JPH1048183A - 液体クロマトグラフ質量分析装置 - Google Patents
液体クロマトグラフ質量分析装置Info
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- JPH1048183A JPH1048183A JP21941796A JP21941796A JPH1048183A JP H1048183 A JPH1048183 A JP H1048183A JP 21941796 A JP21941796 A JP 21941796A JP 21941796 A JP21941796 A JP 21941796A JP H1048183 A JPH1048183 A JP H1048183A
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- needle
- ion
- liquid chromatograph
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/16—Ion sources; Ion guns using surface ionisation, e.g. field-, thermionic- or photo-emission
- H01J49/165—Electrospray ionisation
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- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 イオンスプレーの有無やイオンスプレーの噴
射位置に応じて装置の各部を適宜制御することができる
液体クロマトグラフ質量分析装置を提供する。 【解決手段】 赤外線発光部３５と赤外線受光部３６ａ
及び３６ｂから成るイオンスプレー検出部３４がイオン
スプレーの有無及び位置を検出する。制御装置３７はイ
オンスプレーが検出されている時にのみ四重極への電圧
の印加等を行なう。また、制御装置３７はイオンスプレ
ーの位置が最適となるようにニードル駆動部４０により
ニードル１８の位置を調節する。
射位置に応じて装置の各部を適宜制御することができる
液体クロマトグラフ質量分析装置を提供する。 【解決手段】 赤外線発光部３５と赤外線受光部３６ａ
及び３６ｂから成るイオンスプレー検出部３４がイオン
スプレーの有無及び位置を検出する。制御装置３７はイ
オンスプレーが検出されている時にのみ四重極への電圧
の印加等を行なう。また、制御装置３７はイオンスプレ
ーの位置が最適となるようにニードル駆動部４０により
ニードル１８の位置を調節する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液体クロマトグラ
フ質量分析装置に関し、特に液体クロマトグラフ部と質
量分析部との間のインタフェイスに関する。
フ質量分析装置に関し、特に液体クロマトグラフ部と質
量分析部との間のインタフェイスに関する。
【０００２】
【従来の技術】液体クロマトグラフ質量分析装置（ＬＣ
／ＭＳ）では、液体クロマトグラフ部（ＬＣ部）で分離
された成分はイオン化されて質量分析部（ＭＳ部）へ導
入されるが、ＬＣ部からの溶離液を液状のままＭＳ部へ
導入することはできないため、ＬＣ部とＭＳ部の間には
液体試料を気化（あるいは霧化）及びイオン化するため
のインタフェイスが必要となる。このようなＬＣ／ＭＳ
用のインタフェイスとしては、エレクトロスプレーイオ
ン化法（ＥＳＩ）、大気圧化学イオン化法（ＡＰＣＩ）
等の大気圧イオン化法（ＡＰＩ）により液状試料を霧化
及びイオン化するものが広く用いられている。
／ＭＳ）では、液体クロマトグラフ部（ＬＣ部）で分離
された成分はイオン化されて質量分析部（ＭＳ部）へ導
入されるが、ＬＣ部からの溶離液を液状のままＭＳ部へ
導入することはできないため、ＬＣ部とＭＳ部の間には
液体試料を気化（あるいは霧化）及びイオン化するため
のインタフェイスが必要となる。このようなＬＣ／ＭＳ
用のインタフェイスとしては、エレクトロスプレーイオ
ン化法（ＥＳＩ）、大気圧化学イオン化法（ＡＰＣＩ）
等の大気圧イオン化法（ＡＰＩ）により液状試料を霧化
及びイオン化するものが広く用いられている。
【０００３】図６はＡＰＩ式のインタフェイスを有する
ＬＣ／ＭＳの一例を示す図である。ＬＣ部１２のカラム
１４から流出する溶離液はまずインタフェイス１６に導
入され、ここでＥＳＩやＡＰＣＩ等の方法で霧化及びイ
オン化されてニードル１８の先端からイオンスプレーと
して噴射される。このイオンスプレーの一部はインタフ
ェイス１６とＭＳ部２０との間に設けられたキャピラリ
２２を通ってＭＳ部２０へ入り、レンズ系２３により収
束及び加速された後、四重極２４に入射し、特定の質量
数（ｍ／ｚ）を有するイオンだけが四重極２４を通過し
てイオン検出器２６により検出される。
ＬＣ／ＭＳの一例を示す図である。ＬＣ部１２のカラム
１４から流出する溶離液はまずインタフェイス１６に導
入され、ここでＥＳＩやＡＰＣＩ等の方法で霧化及びイ
オン化されてニードル１８の先端からイオンスプレーと
して噴射される。このイオンスプレーの一部はインタフ
ェイス１６とＭＳ部２０との間に設けられたキャピラリ
２２を通ってＭＳ部２０へ入り、レンズ系２３により収
束及び加速された後、四重極２４に入射し、特定の質量
数（ｍ／ｚ）を有するイオンだけが四重極２４を通過し
てイオン検出器２６により検出される。
【０００４】ＡＰＩ式のインタフェイス１６内部の圧力
は大気圧に等しい。一方、四重極２４等が格納されてい
る質量分析室２１では、ターボ分子ポンプ（ＴＭＰ）等
の強力な排気装置により室内の空気を外部へ排出して１
０-5〜１０-6Torr程度の高真空を維持する必要がある。
このようなインタフェイス１６と質量分析室２１との間
の圧力差を発生させるため、最近では、図６に示したよ
うに、質量分析室２１とインタフェイス１６との間に中
間真空室を設け、ターボ分子ポンプやロータリポンプ
（ＲＰ）等を用いて大気圧から上記高真空まで段階的に
圧力を低下させる方法も用いられる。しかし、それでも
中間真空室内の圧力は大気圧に比べて相当に低い（１０
-3〜１０-4Torr）ため、キャピラリ２２には０．数ｍｍ
程度の小さい内径を有するものを用いて、中間真空室へ
の空気の急激な流入を防いでいる。
は大気圧に等しい。一方、四重極２４等が格納されてい
る質量分析室２１では、ターボ分子ポンプ（ＴＭＰ）等
の強力な排気装置により室内の空気を外部へ排出して１
０-5〜１０-6Torr程度の高真空を維持する必要がある。
このようなインタフェイス１６と質量分析室２１との間
の圧力差を発生させるため、最近では、図６に示したよ
うに、質量分析室２１とインタフェイス１６との間に中
間真空室を設け、ターボ分子ポンプやロータリポンプ
（ＲＰ）等を用いて大気圧から上記高真空まで段階的に
圧力を低下させる方法も用いられる。しかし、それでも
中間真空室内の圧力は大気圧に比べて相当に低い（１０
-3〜１０-4Torr）ため、キャピラリ２２には０．数ｍｍ
程度の小さい内径を有するものを用いて、中間真空室へ
の空気の急激な流入を防いでいる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来のＬＣ／ＭＳで
は、その起動後、ＬＣ部からの溶離液がインタフェイス
に導入されイオンスプレーが噴射されているか否かに関
わらず、ＭＳ部は常時イオンを検出できる状態を維持し
ている。イオンを検出できる状態においては、四重極や
イオン検出器等への電圧の印加、イオン検出器からの出
力信号の処理（Ａ／Ｄ変換、データの記憶等）等が行な
われているが、イオンスプレーが噴射されていないとき
にもこれらの動作を行なうことは省エネルギや装置各部
の劣化防止という観点からは好ましくない。
は、その起動後、ＬＣ部からの溶離液がインタフェイス
に導入されイオンスプレーが噴射されているか否かに関
わらず、ＭＳ部は常時イオンを検出できる状態を維持し
ている。イオンを検出できる状態においては、四重極や
イオン検出器等への電圧の印加、イオン検出器からの出
力信号の処理（Ａ／Ｄ変換、データの記憶等）等が行な
われているが、イオンスプレーが噴射されていないとき
にもこれらの動作を行なうことは省エネルギや装置各部
の劣化防止という観点からは好ましくない。
【０００６】また、上記のようにインタフェイスとＭＳ
部との間のキャピラリの内径は極めて小さいため、もし
キャピラリに対するニードルの先端の位置がずれていた
り、ニードルがキャピラリの軸に対して傾いていると、
イオン化した試料が充分にキャピラリ内へ送り込まれな
くなり、従ってＭＳ部にイオン化した試料が充分に導入
されなくなるという問題が生じる。
部との間のキャピラリの内径は極めて小さいため、もし
キャピラリに対するニードルの先端の位置がずれていた
り、ニードルがキャピラリの軸に対して傾いていると、
イオン化した試料が充分にキャピラリ内へ送り込まれな
くなり、従ってＭＳ部にイオン化した試料が充分に導入
されなくなるという問題が生じる。
【０００７】本発明はこのような課題を解決するために
成されたものであり、その目的とするところは、イオン
スプレーの有無やイオンスプレーの噴射位置に応じて装
置の各部を適宜制御することができる液体クロマトグラ
フ質量分析装置を提供することにある。
成されたものであり、その目的とするところは、イオン
スプレーの有無やイオンスプレーの噴射位置に応じて装
置の各部を適宜制御することができる液体クロマトグラ
フ質量分析装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に成された本発明に係る液体クロマトグラフ質量分析装
置は、液体クロマトグラフからの溶離液を霧化及びイオ
ン化してニードルからイオンスプレーとして噴射するこ
とにより質量分析装置へイオン化した試料を導入するイ
ンタフェイスを備える液体クロマトグラフ質量分析装置
において、上記イオンスプレーが噴射される空間に向け
てモニタ光を発する発光部と、上記モニタ光を受けてそ
の強度に応じた信号を出力する受光部とを含むイオンス
プレー検出手段を備えることを特徴としている。
に成された本発明に係る液体クロマトグラフ質量分析装
置は、液体クロマトグラフからの溶離液を霧化及びイオ
ン化してニードルからイオンスプレーとして噴射するこ
とにより質量分析装置へイオン化した試料を導入するイ
ンタフェイスを備える液体クロマトグラフ質量分析装置
において、上記イオンスプレーが噴射される空間に向け
てモニタ光を発する発光部と、上記モニタ光を受けてそ
の強度に応じた信号を出力する受光部とを含むイオンス
プレー検出手段を備えることを特徴としている。
【０００９】
【発明の実施の形態及び発明の効果】分析の開始後、発
光部は分析を通じて常にモニタ光を発する状態に維持さ
れる。液体クロマトグラフからの溶離液がインタフェイ
スで霧化及びイオン化されてニードルからイオンスプレ
ーとして噴射されると、上記モニタ光はイオンスプレー
を通過するようになるが、この通過の際にイオンスプレ
ー中の多数のイオン粒子による散乱を受けるため、通過
後のモニタ光の強度は通過前の強度よりも一般に小さく
なる。このようにイオンスプレーを通過したモニタ光は
受光部に到達し、受光部はモニタ光の強度に応じた信号
を出力する。受光部が出力する信号は、装置の各部を制
御するために適宜利用することができる。
光部は分析を通じて常にモニタ光を発する状態に維持さ
れる。液体クロマトグラフからの溶離液がインタフェイ
スで霧化及びイオン化されてニードルからイオンスプレ
ーとして噴射されると、上記モニタ光はイオンスプレー
を通過するようになるが、この通過の際にイオンスプレ
ー中の多数のイオン粒子による散乱を受けるため、通過
後のモニタ光の強度は通過前の強度よりも一般に小さく
なる。このようにイオンスプレーを通過したモニタ光は
受光部に到達し、受光部はモニタ光の強度に応じた信号
を出力する。受光部が出力する信号は、装置の各部を制
御するために適宜利用することができる。
【００１０】受光部が出力する信号を利用して装置の各
部を制御する方法は、例えば次のようなものである。ま
ず、マイクロコンピュータ等を用いて制御装置を構成
し、この制御装置に上記受光部からの信号が入力される
ようにする。更にこの制御装置を四重極やイオン検出器
とも接続し、該制御装置により四重極やイオン検出器へ
の電圧の印加、あるいはイオン検出器の出力信号をデジ
タルデータに変換して記憶する処理等が行なわれるよう
にする。このように装置を構成した後、まずイオンスプ
レーが噴射されていないときに受光部が出力する信号の
強度（基準強度とする）を制御装置のメモリに記憶す
る。次に、分析の開始後、制御装置は受光部からの信号
を常にモニタするが、その信号の強度と上記基準強度と
の差が所定範囲内にある間はイオンスプレーが噴射され
ていないものと判断して四重極やイオン検出器等への電
圧の印加やイオン検出器の出力信号の処理を行なわな
い。一方、もし受光部からの信号の強度と上記基準強度
との差が所定範囲内にない場合はイオンスプレーが噴射
されているものと判断して四重極やイオン検出器への電
圧の印加やイオン検出器の出力信号の処理を行なう。こ
のようにすれば、実際にＬＣ部からの溶離液が導入され
ている間のみＭＳ部の各部を起動させることができるよ
うになるため、省エネルギや装置各部の劣化防止という
面で有効である。
部を制御する方法は、例えば次のようなものである。ま
ず、マイクロコンピュータ等を用いて制御装置を構成
し、この制御装置に上記受光部からの信号が入力される
ようにする。更にこの制御装置を四重極やイオン検出器
とも接続し、該制御装置により四重極やイオン検出器へ
の電圧の印加、あるいはイオン検出器の出力信号をデジ
タルデータに変換して記憶する処理等が行なわれるよう
にする。このように装置を構成した後、まずイオンスプ
レーが噴射されていないときに受光部が出力する信号の
強度（基準強度とする）を制御装置のメモリに記憶す
る。次に、分析の開始後、制御装置は受光部からの信号
を常にモニタするが、その信号の強度と上記基準強度と
の差が所定範囲内にある間はイオンスプレーが噴射され
ていないものと判断して四重極やイオン検出器等への電
圧の印加やイオン検出器の出力信号の処理を行なわな
い。一方、もし受光部からの信号の強度と上記基準強度
との差が所定範囲内にない場合はイオンスプレーが噴射
されているものと判断して四重極やイオン検出器への電
圧の印加やイオン検出器の出力信号の処理を行なう。こ
のようにすれば、実際にＬＣ部からの溶離液が導入され
ている間のみＭＳ部の各部を起動させることができるよ
うになるため、省エネルギや装置各部の劣化防止という
面で有効である。
【００１１】本発明に係るＬＣ／ＭＳにおいて、更にイ
ンタフェイス内でのニードルの位置を変化させるための
ニードル駆動手段を設け、また上記イオンスプレー検出
手段はイオンスプレーの位置に応じた信号を出力するよ
うなイオンスプレー検出手段であるようにすることもで
きる。このような装置によれば、質量分析装置へ導入さ
れるイオン化した試料の量が最大となるようなイオンス
プレーの最適位置を予め調べておき、実際の分析時には
その最適位置にイオンスプレーが位置するようにニード
ル駆動手段によりニードルの位置を調節することが可能
となるため、試料の利用率の面で有利な効果が得られ
る。
ンタフェイス内でのニードルの位置を変化させるための
ニードル駆動手段を設け、また上記イオンスプレー検出
手段はイオンスプレーの位置に応じた信号を出力するよ
うなイオンスプレー検出手段であるようにすることもで
きる。このような装置によれば、質量分析装置へ導入さ
れるイオン化した試料の量が最大となるようなイオンス
プレーの最適位置を予め調べておき、実際の分析時には
その最適位置にイオンスプレーが位置するようにニード
ル駆動手段によりニードルの位置を調節することが可能
となるため、試料の利用率の面で有利な効果が得られ
る。
【００１２】
【実施例】図１は本発明に係るＬＣ／ＭＳの実施例の概
略構成図である。本実施例のＬＣ／ＭＳは、イオンスプ
レーが噴射される空間を上下から挟むように対向して配
置された赤外線発光部３１及び赤外線受光部３２から主
として成るイオンスプレー検出部３０をインタフェイス
１６の内部に備えている。赤外線受光部３２、四重極２
４、２４及びイオン検出器２６は制御装置３３に接続さ
れている。図２は本実施例のイオンスプレー検出部３０
の概略構成図である。なお、本実施例の装置のその他の
構成は図６の装置と同様である。
略構成図である。本実施例のＬＣ／ＭＳは、イオンスプ
レーが噴射される空間を上下から挟むように対向して配
置された赤外線発光部３１及び赤外線受光部３２から主
として成るイオンスプレー検出部３０をインタフェイス
１６の内部に備えている。赤外線受光部３２、四重極２
４、２４及びイオン検出器２６は制御装置３３に接続さ
れている。図２は本実施例のイオンスプレー検出部３０
の概略構成図である。なお、本実施例の装置のその他の
構成は図６の装置と同様である。
【００１３】本実施例のＬＣ／ＭＳの作用を図１及び図
２を参照しながら説明する。まず、装置の起動後におい
ては、赤外線発光部３１は常時発光状態に維持される。
赤外線発光部３１からの赤外線が赤外線受光部３２に入
射すると、赤外線受光部３２は入射した赤外線の強度に
応じた信号を出力する。この信号は制御装置３３に逐次
入力される。制御装置３３は入力された信号に基づいて
赤外線の強度を求め、求められた強度と所定の強度との
差が所定範囲内にある場合はイオンスプレーの噴射はな
いものと判断し、所定範囲内にない場合はイオンスプレ
ーの噴射があるものと判断する。そして、イオンスプレ
ーが噴射されていると判断された場合にのみ制御装置３
３は四重極２４やイオン検出器２６への電圧の印加やイ
オン検出器２６の出力信号の処理を行なう。このよう
に、本実施例のＬＣ／ＭＳは省エネルギや装置各部の劣
化防止等の面で有効である。
２を参照しながら説明する。まず、装置の起動後におい
ては、赤外線発光部３１は常時発光状態に維持される。
赤外線発光部３１からの赤外線が赤外線受光部３２に入
射すると、赤外線受光部３２は入射した赤外線の強度に
応じた信号を出力する。この信号は制御装置３３に逐次
入力される。制御装置３３は入力された信号に基づいて
赤外線の強度を求め、求められた強度と所定の強度との
差が所定範囲内にある場合はイオンスプレーの噴射はな
いものと判断し、所定範囲内にない場合はイオンスプレ
ーの噴射があるものと判断する。そして、イオンスプレ
ーが噴射されていると判断された場合にのみ制御装置３
３は四重極２４やイオン検出器２６への電圧の印加やイ
オン検出器２６の出力信号の処理を行なう。このよう
に、本実施例のＬＣ／ＭＳは省エネルギや装置各部の劣
化防止等の面で有効である。
【００１４】図３は本発明に係るＬＣ／ＭＳの別の実施
例の概略構成図である。本実施例のＬＣ／ＭＳは、赤外
線発光部３５と２つの赤外線受光部から主として成るイ
オンスプレー検出部３４、及びニードル１８の位置を一
次元的に変化させるためのニードル駆動部４０を備えて
いる。図４は本実施例のイオンスプレー検出部３４及び
ニードル駆動部４０の概略構成である。赤外線発光部３
５はイオンスプレーが噴射される空間の上側に、その発
光面が水平となるように配置されている。また赤外線受
光部３６ａ及び３６ｂは上記空間の下側に、赤外線発光
部３５の発光面から等距離のところで発光面の各端部に
対向するように配置されている。一方、ニードル駆動部
４０はニードル１８の水平方向の位置を変化させるため
のものであり、ニードルホルダ４１、送りネジ４２、ガ
イド４３及びステッピングモータ４４から主として成
る。赤外線受光部３６ａ及び３６ｂ、及びステッピング
モータ４４は制御装置３７に接続されている。なお、本
実施例の装置のその他の構成は図１の装置と同様であ
る。
例の概略構成図である。本実施例のＬＣ／ＭＳは、赤外
線発光部３５と２つの赤外線受光部から主として成るイ
オンスプレー検出部３４、及びニードル１８の位置を一
次元的に変化させるためのニードル駆動部４０を備えて
いる。図４は本実施例のイオンスプレー検出部３４及び
ニードル駆動部４０の概略構成である。赤外線発光部３
５はイオンスプレーが噴射される空間の上側に、その発
光面が水平となるように配置されている。また赤外線受
光部３６ａ及び３６ｂは上記空間の下側に、赤外線発光
部３５の発光面から等距離のところで発光面の各端部に
対向するように配置されている。一方、ニードル駆動部
４０はニードル１８の水平方向の位置を変化させるため
のものであり、ニードルホルダ４１、送りネジ４２、ガ
イド４３及びステッピングモータ４４から主として成
る。赤外線受光部３６ａ及び３６ｂ、及びステッピング
モータ４４は制御装置３７に接続されている。なお、本
実施例の装置のその他の構成は図１の装置と同様であ
る。
【００１５】本実施例のＬＣ／ＭＳの作用を以下に説明
する。本実施例の装置でも先の実施例と同様にイオンス
プレーの噴射の有無に応じて装置各部の制御を行なうこ
とが可能であるが、これに加え、本実施例の装置では次
のような作用が可能である。すなわち、もしニードル１
８から噴射されたイオンスプレーが赤外線受光部３６ａ
の側に偏っていれば、赤外線受光部３６ａ側でイオンス
プレーを通過する赤外光は赤外線受光部３６ｂ側で通過
する赤外光よりも強い散乱を受けるため、赤外線受光部
３６ａに入射する赤外光の強度は赤外線受光部３６ｂに
入射する赤外光の強度より小さくなり、その結果赤外線
受光部３６ａの出力信号の強度は赤外線受光部３６ｂの
出力信号の強度よりも相対的に小さくなる。逆にイオン
スプレーが赤外線受光部３６ｂの側に偏っていれば、赤
外線受光部３６ａの出力信号の強度は赤外線受光部３６
ｂの出力信号の強度よりも相対的に大きくなる。このよ
うな赤外線受光部３６ａ及び３６ｂの出力信号の強度比
をモニタしながら、制御装置３７はステッピングモータ
４４に適宜駆動信号を送ってニードル１８の水平方向の
位置を変化させ、モニタされる強度比が所定値となるよ
うにニードル１８の位置を調節する。ここで、強度比の
所定値とは、例えば予め同一の試料を用いてニードル１
８の位置を所定範囲で様々に変化させながら試験測定を
行ない、イオン検出器２６の検出強度が最大となったと
きの強度比、等をいう。本実施例によれば、分析毎にニ
ードル１８の水平方向の位置を最適化させることにより
従来よりも良好な分析結果を得ることができるようにな
る。
する。本実施例の装置でも先の実施例と同様にイオンス
プレーの噴射の有無に応じて装置各部の制御を行なうこ
とが可能であるが、これに加え、本実施例の装置では次
のような作用が可能である。すなわち、もしニードル１
８から噴射されたイオンスプレーが赤外線受光部３６ａ
の側に偏っていれば、赤外線受光部３６ａ側でイオンス
プレーを通過する赤外光は赤外線受光部３６ｂ側で通過
する赤外光よりも強い散乱を受けるため、赤外線受光部
３６ａに入射する赤外光の強度は赤外線受光部３６ｂに
入射する赤外光の強度より小さくなり、その結果赤外線
受光部３６ａの出力信号の強度は赤外線受光部３６ｂの
出力信号の強度よりも相対的に小さくなる。逆にイオン
スプレーが赤外線受光部３６ｂの側に偏っていれば、赤
外線受光部３６ａの出力信号の強度は赤外線受光部３６
ｂの出力信号の強度よりも相対的に大きくなる。このよ
うな赤外線受光部３６ａ及び３６ｂの出力信号の強度比
をモニタしながら、制御装置３７はステッピングモータ
４４に適宜駆動信号を送ってニードル１８の水平方向の
位置を変化させ、モニタされる強度比が所定値となるよ
うにニードル１８の位置を調節する。ここで、強度比の
所定値とは、例えば予め同一の試料を用いてニードル１
８の位置を所定範囲で様々に変化させながら試験測定を
行ない、イオン検出器２６の検出強度が最大となったと
きの強度比、等をいう。本実施例によれば、分析毎にニ
ードル１８の水平方向の位置を最適化させることにより
従来よりも良好な分析結果を得ることができるようにな
る。
【００１６】図５はイオンスプレー検出部及びニードル
駆動部の別の例を示す概略構成図である。本実施例のイ
オンスプレー検出部４６は、２つの赤外線発光部４７ａ
及び４７ｂと４つの赤外線受光部４８ａ、４８ｂ、４８
ｃ及び４８ｄを図のように配置することによりイオンス
プレーの位置を２次元的に検出できるようにしたもので
あり、これにあわせてニードル駆動部も、送りネジ５１
ａ、ガイド５２ａ及びステッピングモータ５３ａから成
る第一駆動部５０ａと、送りネジ５１ｂ、ガイド５２ｂ
及びステッピングモータ５３ｂから成る第二駆動部５０
ｂにより、ニードルホルダ５４に保持されたニードル１
８の位置を２次元的に変化させることができるような構
成となっている。４つの赤外線受光部４８ａ、４８ｂ、
４８ｃ及び４８ｄと２つのステッピングモータ５３ａ及
び５３ｂは制御装置３８に接続されている。以上のよう
な装置によれば、ニードル１８の２次元的な位置を調節
してイオンスプレーの２次元的な位置を最適化すること
により、図４の装置よりも更に良好な分析結果を得るこ
とができる。
駆動部の別の例を示す概略構成図である。本実施例のイ
オンスプレー検出部４６は、２つの赤外線発光部４７ａ
及び４７ｂと４つの赤外線受光部４８ａ、４８ｂ、４８
ｃ及び４８ｄを図のように配置することによりイオンス
プレーの位置を２次元的に検出できるようにしたもので
あり、これにあわせてニードル駆動部も、送りネジ５１
ａ、ガイド５２ａ及びステッピングモータ５３ａから成
る第一駆動部５０ａと、送りネジ５１ｂ、ガイド５２ｂ
及びステッピングモータ５３ｂから成る第二駆動部５０
ｂにより、ニードルホルダ５４に保持されたニードル１
８の位置を２次元的に変化させることができるような構
成となっている。４つの赤外線受光部４８ａ、４８ｂ、
４８ｃ及び４８ｄと２つのステッピングモータ５３ａ及
び５３ｂは制御装置３８に接続されている。以上のよう
な装置によれば、ニードル１８の２次元的な位置を調節
してイオンスプレーの２次元的な位置を最適化すること
により、図４の装置よりも更に良好な分析結果を得るこ
とができる。
【図１】 本発明に係るＬＣ／ＭＳの実施例の概略構成
図。
図。
【図２】 図１の実施例のイオンスプレー検出部の概略
構成図。
構成図。
【図３】 本発明に係るＬＣ／ＭＳの別の実施例の概略
構成図。
構成図。
【図４】 図３の実施例のイオンスプレー検出部及びニ
ードル駆動部の概略構成図。
ードル駆動部の概略構成図。
【図５】 イオンスプレー検出部及びニードル駆動部の
別の例の概略構成図。
別の例の概略構成図。
【図６】 ＡＰＩ式のインタフェイスを有するＬＣ／Ｍ
Ｓの一例を示す図。
Ｓの一例を示す図。
１２…液体クロマトグラフ部（ＬＣ部） １６…インタフェイス １８…ニードル ２０…質量分析部（ＭＳ部） ２２…キャピラリ ３０、３４、４６…イオンスプレー検出部 ３１、３５、４７ａ、４７ｂ…赤外線発光部 ３２、３６ａ、３６ｂ、４８ａ、４８ｂ、４８ｃ、４８
ｄ…赤外線受光部 ３３、３７、３８…制御装置 ４１、５４…ニードルホルダ ４２、５１ａ、５１ｂ…送りネジ ４３、５２ａ、５２ｂ…ガイド ４４、５３ａ、５３ｂ…ステッピングモータ
ｄ…赤外線受光部 ３３、３７、３８…制御装置 ４１、５４…ニードルホルダ ４２、５１ａ、５１ｂ…送りネジ ４３、５２ａ、５２ｂ…ガイド ４４、５３ａ、５３ｂ…ステッピングモータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｊ 49/04 Ｈ０１Ｊ 49/26 49/26 Ｇ０１Ｎ 1/28 Ｔ
Claims (1)
- 【請求項１】 液体クロマトグラフからの溶離液を霧化
及びイオン化してニードルからイオンスプレーとして噴
射することにより質量分析装置へイオン化した試料を導
入するインタフェイスを備える液体クロマトグラフ質量
分析装置において、 上記イオンスプレーが噴射される空間に向けてモニタ光
を発する発光部と、上記モニタ光を受けてその強度に応
じた信号を出力する受光部とを含むイオンスプレー検出
手段を備えることを特徴とする液体クロマトグラフ質量
分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21941796A JPH1048183A (ja) | 1996-07-31 | 1996-07-31 | 液体クロマトグラフ質量分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21941796A JPH1048183A (ja) | 1996-07-31 | 1996-07-31 | 液体クロマトグラフ質量分析装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1048183A true JPH1048183A (ja) | 1998-02-20 |
Family
ID=16735075
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21941796A Pending JPH1048183A (ja) | 1996-07-31 | 1996-07-31 | 液体クロマトグラフ質量分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1048183A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005111594A1 (ja) * | 2004-05-18 | 2005-11-24 | Yamanashi Tlo Co., Ltd. | 生体高分子の非共有結合等を選択的に切断して分析する方法および装置 |
| JP2011191302A (ja) * | 2010-03-15 | 2011-09-29 | National Sun Yat-Sen Univ | 循環式エレクトロスプレーイオン化装置 |
| JP2019045291A (ja) * | 2017-09-01 | 2019-03-22 | 株式会社島津製作所 | 荷電粒子の供給制御方法及び装置 |
| US11031231B2 (en) | 2016-06-03 | 2021-06-08 | Micromass Uk Limited | Mass spectrometry imaging with automatic parameter varying in ion source to control charged droplet spraying |
| US11031230B2 (en) | 2016-06-03 | 2021-06-08 | Micromass Uk Limited | Data directed DESI-MS imaging |
| US11133169B2 (en) | 2016-06-03 | 2021-09-28 | Micromass Uk Limited | Ambient ionisation spot measurement and validation |
-
1996
- 1996-07-31 JP JP21941796A patent/JPH1048183A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005111594A1 (ja) * | 2004-05-18 | 2005-11-24 | Yamanashi Tlo Co., Ltd. | 生体高分子の非共有結合等を選択的に切断して分析する方法および装置 |
| US8030090B2 (en) | 2004-05-18 | 2011-10-04 | University Of Yamanashi | Method and apparatus for selectively severing and analyzing non-covalent and other bonds of biological macromolecules |
| JP2011191302A (ja) * | 2010-03-15 | 2011-09-29 | National Sun Yat-Sen Univ | 循環式エレクトロスプレーイオン化装置 |
| US11031231B2 (en) | 2016-06-03 | 2021-06-08 | Micromass Uk Limited | Mass spectrometry imaging with automatic parameter varying in ion source to control charged droplet spraying |
| US11031230B2 (en) | 2016-06-03 | 2021-06-08 | Micromass Uk Limited | Data directed DESI-MS imaging |
| US11133169B2 (en) | 2016-06-03 | 2021-09-28 | Micromass Uk Limited | Ambient ionisation spot measurement and validation |
| EP3465733B1 (en) * | 2016-06-03 | 2024-05-15 | Micromass UK Limited | Mass spectrometry imaging |
| JP2019045291A (ja) * | 2017-09-01 | 2019-03-22 | 株式会社島津製作所 | 荷電粒子の供給制御方法及び装置 |
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