JPH06224261A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPH06224261A
JPH06224261A JP50A JP944593A JPH06224261A JP H06224261 A JPH06224261 A JP H06224261A JP 50 A JP50 A JP 50A JP 944593 A JP944593 A JP 944593A JP H06224261 A JPH06224261 A JP H06224261A
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JP
Japan
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semiconductor chip
inner lead
semiconductor device
electrode
tip
Prior art date
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JP50A
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Japanese (ja)
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Hiroko Otaki
浩子 大瀧
Kazuyuki Horii
和之 堀井
Takao Fujizu
隆夫 藤津
Yoshimasa Kudo
好正 工藤
Shinya Shimizu
真也 清水
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Toshiba Corp
Toppan Inc
Original Assignee
Toshiba Corp
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To provide a semiconductor device in which the damage of the electrode of a semiconductor chip can be prevented by relaxing a stress applied to the semiconductor chip when a lead frame and an inner lead are brought into contact with each other and also the semiconductor chip and the lead frame can be surely connected. CONSTITUTION:A double-sided adhesive tape 6 is placed between a semiconductor chip 1 with electrodes 4 formed on the surface and the inner leads 3 of a lead frame 2 made of a conductive material and is temporarily fastened by thermo compression bonding and at the same time the electrodes 4 of the semiconductor chip 1 and the inner leads 3 are interconnected by plating, and the tips of the inner leads 3 is brought into contact with the electrodes 4 of the semiconductor chip 1 in advance and at the same time a notch is provided in a least one place nearer to the tip-side part than the double-sided adhesive tape 6 of the inner leads 3.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、IC,LSI,VLS
I等の高集積化が進む半導体チップをリードフレームに
実装して成る半導体装置に係り、特にリードフレームの
インナーリード接触時に半導体チップの電極へかかる応
力を緩和して半導体チップの電極の損傷を防止でき、ま
た半導体チップとリードフレームとの接続を確実に行な
い得るようにした半導体装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to ICs, LSIs, VLSs.
The present invention relates to a semiconductor device in which a highly integrated semiconductor chip such as I is mounted on a lead frame, and in particular, stress applied to an electrode of the semiconductor chip when the inner lead of the lead frame is in contact is relaxed to prevent damage to the electrode of the semiconductor chip. The present invention also relates to a semiconductor device capable of reliably connecting a semiconductor chip and a lead frame.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、IC,LSI,VLSI等の半
導体チップの実装には、リードフレームが多く用いられ
ている。このリードフレームは、通常、中心部に形成さ
れたアイランドと、アイランドの周囲に形成されたイン
ナーリードとから成っており、半導体チップはアイラン
ド上にダイボンディングされる。
2. Description of the Related Art Generally, lead frames are often used for mounting semiconductor chips such as ICs, LSIs and VLSIs. This lead frame usually consists of an island formed in the center and inner leads formed around the island, and the semiconductor chip is die-bonded onto the island.

【0003】そういう中で、最近では、アイランドに相
当する部分がなく、リードフレーム表面の下方もしくは
上方に半導体チップが設けられる、いわゆるLOC(L
ead on chip)あるいはCOL(chip
on Lead)構造のリードフレームを備えた半導体
装置が開発されてきている。このLOCあるいはCOL
構造にすることの長所としては、多様なパッケージへの
製品展開、高速動作や多ビット版同時出力時の雑音対
策、半導体チップの大形化への対応、リードフレーム設
計時間の短縮化等があり、最先端の半導体チップを造り
出す上での多くの問題点を解決することに、多大な効果
が期待できるものである。
Under such circumstances, recently, there is no portion corresponding to an island, and a semiconductor chip is provided below or above the surface of the lead frame, that is, so-called LOC (L
ead on chip) or COL (chip)
A semiconductor device having a lead frame of on lead structure has been developed. This LOC or COL
Advantages of the structure include product deployment in various packages, noise countermeasures for high-speed operation and simultaneous output of multi-bit version, support for larger semiconductor chips, shortened lead frame design time, etc. A great effect can be expected in solving many problems in producing the most advanced semiconductor chip.

【0004】図4はこの種のLOC構造のリードフレー
ムを備えた半導体装置の構成例を示す平面図、図5
(a)および(b)は同半導体装置のインナーリード部
分の構成例を拡大して示す平面図および断面図である。
図4および図5において、半導体チップ1の上に、導電
性材料(42合金、あるいは銅材をその両面から42合
金で挟んでなるもの等)からなるリードフレーム2が載
置され、このリードフレーム2の各インナーリード3の
先端は、半導体チップ1の各電極(アルミニウム電極
等)4に対して位置決めされ、さらに各インナーリード
3の先端と半導体チップ1の各電極4とが、ボンディン
グワイヤ(AuワイヤやAlワイヤ等)5によりワイヤ
ボンディングして、それぞれ接続されている。
FIG. 4 is a plan view showing a structural example of a semiconductor device having a lead frame of this type of LOC structure, and FIG.
(A) And (b) is the top view and sectional drawing which expand and show the structural example of the inner lead part of the same semiconductor device.
4 and 5, a lead frame 2 made of a conductive material (such as 42 alloy or a copper material sandwiched between 42 alloys from both sides thereof) is placed on a semiconductor chip 1. The tip of each inner lead 3 of 2 is positioned with respect to each electrode (aluminum electrode, etc.) 4 of the semiconductor chip 1, and the tip of each inner lead 3 and each electrode 4 of the semiconductor chip 1 are bonded by a bonding wire (Au). Wires and Al wires, etc.) 5 are wire-bonded to each other.

【0005】ここで、各インナーリード3の先端と半導
体チップ1の各電極4との位置決めは、ワイヤボンディ
ングを行なう前に、半導体チップ1とインナーリード3
とを、両面接着テープ6により仮止めすることによって
行なわれる。また、両面接着テープ6としては、例えば
アクリル系接着剤を用いた両面テープを用いることがで
きる。
The positioning of the tip of each inner lead 3 and each electrode 4 of the semiconductor chip 1 is performed before the wire bonding is performed.
Are temporarily fixed with the double-sided adhesive tape 6. As the double-sided adhesive tape 6, for example, a double-sided tape using an acrylic adhesive can be used.

【0006】ところで、このようなワイヤボンディング
による接続は、使用するボンディング用キャピラリィ
(針)の外形により、隣接するボンディングワイヤ5間
の最短距離が制約され、半導体チップ1上の電極4間距
離を約100μm程度以下に縮小することは困難であ
る。
By the way, in such a connection by wire bonding, the shortest distance between the bonding wires 5 adjacent to each other is restricted by the outer shape of the bonding capillary (needle) used, and the distance between the electrodes 4 on the semiconductor chip 1 is reduced. It is difficult to reduce the size to about 100 μm or less.

【0007】また、AuワイヤやAlワイヤと半導体チ
ップ1上のアルミニウム電極4との金属接続のため、加
熱、加圧、超音波振動等の物理的負荷を加える必要があ
り、時としては電極4下の半導体チップ1そのものにダ
メージを与えることがある。
Further, because of the metal connection between the Au wire or Al wire and the aluminum electrode 4 on the semiconductor chip 1, it is necessary to apply a physical load such as heating, pressurization, ultrasonic vibration, etc. The lower semiconductor chip 1 itself may be damaged.

【0008】そこで、上記のような問題点を解消するた
めに、最近では、例えば“特開平4−37149号公
報”に開示されるようなものが提案されてきている。す
なわち、ここに示されているものは、リードフレームの
インナーリードと半導体チップの電極との接続を、金属
メッキ、もしくは導電性の接着剤と金属メッキとの併用
によって行なうものである。
Therefore, in order to solve the above-mentioned problems, recently, for example, one disclosed in "Japanese Patent Laid-Open No. 4-37149" has been proposed. That is, in the one shown here, the inner lead of the lead frame and the electrode of the semiconductor chip are connected by metal plating or by using a conductive adhesive and metal plating in combination.

【0009】しかしながら、このような接続による半導
体装置では、次のような問題点がある。
However, the semiconductor device having such a connection has the following problems.

【0010】すなわち、前述したように、半導体装置を
製造する場合に、半導体チップ1をリードフレーム2の
インナーリード3に対して熱圧着により仮止めする際、
インナーリード3の先端を半導体チップ1の電極4に接
触させた時に、その応力が半導体チップ1の電極へかか
って半導体チップ1の電極4が損傷するという問題があ
る。
That is, as described above, in the case of manufacturing a semiconductor device, when the semiconductor chip 1 is temporarily fixed to the inner lead 3 of the lead frame 2 by thermocompression bonding,
When the tip of the inner lead 3 is brought into contact with the electrode 4 of the semiconductor chip 1, there is a problem that the stress is applied to the electrode of the semiconductor chip 1 and the electrode 4 of the semiconductor chip 1 is damaged.

【0011】また、半導体チップ1とリードフレーム2
とを、両面接着テープ6により接着して固定しているの
で、メッキによって両者間の間隔を埋めることができな
い。また、仮に、間隔を埋めることができたとしても、
メッキ皮膜が等方性に成長する(下方に100μm、左
右にも100μm程度成長する)ので、電極4方向に成
長し接続するだけのメッキを施すと、インナーリード3
相互間が接触して短絡してしまう。従って、半導体チッ
プ1とリードフレーム2との接続が確実に行なわれず、
多ピン化、高密度化に対応する上で問題がある。
Further, the semiconductor chip 1 and the lead frame 2
Since and are fixed by being adhered by the double-sided adhesive tape 6, it is not possible to fill the gap between them by plating. Also, even if the space could be filled,
Since the plating film grows isotropically (100 μm downward and about 100 μm left and right), the inner lead 3 will grow when the plating is performed to grow in the direction of the electrode 4 and connect.
They will come into contact with each other and short-circuit. Therefore, the semiconductor chip 1 and the lead frame 2 are not reliably connected,
There is a problem in dealing with high pin count and high density.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】以上のように、従来の
半導体装置においては、インナーリードの先端を半導体
チップの電極に接触させた際に、その応力が半導体チッ
プの電極へかかって半導体チップの電極が損傷したり、
あるいは半導体チップとリードフレームとの接続を確実
に行なえないという問題があった。
As described above, in the conventional semiconductor device, when the tip of the inner lead is brought into contact with the electrode of the semiconductor chip, the stress is applied to the electrode of the semiconductor chip and the stress of the semiconductor chip is increased. The electrode is damaged,
Alternatively, there is a problem that the semiconductor chip and the lead frame cannot be reliably connected.

【0013】本発明は、上記のような問題点を解決する
ために成されたものであり、その目的は、リードフレー
ムのインナーリード接触時に半導体チップの電極へかか
る応力を緩和して半導体チップの電極の損傷を防止で
き、また半導体チップとリードフレームとの接続を確実
に行なうことが可能な極めて信頼性の高い半導体装置を
提供することにある。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to reduce the stress applied to the electrodes of the semiconductor chip when the inner leads of the lead frame are in contact with each other. An object of the present invention is to provide a highly reliable semiconductor device capable of preventing damage to electrodes and reliably connecting a semiconductor chip and a lead frame.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明では、表面に電極が形成された半導体チップ
と、導電性材料からなるリードフレームのインナーリー
ドとの間に、両面接着テープを介在させて熱圧着により
仮止めし、かつ半導体チップの電極とインナーリードと
をメッキにより接続して構成される半導体装置におい
て、インナーリードの先端が、あらかじめ半導体チップ
の電極と接触する構成とし、かつインナーリードの両面
接着テープよりも先端側部分の少なくとも1箇所に切欠
部を設けて成っている。
In order to achieve the above object, the present invention provides a double-sided adhesive tape between a semiconductor chip having electrodes formed on its surface and an inner lead of a lead frame made of a conductive material. In the semiconductor device which is temporarily fixed by thermocompression with the interposition of, and the electrode of the semiconductor chip and the inner lead are connected by plating, the tip of the inner lead is in contact with the electrode of the semiconductor chip in advance, In addition, a notch is provided in at least one part of the inner lead on the tip side of the double-sided adhesive tape.

【0015】ここで、特に上記インナーリードの先端が
半導体チップの電極と接触する構成としては、インナー
リードの先端をディプレス加工により傾げた形状として
いる。
Here, in particular, as a structure in which the tips of the inner leads come into contact with the electrodes of the semiconductor chip, the tips of the inner leads are inclined by depressing.

【0016】また、上記切欠部としては、ハーフエッチ
ング、またはプレス加工、あるいはレーザー加工により
設けている。
The notch is provided by half etching, press working, or laser working.

【0017】さらに、上記インナーリード先端のディプ
レス角度を直角に近づけて深くしている。
Further, the depressing angle at the tip of the inner lead is made closer to a right angle and deepened.

【0018】さらにまた、上記インナーリードとして
は、異なる組材からなる複層構造のリードフレームのう
ち1層のみを残し、所定部分をエッチングにより除去し
て上記切欠部を設けている。
Further, as the inner lead, only one layer of the multi-layered lead frame made of different assembly materials is left, and a predetermined portion is removed by etching to provide the cutout portion.

【0019】[0019]

【作用】従って、本発明の半導体装置においては、イン
ナーリードの両面接着テープよりも先端側部分の少なく
とも1箇所に切欠部を設けることにより、インナーリー
ドの強度を低下させて弾性を持たせられるため、インナ
ーリード接触時に半導体チップの電極へかかる応力を緩
和して、半導体チップの電極の損傷を防止することがで
きる。
Therefore, in the semiconductor device of the present invention, since the notch is provided at least at one portion of the inner lead on the tip side of the double-sided adhesive tape, the strength of the inner lead is reduced and the inner lead is made elastic. The stress applied to the electrodes of the semiconductor chip at the time of contact with the inner leads can be relieved to prevent the electrodes of the semiconductor chip from being damaged.

【0020】また、インナーリードの先端をあらかじめ
半導体チップの電極に接触させることにより、インナー
リードと半導体チップの電極に同時にメッキが析出する
ため、未接触の場合に比べて短時間で、ワイヤボンディ
ングによる接続強度以上の強度を得ることが可能とな
り、半導体チップとリードフレームとの接続を確実に行
なうことができる。
Further, since the tip of the inner lead is brought into contact with the electrode of the semiconductor chip in advance, plating is simultaneously deposited on the inner lead and the electrode of the semiconductor chip. It is possible to obtain a strength higher than the connection strength, and it is possible to reliably connect the semiconductor chip and the lead frame.

【0021】[0021]

【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を参照
して詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0022】図1は本発明によるLOC構造のリードフ
レームを備えた半導体装置の構成例を示す平面図、図2
(a)および(b)は同半導体装置のインナーリード部
分の構成例を拡大して示す平面図および断面図であり、
図4および図5と同一要素には同一符号を付してその説
明を省略し、ここでは異なる部分についてのみ述べる。
FIG. 1 is a plan view showing a structural example of a semiconductor device having a lead frame of LOC structure according to the present invention, FIG.
(A) And (b) is the top view and sectional drawing which expand and show the structural example of the inner lead part of the same semiconductor device,
The same elements as those in FIGS. 4 and 5 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. Here, only different portions will be described.

【0023】すなわち、本実施例の半導体装置は、前述
した図4および図5におけるリードフレーム2の各イン
ナーリード3の先端と半導体チップ1の各電極4とを接
続するためのボンディングワイヤ5を省略し、これに代
えて、各インナーリード3の先端を傾げた形状とする
(以下、ディプレス加工と称する。7はディプレス部
分)ことによって、各インナーリード3の先端が、あら
かじめ半導体チップ1の各電極4と接触する構成とし、
さらに各インナーリード3の片面(本例では、半導体チ
ップ1側面)における両面接着テープ6よりも先端側部
分の全体(1箇所)に、例えばハーフエッチングにより
切欠部8を設けて成っている。
That is, in the semiconductor device of this embodiment, the bonding wires 5 for connecting the tips of the inner leads 3 of the lead frame 2 and the electrodes 4 of the semiconductor chip 1 in FIGS. 4 and 5 are omitted. However, instead of this, by making the tip of each inner lead 3 inclined (hereinafter, referred to as depressing. 7 is a depressed portion), the tip of each inner lead 3 is preliminarily attached to the semiconductor chip 1. It is configured to be in contact with each electrode 4,
Further, a notch 8 is formed, for example, by half etching on the entire surface (on one side) of the inner lead 3 on one side (in this example, the side surface of the semiconductor chip 1) on the tip side of the double-sided adhesive tape 6.

【0024】ここで、各インナーリード3先端のディプ
レス部分7は、仮接着を行なう両面接着テープ6の厚さ
分のみ、各インナーリード3をディプレス加工して設
け、またその角度は、できる限り直角に近づけて深くす
ることが望ましい。
Here, the depress portion 7 at the tip of each inner lead 3 is provided by depressing each inner lead 3 only by the thickness of the double-sided adhesive tape 6 for temporary adhesion, and the angle can be set. As far as possible, it is desirable to approach a right angle and make it deeper.

【0025】また、両面接着テープ6としては、例えば
ポリイミドの両面に接着剤を塗布してなるものを用いる
ことができる。
Further, as the double-sided adhesive tape 6, for example, one obtained by applying an adhesive on both sides of polyimide can be used.

【0026】次に、以上のように構成した本実施例の半
導体装置においては、リードフレーム2の各インナーリ
ード3の片面における両面接着テープ6よりも先端側部
分の全体を、ハーフエッチングして切欠部8を設けてい
ることにより、各インナーリード3の強度を低下させて
弾性を持たせられるため、仮止めを行なう際の圧着によ
って両面接着テープ6部のリードフレーム2へかかる応
力を、インナーリード3へ向かうにしたがって減少させ
ることができ、もって各インナーリード3の接触時に半
導体チップ1の各電極4へかかる応力を緩和することが
できる。
Next, in the semiconductor device of the present embodiment having the above-described structure, the entire front end portion of the one side of each inner lead 3 of the lead frame 2 with respect to the double-sided adhesive tape 6 is half-etched and cut out. By providing the portion 8, the strength of each inner lead 3 can be reduced and the inner lead 3 can be made to have elasticity. Therefore, the stress applied to the lead frame 2 of the double-sided adhesive tape 6 portion by the pressure bonding at the time of temporary fixing can be reduced. It is possible to reduce the stress toward each of the electrodes 3 and thus alleviate the stress applied to each electrode 4 of the semiconductor chip 1 when each inner lead 3 contacts.

【0027】また、この場合、各インナーリード3先端
のディプレス部分7の角度を、できる限り直角に近づけ
て深くすることにより、上下方向の応力に加えて左右方
向へかかる応力をも緩和することができる。
Further, in this case, by making the angle of the depressed portion 7 at the tip of each inner lead 3 as close to the right angle as possible and deepening it, the stress applied in the horizontal direction in addition to the stress applied in the vertical direction is relaxed. You can

【0028】これにより、半導体チップ1の各電極4に
与えるダメージを低下させて、半導体チップ1の各電極
4の損傷を防止することができる。
This makes it possible to reduce the damage given to each electrode 4 of the semiconductor chip 1 and prevent the damage to each electrode 4 of the semiconductor chip 1.

【0029】一方、各インナーリード3の先端をあらか
じめ半導体チップ1の各電極4に接触させることによ
り、各インナーリード3と半導体チップ1の各電極4に
同時にメッキが析出するため、従来のような未接触の場
合と比較して、短時間で、ワイヤボンディングによる接
続強度以上の強度を得ることができる。
On the other hand, when the tip of each inner lead 3 is brought into contact with each electrode 4 of the semiconductor chip 1 in advance, plating is simultaneously deposited on each inner lead 3 and each electrode 4 of the semiconductor chip 1, so that the conventional method is used. As compared with the case of no contact, it is possible to obtain strength higher than the connection strength by wire bonding in a short time.

【0030】これにより、従来のように、電極4方向に
成長し接続するだけのメッキを施す必要がなく、インナ
ーリード3相互間が接触して短絡してしまうこともない
ため、半導体チップ1とリードフレーム2との接続を確
実に行なって、多ピン化、高密度化に対応することがで
きる。
As a result, unlike the prior art, there is no need to perform plating for growing and connecting in the direction of the electrodes 4 and the inner leads 3 do not come into contact with each other to cause a short circuit. It is possible to reliably connect to the lead frame 2 and cope with the increase in the number of pins and the increase in density.

【0031】上述したように、本実施例では、表面に電
極4が形成された半導体チップ1と、導電性材料からな
るリードフレーム2のインナーリード3との間に、両面
接着テープ6を介在させて熱圧着により仮止めし、かつ
半導体チップ1の電極4とインナーリード3とをメッキ
により接続して成る半導体装置において、各インナーリ
ード3の先端をディプレス加工することによって、各イ
ンナーリード3の先端が、あらかじめ半導体チップ1の
各電極4と接触する構成とし、また各インナーリード3
の片面(半導体チップ1側面)における両面接着テープ
6よりも先端側部分の全体(1箇所)に、ハーフエッチ
ングにより切欠部8を設け、さらにディプレス部分7の
角度を、できる限り直角に近づけて深くするようにした
ものである。
As described above, in this embodiment, the double-sided adhesive tape 6 is interposed between the semiconductor chip 1 having the electrode 4 formed on the surface and the inner lead 3 of the lead frame 2 made of a conductive material. In the semiconductor device in which the electrodes 4 of the semiconductor chip 1 and the inner leads 3 are connected by plating by thermocompression bonding, the inner leads 3 of the inner leads 3 are The tip is configured to come into contact with each electrode 4 of the semiconductor chip 1 in advance, and each inner lead 3
A notch 8 is formed by half etching on the entire one side (side surface of the semiconductor chip 1) of the double-sided adhesive tape 6 (one place), and the angle of the depress portion 7 is made as close to a right angle as possible. It was made to be deep.

【0032】従って、次のような効果が得られるもので
ある。
Therefore, the following effects can be obtained.

【0033】(a)各インナーリード3の片面における
両面接着テープ6よりも先端側部分の全体に切欠部8を
設けているので、各インナーリード3の強度を低下させ
て弾性を持たせられるため、各インナーリード3接触時
に半導体チップ1の各電極4へかかる応力を緩和して、
半導体チップ1の各電極4の損傷を防止することが可能
となる。
(A) Since the notch portion 8 is provided on the entire one side of each inner lead 3 on the tip side of the double-sided adhesive tape 6, the strength of each inner lead 3 can be reduced and elasticity can be provided. , The stress applied to each electrode 4 of the semiconductor chip 1 when each inner lead 3 is contacted is relaxed,
It is possible to prevent damage to each electrode 4 of the semiconductor chip 1.

【0034】(b)各インナーリード3の先端をあらか
じめ半導体チップ1の各電極4に接触させるので、各イ
ンナーリード3と半導体チップ1の各電極4に同時にメ
ッキが析出するため、従来のような未接触の場合に比べ
て、短時間で、ワイヤボンディングによる接続強度以上
の強度を得ることが可能となる。これにより、半導体チ
ップ1とリードフレーム2との接続を確実に行なって、
多ピン化、高密度化に対応することができる。
(B) Since the tips of the inner leads 3 are brought into contact with the respective electrodes 4 of the semiconductor chip 1 in advance, plating is simultaneously deposited on the respective inner leads 3 and the respective electrodes 4 of the semiconductor chip 1. It is possible to obtain strength higher than the connection strength by wire bonding in a shorter time than in the case of no contact. This ensures the connection between the semiconductor chip 1 and the lead frame 2,
It is possible to support high pin count and high density.

【0035】(c)ディプレス部分7の角度を、できる
限り直角に近づけて深くしているので、上記(a)の効
果を、より一層顕著に奏することが可能となる。
(C) Since the angle of the depressed portion 7 is made as close to the right angle as possible and deepened, the effect of the above (a) can be more remarkably exhibited.

【0036】尚、本発明は上記実施例に限定されるもの
ではなく、次のようにしても同様に実施できるものであ
る。
The present invention is not limited to the above embodiment, but can be implemented in the same manner as described below.

【0037】(a)上記実施例では、インナーリード3
の先端が半導体チップ1の電極4と接触する構成とし
て、インナーリード3の先端をディプレス加工により傾
げた形状とする場合について説明したが、これに限ら
ず、ディプレス加工以外の方法により傾げた形状とする
ようにしてもよい。
(A) In the above embodiment, the inner lead 3
The case where the tip of the inner lead 3 has a shape that is inclined by depressing as the configuration in which the tip of the inner surface contacts the electrode 4 of the semiconductor chip 1 has been described. You may make it a shape.

【0038】(b)上記実施例では、切欠部7をハーフ
エッチングにより設ける場合について説明したが、これ
に限らず、例えばプレス加工により設けるようにしても
よい。
(B) In the above embodiment, the case where the notch 7 is provided by half etching has been described, but the present invention is not limited to this, and it may be provided by press working, for example.

【0039】このように、インナーリード3の両面接着
テープ6よりも先端側部分にプレス加工を施すことによ
り、インナーリード3の先端へ伝わる加圧時の応力を軽
減させて、半導体チップ1の各電極4の損傷を防止する
ことが可能となる。
As described above, by pressing the tip side of the double-sided adhesive tape 6 of the inner lead 3, the stress applied to the tip of the inner lead 3 at the time of pressurization is reduced, and each of the semiconductor chips 1 is reduced. It is possible to prevent the electrode 4 from being damaged.

【0040】また、このプレス加工による場合には、両
面接着テープ6で仮止めを行なう際に熱圧着するが、加
工によって一度電極4に接触したインナーリード3が反
り返るのを防止して、半導体チップ1とリードフレーム
2とをより確実に接触させることが可能となる。
Further, in the case of this press working, thermocompression bonding is carried out when temporarily fixing with the double-sided adhesive tape 6, but the inner lead 3 which once contacts the electrode 4 is prevented from being warped by the working, and the semiconductor chip 1 and the lead frame 2 can be more reliably brought into contact with each other.

【0041】(c)上記実施例では、切欠部7をハーフ
エッチングにより設ける場合について説明したが、これ
に限らず、例えばレーザー加工により設けるようにして
もよい。
(C) In the above embodiment, the case where the notch 7 is provided by half etching has been described, but the present invention is not limited to this, and it may be provided by laser processing, for example.

【0042】特に、このレーザー加工による場合には、
切欠部を設けるのではなく、インナーリード3の両面接
着テープ6よりも先端側部分に、1個以上の穴を設ける
ようにしてもよい。
Particularly, in the case of this laser processing,
Instead of providing the cutout portion, one or more holes may be provided in the portion of the inner lead 3 which is closer to the tip than the double-sided adhesive tape 6.

【0043】(d)上記実施例では、インナーリード3
先端のディプレス部分7の角度を直角に近づけて深くし
た場合について説明したが、これは本発明に必要不可欠
な要件ではない。
(D) In the above embodiment, the inner lead 3
The case where the angle of the depress portion 7 at the tip is made closer to a right angle and deepened has been described, but this is not an essential requirement of the present invention.

【0044】(e)上記実施例では、インナーリード3
の片面(半導体チップ1側面)における両面接着テープ
6よりも先端側部分の全体(1箇所)に切欠部8を設け
る場合について説明したが、これに限らず、例えば図3
(a)および(b)にその平面図および断面図を示すよ
うに、インナーリード3の片面(半導体チップ1側面)
における両面接着テープ6よりも先端側部分の2箇所
(3箇所以上でもよい)に切欠部8を設けるようにして
もよい。
(E) In the above embodiment, the inner lead 3
The case where the notch 8 is provided on the entire one side (the side of the semiconductor chip 1) of the double-sided adhesive tape 6 on one side (on one side) has been described, but the present invention is not limited to this and, for example, FIG.
As shown in the plan view and the sectional view in (a) and (b), one side of the inner lead 3 (side surface of the semiconductor chip 1)
The notches 8 may be provided at two locations (three or more locations) on the tip side of the double-sided adhesive tape 6.

【0045】このように、インナーリード3の2箇所以
上に切欠部8を設けることにより、リードフレーム2の
強度をより一層低下させて圧着時にかかる応力を除去
し、半導体チップ1の各電極4の損傷をより一層効果的
に防止することが可能となる。
As described above, by providing the cutouts 8 at two or more locations on the inner lead 3, the strength of the lead frame 2 is further reduced and the stress applied during the pressure bonding is removed, and each electrode 4 of the semiconductor chip 1 is removed. It becomes possible to prevent damage more effectively.

【0046】(f)上記実施例では、インナーリード3
の片面(半導体チップ1側面)にのみ切欠部8を設ける
場合について説明したが、これに限らず、例えばインナ
ーリード3の両面、すなわち半導体チップ1側面と反半
導体チップ1側面にのみ切欠部8を設けるようにしても
よい。
(F) In the above embodiment, the inner lead 3
The case where the cutouts 8 are provided only on one side (side surface of the semiconductor chip 1) has been described. However, the present invention is not limited to this, and the cutouts 8 are provided only on both sides of the inner lead 3, that is, the side surface of the semiconductor chip 1 and the side surface opposite to the semiconductor chip 1. It may be provided.

【0047】また、インナーリード3の反半導体チップ
1側面の1箇所、あるいは2箇所(3箇所以上でもよ
い)に切欠部8を設けるようにしてもよい。
Further, the notch 8 may be provided at one place or two places (three or more places may be provided) on the side surface of the inner lead 3 opposite to the semiconductor chip 1.

【0048】(g)上記実施例において、インナーリー
ド3としては、異なる組材からなる複層構造のリードフ
レームのうち1層のみを残し、所定部分をエッチングに
より除去することによって、上記切欠部8を設けるよう
にしても、前述と同様の効果を得ることが可能である。
(G) In the above embodiment, as the inner lead 3, only one layer of the lead frame having a multi-layer structure made of different materials is left, and a predetermined portion is removed by etching, so that the notch 8 is formed. Even if the above is provided, the same effect as described above can be obtained.

【0049】例えば、銅合金および42合金の2層を積
層して構成し、当該銅合金層の所定部分をエッチングに
より除去することによって、上記切欠部8を設けるよう
にしても、前述と同様の効果を得ることが可能である。
For example, even if the notch 8 is provided by laminating two layers of copper alloy and 42 alloy and removing a predetermined portion of the copper alloy layer by etching, the same as the above. It is possible to obtain an effect.

【0050】また、銅合金の両側を42合金で挟むよう
に3層を積層して構成し、このうち1層のみ(例えば、
一方の42合金層)を残し、所定部分をエッチングによ
り除去することによって、上記切欠部8を設けるように
しても、前述と同様の効果を得ることが可能である。
Further, three layers are laminated so that both sides of the copper alloy are sandwiched by 42 alloys, and only one layer (for example,
Even if the notch 8 is provided by removing a predetermined portion by etching while leaving one alloy layer 42), the same effect as described above can be obtained.

【0051】[0051]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、表
面に電極が形成された半導体チップと、導電性材料から
なるリードフレームのインナーリードとの間に、両面接
着テープを介在させて熱圧着により仮止めし、かつ半導
体チップの電極とインナーリードとをメッキにより接続
して構成される半導体装置において、インナーリードの
先端が、あらかじめ半導体チップの電極と接触する構成
とし、かつインナーリードの両面接着テープよりも先端
側部分の少なくとも1箇所に切欠部を設けるようにした
ので、リードフレームのインナーリード接触時に半導体
チップの電極へかかる応力を緩和して半導体チップの電
極の損傷を防止でき、また半導体チップとリードフレー
ムとの接続を確実に行なうことが可能な極めて信頼性の
高い半導体装置が提供できる。
As described above, according to the present invention, a double-sided adhesive tape is interposed between a semiconductor chip having electrodes formed on the surface thereof and an inner lead of a lead frame made of a conductive material, and heat is applied. In a semiconductor device that is temporarily fixed by crimping and the electrode of the semiconductor chip and the inner lead are connected by plating, the tip of the inner lead is in contact with the electrode of the semiconductor chip in advance, and both sides of the inner lead are Since the notch is provided at least at one position on the tip side of the adhesive tape, the stress applied to the electrode of the semiconductor chip when the inner lead of the lead frame comes into contact can be relieved to prevent the electrode of the semiconductor chip from being damaged. A highly reliable semiconductor device that can reliably connect a semiconductor chip to a lead frame It can do today.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によるLOC構造の半導体装置の一実施
例を示す平面図。
FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a semiconductor device having a LOC structure according to the present invention.

【図2】同実施例におけるインナーリード部分の構成例
を示す拡大図。
FIG. 2 is an enlarged view showing a configuration example of an inner lead portion in the embodiment.

【図3】本発明によるLOC構造の半導体装置の他の実
施例におけるインナーリード部分の構成例を示す拡大
図。
FIG. 3 is an enlarged view showing a configuration example of an inner lead portion in another embodiment of the LOC structure semiconductor device according to the present invention.

【図4】従来のLOC構造の半導体装置の構成例を示す
平面図。
FIG. 4 is a plan view showing a configuration example of a conventional semiconductor device having a LOC structure.

【図5】同従来の半導体装置におけるインナーリード部
分の構成例を示す拡大図。
FIG. 5 is an enlarged view showing a configuration example of an inner lead portion in the conventional semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…半導体チップ、2…リードフレーム、3…インナー
リード、4…電極、6…両面接着テープ、7…ディプレ
ス部分、8…切欠部。
1 ... Semiconductor chip, 2 ... Lead frame, 3 ... Inner lead, 4 ... Electrode, 6 ... Double-sided adhesive tape, 7 ... Depressed portion, 8 ... Notched portion.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 藤津 隆夫 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝多摩川工場内 (72)発明者 工藤 好正 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝多摩川工場内 (72)発明者 清水 真也 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝多摩川工場内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Takao Fujitsu, 1 Komukai-Toshiba-cho, Sachi-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Toshiba Corporation Tamagawa factory (72) Inventor Yoshimasa Kudo Toshiba, Mukai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa Town No. 1 In stock company Toshiba Tamagawa Plant (72) Inventor Shinya Shimizu No. 1 Komukai Toshiba Town, Kouki-ku, Kawasaki City, Kanagawa Inside Company Tamagawa Plant

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表面に電極が形成された半導体チップ
と、導電性材料からなるリードフレームのインナーリー
ドとの間に、両面接着テープを介在させて熱圧着により
仮止めし、かつ前記半導体チップの電極とインナーリー
ドとをメッキにより接続して構成される半導体装置にお
いて、 前記インナーリードの先端が、あらかじめ前記半導体チ
ップの電極と接触する構成とし、 かつ前記インナーリードの前記両面接着テープよりも先
端側部分の少なくとも1箇所に切欠部を設けて成ること
を特徴とする半導体装置。
1. A double-sided adhesive tape is interposed between a semiconductor chip having an electrode formed on its surface and an inner lead of a lead frame made of a conductive material to temporarily fix the same by thermocompression bonding, and In a semiconductor device configured by connecting electrodes and inner leads by plating, the tip of the inner lead is in contact with the electrode of the semiconductor chip in advance, and the tip side of the inner lead is more than the double-sided adhesive tape. A semiconductor device comprising a cutout portion provided at least at one portion.
【請求項2】 前記インナーリードの先端が半導体チッ
プの電極と接触する構成としては、前記インナーリード
の先端をディプレス加工により傾げた形状としたことを
特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the tip of the inner lead is in contact with the electrode of the semiconductor chip in that the tip of the inner lead is inclined by depressing. .
【請求項3】 前記切欠部としては、ハーフエッチング
により設けたことを特徴とする請求項1に記載の半導体
装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the cutout portion is provided by half etching.
【請求項4】 前記切欠部としては、プレス加工により
設けたことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein the cutout portion is provided by press working.
【請求項5】 前記切欠部としては、レーザー加工によ
り設けたことを特徴とする請求項1に記載の半導体装
置。
5. The semiconductor device according to claim 1, wherein the cutout portion is provided by laser processing.
【請求項6】 前記インナーリード先端のディプレス角
度を直角に近づけて深くしたことを特徴とする請求項2
に記載の半導体装置。
6. The depressing angle at the tip of the inner lead is made closer to a right angle and deepened.
The semiconductor device according to.
【請求項7】 前記インナーリードとしては、異なる組
材からなる複層構造のリードフレームのうち1層のみを
残し、所定部分をエッチングにより除去して前記切欠部
を設けたことを特徴とする請求項1に記載の半導体装
置。
7. The inner lead is characterized in that only one layer of a lead frame having a multi-layer structure made of different assembly materials is left and a predetermined portion is removed by etching to provide the cutout portion. Item 2. The semiconductor device according to item 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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