JPH1047356A - 転がり軸受 - Google Patents
転がり軸受Info
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- JPH1047356A JPH1047356A JP20975096A JP20975096A JPH1047356A JP H1047356 A JPH1047356 A JP H1047356A JP 20975096 A JP20975096 A JP 20975096A JP 20975096 A JP20975096 A JP 20975096A JP H1047356 A JPH1047356 A JP H1047356A
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- Japan
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- bearing
- contact angle
- balls
- fluororesin
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ハロゲン系ガス等の腐食環境下で用いられ、
且つ、低発塵が要求されるＣＶＤ装置のテーブルの回転
支持に使用した場合においても、十分な回転精度を確保
することができるようにしてシリコンウエハー表面に均
一な厚みと組成の皮膜を施すことができる転がり軸受を
提供する。 【解決手段】 外輪２、内輪３、外輪２と内輪３との間
に配設された複数の玉４及び複数の玉４を保持する保持
器５を備えたスラスト玉軸受１において、外輪２、内輪
３及び複数の玉４をセラミックスで形成すると共に、保
持器５をフッ素樹脂で形成し、更に、接触角θを８９°
以下に、且つ、軸受外径寸法ＯＤを１５０ｍｍ以上にす
る。
且つ、低発塵が要求されるＣＶＤ装置のテーブルの回転
支持に使用した場合においても、十分な回転精度を確保
することができるようにしてシリコンウエハー表面に均
一な厚みと組成の皮膜を施すことができる転がり軸受を
提供する。 【解決手段】 外輪２、内輪３、外輪２と内輪３との間
に配設された複数の玉４及び複数の玉４を保持する保持
器５を備えたスラスト玉軸受１において、外輪２、内輪
３及び複数の玉４をセラミックスで形成すると共に、保
持器５をフッ素樹脂で形成し、更に、接触角θを８９°
以下に、且つ、軸受外径寸法ＯＤを１５０ｍｍ以上にす
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばハロゲン系
ガス等の腐食環境下で使用され、しかも低発塵が要求さ
れる装置に用いられる転がり軸受に関する。
ガス等の腐食環境下で使用され、しかも低発塵が要求さ
れる装置に用いられる転がり軸受に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の転がり軸受としては、特
開平７−１７４１４３号公報に記載のものが知られてい
る。この転がり軸受は、外輪、内輪及び玉が耐蝕性に優
れ且つ発塵の少ない窒化珪素系のセラミックスで形成さ
れ、保持器が耐蝕性に優れ且つ発塵の抑制を助長するフ
ッ素樹脂で形成されている（全体がフッ素樹脂で形成さ
れたもの又は表面にフッ素樹脂コーティングしたものを
含む。）。
開平７−１７４１４３号公報に記載のものが知られてい
る。この転がり軸受は、外輪、内輪及び玉が耐蝕性に優
れ且つ発塵の少ない窒化珪素系のセラミックスで形成さ
れ、保持器が耐蝕性に優れ且つ発塵の抑制を助長するフ
ッ素樹脂で形成されている（全体がフッ素樹脂で形成さ
れたもの又は表面にフッ素樹脂コーティングしたものを
含む。）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
従来の転がり軸受においては、ハロゲン系ガス等の腐食
環境下で使用され、且つ、低発塵が要求される例えば８
インチ或いは１２インチシリコンウエハーに表面処理を
施すＣＶＤ装置内に設置されているテーブルの回転支持
に用いられる場合に、十分な回転精度を確保することが
できず、テーブルが静止したままだとシリコンウエハー
の表面の皮膜に厚みや組成の点でむらができるという不
都合があった。
従来の転がり軸受においては、ハロゲン系ガス等の腐食
環境下で使用され、且つ、低発塵が要求される例えば８
インチ或いは１２インチシリコンウエハーに表面処理を
施すＣＶＤ装置内に設置されているテーブルの回転支持
に用いられる場合に、十分な回転精度を確保することが
できず、テーブルが静止したままだとシリコンウエハー
の表面の皮膜に厚みや組成の点でむらができるという不
都合があった。
【０００４】本発明はかかる不都合を解消するためにな
されたものであり、ハロゲン系ガス等の腐食環境下で使
用され、且つ、低発塵が要求されるＣＶＤ装置のテーブ
ルの回転支持に用いた場合においても、十分な回転精度
を確保することができるようにしてシリコンウエハー表
面に均一な厚みと組成の皮膜を施すことができる転がり
軸受を提供することを目的とする。
されたものであり、ハロゲン系ガス等の腐食環境下で使
用され、且つ、低発塵が要求されるＣＶＤ装置のテーブ
ルの回転支持に用いた場合においても、十分な回転精度
を確保することができるようにしてシリコンウエハー表
面に均一な厚みと組成の皮膜を施すことができる転がり
軸受を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、本発明に係る転がり軸受は、外輪、内輪、外輪と
内輪との間に配設された複数の転動体及び複数の転動体
を保持する保持器を備えた転がり軸受において、外輪、
内輪及び複数の転動体をセラミックスで形成すると共
に、保持器をフッ素樹脂で形成し、更に、接触角を８９
°以下に、且つ、軸受外径寸法を１５０ｍｍ以上にした
こと特徴とする。
めに、本発明に係る転がり軸受は、外輪、内輪、外輪と
内輪との間に配設された複数の転動体及び複数の転動体
を保持する保持器を備えた転がり軸受において、外輪、
内輪及び複数の転動体をセラミックスで形成すると共
に、保持器をフッ素樹脂で形成し、更に、接触角を８９
°以下に、且つ、軸受外径寸法を１５０ｍｍ以上にした
こと特徴とする。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の一例
を図１〜図５を参照して説明する。図１は本発明の実施
の形態の一例であるスラスト玉軸受を説明するための説
明的断面図、図２は保持器の変形例を説明するための説
明的断面図、図３は軸方向変位幅の測定に用いる装置の
概略断面図、図４は軸受外径寸法と軸方向変位幅との関
係を示すグラフ図、図５は接触角と軸方向変位幅との関
係を示すグラフ図である。
を図１〜図５を参照して説明する。図１は本発明の実施
の形態の一例であるスラスト玉軸受を説明するための説
明的断面図、図２は保持器の変形例を説明するための説
明的断面図、図３は軸方向変位幅の測定に用いる装置の
概略断面図、図４は軸受外径寸法と軸方向変位幅との関
係を示すグラフ図、図５は接触角と軸方向変位幅との関
係を示すグラフ図である。
【０００７】図１において符号１はスラスト玉軸受であ
り、スラスト玉軸受１は、外輪２、内輪３、外輪２と内
輪３との間に配設された複数の玉４及び複数の玉４を保
持する保持器５を備える。ここで、外輪２、内輪３及び
玉４はセラミックスで形成され、保持器５はフッ素樹脂
で形成されている。また、接触角θは８９°以下に、軸
受外径寸法ＯＤは１５０ｍｍ以上とされている。なお、
保持器５については、図１に示すように、全体がフッ素
樹脂Ｆで形成されたもの、又は図２に示すように、基材
５ａ表面にフッ素樹脂Ｆをコーティングしたものを含
む。図１及び図２に示すスラスト玉軸受の仕様を表１に
示す。
り、スラスト玉軸受１は、外輪２、内輪３、外輪２と内
輪３との間に配設された複数の玉４及び複数の玉４を保
持する保持器５を備える。ここで、外輪２、内輪３及び
玉４はセラミックスで形成され、保持器５はフッ素樹脂
で形成されている。また、接触角θは８９°以下に、軸
受外径寸法ＯＤは１５０ｍｍ以上とされている。なお、
保持器５については、図１に示すように、全体がフッ素
樹脂Ｆで形成されたもの、又は図２に示すように、基材
５ａ表面にフッ素樹脂Ｆをコーティングしたものを含
む。図１及び図２に示すスラスト玉軸受の仕様を表１に
示す。
【０００８】
【表１】
【０００９】外輪２、内輪３及び玉４の材質をセラミッ
クスとしたのは、セラミックスはＣｌ2 、ＨＦ、ＨＢｒ
などのハロゲン系腐食性ガスに対する耐蝕性に優れ、し
かも油やグリースなどの潤滑剤が使用できない枯渇潤滑
環境での耐摩耗性に優れて耐久寿命を長くすることがで
きる共に、発塵が少ないからである。セラミックスとし
ては、窒化珪素やジルコニアの他に炭化珪素、アルミナ
など、場合によってはこれらを組み合わせて用いること
も可能である。焼結方法としては、ＨＩＰ（ホットアイ
ソスタティックプレス）法、ガス圧焼結法、ＨＰ（ホッ
トプレス）法、常圧焼結法、反応焼結法などいずれを適
用してもよい。添加成分については、窒化珪素では、ア
ルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）−イットリア（Ｙ2 Ｏ3 ）、マグ
ネシア（ＭｇＯ）、セリア（ＣｅＯ2 ）−マグネシア
（ＭｇＯ）などが知られているが特に制限はない。
クスとしたのは、セラミックスはＣｌ2 、ＨＦ、ＨＢｒ
などのハロゲン系腐食性ガスに対する耐蝕性に優れ、し
かも油やグリースなどの潤滑剤が使用できない枯渇潤滑
環境での耐摩耗性に優れて耐久寿命を長くすることがで
きる共に、発塵が少ないからである。セラミックスとし
ては、窒化珪素やジルコニアの他に炭化珪素、アルミナ
など、場合によってはこれらを組み合わせて用いること
も可能である。焼結方法としては、ＨＩＰ（ホットアイ
ソスタティックプレス）法、ガス圧焼結法、ＨＰ（ホッ
トプレス）法、常圧焼結法、反応焼結法などいずれを適
用してもよい。添加成分については、窒化珪素では、ア
ルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）−イットリア（Ｙ2 Ｏ3 ）、マグ
ネシア（ＭｇＯ）、セリア（ＣｅＯ2 ）−マグネシア
（ＭｇＯ）などが知られているが特に制限はない。
【００１０】保持器５の材質をフッ素樹脂としたのは、
フッ素樹脂はＣｌ2 、ＨＦ、ＨＢｒなどのハロゲン系腐
食性ガス環境においても耐蝕性に優れ、しかも玉に移着
して潤滑を良好に保ち耐久寿命の延長と発塵の抑制を助
長する役割を果たすからである。フッ素樹脂としては、
ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）やＰＦＡ（パ
ーフルオロアルコキシ樹脂）の他に、ＥＴＦＥ（エチレ
ンテロラフルオロエチレン共重合体）などを用いること
が可能である。
フッ素樹脂はＣｌ2 、ＨＦ、ＨＢｒなどのハロゲン系腐
食性ガス環境においても耐蝕性に優れ、しかも玉に移着
して潤滑を良好に保ち耐久寿命の延長と発塵の抑制を助
長する役割を果たすからである。フッ素樹脂としては、
ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）やＰＦＡ（パ
ーフルオロアルコキシ樹脂）の他に、ＥＴＦＥ（エチレ
ンテロラフルオロエチレン共重合体）などを用いること
が可能である。
【００１１】耐蝕性の評価ついて表２に示す。
【００１２】
【表２】
【００１３】ここで、耐蝕性の評価は、腐食ガス種類を
Ｃｌ2 とＨＢｒとし、圧力０．０１ＭＰａで２４時間放
置して行った。表中の○が変色が見られなかったことを
示し、×が変色が見られたことを示す。表２から明らか
なように内外輪及び玉がセラミックス製で保持器がフッ
素樹脂製の実施形態例ではＣｌ2 とＨＢｒに対して変色
は見られず、内外輪及び玉がステンレス鋼製で、保持器
がフッ素樹脂以外の樹脂製の比較例ではＣｌ2 とＨＢｒ
に対して変色が見られた。
Ｃｌ2 とＨＢｒとし、圧力０．０１ＭＰａで２４時間放
置して行った。表中の○が変色が見られなかったことを
示し、×が変色が見られたことを示す。表２から明らか
なように内外輪及び玉がセラミックス製で保持器がフッ
素樹脂製の実施形態例ではＣｌ2 とＨＢｒに対して変色
は見られず、内外輪及び玉がステンレス鋼製で、保持器
がフッ素樹脂以外の樹脂製の比較例ではＣｌ2 とＨＢｒ
に対して変色が見られた。
【００１４】軸受外径寸法ＯＤを１５０ｍｍ以上とした
のは、十分な回転精度を確保するためと、最低でも８イ
ンチ（約２００ｍｍ）のシリコンウエハーを支持するの
に少なくともその３／４以上の太さの軸で支える必要が
あるからである。
のは、十分な回転精度を確保するためと、最低でも８イ
ンチ（約２００ｍｍ）のシリコンウエハーを支持するの
に少なくともその３／４以上の太さの軸で支える必要が
あるからである。
【００１５】接触角θを８９°以下にしたのは、接触角
が９０°の場合（スラスト玉軸受）、玉の円周方向の挙
動が不安定になりやすいため、接触角θを８９°以下に
して安定した回転を確保するためである。
が９０°の場合（スラスト玉軸受）、玉の円周方向の挙
動が不安定になりやすいため、接触角θを８９°以下に
して安定した回転を確保するためである。
【００１６】軸受外径寸法ＯＤ及び接触角θの限定値は
軸受の軸方向変位幅を指標にして求めた。軸方向変位幅
の測定は、図３に示すように、台１０にスラスト玉軸受
１を軸心を上下方向に向けて載置し、この上にスラスト
玉軸受１外径寸法と同じ直径の軸１１を内径基準で置
き、更に軸１１に直径４２０ｍｍのテーブル１２を固定
した装置を用いて行った。テーブル１２の中心から２０
０ｍｍ離れた点にダイヤルゲージ１３を設置し、テーブ
ル１２を手回しでゆっくり（０．５回転／ｓ程度）と回
転させ、ダイヤルゲージ１３の最大の振れ幅を軸方向変
位幅とした。
軸受の軸方向変位幅を指標にして求めた。軸方向変位幅
の測定は、図３に示すように、台１０にスラスト玉軸受
１を軸心を上下方向に向けて載置し、この上にスラスト
玉軸受１外径寸法と同じ直径の軸１１を内径基準で置
き、更に軸１１に直径４２０ｍｍのテーブル１２を固定
した装置を用いて行った。テーブル１２の中心から２０
０ｍｍ離れた点にダイヤルゲージ１３を設置し、テーブ
ル１２を手回しでゆっくり（０．５回転／ｓ程度）と回
転させ、ダイヤルゲージ１３の最大の振れ幅を軸方向変
位幅とした。
【００１７】軸受外径寸法ＯＤについては、表１の実施
形態例に示す仕様のスラスト玉軸受１を基準にして、様
々な軸受外径寸法ＯＤのスラスト玉軸受について軸受外
径寸法ＯＤと軸方向変位幅との関係を調べた。ここで対
象となるスラスト玉軸受は、外輪２、内輪３及び玉４が
窒化珪素系セラミックス製、保持器５がＰＴＦＥ製、接
触角θが８０°、軸受幅寸法ｈが２０ｍｍであり、軸受
外径寸法ＯＤ及び軸受内径寸法ＩＤが実施形態例と異な
るものである。軸受内径寸法ＩＤは軸受外径寸法ＯＤよ
り直径で４０ｍｍ小さくした。
形態例に示す仕様のスラスト玉軸受１を基準にして、様
々な軸受外径寸法ＯＤのスラスト玉軸受について軸受外
径寸法ＯＤと軸方向変位幅との関係を調べた。ここで対
象となるスラスト玉軸受は、外輪２、内輪３及び玉４が
窒化珪素系セラミックス製、保持器５がＰＴＦＥ製、接
触角θが８０°、軸受幅寸法ｈが２０ｍｍであり、軸受
外径寸法ＯＤ及び軸受内径寸法ＩＤが実施形態例と異な
るものである。軸受内径寸法ＩＤは軸受外径寸法ＯＤよ
り直径で４０ｍｍ小さくした。
【００１８】軸受外径寸法ＯＤと軸方向変位幅との関係
を図４に示す。図４から明らかなように、軸受外径寸法
ＯＤが大きくなるにつれて軸方向変位幅は急激に減少
し、軸受外径寸法ＯＤが１５０ｍｍ以上になると軸方向
変位幅が４０μｍ以下で安定することが判る。したがっ
て、軸受外径寸法ＯＤは１５０ｍｍ以上とした。但し、
軸受外径寸法ＯＤが４００ｍｍを越える転がり軸受をセ
ラミックスで製作することは費用が嵩み、また、場合に
よっては製作が困難であるので、軸受外径寸法ＯＤは１
５０ｍｍ〜４００ｍｍの範囲とすることが好ましい。
を図４に示す。図４から明らかなように、軸受外径寸法
ＯＤが大きくなるにつれて軸方向変位幅は急激に減少
し、軸受外径寸法ＯＤが１５０ｍｍ以上になると軸方向
変位幅が４０μｍ以下で安定することが判る。したがっ
て、軸受外径寸法ＯＤは１５０ｍｍ以上とした。但し、
軸受外径寸法ＯＤが４００ｍｍを越える転がり軸受をセ
ラミックスで製作することは費用が嵩み、また、場合に
よっては製作が困難であるので、軸受外径寸法ＯＤは１
５０ｍｍ〜４００ｍｍの範囲とすることが好ましい。
【００１９】接触角θについても表１の実施形態例に示
す仕様のスラスト玉軸受１を基準にして、様々な接触角
θのスラスト玉軸受について接触角θと軸方向変位幅と
の関係を調べた。ここで対象となるスラスト玉軸受は、
外輪２、内輪３及び玉４が窒化珪素系セラミックス製、
保持器５がＰＴＦＥ製、軸受寸法が外径（OD）３００mm
×内径（ID）２６０mm×幅（h ）２０mmのものであり、
接触角θが０〜９０°の範囲で実施形態例と異なるもの
である。
す仕様のスラスト玉軸受１を基準にして、様々な接触角
θのスラスト玉軸受について接触角θと軸方向変位幅と
の関係を調べた。ここで対象となるスラスト玉軸受は、
外輪２、内輪３及び玉４が窒化珪素系セラミックス製、
保持器５がＰＴＦＥ製、軸受寸法が外径（OD）３００mm
×内径（ID）２６０mm×幅（h ）２０mmのものであり、
接触角θが０〜９０°の範囲で実施形態例と異なるもの
である。
【００２０】接触角θと軸方向変位幅との関係を図５に
示す。図５から明らかなように、接触角θが０〜８０°
の範囲は軸方向変位幅は３０μｍ以下で安定している
が、接触角θが８０°を越えると軸方向変位幅がやや大
きくなるとともにばらつきが出始め、接触角θが９０°
では極端に軸方向変位幅が大きくなって不安定な回転と
なる。したがって、接触角θは８９°以下とし、より安
定した回転を要求する場合には８０°以下であることが
好ましい。
示す。図５から明らかなように、接触角θが０〜８０°
の範囲は軸方向変位幅は３０μｍ以下で安定している
が、接触角θが８０°を越えると軸方向変位幅がやや大
きくなるとともにばらつきが出始め、接触角θが９０°
では極端に軸方向変位幅が大きくなって不安定な回転と
なる。したがって、接触角θは８９°以下とし、より安
定した回転を要求する場合には８０°以下であることが
好ましい。
【００２１】また、接触角θが小さい場合、例えば図６
に示すような接触角θが０°の深みぞ玉軸受２０につい
ては、回転の安定性は十分であるが、わずかな摩耗によ
り軸方向に移動しやすい構造であるので、接触角θを大
きくして使用することが可能である。したがって、接触
角θとしては、わずかな摩耗によっても軸方向に移動し
にくい４５°以上、上限は８０°以下であることが好ま
しい。
に示すような接触角θが０°の深みぞ玉軸受２０につい
ては、回転の安定性は十分であるが、わずかな摩耗によ
り軸方向に移動しやすい構造であるので、接触角θを大
きくして使用することが可能である。したがって、接触
角θとしては、わずかな摩耗によっても軸方向に移動し
にくい４５°以上、上限は８０°以下であることが好ま
しい。
【００２２】このようにこの実施の形態では、外輪２、
内輪３及び玉４をセラミックスで形成すると共に、保持
器５をフッ素樹脂で形成し、しかも接触角θを８９°以
下に、軸受外径寸法ＯＤを１５０ｍｍ以上にしているの
で、ハロゲン系ガス等の腐食環境下で使用され、且つ、
低発塵が要求されるＣＶＤ装置のテーブルの回転支持に
用いた場合においても、耐久性、耐蝕性に優れ、且つ、
低発塵の要求を満足できるのは勿論のこと、十分な回転
精度を確保することができ、この結果、シリコンウエハ
ー表面に均一な厚みと組成の皮膜を施すことができる。
内輪３及び玉４をセラミックスで形成すると共に、保持
器５をフッ素樹脂で形成し、しかも接触角θを８９°以
下に、軸受外径寸法ＯＤを１５０ｍｍ以上にしているの
で、ハロゲン系ガス等の腐食環境下で使用され、且つ、
低発塵が要求されるＣＶＤ装置のテーブルの回転支持に
用いた場合においても、耐久性、耐蝕性に優れ、且つ、
低発塵の要求を満足できるのは勿論のこと、十分な回転
精度を確保することができ、この結果、シリコンウエハ
ー表面に均一な厚みと組成の皮膜を施すことができる。
【００２３】
【発明の効果】上記の説明から明らかなように、本発明
によれば、ハロゲン系ガス等の腐食環境下で使用され、
且つ、低発塵が要求されるＣＶＤ装置のテーブルの回転
支持に用いた場合においても、耐久性、耐蝕性に優れ、
且つ、低発塵の要求を満足できるのは勿論のこと、十分
な回転精度を確保することができ、この結果、シリコン
ウエハー表面に均一な厚みと組成の皮膜を施すことがで
きるという効果が得られる。
によれば、ハロゲン系ガス等の腐食環境下で使用され、
且つ、低発塵が要求されるＣＶＤ装置のテーブルの回転
支持に用いた場合においても、耐久性、耐蝕性に優れ、
且つ、低発塵の要求を満足できるのは勿論のこと、十分
な回転精度を確保することができ、この結果、シリコン
ウエハー表面に均一な厚みと組成の皮膜を施すことがで
きるという効果が得られる。
【図１】本発明の実施の形態の一例であるスラスト玉軸
受を説明するための説明的断面図である。
受を説明するための説明的断面図である。
【図２】保持器の変形例を説明するための説明的断面図
である。
である。
【図３】軸方向変位幅の測定に用いる装置の概略断面図
である。
である。
【図４】軸受外径寸法と軸方向変位幅との関係を示すグ
ラフ図である。
ラフ図である。
【図５】接触角と軸方向変位幅との関係を示すグラフ図
である。
である。
【図６】本発明の他の実施の形態であるラジアル玉軸受
を説明するための説明的断面図である。
を説明するための説明的断面図である。
１…スラスト玉軸受（転がり軸受） ２…外輪 ３…内輪 ４…玉（転動体） ５…保持器 θ…接触角 ＯＤ…軸受外径寸法
Claims (1)
- 【請求項１】 外輪、内輪、外輪と内輪との間に配設さ
れた複数の転動体及び複数の転動体を保持する保持器を
備えた転がり軸受において、外輪、内輪及び複数の転動
体をセラミックスで形成すると共に、保持器をフッ素樹
脂で形成し、更に、接触角を８９°以下に、且つ、軸受
外径寸法を１５０ｍｍ以上にしたこと特徴とする転がり
軸受。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20975096A JPH1047356A (ja) | 1996-08-08 | 1996-08-08 | 転がり軸受 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20975096A JPH1047356A (ja) | 1996-08-08 | 1996-08-08 | 転がり軸受 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1047356A true JPH1047356A (ja) | 1998-02-17 |
Family
ID=16578022
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20975096A Pending JPH1047356A (ja) | 1996-08-08 | 1996-08-08 | 転がり軸受 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1047356A (ja) |
-
1996
- 1996-08-08 JP JP20975096A patent/JPH1047356A/ja active Pending
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