JPH104171A - Lead frame for semiconductor package and lead frame stop - Google Patents
Lead frame for semiconductor package and lead frame stopInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は半導体パッケージ用
リードフレームに関するもので、より詳しくは、熱放出
及びグラウンドのためのヒューズ(Fused )リードに形
成されるダウンセット(Down Set)部の付近に多様な形
状の応力吸収手段を備えた半導体パッケージ用リードフ
レームに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lead frame for a semiconductor package, and more particularly to a lead frame for a heat release and a ground. The present invention relates to a lead frame for a semiconductor package provided with a stress absorbing means having various shapes.
【0002】[0002]
【従来の技術】最近、半導体チップの高集積化趨勢の加
速化及び半導体チップを用いた電子機器の小型化趨勢に
従って、プラスチック半導体パッケージに広範囲に使用
されているリードフレームにおいても、限定された単位
面積当たりより多くのリードの形成が要求されている。
このような趨勢に対応するため、リードフレームの厚さ
と各々のリードの幅及びリード間の間隔を極小化するし
かないので、、リードフレームの構造は段々複雑になっ
ていく。しかし、このようなリードフレーム構造の複雑
化の傾向にもかかわらず、リードフレームの高精密度に
伴う半導体パッケージの信頼性はさらに強調されている
ことが現状であり、リードフレームの成形時に主に使用
されるスタンピング(Stamping)法又はエッチング(Et
ching )法等のいずれかを使用しても、要求される精密
な形状又はパターンを得ることが段々困難になる。2. Description of the Related Art In recent years, as the trend toward higher integration of semiconductor chips and the trend toward miniaturization of electronic devices using semiconductor chips have been accelerated, limited units have been used in lead frames widely used in plastic semiconductor packages. The formation of more leads per area is required.
In order to cope with such a trend, the thickness of the lead frame, the width of each lead and the interval between the leads have to be minimized, so that the structure of the lead frame becomes more and more complicated. However, in spite of such a tendency of the lead frame structure becoming more complicated, the reliability of the semiconductor package accompanying the high precision of the lead frame has been further emphasized at present. Stamping method or etching (Et) used
Even if any method such as the ching method is used, it becomes increasingly difficult to obtain the required precise shape or pattern.
【0003】このような状況の典型的な一例として、リ
ードが四方に延長されるコードフラット(QuadFlat)半
導体パッケージを含んだ多様な類型のリードフレームを
用いたプラスチック半導体パッケージにおいては、パッ
ケージの軽薄短小化のため、リードフレーム上の半導体
チップ搭載板をリードの高さよりやや低くダウンセット
させることにより半導体チップの実装後のパッケージの
高さを減少させることが通常であるが、この場合、半導
体チップ搭載板に連結されているヒューズリードの数が
多い時は、ダウンセット加工により発生した残留応力に
よりリードフレームストリップ及び/又はリードフレー
ムが湾曲されて偏平度が低下し、これにより後続工程処
理の困難又は完成された半導体パッケージの信頼性の低
下等の問題をもたらす憂いがあった。As a typical example of such a situation, in a plastic semiconductor package using various types of lead frames including a code flat (QuadFlat) semiconductor package in which leads are extended in four directions, the package is light and thin. In order to reduce the height of the package after mounting the semiconductor chip, it is usual to lower the height of the package after mounting the semiconductor chip by lowering the semiconductor chip mounting plate on the lead frame slightly lower than the height of the lead. When the number of fuse leads connected to the plate is large, the residual stress generated by the downset processing causes the lead frame strip and / or the lead frame to bend and reduce the flatness, thereby making it difficult to perform subsequent processing or It causes problems such as reduced reliability of completed semiconductor packages. There was sorrow.
【0004】図8(A)に示すように、ヒューズリード
3を有する従来のユニットリードフレーム1’で構成さ
れる従来のリードフレームストリップ100において
は、ユニットリードフレーム1’が半導体チップ搭載板
2と、これに連結されて放射状外部に向いて延長され、
ダウンセット部4が形成されている多数のヒューズリー
ド3と、半導体チップ搭載板2から短絡されている多数
のリード8と、ダムバー9とから構成され、工程処理の
効率性を高めるため、このようなユニットリードフレー
ム1’の多数を一つのリードフレームストリップ100
に構成する。As shown in FIG. 8A, in a conventional lead frame strip 100 composed of a conventional unit lead frame 1 'having a fuse lead 3, the unit lead frame 1' is connected to the semiconductor chip mounting plate 2 , Connected to this and extended radially outward,
It is composed of a large number of fuse leads 3 on which the downset portion 4 is formed, a large number of leads 8 short-circuited from the semiconductor chip mounting plate 2, and a dam bar 9. A large number of unit lead frames 1 ′ into one lead frame strip 100.
To be configured.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】このような従来の通常
のリードフレーム1’においては、図8(A)のA−A
線についての断面図である図9に示すように、(半導体
チップ搭載板2に連結されている熱放出及びグラウンド
用のヒューズリード3が応力吸収手段の形成なしにダウ
ンセット部4のみを有するので、ダウンセットの形成
時、残留応力によりリードフレーム1′)が変形される
おそれがある。又、図8(A)のダウンセット部4の拡
大図である図8(B)に示すように、ダウンセット部4
を限定する二つの折曲部がヒューズリード3の両辺に直
角でなく斜線状に、つまり半導体チップ搭載板2の辺又
はリード先端が成す延長線に平行に形成されるので、直
角である場合に比べて折曲部の長さが長くなり、これに
より残留応力も大きくなってリードフレーム1’の変形
のおそれがある。In such a conventional ordinary lead frame 1 ', AA of FIG.
As shown in FIG. 9 which is a cross-sectional view taken along the line, (the fuse lead 3 for heat emission and ground connected to the semiconductor chip mounting plate 2 has only the downset portion 4 without forming the stress absorbing means. When the downset is formed, the lead frame 1 ') may be deformed due to residual stress. Further, as shown in FIG. 8B, which is an enlarged view of the downset unit 4 in FIG.
Are formed not obliquely to both sides of the fuse lead 3 but obliquely, that is, in parallel with the side of the semiconductor chip mounting plate 2 or the extension formed by the tip of the lead. The length of the bent portion is longer than that of the bent portion, so that the residual stress is increased, and the lead frame 1 ′ may be deformed.
【0006】従って、このような従来のユニットリード
フレーム1’でなる従来のリードフレームストリップ1
00は、ダウンセット加工時の残留応力により、図10
に示すように、長手方向へのコイルセット(Coil Set)
現象及び/又は幅方向へのクロスバウ(CrossBow)現象
が発生するおそれが大きくなる。先に説明したように、
このような現象の発生はリードフレーム及び/又はその
ストリップの偏平度の低下によりその形状又はパターン
の精密度を低下させるので、後続する半導体パッケージ
の加工工程の進行が困難になるか、又は完成された半導
体パッケージの信頼度が低下する問題があった。Accordingly, a conventional lead frame strip 1 made of such a conventional unit lead frame 1 'is provided.
FIG. 10 shows the residual stress during downset processing,
Coil Set in the longitudinal direction as shown in
The possibility of occurrence of the phenomenon and / or the cross bow phenomenon in the width direction increases. As explained earlier,
The occurrence of such a phenomenon may reduce the flatness of the lead frame and / or its strip, thereby reducing the precision of its shape or pattern, so that the subsequent process of processing the semiconductor package becomes difficult or completed. There is a problem that the reliability of the semiconductor package is reduced.
【0007】従って、本発明の第1目的は、ヒューズリ
ードのダウンセット形成予定部の付近に多様な形状の応
力吸収手段を形成させることにより、ダウンセット部の
形成時に残留応力を吸収して、リードフレームの変形を
最小化し得る半導体パッケージ用リードフレームを提供
することである。Accordingly, a first object of the present invention is to form various types of stress absorbing means near a portion where a fuse lead is to be formed with a downset, thereby absorbing a residual stress when the downset is formed. An object of the present invention is to provide a lead frame for a semiconductor package capable of minimizing deformation of the lead frame.
【0008】本発明の第2目的は、前記本発明の第1目
的による多数のリードフレームでなる、コイルセット及
びクロスバウ現象を最小化し得る半導体パッケージ用リ
ードフレームストリップを提供することである。A second object of the present invention is to provide a lead frame strip for a semiconductor package comprising a plurality of lead frames according to the first object of the present invention and capable of minimizing a coil set and a cross bow phenomenon.
【0009】本発明の第3目的は、ヒューズリードのダ
ウンセット部の付近に形成された応力吸収手段の一部分
にグラウンドボンディングのための銀鍍金領域を形成さ
せることにより、プラスチック封止部を形成するモルデ
ィング樹脂との結合力が劣等な銀鍍金面積のヒューズリ
ードの全体面積に対する相対的比率を最小化して、モル
ディング樹脂とリードフレーム間の結合力をさらに向上
させ得るようにした半導体パッケージ用リードフレーム
を提供することである。A third object of the present invention is to form a plastic sealing portion by forming a silver-plated region for ground bonding in a part of the stress absorbing means formed near the downset portion of the fuse lead. A lead for a semiconductor package in which the bonding ratio between the molding resin and the lead frame can be further improved by minimizing a relative ratio of a silver plating area having poor bonding strength with the molding resin to the entire area of the fuse lead. Is to provide a frame.
【0010】本発明の第4目的は、ヒューズリードのダ
ウンセット部を限定する二つの折曲部が最短長さを有す
るよう、ヒューズリードの両辺に直角である幅方向に形
成されて、ダウンセットによる残留応力を減少させる半
導体パッケージ用リードフレームを提供することであ
る。[0010] A fourth object of the present invention is to form a downset portion by forming two bent portions defining a downset portion of the fuse lead in a width direction perpendicular to both sides of the fuse lead so as to have the shortest length. It is an object of the present invention to provide a lead frame for a semiconductor package in which residual stress due to the above is reduced.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の本発明は、半導体チップ搭載板と、サイドレールと、
前記半導体チップ搭載板及びサイドレールに一体に連結
され、ダウンセット部の付近に応力吸収手段が形成され
ている多数のヒューズリードと、前記サイドレールに一
体に連結され、前記半導体チップ搭載板から短絡され、
前記多数のヒューズリード間に位置する多数のリードと
から構成され、前記ヒューズリードに形成された応力吸
収手段がヒューズリードのダウンセットにより発生され
る残留応力を吸収してリードフレームの変形を防止する
半導体パッケージ用リードフレームを提供する。According to the present invention, there is provided a semiconductor chip mounting plate, comprising: a side rail;
A large number of fuse leads integrally connected to the semiconductor chip mounting plate and the side rails and having stress absorbing means formed near the downset portion; and a short circuit from the semiconductor chip mounting plate integrally connected to the side rails. And
A plurality of leads located between the plurality of fuse leads, wherein a stress absorbing means formed on the fuse leads absorbs residual stress generated by downsetting of the fuse leads to prevent deformation of the lead frame. Provided is a lead frame for a semiconductor package.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】以下、本発明を添付図面を参照し
てより詳細に説明する。図1(A)はヒューズリード3
に形成されたダウンセット部4の付近に多様な形状の応
力吸収手段5を形成させた本発明の好ましい一具体例に
よる半導体パッケージ用リードフレーム1の平面図で、
リードフレーム1は半導体チップ搭載板2、ヒューズリ
ード3及びリード8を含む。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1A shows a fuse lead 3.
FIG. 4 is a plan view of a lead frame 1 for a semiconductor package according to a preferred embodiment of the present invention in which stress absorbing means 5 of various shapes are formed near a downset portion 4 formed in FIG.
The lead frame 1 includes a semiconductor chip mounting plate 2, fuse leads 3 and leads 8.
【0013】ヒューズリード3は半導体チップ搭載板2
とサイドレール(ダムバー9の外側に隣接した位置に形
成され、リード8とヒューズリード3を一体に連結支持
し、半導体パッケージの製造のためのプラスチック樹脂
のモールディング後にはダムバー9とともに切断除去さ
れる)に一体に連結され、半導体チップ搭載板2をサイ
ドレールに支持する機能を果たし、半導体パッケージの
製造後には、半導体チップ10の作動時に発生する熱を
外部に効率的に放出させる機能及びグラウンドの機能を
果たす。The fuse lead 3 is a semiconductor chip mounting plate 2
And a side rail (formed at a position adjacent to the outside of the dam bar 9 to integrally connect and support the lead 8 and the fuse lead 3 and cut and removed together with the dam bar 9 after molding of a plastic resin for manufacturing a semiconductor package) And a function of supporting the semiconductor chip mounting plate 2 on the side rails, and a function of efficiently releasing heat generated during operation of the semiconductor chip 10 to the outside after the semiconductor package is manufactured, and a function of a ground. Fulfill.
【0014】ヒューズリード3には二つのの折曲部によ
り限定されるダウンセット部4が形成され(図9参
照)、これにより半導体チップ搭載板2はリード8及び
サイドレールの下部の他の平面上に置かれ、半導体パッ
ケージの製造のための半導体チップ10の実装時、半導
体パッケージの軽薄化に寄与することになる。A downset portion 4 defined by two bent portions is formed on the fuse lead 3 (see FIG. 9), whereby the semiconductor chip mounting plate 2 is separated from the lead 8 and another plane below the side rail. When the semiconductor chip 10 is mounted for manufacturing a semiconductor package, it contributes to a reduction in the thickness of the semiconductor package.
【0015】本発明の好ましい一具体例による半導体パ
ッケージ用リードフレーム1におけるヒューズリード3
には、ダウンセット部4の付近に多様な形状の応力吸収
手段が形成されており、これによりダウンセット加工時
の残留応力を吸収又は緩和させることにより、リードフ
レーム1又はそのストリップの湾曲又はねじれ現象を防
止することができる。A fuse lead 3 in a semiconductor package lead frame 1 according to a preferred embodiment of the present invention.
Are formed with various shapes of stress absorbing means in the vicinity of the downset portion 4, thereby absorbing or relaxing residual stress during downset processing, thereby bending or twisting the lead frame 1 or its strip. The phenomenon can be prevented.
【0016】ヒューズリード3に形成される応力吸収手
段5の位置はダウンセット部4の前方及び/又は後方
(つまり、ダウンセット部4と半導体チップ搭載板2と
の間及び/又はダウンセット部4とダムバー9との間)
のどのところであってもかまわなく、その位置の選択は
リードフレーム1のデザインに従う。The position of the stress absorbing means 5 formed on the fuse lead 3 is in front and / or behind the downset portion 4 (that is, between the downset portion 4 and the semiconductor chip mounting plate 2 and / or the downset portion 4). And between dam bar 9)
The position may be selected according to the design of the lead frame 1.
【0017】応力吸収手段5はヒューズリード3と同一
平面上にこれに一体に形成される。このような応力吸収
手段5の形状は“V”字状、“U”字状、又は細孔6の
形成された正方形、長方形、楕円形又は菱形のどの一つ
だけで形成することもできるが、本発明によるリードフ
レーム1の場合においては、前記多様な形状が複合的に
選択され形成され、本発明において、このような選択は
任意的である。このように多様な形状の応力吸収手段5
を複合的に形成させる場合、各々のヒューズリード3に
ランダムに形成させることができるが、相互対称関係に
あるヒューズリード3には同一形状の応力吸収手段5を
形成させることがダウンセットによる残留応力を均一に
分散させ得るので好ましい。又、この多様な形状の応力
吸収手段5はダウンセット部の前方又は後方に選択的に
形成させることができるが、前方及び後方の両方に位置
するように適宜分散して形成させることもできる。一
方、正方形、長方形、楕円形又は菱形の応力吸収手段5
に形成されている細孔6はダウンセット時に発生される
応力を吸収するとともに、半導体パッケージへのモルデ
ィング時、モルディング樹脂との結合力を強化する長所
がある。The stress absorbing means 5 is formed integrally with the fuse lead 3 on the same plane. The shape of the stress absorbing means 5 may be a "V" shape, a "U" shape, or any one of a square, a rectangle, an ellipse, and a rhombus with pores 6 formed therein. In the case of the lead frame 1 according to the present invention, the various shapes are selected and formed in a complex manner, and in the present invention, such selection is optional. Stress absorbing means 5 having various shapes as described above
Can be formed randomly on each of the fuse leads 3, but it is necessary to form the same shape of the stress absorbing means 5 on the fuse leads 3 having a mutually symmetrical relationship. Is preferred because it can be uniformly dispersed. Further, the stress absorbing means 5 having various shapes can be selectively formed in front of or behind the downset portion, but can also be appropriately formed so as to be located both in front and rear of the downset portion. On the other hand, square, rectangular, elliptical or rhombic stress absorbing means 5
The pores 6 formed in the semiconductor package have the advantages of absorbing the stress generated during down-setting and strengthening the bonding force with the molding resin during molding into a semiconductor package.
【0018】又、応力吸収手段5の位置部領域を銀鍍金
してグラウンドボンディング領域7を形成させることも
できる。このようなグラウンドボンディングは、半導体
パッケージの製造時、実装される半導体チップ10のボ
ンドパッド11と導電性向上のために銀鍍金されたグラ
ウンドボンディング領域7との間をワイヤー20でボン
ディングして成される(図1(A)には便宜上一つのワ
イヤーボンディングのみを図示する)。この場合、前記
のような形状の応力吸収手段5によりヒューズリード3
の全体面積が増大する結果となるので、銀鍍金されたグ
ラウンドボンディング領域7の面積が一定であるとして
もその相対的面積の比は減少する。従って、パッケージ
の製造のためのモールディング樹脂との結合力が劣等な
銀鍍金領域の面積比率が減少するので、パッケージの製
造時、モールディング樹脂との結合力が向上する結果を
もたらす。Further, the ground bonding region 7 can be formed by silver plating the position region of the stress absorbing means 5. Such a ground bonding is performed by bonding a wire 20 between a bond pad 11 of a semiconductor chip 10 to be mounted and a ground bonding area 7 plated with silver to improve conductivity in manufacturing a semiconductor package. (FIG. 1A shows only one wire bonding for convenience). In this case, the fuse lead 3 is formed by the stress absorbing means 5 having the above-described shape.
Therefore, even if the area of the silver-plated ground bonding region 7 is constant, the ratio of the relative area decreases. Accordingly, since the area ratio of the silver-plated region having poor bonding strength with the molding resin for manufacturing the package is reduced, the bonding strength with the molding resin at the time of manufacturing the package is improved.
【0019】図1(B)は図1(A)のダウンセット部
4の拡大図で、ダウンセット部4を限定する二つの折曲
部が最短長さを有するよう、ヒューズリード3の両辺に
直角である幅方向に形成させることができることを示す
が、これは本発明において制限的でなく選択的である。
図1(B)のように形成させることにより、半導体チッ
プ搭載板2の辺又は多数のリード8の先端がなす延長線
に平行に形成させる場合(つまり、二つの折曲部をヒュ
ーズリード3の両辺に対して傾斜方向に形成させた図8
(B)参照)に比べてダウンセットによる残留応力を減
少させることができる。FIG. 1B is an enlarged view of the downset portion 4 shown in FIG. 1A, and is provided on both sides of the fuse lead 3 so that the two bent portions defining the downset portion 4 have the shortest length. Although it can be shown that it can be formed in a width direction that is at right angles, this is optional rather than limiting in the present invention.
1 (B), when it is formed in parallel with the side of the semiconductor chip mounting plate 2 or the extension formed by the tips of a large number of leads 8 (that is, two bent portions of the fuse lead 3 are formed). FIG. 8 formed in an inclined direction with respect to both sides
(B), the residual stress due to downset can be reduced.
【0020】図2乃至図4はそれぞれヒューズリード3
に形成されたダウンセット部4の前方に一定形状の応力
吸収手段5を形成させた本発明の好ましい具体例による
半導体パッケージ用リードフレーム1a〜1eの平面図
で、その基本構成は応力吸収手段5の形状及び位置上の
相違点を除き図1(A)に示した半導体パッケージ用リ
ードフレーム1と実質的に同様であるので、その相違点
についてだけ簡略に説明する。FIGS. 2 to 4 show fuse leads 3 respectively.
FIG. 2 is a plan view of a semiconductor package lead frame 1a to 1e according to a preferred embodiment of the present invention in which a stress absorbing means 5 having a predetermined shape is formed in front of a downset portion 4 formed in FIG. 1A is substantially the same as the semiconductor package lead frame 1 shown in FIG. 1A except for differences in shape and position.
【0021】図2乃至図4に示した半導体パッケージ用
リードフレーム1a〜1eにおけるヒューズリード3に
形成される応力吸収手段5の形状はそれぞれ“V”字
状、“U”字状、細孔6の形成された正方形、細孔6の
形成された菱形、ヒューズリード3の幅を減少させた細
長形の単一形状のみで構成され、応力吸収手段5の位置
はダウンセット部4の前方、つまり半導体チップ搭載板
2とダウンセット部4との間である。その他の事項は図
1(A)で説明したものと基本的に同様である。The shapes of the stress absorbing means 5 formed on the fuse leads 3 in the semiconductor package lead frames 1a to 1e shown in FIGS. 2 to 4 are "V" -shaped, "U" -shaped, and the pores 6, respectively. , A rhombus with pores 6, and an elongated single shape with a reduced width of the fuse lead 3. The position of the stress absorbing means 5 is in front of the downset portion 4, that is, It is between the semiconductor chip mounting plate 2 and the downset unit 4. Other items are basically the same as those described with reference to FIG.
【0022】図5及び図6はそれぞれヒューズリード3
に形成されたダウンセット部4の後方に一定形状の応力
吸収手段5を形成させた本発明の好ましい具体例による
半導体パッケージ用リードフレーム1f〜1iの平面図
で、その基本構成は応力吸収手段5の形状及び位置上の
相違点を除き図1(A)に示した半導体パッケージ用リ
ードフレーム1と実質的に同様であるので、その相違点
についてだけ簡略に説明する。FIGS. 5 and 6 show fuse leads 3 respectively.
Is a plan view of a semiconductor package lead frame 1f to 1i according to a preferred embodiment of the present invention in which a stress absorbing means 5 of a fixed shape is formed behind the downset portion 4 formed in FIG. 1A is substantially the same as the semiconductor package lead frame 1 shown in FIG. 1A except for differences in shape and position.
【0023】図5及び図6に示した半導体パッケージ用
リードフレーム1f〜1iにおけるヒューズリード3に
形成される応力吸収手段5の形状はそれぞれ“V”字
状、“U”字状、細孔6の形成された正方形、細孔6の
形成された菱形の単一形状のみで構成され、応力吸収手
段5の位置はダウンセット部4の後方、つまりダウンセ
ット部4とダムバー9との間である。その他の事項につ
いては図1(A)で説明したものと基本的に同様であ
る。The shapes of the stress absorbing means 5 formed on the fuse leads 3 in the semiconductor package lead frames 1f to 1i shown in FIGS. 5 and 6 are "V" -shaped, "U" -shaped, and fine holes 6, respectively. The stress absorbing means 5 is located at the rear of the downset part 4, that is, between the downset part 4 and the dam bar 9. . Other items are basically the same as those described with reference to FIG.
【0024】図7は図3(A)の半導体パッケージ用リ
ードフレーム1c上に実装された半導体チップ10のボ
ンドパッド11とヒューズリード3の応力吸収手段5に
形成されたグラウンドボンディング領域7とをワイヤー
20で電気的に接続させた状態を例示する図で、応力吸
収手段5の一部領域を銀鍍金してグラウンドボンディン
グ領域7を形成させ、半導体チップ10のボンドパッド
11と導電性向上のために銀鍍金されたグラウンドボン
ディング領域7との間をワイヤー20でボンディングす
る(図面上ではヒューズリード3とのグラウンドボンデ
ィングのみを示す)。このような構成は、グラウンドボ
ンディング時、銀鍍金領域の最小化によりパッケージの
製造時のモルディング樹脂との結合力が向上される結果
をもたらすことは図1(A)で説明したようであり、応
力吸収手段5に形成されたグラウンドボンディング領域
7に対するグラウンドボンディング時にはボンディング
されるワイヤー20のボンディング角度が半導体チップ
搭載板2上にボンディングする場合のワイヤーボンディ
ング角度に比べて小さくなるので、ボンディングされた
ワイヤー20が製造工程上の衝撃又はモルディング時の
樹脂流入圧により短絡される憂いが小さくなる利点があ
る。FIG. 7 shows a wire connection between the bond pad 11 of the semiconductor chip 10 mounted on the semiconductor package lead frame 1c of FIG. 3A and the ground bonding area 7 formed on the stress absorbing means 5 of the fuse lead 3. FIG. 2 is a diagram illustrating an example of a state of being electrically connected at 20. A part of the stress absorbing means 5 is silver-plated to form a ground bonding area 7, and is used to improve conductivity with bond pads 11 of the semiconductor chip 10. A wire 20 is bonded to the silver-plated ground bonding region 7 (only ground bonding to the fuse lead 3 is shown in the drawing). As described with reference to FIG. 1A, such a configuration results in an improvement in bonding strength with a molding resin during package manufacturing by minimizing a silver plating area during ground bonding. At the time of ground bonding to the ground bonding area 7 formed on the stress absorbing means 5, the bonding angle of the wire 20 to be bonded is smaller than the wire bonding angle at the time of bonding on the semiconductor chip mounting plate 2; 20 is less likely to be short-circuited by an impact in the manufacturing process or a resin inflow pressure during molding.
【0025】このようなグラウンドボンディングは本発
明による半導体パッケージ用リードフレームの全てに適
用できることは勿論である。又、図面上には示さなかっ
たが、本発明による半導体パッケージ用リードフレーム
の多数の一列に連結してリードストリップを構成するこ
とにより、コイルセット現象及びクロスバウ現象を最小
化し得るので、半導体パッケージの製造工程の円滑化及
び最終製品の信頼性向上を図ることができる。Such ground bonding can be applied to all lead frames for semiconductor packages according to the present invention. Although not shown in the drawings, by forming a lead strip by connecting a plurality of rows of a lead frame for a semiconductor package according to the present invention, a coil set phenomenon and a cross bow phenomenon can be minimized. The manufacturing process can be facilitated and the reliability of the final product can be improved.
【0026】このように、本発明は半導体チップ搭載板
と、サイドレールと、前記半導体チップ搭載板及びサイ
ドレールに一体に連結され、ダウンセット部の付近に応
力吸収手段が形成されている多数のヒューズリードと、
前記サイドレールに一体に連結され、前記半導体チップ
搭載板から短絡され、前記多数のヒューズリード間に位
置する多数のリードとから構成され、前記ヒューズリー
ドに形成された応力吸収手段がヒューズリードのダウン
セットにより発生される残留応力を吸収してリードフレ
ームの変形を防止することを特徴とする。As described above, according to the present invention, there are provided a plurality of semiconductor chip mounting plates, side rails, and a plurality of stress absorbing means which are integrally connected to the semiconductor chip mounting plate and the side rails and which are formed near the downset portion. Fuse leads,
A plurality of leads which are integrally connected to the side rails, are short-circuited from the semiconductor chip mounting plate, and are located between the plurality of fuse leads; It is characterized in that the residual stress generated by the set is absorbed to prevent the deformation of the lead frame.
【0027】又、前記応力吸収手段が半導体チップ搭載
板とダウンセット部間のヒューズリードに形成されるこ
とを特徴とする。Further, the stress absorbing means is formed on a fuse lead between the semiconductor chip mounting plate and the downset portion.
【0028】又、前記応力吸収手段がダウンセット部と
サイドレール間のヒューズリードに形成されることを特
徴とする。Further, the stress absorbing means is formed on a fuse lead between the downset portion and the side rail.
【0029】又、前記ヒューズリードに形成される応力
吸収手段が前記リードと同一平面上に“V”字状に一体
に形成されることを特徴とする。Further, the invention is characterized in that the stress absorbing means formed on the fuse lead is integrally formed in a "V" shape on the same plane as the lead.
【0030】又、前記ヒューズリードに形成される応力
吸収手段が前記リードと同一平面上に“U”字状に一体
に形成されることを特徴とする。Further, the invention is characterized in that the stress absorbing means formed on the fuse lead is integrally formed in a "U" shape on the same plane as the lead.
【0031】又、前記ヒューズリードに形成される応力
吸収手段が前記リードと同一平面上に細孔の形成された
正方形又は長方形に一体に形成されることを特徴とす
る。Further, the invention is characterized in that the stress absorbing means formed in the fuse lead is integrally formed in a square or a rectangle having pores on the same plane as the lead.
【0032】前記ヒューズリードに形成される応力吸収
手段が前記リードと同一平面上に細孔の形成された菱形
に一体に形成されることを特徴とする。[0032] The stress absorbing means formed on the fuse lead is integrally formed in a rhombus having pores on the same plane as the lead.
【0033】又、前記ヒューズリードに形成される応力
吸収手段が前記リードと同一平面上に幅の減少された細
長形に一体に形成されることを特徴とする。Further, the stress absorbing means formed on the fuse lead is integrally formed in an elongated shape with a reduced width on the same plane as the lead.
【0034】又、前記ヒューズリードに形成された応力
吸収手段が“V”字状、“U”字状、及び細孔の形成さ
れた正方形、長方形、楕円形、及び菱形でなる群から選
択される少なく二つ以上の形状を含むことを特徴とす
る。The stress absorbing means formed on the fuse lead is selected from the group consisting of a "V" shape, a "U" shape, and a square, a rectangle, an ellipse, and a rhombus having pores formed therein. It is characterized by including at least two or more shapes.
【0035】又、前記ヒューズリードの応力吸収手段の
形状において、互いに対称であるヒューズリードは同一
であることを特徴とする。Further, in the shape of the stress absorbing means of the fuse lead, the symmetrical fuse leads are the same.
【0036】又、応力吸収手段が半導体チップ搭載板と
ダウンセット部との間及びダウンセット部とサイドレー
ルとの間に分散形成されることを特徴とする。Further, the stress absorbing means is formed in a distributed manner between the semiconductor chip mounting plate and the downset portion and between the downset portion and the side rail.
【0037】又、ヒューズリードの全体面積に対する銀
鍍金領域の相対的面積比の減少によりモールディング樹
脂とリードフレーム間の結合力が向上されるよう、前記
応力吸収手段の一部領域が銀鍍金されてグラウンドボン
ディング領域を形成することを特徴とする。Further, a part of the stress absorbing means is silver-plated so that the bonding area between the molding resin and the lead frame is improved by reducing the relative area ratio of the silver-plated area to the entire area of the fuse lead. A ground bonding region is formed.
【0038】ダウンセットによる残留応力を減少させる
ため、ダウンセット部を限定する二つの折曲部が最短長
さを有するようにヒューズリードの両辺に直角である幅
方向に形成されることを特徴とする。In order to reduce the residual stress due to the downset, the two bent portions defining the downset portion are formed in the width direction perpendicular to both sides of the fuse lead so as to have the shortest length. I do.
【0039】サイドレールと半導体チップ搭載板間のサ
イドレールに隣接した位置にリード及びヒューズリード
を一体に連結支持するダムバーが形成されることを特徴
とする。A dam bar for integrally connecting and supporting the lead and the fuse lead is formed at a position adjacent to the side rail between the side rail and the semiconductor chip mounting plate.
【0040】半導体チップ搭載板と、サイドレールと、
前記半導体チップ搭載板及びサイドレールに一体に連結
され、ダウンセット時に発生する残留応力を吸収してフ
レームの変形を防止するための応力吸収手段がダウンセ
ット部の付近に形成される多数のヒューズリードと、前
記サイドレールに一体に連結され、前記半導体チップ搭
載板から短絡され、前記多数のヒューズリード間に位置
する多数のリードとから構成され、ヒューズリードに応
力吸収手段が形成された半導体パッケージ用リードフレ
ームが一列に配列されて構成されることを特徴とする。A semiconductor chip mounting plate, a side rail,
A plurality of fuse leads integrally formed with the semiconductor chip mounting plate and the side rails, and formed with a stress absorbing means formed near the downset portion for absorbing residual stress generated at the time of downsetting and preventing deformation of the frame; And a plurality of leads which are integrally connected to the side rails, are short-circuited from the semiconductor chip mounting plate and are located between the plurality of fuse leads, and wherein the fuse leads have stress absorbing means formed therein. It is characterized in that the lead frames are arranged in a line.
【0041】[0041]
【発明の効果】以上説明したように、本発明半導体パッ
ケージ用リードフレームは、ヒューズリードに多様な形
状の応力吸収手段を形成させることにより、ダウンセッ
トにより発生される残留応力を均一に吸収分散させて、
リードフレームの変形、リードフレームストリップのコ
イルセット又はクロスバウ現象を最小化し得るととも
に、半導体チップ搭載板から離隔された位置に存在する
応力吸収手段の一部領域にグラウンドボンディング領域
を形成しワイヤーボンディングさせることにより、モル
ディング樹脂との結合力を向上させるとともにワイヤー
ボンディング強度を向上させ得る新規で有用な発明であ
る。As described above, the lead frame for a semiconductor package according to the present invention can uniformly absorb and disperse the residual stress generated by down-setting by forming various shapes of stress absorbing means on the fuse lead. hand,
Forming a ground bonding area in a partial area of the stress absorbing means located at a position separated from the semiconductor chip mounting plate and performing wire bonding while minimizing deformation of the lead frame, coil set of the lead frame strip or crossbow phenomenon. Thus, the present invention is a novel and useful invention capable of improving the bonding force with the molding resin and improving the wire bonding strength.
【図1】(A)はヒューズリードに形成されたダウンセ
ット部の前後方に多様な形状の応力吸収手段を備えた本
発明の好ましい一具体例による半導体パッケージ用リー
ドフレームの平面図、(B)は図1(A)のダウンセッ
ト部の拡大図である。FIG. 1A is a plan view of a lead frame for a semiconductor package according to a preferred embodiment of the present invention, having stress absorbing means of various shapes in front and rear of a downset portion formed in a fuse lead; () Is an enlarged view of the downset portion of FIG.
【図2】(A),(B)は、ヒューズリードに形成され
たダウンセット部の前方にそれぞれ所定形状の応力吸収
手段を備える本発明の好ましい具体例による半導体パッ
ケージ用リードフレームの平面図である。FIGS. 2A and 2B are plan views of a lead frame for a semiconductor package according to a preferred embodiment of the present invention, each having a predetermined shape of stress absorbing means in front of a downset portion formed in a fuse lead; is there.
【図3】(A),(B)は、ヒューズリードに形成され
たダウンセット部の前方にそれぞれ所定形状の応力吸収
手段を備える本発明の好ましい具体例による半導体パッ
ケージ用リードフレームの平面図である。FIGS. 3A and 3B are plan views of a lead frame for a semiconductor package according to a preferred embodiment of the present invention having a predetermined shape of stress absorbing means in front of a downset portion formed in a fuse lead. is there.
【図4】ヒューズリードに形成されたダウンセット部の
前方にそれぞれ所定形状の応力吸収手段を備える本発明
の好ましい具体例による半導体パッケージ用リードフレ
ームの平面図である。FIG. 4 is a plan view of a lead frame for a semiconductor package according to a preferred embodiment of the present invention, having a predetermined shape of stress absorbing means in front of a downset portion formed on a fuse lead;
【図5】(A),(B)は、ヒューズリードに形成され
たダウンセット部の後方にそれぞれ所定形状の応力吸収
手段を備える本発明の好ましい具体例による半導体パッ
ケージ用リードフレームの平面図である。FIGS. 5A and 5B are plan views of a lead frame for a semiconductor package according to a preferred embodiment of the present invention, each having a stress absorbing means having a predetermined shape behind a downset portion formed in a fuse lead; is there.
【図6】(A),(B)は、ヒューズリードに形成され
たダウンセット部の後方にそれぞれ所定形状の応力吸収
手段を備える本発明の好ましい具体例による半導体パッ
ケージ用リードフレームの平面図である。FIGS. 6A and 6B are plan views of a lead frame for a semiconductor package according to a preferred embodiment of the present invention having a predetermined shape of stress absorbing means respectively behind a downset portion formed in a fuse lead; is there.
【図7】図3(A)のリードフレーム上に実装された半
導体チップのボンドパッドとヒューズリードの応力吸収
手段に形成されたグラウンドボンディング領域とをワイ
ヤーで電気的に接続させた状態を示す例示図である。FIG. 7 is an example showing a state in which a bond pad of the semiconductor chip mounted on the lead frame of FIG. 3A and a ground bonding region formed in the stress absorbing means of the fuse lead are electrically connected by a wire. FIG.
【図8】(A)は、ヒューズリードを有する多数の従来
のユニットリードフレームで従来のリードフレームスト
リップの概略平面図、(B)は図8(A)のダウンセッ
ト部の拡大図である。8 (A) is a schematic plan view of a conventional lead frame strip of a number of conventional unit lead frames having fuse leads, and FIG. 8 (B) is an enlarged view of a downset portion of FIG. 8 (A).
【図9】図8(A)のA−A線についての断面図であ
る。FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG.
【図10】ヒューズリードへのダウンセット部の形成
時、機械的応力による従来のリードフレームストリップ
における変形を説明する説明図である。FIG. 10 is an explanatory view illustrating deformation of a conventional lead frame strip due to mechanical stress when forming a downset portion on a fuse lead.
1、1a〜1i 本発明の半導体パッケージ用リードフ
レーム 2 半導体チップ搭載板 3 ヒューズリード 4 ダウンセット部 5 応力吸収手段 6 細孔 7 グラウンドボンディング領域 8 リード 9 ダムバー 10 半導体チップ 11 ボンドパッド 20 ワイヤー 100 多数の従来のユニットフレームで構成されるリ
ードフレームストリップDESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1a-1i The lead frame for semiconductor packages of this invention 2 Semiconductor chip mounting board 3 Fuse lead 4 Downset part 5 Stress absorption means 6 Pores 7 Ground bonding area 8 Lead 9 Dam bar 10 Semiconductor chip 11 Bond pad 20 Wire 100 Many Lead frame strip composed of conventional unit frames
Claims (15)
され、ダウンセット部の付近に応力吸収手段が形成され
ている多数のヒューズリードと、 前記サイドレールに一体に連結され、前記半導体チップ
搭載板から短絡され、前記多数のヒューズリード間に位
置する多数のリードとから構成され、 前記ヒューズリードに形成された応力吸収手段がヒュー
ズリードのダウンセットにより発生される残留応力を吸
収してリードフレームの変形を防止することを特徴とす
る半導体パッケージ用リードフレーム。A semiconductor chip mounting plate, side rails, and a plurality of fuse leads integrally connected to the semiconductor chip mounting plate and the side rails, and having a stress absorbing means formed near a downset portion; A plurality of leads which are integrally connected to a side rail, are short-circuited from the semiconductor chip mounting plate, and are located between the plurality of fuse leads; A lead frame for a semiconductor package, wherein the lead frame is prevented from being deformed by absorbing residual stress generated by the lead frame.
とダウンセット部間のヒューズリードに形成されること
を特徴とする請求項1記載の半導体パッケージ用リード
フレーム。2. The lead frame for a semiconductor package according to claim 1, wherein said stress absorbing means is formed in a fuse lead between said semiconductor chip mounting plate and said downset portion.
イドレール間のヒューズリードに形成されることを特徴
とする請求項1記載の半導体パッケージ用リードフレー
ム。3. The lead frame for a semiconductor package according to claim 1, wherein said stress absorbing means is formed in a fuse lead between a downset portion and a side rail.
収手段が前記リードと同一平面上に“V”字状に一体に
形成されることを特徴とする請求項2又は3記載の半導
体パッケージ用リードフレーム。4. The semiconductor package lead according to claim 2, wherein the stress absorbing means formed on the fuse lead is integrally formed in a “V” shape on the same plane as the lead. flame.
収手段が前記リードと同一平面上に“U”字状に一体に
形成されることを特徴とする請求項2又は3記載の半導
体パッケージ用リードフレーム。5. The semiconductor package lead according to claim 2, wherein the stress absorbing means formed on the fuse lead is integrally formed in a “U” shape on the same plane as the lead. flame.
収手段が前記リードと同一平面上に細孔の形成された正
方形又は長方形に一体に形成されることを特徴とする請
求項2又は3記載の半導体パッケージ用リードフレー
ム。6. The method according to claim 2, wherein the stress absorbing means formed on the fuse lead is integrally formed in a square or a rectangle having pores on the same plane as the lead. Lead frame for semiconductor package.
収手段が前記リードと同一平面上に細孔の形成された菱
形に一体に形成されることを特徴とする請求項2又は3
記載の半導体パッケージ用リードフレーム。7. The method according to claim 2, wherein the stress absorbing means formed on the fuse lead is integrally formed with a rhombus having a pore formed on the same plane as the lead.
The lead frame for a semiconductor package described in the above.
収手段が前記リードと同一平面上に幅の減少された細長
形に一体に形成されることを特徴とする請求項2又は3
記載の半導体パッケージ用リードフレーム。8. The method according to claim 2, wherein the stress absorbing means formed on the fuse lead is integrally formed in an elongated shape with a reduced width on the same plane as the lead.
The lead frame for a semiconductor package described in the above.
収手段が“V”字状、“U”字状、及び細孔の形成され
た正方形、長方形、楕円形、及び菱形でなる群から選択
される少なく二つ以上の形状を含むことを特徴とする請
求項1乃至3のいずれか記載の半導体パッケージ用リー
ドフレーム。9. The stress absorbing means formed on the fuse lead is selected from the group consisting of a "V" shape, a "U" shape, and a square, a rectangle, an ellipse, and a rhombus having pores formed therein. 4. The lead frame for a semiconductor package according to claim 1, wherein the lead frame includes at least two or more shapes.
形状において、互いに対称であるヒューズリードは同一
であることを特徴とする請求項9記載の半導体パッケー
ジ用リードフレーム。10. The lead frame for a semiconductor package according to claim 9, wherein the shape of the stress absorbing means of the fuse lead is such that the symmetrical fuse leads are the same.
ダウンセット部との間及びダウンセット部とサイドレー
ルとの間に分散形成されることを特徴とする請求項8記
載の半導体パッケージ用リードフレーム。11. The lead frame for a semiconductor package according to claim 8, wherein the stress absorbing means is formed in a distributed manner between the semiconductor chip mounting plate and the downset portion and between the downset portion and the side rail. .
鍍金領域の相対的面積比の減少によりモールディング樹
脂とリードフレーム間の結合力が向上されるよう、前記
応力吸収手段の一部領域が銀鍍金されてグラウンドボン
ディング領域を形成することを特徴とする請求項1乃至
3のいずれか記載の半導体パッケージ用リードフレー
ム。12. A partial area of the stress absorbing means is silver-plated so that the bonding area between the molding resin and the lead frame is improved by reducing the relative area ratio of the silver-plated area to the entire area of the fuse lead. 4. The lead frame for a semiconductor package according to claim 1, wherein a ground bonding region is formed.
せるため、ダウンセット部を限定する二つの折曲部が最
短長さを有するようにヒューズリードの両辺に直角であ
る幅方向に形成されることを特徴とする請求項1乃至3
のいずれか記載の半導体パッケージ用リードフレーム。13. In order to reduce residual stress due to downset, two bent portions defining the downset portion are formed in a width direction perpendicular to both sides of the fuse lead so as to have the shortest length. Claims 1 to 3
The lead frame for a semiconductor package according to any one of the above.
のサイドレールに隣接した位置にリード及びヒューズリ
ードを一体に連結支持するダムバーが形成されることを
特徴とする請求項1乃至3のいずれか記載の半導体パッ
ケージ用リードフレーム。14. A dam bar for integrally connecting and supporting a lead and a fuse lead at a position adjacent to the side rail between the side rail and the semiconductor chip mounting plate. Lead frame for semiconductor package.
と、前記半導体チップ搭載板及びサイドレールに一体に
連結され、ダウンセット時に発生する残留応力を吸収し
てフレームの変形を防止するための応力吸収手段がダウ
ンセット部の付近に形成される多数のヒューズリード
と、前記サイドレールに一体に連結され、前記半導体チ
ップ搭載板から短絡され、前記多数のヒューズリード間
に位置する多数のリードとから構成され、ヒューズリー
ドに応力吸収手段が形成された半導体パッケージ用リー
ドフレームが一列に配列されて構成されることを特徴と
するリードフレームストリップ。15. A semiconductor chip mounting plate, a side rail, and a stress absorbing member integrally connected to the semiconductor chip mounting plate and the side rail for absorbing residual stress generated at the time of downset and preventing deformation of the frame. The means comprises a plurality of fuse leads formed near the downset portion, and a plurality of leads integrally connected to the side rail, short-circuited from the semiconductor chip mounting plate, and located between the plurality of fuse leads. A lead frame strip, wherein a lead frame for a semiconductor package in which stress absorbing means is formed on a fuse lead is arranged in a line.
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