、表示特性に優れた液晶表示装置を
提供する。 【解決手段】 透明基板上にゲート配線と、ドレイン配
線と、それらの交差部近傍にスイッチ素子を有するアク
ティブマトリクス基板上に、前記スイッチ素子に接続さ
れるソース電極と、これに平行なコモン電極を有し、前
記アクティブマトリクス基板面に平行な電界により液晶
を制御する横電界駆動方式型の液晶表示装置において、
ゲート配線とドレイン配線の交差部に対応する対向基板
上に、カラーフィルタと同質の材料で円柱、楕円柱また
は半球体のスペーサを形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、アクティブマトリ
クス型液晶表示装置に関し、特に液晶に印加する電界方
向を基板界面にほぼ平行とする横電界型液晶表示装置の
スペーサ構成に関するものである。
クス型液晶表示装置に関し、特に液晶に印加する電界方
向を基板界面にほぼ平行とする横電界型液晶表示装置の
スペーサ構成に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来一般的なアクティブマトリクス方式
の液晶表示装置は、二枚の透明基板の間にネマチック液
晶を挟持し、透明基板間に電圧を印加し、印加電圧に応
じて液晶の分子の配向状態を変化させることにより光の
透過率を制御する方式（縦電界型）を用いている。液晶
表示装置の構成は、スイッチ素子と電極を形成したアク
ティブマトリクス基板と、これに対向する対向基板と、
両基板間に封入された液晶と、両基板外側に配置された
偏光板から構成される。この両基板に形成された電極間
に印加された電圧により、液晶分子は配向状態を変化さ
せ、光の透過率が変化する。
の液晶表示装置は、二枚の透明基板の間にネマチック液
晶を挟持し、透明基板間に電圧を印加し、印加電圧に応
じて液晶の分子の配向状態を変化させることにより光の
透過率を制御する方式（縦電界型）を用いている。液晶
表示装置の構成は、スイッチ素子と電極を形成したアク
ティブマトリクス基板と、これに対向する対向基板と、
両基板間に封入された液晶と、両基板外側に配置された
偏光板から構成される。この両基板に形成された電極間
に印加された電圧により、液晶分子は配向状態を変化さ
せ、光の透過率が変化する。
【０００３】しかし、このような一般的な液晶表示装置
においては、画面を見る角度（視野角）により透過光の
旋光性が変わるため明暗が変わることが知られている。
例えば垂直に立てて配置された画面を正面から、つまり
画面の法線方向から見る場合コントラスト比の良い画像
が見えるが、同画面を法線方向よりも斜め下方向から見
る場合には黒っぽく見え、さらに下方向から見ると明暗
が逆転するいわゆる階調反転現象が起こり、斜め上方向
から見る場合には白っぽく見える。この現象は、液晶に
縦方向電界（基板に垂直方向の電界）を印加し、電界方
向に沿って液晶分子を立ち上がらせることで旋光性を制
御する表示方式であり、液晶分子の立ち上がり方向が決
まっているために起きる。
においては、画面を見る角度（視野角）により透過光の
旋光性が変わるため明暗が変わることが知られている。
例えば垂直に立てて配置された画面を正面から、つまり
画面の法線方向から見る場合コントラスト比の良い画像
が見えるが、同画面を法線方向よりも斜め下方向から見
る場合には黒っぽく見え、さらに下方向から見ると明暗
が逆転するいわゆる階調反転現象が起こり、斜め上方向
から見る場合には白っぽく見える。この現象は、液晶に
縦方向電界（基板に垂直方向の電界）を印加し、電界方
向に沿って液晶分子を立ち上がらせることで旋光性を制
御する表示方式であり、液晶分子の立ち上がり方向が決
まっているために起きる。
【０００４】このような視野角の問題を改善する方法と
して最近、横電界型が注目されている。
して最近、横電界型が注目されている。
【０００５】横電界型は、前述のように従来の液晶表示
装置が基板に垂直な縦方向電界で液晶の配向状態を制御
しているのに対して、基板に平行な横方向電界で制御す
る方式である。この方式は原理的に広視野角であり、し
かも色調の変化が少ないため、最も効果の高い改善案と
して考えられている。この横電界型については、特開平
６−１６０８７８号公報に詳細に述べられているのでこ
こでは説明は省略する。
装置が基板に垂直な縦方向電界で液晶の配向状態を制御
しているのに対して、基板に平行な横方向電界で制御す
る方式である。この方式は原理的に広視野角であり、し
かも色調の変化が少ないため、最も効果の高い改善案と
して考えられている。この横電界型については、特開平
６−１６０８７８号公報に詳細に述べられているのでこ
こでは説明は省略する。
【０００６】このように横電界型液晶表示装置の視野角
は縦電界型のものに比べ格段に広いが、コモン電極、ソ
ース電極、スイッチ素子など遮光部分が多く、画素の開
口率が縦電界型より低くならざるを得ない。このためセ
ルギャップを得るために多数散布されるスペーサ粒子が
表示特性へ与える悪影響は縦電界型より大きい。
は縦電界型のものに比べ格段に広いが、コモン電極、ソ
ース電極、スイッチ素子など遮光部分が多く、画素の開
口率が縦電界型より低くならざるを得ない。このためセ
ルギャップを得るために多数散布されるスペーサ粒子が
表示特性へ与える悪影響は縦電界型より大きい。
【０００７】このような事から、特開平６−２１４２４
４号公報ではスペーサ粒子を用いない横電界型の液晶表
示装置が提案されている。この液晶表示装置では、コモ
ン電極と画素電極（ソース電極）の両方を基板に垂直に
立てるように形成し、これら両電極をスペーサ（支柱）
とする事により、スペーサ粒子を必要としていない。
４号公報ではスペーサ粒子を用いない横電界型の液晶表
示装置が提案されている。この液晶表示装置では、コモ
ン電極と画素電極（ソース電極）の両方を基板に垂直に
立てるように形成し、これら両電極をスペーサ（支柱）
とする事により、スペーサ粒子を必要としていない。
【０００８】しかしながら、この液晶表示装置では基板
上にセルギャップに対応する高い電極を形成することに
困難を伴うことと、その表面に形成された配向膜にラビ
ング処理を行うことも困難であり、実現性に乏しいとい
う問題がある。
上にセルギャップに対応する高い電極を形成することに
困難を伴うことと、その表面に形成された配向膜にラビ
ング処理を行うことも困難であり、実現性に乏しいとい
う問題がある。
【０００９】ところで、縦電界型のものにおいては、ス
ペーサ粒子の散布を不用とする構造のものが提案されて
いる。例えば特開平７−２８１１９５号公報ではアクテ
ィブマトリクス基板とカラーフィルタの形成されている
基板の双方に突起部を設け、これを突き合わせてスペー
サ支柱とする液晶表示装置が提案されている。この従来
例を、図面を参照しながら説明する。図８（ａ）は、こ
の従来例の１画素分の液晶表示装置の構成を示す平面図
であり、図８（ｂ）は図８（ａ）のＡ−Ａ断面図であ
る。
ペーサ粒子の散布を不用とする構造のものが提案されて
いる。例えば特開平７−２８１１９５号公報ではアクテ
ィブマトリクス基板とカラーフィルタの形成されている
基板の双方に突起部を設け、これを突き合わせてスペー
サ支柱とする液晶表示装置が提案されている。この従来
例を、図面を参照しながら説明する。図８（ａ）は、こ
の従来例の１画素分の液晶表示装置の構成を示す平面図
であり、図８（ｂ）は図８（ａ）のＡ−Ａ断面図であ
る。
【００１０】透明基板１上にゲート配線４とドレイン配
線５とが縦横に形成され、各交差部近傍に薄膜トランジ
スタ（ＴＦＴと称する）を用いたスイッチング素子８を
有する。スイッチング素子８は、ゲート配線４の上にゲ
ート絶縁膜９、半導体層１０が積層され、ドレイン配線
５とソース電極６が半導体層を介して形成されている。
スイッチ素子８としての薄膜トランジスタの上には、遮
光膜１５の積層により突起が形成され、カラーフィルタ
に形成された基板上には３原色であるＲ、Ｇ、Ｂのカラ
ーフィルタ形成材料１６，１７及び１８が積層された突
起が形成されている。それぞれ配向膜２０を形成し、ラ
ビング処理をした後、突起部分がつき合わされるように
基板を重ね、セルギャップを得ている。
線５とが縦横に形成され、各交差部近傍に薄膜トランジ
スタ（ＴＦＴと称する）を用いたスイッチング素子８を
有する。スイッチング素子８は、ゲート配線４の上にゲ
ート絶縁膜９、半導体層１０が積層され、ドレイン配線
５とソース電極６が半導体層を介して形成されている。
スイッチ素子８としての薄膜トランジスタの上には、遮
光膜１５の積層により突起が形成され、カラーフィルタ
に形成された基板上には３原色であるＲ、Ｇ、Ｂのカラ
ーフィルタ形成材料１６，１７及び１８が積層された突
起が形成されている。それぞれ配向膜２０を形成し、ラ
ビング処理をした後、突起部分がつき合わされるように
基板を重ね、セルギャップを得ている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、薄膜ト
ランジスタの上に厚い遮光膜を形成するためには薄膜ト
ランジスタを形成した後に成膜工程を伴い、この工程に
より薄膜トランジスタ特性の劣化が起こるという問題が
ある。
ランジスタの上に厚い遮光膜を形成するためには薄膜ト
ランジスタを形成した後に成膜工程を伴い、この工程に
より薄膜トランジスタ特性の劣化が起こるという問題が
ある。
【００１２】さらに、薄膜トランジスタ上にスペーサ支
柱が位置するため、外部圧力が薄膜トランジスタに加わ
り、トランジスタ特性に悪影響を及ぼす問題もある。
柱が位置するため、外部圧力が薄膜トランジスタに加わ
り、トランジスタ特性に悪影響を及ぼす問題もある。
【００１３】また、次の問題もある。図８（ａ）の斜線
部分は表示できない部分であり、遮光されている。すな
わち、斜線のない部分が表示領域である。図８（ａ）に
示されているように、薄膜トランジスタ上のスペーサ支
柱は、その表示領域の近くに形成されているために、ラ
ビング処理をする場合に表示領域の一部がスペーサ支柱
の影になり、ラビングされない部分ができ、表示不良に
なるという問題がある。
部分は表示できない部分であり、遮光されている。すな
わち、斜線のない部分が表示領域である。図８（ａ）に
示されているように、薄膜トランジスタ上のスペーサ支
柱は、その表示領域の近くに形成されているために、ラ
ビング処理をする場合に表示領域の一部がスペーサ支柱
の影になり、ラビングされない部分ができ、表示不良に
なるという問題がある。
【００１４】本発明は上記問題点をも考慮し、横電界型
の液晶表示装置において、トランジスタ特性への悪影響
を避け、かつラビング不良が発生しにくく、液晶の配向
むらや光漏れによる表示特性の低下がなく、パネルギャ
ップを精度良く一定に保つことのできる液晶表示装置
を、特別な製造工程を含まずに提供することが目的であ
る。
の液晶表示装置において、トランジスタ特性への悪影響
を避け、かつラビング不良が発生しにくく、液晶の配向
むらや光漏れによる表示特性の低下がなく、パネルギャ
ップを精度良く一定に保つことのできる液晶表示装置
を、特別な製造工程を含まずに提供することが目的であ
る。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明の横電界型液晶表
示装置は、スペーサ支柱を対向する基板の少なくともい
ずれか一方に形成することを特徴とし、そのスペーサ支
柱の位置をスイッチ素子に対向しない領域のゲート配線
とドレイン配線の交差部に対応させたものである。
示装置は、スペーサ支柱を対向する基板の少なくともい
ずれか一方に形成することを特徴とし、そのスペーサ支
柱の位置をスイッチ素子に対向しない領域のゲート配線
とドレイン配線の交差部に対応させたものである。
【００１６】この横電界型液晶表示装置をカラーフィル
ターを有するカラー液晶表示装置へ適用する際には、ス
ペーサ支柱材料としてカラーフィルター形成材料を用い
ることが望ましい。
ターを有するカラー液晶表示装置へ適用する際には、ス
ペーサ支柱材料としてカラーフィルター形成材料を用い
ることが望ましい。
【００１７】特に本発明によれば、透明基板上にゲート
配線と、ドレイン配線と、前記ゲート配線とドレイン配
線との各交差部近傍に形成されたスイッチ素子と、前記
スイッチ素子に接続された画素電極と、少なくとも一部
が前記ソース電極とほぼ平行であるコモン電極とを有す
る第１の基板と、液晶を介在して前記第１の基板に対向
する第２の基板とを有し、前記第１、第２の基板間に挟
持された液晶と、前記第１の基板に平行な電界により液
晶を制御する横電界型液晶表示装置において、前記スイ
ッチ素子の近傍でゲート配線とドレイン配線の交差部に
対応する対向基板上に、前記両基板の厚みを一定にする
ためのスペーサを具備した横電界型カラー液晶表示装置
が得られる。
配線と、ドレイン配線と、前記ゲート配線とドレイン配
線との各交差部近傍に形成されたスイッチ素子と、前記
スイッチ素子に接続された画素電極と、少なくとも一部
が前記ソース電極とほぼ平行であるコモン電極とを有す
る第１の基板と、液晶を介在して前記第１の基板に対向
する第２の基板とを有し、前記第１、第２の基板間に挟
持された液晶と、前記第１の基板に平行な電界により液
晶を制御する横電界型液晶表示装置において、前記スイ
ッチ素子の近傍でゲート配線とドレイン配線の交差部に
対応する対向基板上に、前記両基板の厚みを一定にする
ためのスペーサを具備した横電界型カラー液晶表示装置
が得られる。
【００１８】上記スペーサの形状としては円柱状、また
は半球状が望ましく、さらにはラビング方向を長軸とす
る楕円柱の形状とすることも望ましい。
は半球状が望ましく、さらにはラビング方向を長軸とす
る楕円柱の形状とすることも望ましい。
【００１９】本発明の液晶表示装置では、スペーサ支柱
の形成場所が表示に影響しない部分、つまりラビングむ
らにより液晶の配向が適切でない領域が開口部まで及ば
ないような場所となっている。すなわち、開口率の低い
ことを逆に利用したものである。ラビングむらによる液
晶の配向が適切でない領域は、ラビング方向と関係して
いる。横電界型において正の誘電率異方性を有する液晶
を用いる場合、ラビング方向と電極の長手方向のなす角
は０〜４５°の範囲である。尚、この角度は電界による
液晶分子の回転方向を決定するものであり、３〜４０°
の範囲がより適切である。ラビングされない領域は突起
部の影になる部分に生じやすいため、この部分が遮光さ
れている事が好ましい。横電界型の液晶表示装置では、
配線や素子上の不規則な電界による表示劣化を防止する
目的でドレイン配線、スイッチ素子及びゲート配線上を
遮光するため、スペーサ支柱をゲートとドレインの交差
部に設ければ、ラビングの影になる部分が広く遮光され
ているため、表示部には影響をおよぼさない。つまり、
一般の縦電界型では画素電極が広く形成されており、広
い遮光領域はスイッチ素子上に限られるが、横電界型で
はその電極構造により遮光部が広く、特定の場所にスペ
ーサの突起物を設ければ、ラビング処理の不良による液
晶配向不良の領域を遮光部内に留める事が可能となる。
の形成場所が表示に影響しない部分、つまりラビングむ
らにより液晶の配向が適切でない領域が開口部まで及ば
ないような場所となっている。すなわち、開口率の低い
ことを逆に利用したものである。ラビングむらによる液
晶の配向が適切でない領域は、ラビング方向と関係して
いる。横電界型において正の誘電率異方性を有する液晶
を用いる場合、ラビング方向と電極の長手方向のなす角
は０〜４５°の範囲である。尚、この角度は電界による
液晶分子の回転方向を決定するものであり、３〜４０°
の範囲がより適切である。ラビングされない領域は突起
部の影になる部分に生じやすいため、この部分が遮光さ
れている事が好ましい。横電界型の液晶表示装置では、
配線や素子上の不規則な電界による表示劣化を防止する
目的でドレイン配線、スイッチ素子及びゲート配線上を
遮光するため、スペーサ支柱をゲートとドレインの交差
部に設ければ、ラビングの影になる部分が広く遮光され
ているため、表示部には影響をおよぼさない。つまり、
一般の縦電界型では画素電極が広く形成されており、広
い遮光領域はスイッチ素子上に限られるが、横電界型で
はその電極構造により遮光部が広く、特定の場所にスペ
ーサの突起物を設ければ、ラビング処理の不良による液
晶配向不良の領域を遮光部内に留める事が可能となる。
【００２０】また、スペーサである突起物の形状を円
柱、半球体、楕円柱にすることにより、ラビング時の摩
擦が減り、ラビング処理による不良を減らす事ができ
る。このため、液晶配向の乱れた領域が減り、表示特
性、信頼性に優れた液晶表示装置を提供できる。
柱、半球体、楕円柱にすることにより、ラビング時の摩
擦が減り、ラビング処理による不良を減らす事ができ
る。このため、液晶配向の乱れた領域が減り、表示特
性、信頼性に優れた液晶表示装置を提供できる。
【００２１】また、スペーサである突起物は遮光部に形
成しているので、従来のスペーサ粒子を使用した場合の
ようにスペーサ粒子による液晶の配向乱れや点欠陥が生
じたり、コントラスト比が低下することがない。
成しているので、従来のスペーサ粒子を使用した場合の
ようにスペーサ粒子による液晶の配向乱れや点欠陥が生
じたり、コントラスト比が低下することがない。
【００２２】また、カラーフィルタ形成材料でスペーサ
を形成するので、スペーサ密度の疎密を防ぎ、パネルギ
ャップを精度良く一定に保つことができる。これにより
パネルギャップを精度よく実現できる。
を形成するので、スペーサ密度の疎密を防ぎ、パネルギ
ャップを精度良く一定に保つことができる。これにより
パネルギャップを精度よく実現できる。
【００２３】さらに、スペーサ材を分布する工程が不要
となるため、液晶表示装置の歩留まりが向上すると共
に、製造コストの低廉化を図る事ができる。
となるため、液晶表示装置の歩留まりが向上すると共
に、製造コストの低廉化を図る事ができる。
【００２４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の内容について、発
明の実施の形態を説明する。
明の実施の形態を説明する。
【００２５】図１（ａ）と（ｂ）は本発明の横電界型液
晶表示装置の断面構造の例を概略的に示した図である。
晶表示装置の断面構造の例を概略的に示した図である。
【００２６】図１（ａ）は、スペーサを具備したカラー
フィルタ基板の断面図であり、遮光膜上にカラーフィル
タ形成材料で円柱状の突起物を形成し、これをスペーサ
とするものである。図１（ｂ）は、上下基板を組み合わ
せた図で、薄膜トランジスタが形成された基板とカラー
フィルタ及びスペーサが形成された基板を組み合わせ、
両基板の間に液晶を封入してパネルを形成したものであ
る。スペーサはゲート配線４とドレイン配線５の交差部
に対応する対向基板上の遮光部に形成され、スペーサの
高さとアクティブマトリクス基板のドレイン配線５、ゲ
ート絶縁膜９及びゲート配線４の高さを合わせた高さで
主に基板の間隔が規定される。
フィルタ基板の断面図であり、遮光膜上にカラーフィル
タ形成材料で円柱状の突起物を形成し、これをスペーサ
とするものである。図１（ｂ）は、上下基板を組み合わ
せた図で、薄膜トランジスタが形成された基板とカラー
フィルタ及びスペーサが形成された基板を組み合わせ、
両基板の間に液晶を封入してパネルを形成したものであ
る。スペーサはゲート配線４とドレイン配線５の交差部
に対応する対向基板上の遮光部に形成され、スペーサの
高さとアクティブマトリクス基板のドレイン配線５、ゲ
ート絶縁膜９及びゲート配線４の高さを合わせた高さで
主に基板の間隔が規定される。
【００２７】図２は本発明の他の実施の形態による横電
界型液晶表示装置であり、ゲート配線とドレイン配線が
縦横に形成された透明基板１と、カラーフィルタが形成
された対向基板１３と、両基板間に挟持された液晶層２
２と、両基板外面に積層配置されている偏光板１１から
構成される。透明基板１の下面には偏光板１１が接着さ
れている。
界型液晶表示装置であり、ゲート配線とドレイン配線が
縦横に形成された透明基板１と、カラーフィルタが形成
された対向基板１３と、両基板間に挟持された液晶層２
２と、両基板外面に積層配置されている偏光板１１から
構成される。透明基板１の下面には偏光板１１が接着さ
れている。
【００２８】図３は透明基板１上の配線等の構造を示す
平面図であり、１画素分の構成を示す。透明基板１には
ゲート配線４とドレイン配線５が縦横に直交方向に形成
され、交差部近傍にスイッチ素子８が配置されている。
ゲート配線４とドレイン配線５に囲まれた領域が１画素
であり、この領域にコモン電極７とソース電極６が平行
して同一基板上に形成されている。
平面図であり、１画素分の構成を示す。透明基板１には
ゲート配線４とドレイン配線５が縦横に直交方向に形成
され、交差部近傍にスイッチ素子８が配置されている。
ゲート配線４とドレイン配線５に囲まれた領域が１画素
であり、この領域にコモン電極７とソース電極６が平行
して同一基板上に形成されている。
【００２９】スイッチ素子８の構成は従来技術で述べた
薄膜トランジスタと同様である。
薄膜トランジスタと同様である。
【００３０】ゲート配線４とドレイン配線５の交差部で
は、ガラス基板上にゲート配線４が形成され、その上ほ
ぼ全面にゲート絶縁膜、さらにその上にドレイン配線５
が形成されている。
は、ガラス基板上にゲート配線４が形成され、その上ほ
ぼ全面にゲート絶縁膜、さらにその上にドレイン配線５
が形成されている。
【００３１】再び図２に戻って説明する。対向基板１３
は、ガラス基板の下面にカラーフィルタを有しており、
カラーフィルタにはＲ、Ｇ、Ｂが各所定の画素開口部に
対向した位置に１層ずつ形成されている。アクティブマ
トリクス基板のゲート配線４及びスイッチ素子に対向す
る対向基板１３上には、樹脂による遮光膜２３が形成さ
れている。対向基板１３の上面には偏光板１１が接着さ
れている。偏光板１１は上下の偏光板の透過軸が互いに
直交するように、所謂クロスニコル配置されている。下
の偏光板の透過軸は液晶分子の配向方向と一致するよう
に、所定の角度に配置し、上の偏光板の透過軸は下の偏
光板の透過軸と直交するように配置している。
は、ガラス基板の下面にカラーフィルタを有しており、
カラーフィルタにはＲ、Ｇ、Ｂが各所定の画素開口部に
対向した位置に１層ずつ形成されている。アクティブマ
トリクス基板のゲート配線４及びスイッチ素子に対向す
る対向基板１３上には、樹脂による遮光膜２３が形成さ
れている。対向基板１３の上面には偏光板１１が接着さ
れている。偏光板１１は上下の偏光板の透過軸が互いに
直交するように、所謂クロスニコル配置されている。下
の偏光板の透過軸は液晶分子の配向方向と一致するよう
に、所定の角度に配置し、上の偏光板の透過軸は下の偏
光板の透過軸と直交するように配置している。
【００３２】ゲート配線４とドレイン配線５の交差部に
対応する対向基板１３の遮光膜上には、第１色目（１番
目に形成する）のカラーフィルタ１６と、第２色目（２
番目に形成する）のカラーフィルタ１７と、第３色目
（３番目に形成する）のカラーフィルタ１８からなるス
ペーサ１９が形成されている。図３に示すスペーサ接触
部３はこのスペーサの位置を示したものであり、ゲート
配線４とドレイン配線５の交差部に位置されている。ス
ペーサ接触部３は平面図では円で示されているが、スペ
ーサの立体形状は円柱である。
対応する対向基板１３の遮光膜上には、第１色目（１番
目に形成する）のカラーフィルタ１６と、第２色目（２
番目に形成する）のカラーフィルタ１７と、第３色目
（３番目に形成する）のカラーフィルタ１８からなるス
ペーサ１９が形成されている。図３に示すスペーサ接触
部３はこのスペーサの位置を示したものであり、ゲート
配線４とドレイン配線５の交差部に位置されている。ス
ペーサ接触部３は平面図では円で示されているが、スペ
ーサの立体形状は円柱である。
【００３３】図４は本発明の実施の形態の液晶表示装置
を対向基板側から見た図である。図４の斜線の部分が樹
脂遮光膜で光が遮られる部分である。従って、スペーサ
接触部３をゲート配線４とドレイン配線５の交差する部
分に設けたので、表示領域（斜線のない部分）より最も
離れた位置にあり、しかも横電界型なので表示領域とス
ペーサ支柱との距離が大きくとれる。
を対向基板側から見た図である。図４の斜線の部分が樹
脂遮光膜で光が遮られる部分である。従って、スペーサ
接触部３をゲート配線４とドレイン配線５の交差する部
分に設けたので、表示領域（斜線のない部分）より最も
離れた位置にあり、しかも横電界型なので表示領域とス
ペーサ支柱との距離が大きくとれる。
【００３４】次に、実施の形態を基に具体的な値を用い
て説明する。まず、スペーサの寸法について述べる。第
１色目のカラーフィルタ（Ｒ）の膜厚は１．２μｍ、第
２色目のカラーフィルタ（Ｇ）の膜厚は１．２μｍ、第
３色目のカラーフィルタ（Ｂ）の膜厚は１．２μｍであ
るので、突起部は３．６μｍとなる。これにゲート配
線、ゲート絶縁膜、ドレイン配線、保護膜および配向膜
のそれぞれの膜厚０．１μｍ、０．３μｍ、０．１μ
ｍ、０．２μｍ、０．１μｍを加えた厚さでパネルギャ
ップｄが規定され、この例ではｄは４．４μｍである。
また、スペーサは円柱であり、その直径はゲート配線幅
とドレイン配線幅のいずれか小さい方の幅より小さく、
約１０μｍである。
て説明する。まず、スペーサの寸法について述べる。第
１色目のカラーフィルタ（Ｒ）の膜厚は１．２μｍ、第
２色目のカラーフィルタ（Ｇ）の膜厚は１．２μｍ、第
３色目のカラーフィルタ（Ｂ）の膜厚は１．２μｍであ
るので、突起部は３．６μｍとなる。これにゲート配
線、ゲート絶縁膜、ドレイン配線、保護膜および配向膜
のそれぞれの膜厚０．１μｍ、０．３μｍ、０．１μ
ｍ、０．２μｍ、０．１μｍを加えた厚さでパネルギャ
ップｄが規定され、この例ではｄは４．４μｍである。
また、スペーサは円柱であり、その直径はゲート配線幅
とドレイン配線幅のいずれか小さい方の幅より小さく、
約１０μｍである。
【００３５】以下、本実施の形態の液晶表示装置の製造
方法について述べる。まず、最初にアクティブマトリク
ス基板の製造方法について述べる。
方法について述べる。まず、最初にアクティブマトリク
ス基板の製造方法について述べる。
【００３６】透明ガラス基板に、スパッタ法によりクロ
ム膜を形成し、ホトリソグラフィ法によりゲート配線、
コモン電極をパターン化する。その上にＣＶＤ法により
窒化シリコンからなるゲート絶縁膜、アモルファスシリ
コン（ａ−Ｓｉ）膜を形成する。ａ−Ｓｉの一部を覆
い、薄膜トランジスタを形成するように、クロムからな
るドレイン配線、及びソース電極を、スパッタ法、フォ
トリソグラフィ法により形成し、その上に窒化シリコン
からなる保護絶縁膜を形成する。次いでこれらの上に配
向膜を形成し、ソース電極の長手方向と１５°をなす方
向にラビング処理により配向処理をする。
ム膜を形成し、ホトリソグラフィ法によりゲート配線、
コモン電極をパターン化する。その上にＣＶＤ法により
窒化シリコンからなるゲート絶縁膜、アモルファスシリ
コン（ａ−Ｓｉ）膜を形成する。ａ−Ｓｉの一部を覆
い、薄膜トランジスタを形成するように、クロムからな
るドレイン配線、及びソース電極を、スパッタ法、フォ
トリソグラフィ法により形成し、その上に窒化シリコン
からなる保護絶縁膜を形成する。次いでこれらの上に配
向膜を形成し、ソース電極の長手方向と１５°をなす方
向にラビング処理により配向処理をする。
【００３７】次いで、対向基板の製造方法について述べ
る。
る。
【００３８】透明なガラス基板にカーボンを含む感光性
ポリマーを形成し、フォトリソグラフィ技術で遮光膜を
設けた後、カラーフィルタを形成する。カラーフィルタ
は赤色顔料を含む感光性ポリマーを基板上に形成し、フ
ォトリソグラフィ技術で赤色フィルタ形成領域以外を除
去し、赤色フィルタを形成する。次に同様な工程を施す
ことによって、緑色フィルタ、青色フィルタを順次形成
する。スペーサは透明基板上に各色フィルタを形成する
際に、遮光膜の一部に第１色目の赤色フィルタ、第２色
目の緑色フィルタ、第３色目の青色フィルタを重ねて形
成する。スペーサは前述の通り、ゲート配線とドレイン
配線の交差部に対応する対向基板の遮光膜上に設ける。
ポリマーを形成し、フォトリソグラフィ技術で遮光膜を
設けた後、カラーフィルタを形成する。カラーフィルタ
は赤色顔料を含む感光性ポリマーを基板上に形成し、フ
ォトリソグラフィ技術で赤色フィルタ形成領域以外を除
去し、赤色フィルタを形成する。次に同様な工程を施す
ことによって、緑色フィルタ、青色フィルタを順次形成
する。スペーサは透明基板上に各色フィルタを形成する
際に、遮光膜の一部に第１色目の赤色フィルタ、第２色
目の緑色フィルタ、第３色目の青色フィルタを重ねて形
成する。スペーサは前述の通り、ゲート配線とドレイン
配線の交差部に対応する対向基板の遮光膜上に設ける。
【００３９】カラーフィルタを形成したガラス基板に配
向膜を形成し配向処理した後、配向方向がパラレル配向
になるように２枚の基板を向かい合わせ、周囲を樹脂で
封着して、液晶表示パネルを作製する。これに誘電率異
方性が４．５、複屈折率Δｎが０．０８０のネマチック
液晶組成物を封入し、注入孔を封止し、両基板に偏光板
を接着して、電圧を印加しないときに光透過しないモー
ド（ノーマリーブラック）の液晶表示装置を得ることが
できる。
向膜を形成し配向処理した後、配向方向がパラレル配向
になるように２枚の基板を向かい合わせ、周囲を樹脂で
封着して、液晶表示パネルを作製する。これに誘電率異
方性が４．５、複屈折率Δｎが０．０８０のネマチック
液晶組成物を封入し、注入孔を封止し、両基板に偏光板
を接着して、電圧を印加しないときに光透過しないモー
ド（ノーマリーブラック）の液晶表示装置を得ることが
できる。
【００４０】次に本実施の形態の液晶表示装置の作用を
説明する。
説明する。
【００４１】従来の液晶表示装置では、カラーフィルタ
の形成された対向基板あるいはアクティブマトリクス基
板上にスペーサの役目をするかさ高い突起物を表示領域
近くに設けているため、スペーサの周囲でラビングされ
ない領域が生じ表示特性が劣化するという不具合があっ
た。しかし本実施例の液晶表示装置では、ラビング方向
に対し突起物の影に相当する部分が広く遮光されている
ゲートとドレインの交差部に、ラビング時の摩擦の少な
い円柱状の突起を設けているため、ラビングされない領
域も少なく、画素開口部への影響、つまり表示特性の劣
化は起らない。
の形成された対向基板あるいはアクティブマトリクス基
板上にスペーサの役目をするかさ高い突起物を表示領域
近くに設けているため、スペーサの周囲でラビングされ
ない領域が生じ表示特性が劣化するという不具合があっ
た。しかし本実施例の液晶表示装置では、ラビング方向
に対し突起物の影に相当する部分が広く遮光されている
ゲートとドレインの交差部に、ラビング時の摩擦の少な
い円柱状の突起を設けているため、ラビングされない領
域も少なく、画素開口部への影響、つまり表示特性の劣
化は起らない。
【００４２】また、スペーサである突起物の形状が円柱
であるため、ラビング処理の際に発生するラビング屑の
付着を防ぐことができる。このため、ラビング屑の付着
による液晶配向の乱れもなく、またラビング屑の汚染に
よる長期残像発生も防止する事ができる。スペーサの領
域は、ラビングによる不具合が生じないのであれば、図
５に示す（第２の実施の形態）のように、ゲート配線４
又はドレイン配線５の幅より外にスペーサの領域がはみ
出してもよい。また、形状はラビング処理の摩擦を少な
くするために図６に示す（第三の実施の形態）ように楕
円の長軸がラビングの方向と一致するような楕円柱であ
ってもよい。
であるため、ラビング処理の際に発生するラビング屑の
付着を防ぐことができる。このため、ラビング屑の付着
による液晶配向の乱れもなく、またラビング屑の汚染に
よる長期残像発生も防止する事ができる。スペーサの領
域は、ラビングによる不具合が生じないのであれば、図
５に示す（第２の実施の形態）のように、ゲート配線４
又はドレイン配線５の幅より外にスペーサの領域がはみ
出してもよい。また、形状はラビング処理の摩擦を少な
くするために図６に示す（第三の実施の形態）ように楕
円の長軸がラビングの方向と一致するような楕円柱であ
ってもよい。
【００４３】また、画素領域に液晶の配向を乱し光漏れ
を生じさせたり、それ自身によって光漏れや点欠陥を生
じさせる透明球体状のスペーサが存在しないので、黒レ
ベルの低下やコントラストの低下といった問題が生じな
い。
を生じさせたり、それ自身によって光漏れや点欠陥を生
じさせる透明球体状のスペーサが存在しないので、黒レ
ベルの低下やコントラストの低下といった問題が生じな
い。
【００４４】また、カラーフィルタ形成材料でスペーサ
を形成するので、スペーサ密度の疎密を防ぎ、パネルの
厚みを精度良く一定に保つことができる。これによりパ
ネルギャップを精度よく実現できる。
を形成するので、スペーサ密度の疎密を防ぎ、パネルの
厚みを精度良く一定に保つことができる。これによりパ
ネルギャップを精度よく実現できる。
【００４５】さらに、スペーサとなる突起部をカラーフ
ィルタで形成するので、セルギャップを規定する樹脂等
のスペーサを形成するための特別な工程やスペーサを分
布するといった煩雑な工程が不要となるため、従来より
も工程数を減らす事ができる。従って、液晶表示装置の
歩留まりが向上すると共に、製造コストの低廉化を図る
事ができる。
ィルタで形成するので、セルギャップを規定する樹脂等
のスペーサを形成するための特別な工程やスペーサを分
布するといった煩雑な工程が不要となるため、従来より
も工程数を減らす事ができる。従って、液晶表示装置の
歩留まりが向上すると共に、製造コストの低廉化を図る
事ができる。
【００４６】なおスイッチ素子としては、薄膜トランジ
スタの他にも２端子素子（ＭＩＭ等）を用いてもよい。
スタの他にも２端子素子（ＭＩＭ等）を用いてもよい。
【００４７】次に本発明の第四の実施の形態である液晶
表示装置の断面図を図７に示す。本実施例ではスペーサ
の形状を図７に示すような半球体とした対向基板を用い
た他は、これまでに示した実施の形態と同様に液晶表示
装置を作製できる。
表示装置の断面図を図７に示す。本実施例ではスペーサ
の形状を図７に示すような半球体とした対向基板を用い
た他は、これまでに示した実施の形態と同様に液晶表示
装置を作製できる。
【００４８】以下に対向基板の製造方法について説明す
る。
る。
【００４９】透明なガラス基板にクロムをスパッタし、
遮光膜２３を設けた後、カラーフィルタ１２を形成す
る。カラーフィルタ１２は赤色顔料を含む感光性ポリマ
ーをドライフィルム化し、これを基板上の所定の位置に
接着する事により形成する。スペーサ１９は、顔料を含
む感光性ポリマーをフィルム化する際、特定の位置に凸
部あるいは凹部を設けることにより形成する事ができ
る。スペーサの位置は、前述の通り、ゲート配線４とド
レイン配線５の交差部に対応する対向基板の遮光膜上と
する。次に同様な工程を施すことによって、緑色フィル
タ、青色フィルタを順次形成する。
遮光膜２３を設けた後、カラーフィルタ１２を形成す
る。カラーフィルタ１２は赤色顔料を含む感光性ポリマ
ーをドライフィルム化し、これを基板上の所定の位置に
接着する事により形成する。スペーサ１９は、顔料を含
む感光性ポリマーをフィルム化する際、特定の位置に凸
部あるいは凹部を設けることにより形成する事ができ
る。スペーサの位置は、前述の通り、ゲート配線４とド
レイン配線５の交差部に対応する対向基板の遮光膜上と
する。次に同様な工程を施すことによって、緑色フィル
タ、青色フィルタを順次形成する。
【００５０】この液晶表示装置を駆動させたところ、従
来の透明球体状のスペーサを用いた場合に見られた表示
部のざらつきがなく、均一な表示が得られた。これはス
ペーサ材による光漏れや点欠陥が存在しないためであ
る。コントラスト比は１：１５０であり、十分高い。
来の透明球体状のスペーサを用いた場合に見られた表示
部のざらつきがなく、均一な表示が得られた。これはス
ペーサ材による光漏れや点欠陥が存在しないためであ
る。コントラスト比は１：１５０であり、十分高い。
【００５１】本実施例ではスペーサである突起物の形状
が半球体であるためラビング時の摩擦による屑の発生も
ほとんどなく基板上を完全にラビングする事ができる。
また所望の位置へのスペーサ材の形成が容易にでき、パ
ネルの間隔を高い精度で一定にする事ができる。画面内
でのパネルの間隔がほぼ一定であり、スペーサ材が遮光
部に形成されているため、表示むらがなく高品質な表示
画が得られる。
が半球体であるためラビング時の摩擦による屑の発生も
ほとんどなく基板上を完全にラビングする事ができる。
また所望の位置へのスペーサ材の形成が容易にでき、パ
ネルの間隔を高い精度で一定にする事ができる。画面内
でのパネルの間隔がほぼ一定であり、スペーサ材が遮光
部に形成されているため、表示むらがなく高品質な表示
画が得られる。
【００５２】なお、スペーサは各色カラーフィルタに形
成しても、赤色カラーフィルタのみに形成してもよい。
成しても、赤色カラーフィルタのみに形成してもよい。
【００５３】
【発明の効果】本発明によれば、横電界型の液晶表示装
置において、カラーフィルタの形成されている対向基板
上の特定の遮光部に、円柱形、半球体または楕円柱形の
スペーサを形成しているので、ラビング方向に対し突起
物の影に相当する部分が広く遮光されているため、画素
開口部の表示特性の劣化は起らない。またラビング時の
摩擦が少ないため、ラビングされない領域の発生、及び
ラビング処理の際に発生するラビング屑の付着を防ぐこ
とができる。
置において、カラーフィルタの形成されている対向基板
上の特定の遮光部に、円柱形、半球体または楕円柱形の
スペーサを形成しているので、ラビング方向に対し突起
物の影に相当する部分が広く遮光されているため、画素
開口部の表示特性の劣化は起らない。またラビング時の
摩擦が少ないため、ラビングされない領域の発生、及び
ラビング処理の際に発生するラビング屑の付着を防ぐこ
とができる。
【００５４】また、画素領域に液晶の配向を乱し光漏れ
を生じさせたり、それ自身によって光漏れや点欠陥を生
じさせる透明球体状のスペーサが存在しないので、黒レ
ベルの低下やコントラストの低下といった問題が生じな
い。
を生じさせたり、それ自身によって光漏れや点欠陥を生
じさせる透明球体状のスペーサが存在しないので、黒レ
ベルの低下やコントラストの低下といった問題が生じな
い。
【００５５】また、基板間の間隔を精度良く一定に保つ
ことができ、このため表示むらのない高品質な表示画を
得ることができる。さらに、スペーサを分散する工程が
省け、液晶表示装置の歩留まりの向上、及び製造コスト
の低廉化を図ることができる。
ことができ、このため表示むらのない高品質な表示画を
得ることができる。さらに、スペーサを分散する工程が
省け、液晶表示装置の歩留まりの向上、及び製造コスト
の低廉化を図ることができる。
【図１】（ａ）本発明によるカラーフィルタ基板の一部
を示す断面図。 （ｂ）本発明の横電界型液晶表示装置の一部を示す断面
図。
を示す断面図。 （ｂ）本発明の横電界型液晶表示装置の一部を示す断面
図。
【図２】本発明の第一の実施形態によるスペーサ構造を
示す断面図。
示す断面図。
【図３】本発明の第一の実施形態による液晶表示装置の
アクティブマトリクス基板の部分平面図。
アクティブマトリクス基板の部分平面図。
【図４】本発明の第一の実施形態による液晶表示装置を
カラーフィルタ側から見た部分平面図。
カラーフィルタ側から見た部分平面図。
【図５】本発明の第二の実施形態によるスペーサ接触部
を説明するアクティブマトリクス基板の部分平面図。
を説明するアクティブマトリクス基板の部分平面図。
【図６】本発明の第三の実施形態によるスペーサ接触部
を説明するアクティブマトリクス基板の部分平面図。
を説明するアクティブマトリクス基板の部分平面図。
【図７】本発明の第四の実施形態によるスペーサ構造を
示す断面図。
示す断面図。
【図８】（ａ）従来の縦電界型液晶表示装置のアクティ
ブマトリクス基板の部分平面図。 （ｂ）図８（ａ）のＡ−Ａ断面図。
ブマトリクス基板の部分平面図。 （ｂ）図８（ａ）のＡ−Ａ断面図。
１ 透明基板 ２ アクティブマトリクス基板 ３ スペーサ接触部 ４ ゲート配線 ５ ドレイン配線 ６ ソース電極 ７ コモン電極 ８ スイッチ素子 ９ ゲート絶縁膜 １０ 半導体層 １１ 偏光板 １２ カラーフィルタ １３ 対向基板 １４ 開口部 １５ 遮光膜 １６ 第一色目のカラーフィルタ １７ 第二色目のカラーフィルタ １８ 第三色目のカラーフィルタ １９ スペーサ ２０ 配向膜 ２１ ラビング方向 ２２ 液晶層 ２３ 遮光膜 ２４ 保護膜 ２５ 画素電極
Claims (7)
- 【請求項１】 絶縁基板上に配置された電極対間に電位
差を与え、その電位差で発生した前記基板面に平行な電
界によって液晶を駆動させる構造を有する横電界型液晶
表示装置において、前記電極対の一方に接続されたスイ
ッチ素子の近傍のみにセルギャップを規定するスペーサ
を設けたことを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項２】 ゲート配線と、ドレイン配線と、前記ゲ
ート配線とドレイン配線との各交差部近傍に形成された
スイッチ素子と、前記スイッチ素子に接続されたソース
電極と、少なくとも一部が前記ソース電極とほぼ平行で
あるコモン電極とを有する第１の基板と、液晶を介在し
て前記第１の基板に対向する第２の基板とを有し、前記
第１、第２の基板間に挟持された液晶と、前記第１の基
板の表面に平行な電界により液晶を制御する横電界型液
晶表示装置において、前記スイッチ素子の近傍で前記ゲ
ート配線とドレイン配線の交差部に対応する前記対向基
板上の位置に、前記両基板の間隔を一定に規制するため
のスペーサを具備することを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項３】 前記スペーサがカラーフィルタ形成材
料、あるいは遮光層を形成する樹脂により構成されてい
ることを特徴とする請求項１または２記載の液晶表示装
置。 - 【請求項４】 前記スペーサの形状が円柱状であること
を特徴とする請求項１または２記載の液晶表示装置。 - 【請求項５】 前記スペーサの形状が半球状であること
を特徴とする請求項１または２記載の液晶表示装置。 - 【請求項６】 前記スペーサの形状が基板のラビング方
向を長軸とする楕円柱状であることを特徴とする請求項
１または２記載の液晶表示装置。 - 【請求項７】 前記スペーサが、少なくともゲート電
極、ゲート絶縁膜、ドレイン電極、及びカラーフィルタ
形成材料の層を含むことを特徴とする請求項１または２
記載の液晶表示装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8205616A JP2907137B2 (ja) | 1996-08-05 | 1996-08-05 | 液晶表示装置 |
| US08/906,150 US6097467A (en) | 1996-08-05 | 1997-08-05 | Latitudinal LCD with cylindrical and eliptical spacers at intersection of signal and gate lines |
| KR1019970037373A KR100269196B1 (ko) | 1996-08-05 | 1997-08-05 | 액정표시장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8205616A JP2907137B2 (ja) | 1996-08-05 | 1996-08-05 | 液晶表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1048636A true JPH1048636A (ja) | 1998-02-20 |
| JP2907137B2 JP2907137B2 (ja) | 1999-06-21 |
Family
ID=16509836
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8205616A Expired - Lifetime JP2907137B2 (ja) | 1996-08-05 | 1996-08-05 | 液晶表示装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6097467A (ja) |
| JP (1) | JP2907137B2 (ja) |
| KR (1) | KR100269196B1 (ja) |
Cited By (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000227598A (ja) * | 1999-02-05 | 2000-08-15 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
| JP2000298283A (ja) * | 1999-04-14 | 2000-10-24 | Hitachi Ltd | 液晶表示装置 |
| US6317188B1 (en) | 1999-04-20 | 2001-11-13 | Nec Corporation | LCD having particular spacing between spacers |
| KR100374435B1 (ko) * | 1998-09-07 | 2003-03-03 | 닛폰 덴키(주) | 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 |
| US6549260B1 (en) | 1999-03-26 | 2003-04-15 | Nec Corporation | Liquid crystal display device of latitudinal electric field type having protruded spacer covers common line |
| US6573969B1 (en) | 1999-07-14 | 2003-06-03 | Nec Corporation | Liquid crystal display unit with conductive spacers between two substrate structures for biasing back channels of thin film transistors |
| US6583846B1 (en) | 1999-04-14 | 2003-06-24 | Hitachi, Ltd. | Liquid crystal display device with spacer covered with an electrode |
| US6972822B2 (en) | 2001-09-26 | 2005-12-06 | Casio Computer Co., Ltd. | Field sequential liquid crystal display apparatus using active matrix liquid crystal display device |
| KR100565737B1 (ko) * | 1998-12-11 | 2006-05-25 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시소자 |
| US7067756B2 (en) | 2004-11-12 | 2006-06-27 | Eastman Kodak Company | Flexible sheet for resistive touch screen |
| US7081888B2 (en) | 2003-04-24 | 2006-07-25 | Eastman Kodak Company | Flexible resistive touch screen |
| US7170576B2 (en) | 2003-06-17 | 2007-01-30 | Lg.Philips Lcd Co., Ltd. | Thin film transistor array substrate and fabricating method thereof |
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