JPH1035791A - 基板処理装置の処理液供給ノズル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理液流通路内の処理液を付着残留させるこ
となくほぼ完全に吐出させることにより、処理液のぼた
落ちを防止することができる。 【解決手段】 先端部７に現像液が流通する処理液流通
路７ａを有し、この処理液流通路７ａに連通した吐出孔
７ｂから基板の表面に現像液を吐出する基板処理装置の
処理液供給ノズルにおいて、処理液供給ノズルの先端部
７のうち、少なくとも処理液流通路７ａの内面に超撥水
性層Ｓを形成しておく。現像液は、処理液流通路７ａお
よび吐出孔７ｂを通って吐出されるが、吐出が停止され
ると処理液流通路７ａ内の現像液は、そこに付着残留す
ることなく重力によって容易に下方に落下する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、フ
ォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基
板、光ディスク用の基板などの基板に対して現像液、フ
ォトレジスト液、ポリイミド樹脂、SOG(Spin On Glass,
シリカ系被膜形成材とも呼ばれる）液などの処理液を吐
出して基板に処理を施す基板処理装置に係り、特に基板
に対して処理液を吐出する処理液供給ノズルに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の基板処理装置の処理液供給ノズル
として、例えば、先端部に現像液が流通する処理液流通
路を有し、先端部の下面に開口して処理液流通路に連通
した吐出孔を有するものが挙げられる。なお、一般的
に、処理液供給ノズルの先端部は、PTFE（ポリテトラフ
ルオロエチレン）やPTCFE （ポリクロロトリフルオロエ
チレン）などのフッ素樹脂で一体的に形成されている。
この処理液供給ノズルは、例えば、基板の上方に移動し
た後に、露光済みのフォトレジスト被膜に対してその吐
出孔から所定量の現像液を供給するようになっている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、現像液は処理液流通路を流下して吐出
孔から基板の表面に吐出されるが、先端部を形成してい
るフッ素樹脂の撥水性が低いため、現像液の供給を停止
した際に、処理液流通路内の現像液が完全に吐出される
ことなく処理液流通路の内面にその一部（液滴）が付着
残留する。処理液流通路に液滴が残留すると、例えば、
現像処理を施すために処理液供給ノズルを基板の上方に
移動した際などに基板の表面にその液滴が落下（いわゆ
るぼた落ち）するという問題点がある。このようなぼた
落ちが生じると、その部分だけ他に比較して現像が進行
して現像むらが生じることになる。また、処理液流通路
の内面に付着した液滴が乾燥すると、次の現像処理の際
に現像液とともに基板表面にパーティクルとして付着
し、基板を汚染するという不都合が生じる。このような
不都合を解消するには、例えば、基板の現像処理ごとに
処理液供給ノズルの先端部を吸引して、処理液流通路に
付着残留した液滴を除去したり、先端部に気体を吹き付
けて付着した液滴を吹き飛ばして除去する液滴除去機構
を余分に配備する必要がある。

【０００４】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、処理液流通路内の処理液を付着残留さ
せることなくほぼ完全に吐出させることにより、処理液
のぼた落ちを防止することができる基板処理装置の処理
液供給ノズルを提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の基板処理装置の処理液供給ノズル
は、先端部に所定の処理液が流通する処理液流通路を有
し、この処理液流通路に連通した吐出孔から基板の表面
に処理液を吐出する基板処理装置の処理液供給ノズルに
おいて、前記処理液供給ノズルの先端部のうち、少なく
とも前記処理液流通路の内面を超撥水性材料で形成した
ことを特徴とするものである。

【０００６】また、請求項２に記載の基板処理装置の処
理液供給ノズルは、請求項１に記載の基板処理装置の処
理液供給ノズルにおいて、前記処理液供給ノズルの先端
部全体を超撥水性材料で形成したことを特徴とするもの
である。

【０００７】また、請求項３に記載の基板処理装置の処
理液供給ノズルは、請求項１または請求項２に記載の基
板処理装置の処理液供給ノズルにおいて、前記吐出孔
は、前記先端部の側面に形成されていることを特徴とす
るものである。

【０００８】また、請求項４に記載の基板処理装置の処
理液供給ノズルは、請求項１または請求項２に記載の基
板処理装置の処理液供給ノズルにおいて、前記先端部
は、前記吐出孔が下面に開口した基部と、この基部下面
から下方に突出形成されて、前記吐出孔から吐出された
処理液が裾拡がりの傾斜面を流下する流下部材とから構
成されていることを特徴とするものである。

【０００９】また、請求項５に記載の基板処理装置の処
理液供給ノズルは、請求項１ないし請求項４に記載の基
板処理装置の処理液供給ノズルにおいて、前記超撥水性
材料は、接触角が１２０°以上のものであることを特徴
とするものである。

【００１０】

【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。基板処理装置の処理液供給ノズルは、その先端部に
形成されている処理液流通路およびこれに連通した吐出
孔を通って処理液を基板に対して吐出する。処理液流通
路は少なくともその内面が超撥水性材料で形成されてい
るので、処理液の供給を停止した際に処理液流通路内の
処理液が重力によって容易に落下して基板に吐出される
ことになる。したがって、付着残留することなく処理液
流通路内の処理液をほぼ完全に吐出させることができ
る。

【００１１】また、請求項２に記載の発明の作用は次の
とおりである。処理液供給ノズルから基板に処理液を吐
出すると、基板の表面で飛散した処理液の一部がその先
端部に付着する場合がある。この付着した処理液が処理
液供給ノズルの移動などの際に基板に落下すると、基板
の処理が不均一になる不都合が生じる。しかしながら、
その先端部全体を超撥水性材料で形成することにより、
飛散した処理液が先端部に付着することを防止すること
ができ、処理に悪影響を与えることを防止できる。

【００１２】また、請求項３に記載の発明の作用は次の
とおりである。吐出孔を先端部の側面に形成しておき、
この吐出孔から処理液を基板に対して供給すると、先端
部の下面に吐出孔を有するノズルに比較して、処理液が
基板に吐出された際の衝撃を和らげることができる。例
えば、露光済みのフォトレジスト被膜に現像液を供給す
る際に、フォトレジスト被膜にダメージが加わることを
防止できる。その一方、処理液流通路から吐出孔への処
理液の流通経路が曲げられている関係上、処理液流通路
内や吐出孔付近に処理液が付着残留しやすい。そこで、
処理液流通路の内面を超撥水性材料で形成することによ
り、処理液が重力によって容易に落下しやすいようにす
る。したがって、処理液吐出時の衝撃を和らげつつも、
残留付着することなく処理液流通路内の処理液をほぼ完
全に吐出させることができる。また、先端部全体を超撥
水性材料で形成することにより、吐出孔付近に処理液が
付着することを防止でき、基板で飛散した処理液が先端
部に付着することを防止することができる。

【００１３】また、請求項４に記載の発明の作用は次の
とおりである。基部の下面に形成された吐出孔から吐出
された処理液は、その下面から下方に突出形成された流
下部材の裾拡がりの傾斜面を流下して基板に吐出され
る。したがって、先端部下面に吐出孔を有するノズルに
比較して、処理液が基板に吐出された際の衝撃を和らげ
ることができる。その一方、吐出孔から吐出された処理
液は一旦流下部材の裾拡がりの傾斜面にて受け止められ
るので、特に流下部材に処理液が付着残留しやすい。そ
こで、処理液流通路の内面を超撥水性材料で形成するこ
とにより、処理液が重力によって容易に落下しやすいよ
うにし、落下する処理液とともに流下部材に付着残留し
ている処理液を流下させる。また、基部および流下部材
からなる先端部全体を超撥水性材料で形成することによ
り、基板で飛散した処理液が先端部に付着することを防
止することができる。

【００１４】また、請求項５に記載の発明の作用は次の
とおりである。一般的に先端部を形成する材料として利
用されているPTFE（ポリテトラフルオロエチレン）やPT
CFE （ポリクロロトリフルオロエチレン）などのフッ素
樹脂は、その接触角が約１１０°と小さく撥水性が低い
ものである。経験的に接触角が１２０°以上となると液
滴が転がり始めるので、超撥水性材料として接触角が１
２０°以上のものを採用することにより撥水性を高め、
先端部における液滴の付着残留をほぼ完全に防止するこ
とができる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。 ＜第１実施例＞図１は、本発明に係る基板処理装置の処
理液供給ノズルを採用した回転式基板現像装置の概略構
成を示す縦断面図である。なお、処理基板としては半導
体ウエハを例に採って説明するが、以下、単に基板と称
することにする。

【００１６】図中、符号Ｗは、所定パターンが露光され
たフォトレジスト被膜を表面に有する基板Ｗである。こ
の基板Ｗは、その裏面をスピンチャック１によって吸引
されて水平姿勢で吸着保持される。このスピンチャック
１は、図示しない電動モータを含む駆動手段の回転軸に
その下面が連動連結されており、基板Ｗをほぼ水平姿勢
で回転駆動する。スピンチャック１の周囲には、基板Ｗ
の表面に吐出された現像液が周囲に飛散することを防止
するとともに、飛散した現像液を回収するための飛散防
止カップ３が配設されている。飛散防止カップ３は、基
板Ｗの周縁部から周囲に飛散する現像液を下方に案内す
るための下向き傾斜面や現像液を回収する排液ゾーンな
どを含み、さらに基板Ｗの周囲の気流を整える整流部材
などを含むものである。なお、スピンチャック１と飛散
防止カップ３は、未処理の基板Ｗを搬入する際や処理済
の基板Ｗを搬出する際に、図示しない基板搬送機構とス
ピンチャック１との間で基板Ｗの受け渡しができるよう
に上下方向に相対昇降するようになっている。つまり、
現像処理を行う際には、図中に実線で示すようにスピン
チャック１が飛散防止カップ３内に移動し、基板Ｗの搬
送時には、図中に二点鎖線で示すようにスピンチャック
１が飛散防止カップ３の上方に突出するようになってい
る。

【００１７】飛散防止カップ３の上部中央付近に形成さ
れた開口には、現像液を基板Ｗに吐出する処理液供給ノ
ズル５が配備されている。この処理液供給ノズル５は、
図示しない昇降機構によって昇降移動されるようになっ
ている。つまり、現像処理の際には、図中に実線で示す
ように処理液供給ノズル５が基板Ｗの表面から一定距離
を隔てた上方に下降移動し、基板Ｗの搬送時には、図中
に二点鎖線で示すように飛散防止カップ３の上方に大き
く離れた位置にまで上昇退避する。

【００１８】処理液供給ノズル５は、基板Ｗの表面に向
けて取り付けられた先端部７から現像液を吐出するもの
である。その構造について、図２を参照して説明する。
なお、図２（ａ）は処理液供給ノズル５の先端部７付近
を示す一部破断縦断面図であり、図２（ｂ）は先端部７
を下方から見た図である。

【００１９】この先端部７は、現像液が流通する１つの
処理液流通路７ａをその内部に形成され、この処理液流
通路７ａに連通した１つの吐出孔７ｂをその下面に形成
されている。処理液流通路７ａの内面は、超撥水性層Ｓ
で形成されている。この例では、超撥水性層Ｓを形成す
るために、処理液供給通路７ａの内面に超撥水性材料を
塗布してある。なお、経験的に接触角が１２０°程度で
液滴が転がりはじめるので、超撥水性材料としては接触
角が１２０°以上のものが好ましい。また、超撥水性層
Ｓを形成するために、処理液流通路７ａの内面にメッキ
処理を施すようにしてもよい。このメッキとしては、Ｔ
ＦＥ（テトラフルオロエチレン）含有複合メッキ、例え
ば、ＴＦＥ含有亜鉛複合メッキやＴＦＥ含有銅複合メッ
キなどが挙げられる。

【００２０】次いで図３および図４を参照して処理液供
給ノズル５から現像液が基板Ｗに吐出される際の動作に
ついて説明する。なお、図３および図４では、処理液供
給ノズル５のうち先端部７のみを図示している。また、
既に未処理の基板Ｗはスピンチャック１に吸着保持さ
れ、処理液供給ノズル５はその先端部７を基板Ｗの表面
上方に下降移動しているものとして説明する。

【００２１】図３に示すように、図示しないポンプが動
作すると、一定温度に調整されている現像液Ｄが処理液
流通路７ａを通り、吐出孔７ｂから下方に向けて、つま
り基板Ｗの表面に吐出される。このとき処理液流通路７
ａの内面には超撥水性層Ｓが形成されているので、抵抗
少なく現像液が流下して吐出される。

【００２２】次に、所定時間だけ現像液Ｄが吐出される
と、図示しないポンプが停止され、現像液Ｄの吐出が停
止される。現像液Ｄは、上述したように吐出孔７ｂを経
て吐出されるが、処理液流通路７ａの内面には超撥水性
層Ｓが形成されているので、処理液流通路７ａ内に滞留
する現像液は重力によって容易に下方に落下する。した
がって、図４に示すように、処理液流通路７ａの内面に
は現像液Ｄが付着残留することがなく、ほぼ完全に処理
液流通路７ａ内の現像液Ｄを基板Ｗに吐出させることが
できる。その結果、処理液流通路７ａ内に付着残留した
現像液Ｄが次なる未処理の基板Ｗを処理するために処理
液供給ノズル７を昇降移動した際に、次なる未処理の基
板Ｗ表面に落下する、いわゆる『ぼた落ち』を防止する
ことができる。よって、基板Ｗの処理を不均一にするよ
うな悪影響を防止することができる。

【００２３】ところで現像液Ｄの粘度によっては、図５
に示すように吐出孔７ｂから吐出された現像液Ｄがその
表面張力によって、吐出孔７ｂ付近やその外周面に付着
残留したり、基板Ｗの表面と先端部７の吐出孔７ｂとの
上下方向の間隔や、処理液供給ノズル５から吐出される
現像液Ｄの流速によっては、基板Ｗの表面に吐出された
現像液Ｄが飛散して先端部７に付着する現象が生じる場
合がある。このような付着残留が生じると、やはり『ぼ
た落ち』を生じる原因となったり、あるいは付着残留し
た現像液Ｄが固化し、パーティクルとなって基板Ｗを汚
染するという不都合が生じる。そこで、このような現象
が生じる場合には、図６に示すように、処理液流通路７
ａおよび吐出孔７ｂを含む下部側面にまで超撥水性層Ｓ
を形成すればよい。これにより上述した処理液流通路７
ａに付着残留した現像液Ｄに起因する『ぼた落ち』とと
もに、吐出孔７ｂ付近に付着した現像液Ｄに起因する
『ぼた落ち』および基板Ｗの汚染を防止することができ
る。

【００２４】なお、超撥水性層Ｓを形成しておく領域
は、上述した例に限らず、現像液Ｄが付着する恐れがあ
る部分に形成しておくことが好ましい。例えば、先端部
７の処理液流通路７ａを含む全体に超撥水性層Ｓを形成
するようにしてもよい。また、上述した例では、超撥水
性材料を塗布またはメッキ処理することによって超撥水
性層Ｓを形成したが、超撥水性層Ｓを形成することなく
ＴＦＥなどの超撥水性材料を用いて先端部７の全体を一
体的に形成するようにしてもよい。このように超撥水性
材料を用いて先端部７を形成することにより、現像液Ｄ
の付着残留を防止できる先端部７を容易に作成すること
ができる。

【００２５】＜第２実施例＞次に、処理液供給ノズル５
に図７に示すような先端部７を備えた実施例について説
明する。なお、図７（ｂ）は図７（ａ）のＡ−Ａ矢視断
面図である。また、先端部７を除くその他の構成は、上
述した第１実施例と同一であるので、詳細な説明につい
ては省略する。

【００２６】先端部７は円柱状の外観を呈し、鉛直方向
に沿った１つの処理液流通路７ａと、この処理液流通路
７ａの下端部から側方に、平面視にて放射状に分岐した
５つの分岐流通路７ａ₁ をその内部に形成されていると
ともに、これらの分岐流通路７ａ₁ に連通した５つの吐
出孔７ｂをその下方側面に形成されている。なお、１つ
の処理液流通路７ａと５つの分岐流通路７ａ₁ は、本発
明における処理液流通路に相当する。処理液流通路７ａ
および分岐流通路７ａ₁ の内面には、上記の第１実施例
と同様に超撥水性層Ｓが形成されている。

【００２７】次いで図８および図９を参照して処理液供
給ノズル５から現像液が基板Ｗに吐出される際の動作に
ついて説明する。なお、図８および図９では、先端部７
のみを図示している。また、既に未処理の基板Ｗはスピ
ンチャック１に吸着保持され、処理液供給ノズル５はそ
の先端部７を基板Ｗの表面上方に下降移動しているもの
として説明する。

【００２８】図８に示すように、一定温度に調整された
現像液Ｄが処理液流通路７ａおよび分岐流通路７ａ₁ を
経て５つの吐出孔７ｂから吐出される。現像液Ｄは吐出
孔７ｂから側方に向けて吐出され、弧を描くように基板
Ｗの表面に供給される。したがって、上述した第１実施
例のように真上から現像液Ｄを供給するノズルに比較し
て、基板Ｗの表面での衝撃を和らげることができる。よ
って、基板Ｗの表面に形成されている露光済のフォトレ
ジスト被膜にダメージを与えることなく、適切に現像処
理を施すことができる。また、このとき処理液流通路７
ａおよび分岐流通路７ａ₁ の内面には超撥水性層Ｓが形
成されているので、抵抗少なく現像液が吐出される。

【００２９】次に、現像液Ｄが所定時間吐出された後に
停止される。上述したような先端部７は、処理液流通路
７ａから側方の分岐流通路７ａ₁ に流通経路が曲げられ
ている関係上、吐出時の衝撃を和らげることができる一
方で処理液流通路７ａおよび分岐流通路７ａ₁ に現像液
Ｄが付着残留しやすい。しかしながら、それらの流通路
７ａ，７ａ₁ の内面には超撥水性層Ｓが形成されている
ので、現像液Ｄが重力によって容易に落下しやすく、流
下しやすくなっている。したがって、現像液Ｄの吐出時
における衝撃を和らげつつも、残留付着することなく流
通路７ａ，７ａ₁ 内の現像液Ｄをほぼ完全に吐出させる
ことができる。その結果、上述した第１実施例と同様
に、処理液供給ノズル５を昇降移動した際の『ぼた落
ち』を防止することができ、基板Ｗの処理を不均一にす
るような悪影響を防止できる。

【００３０】ところで現像液Ｄの粘度によっては、図１
０に示すように吐出孔７ｂから吐出された現像液Ｄがそ
の表面張力によって、吐出孔７ｂ付近やその外周面およ
び先端部７の下面周辺部に付着残留したり、基板Ｗの表
面と先端部７の吐出孔７ｂとの上下方向の間隔や、処理
液供給ノズル５から吐出される現像液Ｄの流速によって
は、基板Ｗの表面に吐出された現像液Ｄが飛散して先端
部７に付着する現象が生じる場合がある。このような付
着残留が生じると、上述したように『ぼた落ち』を生じ
る原因となったり、あるいは付着残留した現像液Ｄが固
化し、パーティクルとなって基板Ｗを汚染するという不
都合が生じる。そこで、このような現象が生じる場合に
は、図１１に示すように、処理液流通路７ａ，分岐流通
路７ａ₁の内面および吐出孔７ｂを含む下部側面にまで
超撥水性層Ｓを形成すればよい。これにより上述した
『ぼた落ち』とともに、吐出孔７ｂ付近に付着した現像
液Ｄに起因する『ぼた落ち』および基板Ｗの汚染を防止
することができる。

【００３１】なお、上述した例に限らず、現像液Ｄが付
着する恐れがある部分に超撥水性層Ｓを形成しておくの
が好ましいことは、上述した第１実施例の場合と同じで
ある。また、超撥水性層Ｓを形成することなくＴＦＥな
どの超撥水性材料を用いて先端部７の全体を一体的に形
成してもよいことも、上述した第１実施例の場合と同様
である。

【００３２】＜第３実施例＞次に、処理液供給ノズル５
に図１２に示すような先端部７を備えた実施例について
説明する。なお、図１２（ｂ）は図１２（ａ）の先端部
７を下方から見た図である。また、先端部７を除く他の
構成は、上述した第１および第２実施例と同一であるの
で、詳細な説明については省略する。

【００３３】先端部７は、現像液が流通する５つの処理
液流通路７ａを内部に形成され、これらの処理液流通路
７ａのそれぞれに連通した吐出孔７ｂを下面に形成され
ている基部７ｃと、この基部７ｃの下面から下方に突出
形成された裾拡がりの傾斜面を有する流下部材７ｄとか
ら構成されている。流下部材７ｄは、５つの吐出孔７ｂ
から吐出された現像液を一端その裾拡がりの傾斜面で受
け止めて、基板Ｗの表面における衝撃を和らげるように
作用するものである。上記の処理液流通路７ａの内面に
は、上記の第１および第２実施例と同様に超撥水性層Ｓ
が形成されている。

【００３４】次いで図１３および図１４を参照して処理
液供給ノズル５から現像液が基板Ｗに吐出される際の動
作について説明する。なお、図１３および図１４では、
先端部７のみを図示している。また、既に未処理の基板
Ｗはスピンチャック１に吸着保持され、処理液供給ノズ
ル５はその先端部７を基板Ｗの表面上方に下降移動して
いるものとして説明する。

【００３５】図１３に示すように、一定温度に調整され
た現像液Ｄが５つの処理液流通路７ａを通って５つの吐
出孔７ｂから吐出され、流下部材７ｄの裾拡がりの傾斜
面で一端受け止められて流下する。したがって、上述し
た第１実施例のように真上から現像液Ｄを供給するノズ
ルに比較して、基板Ｗの表面での衝撃を和らげることが
できるとともに、上記第２実施例に比較して大量の現像
液Ｄを基板Ｗに供給することができる。よって、基板Ｗ
の表面に形成されている露光済のフォトレジスト被膜に
ダメージを与えることなく、大量の現像液Ｄを供給する
ことができるので、さらに適切に現像処理を施すことが
できる。また、このとき５つの処理液流通路７ａの内面
には超撥水性層Ｓが形成されているので、抵抗少なく大
量の現像液が吐出される。

【００３６】次に、現像液Ｄが所定時間吐出された後に
停止される。上述したような先端部７は、５つの吐出孔
７ｂから吐出された現像液Ｄが流下部材７ｄによって一
端受け止められるので、基板Ｗ表面での衝撃を和らげる
ことができる一方で流下部材７ｄに現像液Ｄが付着残留
しやすい。しかしながら、その上方に位置する５つの処
理液流通路７ａの内面には超撥水性層Ｓが形成されてい
るので、現像液Ｄが重力によって容易に落下しやすくな
っている。したがって、落下する現像液Ｄとともに流下
部材７ｄに付着残留している現像液Ｄを流下させること
ができる。したがって、現像液Ｄの吐出時における衝撃
を和らげつつも、処理液流通路７ａおよび流下部材７ｄ
に現像液Ｄが残留付着することなく現像液Ｄをほぼ完全
に吐出させることができる。その結果、上述した第１お
よび第２実施例と同様に、処理液供給ノズル５を昇降移
動した際の『ぼた落ち』を防止することができ、基板Ｗ
の処理を不均一にするような悪影響を防止できる。

【００３７】ところで現像液Ｄの粘度によっては、図１
５に示すように吐出孔７ｂから吐出された現像液Ｄがそ
の表面張力によって、吐出孔７ｂ付近やその外周面およ
び流下部材７ｄの裾拡がりの傾斜面および下面周辺部に
付着残留したり、基板Ｗの表面と先端部７の流下部材７
ｄとの上下方向の間隔や、処理液供給ノズル５から吐出
される現像液Ｄの流速によっては、基板Ｗの表面に吐出
された現像液Ｄが飛散して流下部材７ｄに付着する現象
が生じる場合がある。このような付着残留が生じると、
上述したように『ぼた落ち』を生じる原因となったり、
あるいは付着残留した現像液Ｄが固化し、パーティクル
となって基板Ｗを汚染するという不都合が生じる。そこ
で、このような現象が生じる場合には、図１６に示すよ
うに、処理液流通路７ａおよび吐出孔７ｂを含む基部７
ｃの下部、さらに、流下部材７ｄの裾拡がりの傾斜面を
含む全面にまで超撥水性層Ｓを形成すればよい。これに
より上述した『ぼた落ち』とともに、吐出孔７ｂ付近お
よび流下部材７ｄに付着した現像液Ｄに起因する『ぼた
落ち』および基板Ｗの汚染を防止することができる。

【００３８】なお、超撥水性層Ｓを形成しておく領域
は、上述した例に限らず、現像液Ｄが付着する恐れがあ
る部分に形成しておくことが好ましいことは、上述した
第１および第２実施例の場合と同じである。また、超撥
水性層Ｓを形成することなくＴＦＥなどの超撥水性材料
を用いて先端部７を一体的に形成するようにしてもよい
ことも、上述した第１および第２実施例の場合と同様で
ある。

【００３９】なお、上述した第１ないし第３実施例で
は、現像液を基板の表面に供給する回転式基板現像装置
を例にとって説明したが、本発明は現像装置に限定され
ることなく、処理液を基板に吐出して所定の処理を施す
種々の装置に適用可能である。例えば、基板の表面にフ
ォトレジスト液を供給する回転式基板塗布装置にも適用
可能である。

【００４０】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、少なくとも処理液流通路の内
面を超撥水性材料で形成することにより、処理液流通路
内の処理液が重力によって容易に落下して基板に吐出さ
れることになる。したがって、付着残留することなく処
理液流通路内の処理液をほぼ完全に吐出させることがで
きるので、処理液のぼた落ちを防止することができる。
その結果、この処理液供給ノズルを採用することによ
り、基板処理装置における基板処理を安定して均一に施
すことができる。

【００４１】また、請求項２に記載の発明によれば、先
端部全体を超撥水性材料で形成することにより、飛散し
た処理液が先端部に付着することを防止することがで
き、処理に悪影響を与えることを防止できる。したがっ
て、処理液のぼた落ちを防止することができるととも
に、飛散した処理液による悪影響を回避することができ
る。

【００４２】また、請求項３に記載の発明によれば、処
理液吐出時の衝撃を和らげつつも、残留付着することな
く処理液流通路内の処理液をほぼ完全に吐出させること
ができる。また、先端部全体を超撥水性材料で形成する
ことにより、吐出孔付近に処理液が付着することを防止
でき、基板で飛散した処理液が先端部に付着することを
防止することができる。したがって、処理液吐出時の不
都合を回避することができるとともに、ぼた落ちを防止
することができる。

【００４３】また、請求項４に記載の発明によれば、処
理液流通路の内面を超撥水性材料で形成することによ
り、処理液が重力によって容易に落下しやすいように
し、落下する処理液とともに流下部材に付着残留してい
る処理液を落下させる。また、基部および流下部材から
なる先端部全体を超撥水性材料で形成することにより、
流下部材に処理液が付着することを防止でき、基板で飛
散した処理液が先端部に付着することを防止することが
できる。したがって、処理液吐出時の不都合を回避する
ことができるとともに、ぼた落ちを防止することができ
る。

【００４４】また、請求項５に記載の発明によれば、接
触角が１２０°以上の超撥水性材料を採用することによ
り撥水性を高めて、先端部における液滴の付着残留をほ
ぼ完全に防止することができる。したがって、より効果
的にぼた落ちを防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板処理装置の処理液供給ノズル
を採用した回転式基板現像装置の概略構成を示す縦断面
図である。

【図２】第１実施例に係る処理液供給ノズルを示す一部
破断縦断面図である。

【図３】現像液の吐出動作の説明に供する図である。

【図４】現像液の吐出停止動作の説明に供する図であ
る。

【図５】生じる恐れのある不具合を示す図である。

【図６】不具合を解消するための構成を示す図である。

【図７】第２実施例に係る処理液供給ノズルを示す一部
破断縦断面図である。

【図８】現像液の吐出動作の説明に供する図である。

【図９】現像液の吐出停止動作の説明に供する図であ
る。

【図１０】生じる恐れのある不具合を示す図である。

【図１１】不具合を解消するための構成を示す図であ
る。

【図１２】第３実施例に係る処理液供給ノズルを示す一
部破断縦断面図である。

【図１３】現像液の吐出動作の説明に供する図である。

【図１４】現像液の吐出停止動作の説明に供する図であ
る。

【図１５】生じる恐れのある不具合を示す図である。

【図１６】不具合を解消するための構成を示す図であ
る。

【符号の説明】

Ｗ … 基板 Ｓ … 超撥水性層 Ｄ … 現像液 １ … スピンチャック ３ … 飛散防止カップ ５ … 処理液供給ノズル ７ … 先端部 ７ａ … 処理液流通路 ７ａ₁ … 分岐流通路 ７ｂ … 吐出孔 ７ｃ … 基部 ７ｄ … 流下部材

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｃ ５６９Ｃ

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 先端部に所定の処理液が流通する処理液
   流通路を有し、この処理液流通路に連通した吐出孔から
   基板の表面に処理液を吐出する基板処理装置の処理液供
   給ノズルにおいて、 前記処理液供給ノズルの先端部のうち、少なくとも前記
   処理液流通路の内面を超撥水性材料で形成したことを特
   徴とする基板処理装置の処理液供給ノズル。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置の処理液
   供給ノズルにおいて、前記処理液供給ノズルの先端部全
   体を超撥水性材料で形成したことを特徴とする基板処理
   装置の処理液供給ノズル。
3. 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の基板処
   理装置の処理液供給ノズルにおいて、前記吐出孔は、前
   記先端部の側面に形成されていることを特徴とする基板
   処理装置の処理液供給ノズル。
4. 【請求項４】 請求項１または請求項２に記載の基板処
   理装置の処理液供給ノズルにおいて、前記先端部は、前
   記吐出孔が下面に開口した基部と、この基部下面から下
   方に突出形成されて、前記吐出孔から吐出された処理液
   が裾拡がりの傾斜面を流下する流下部材とから構成され
   ていることを特徴とする基板処理装置の処理液供給ノズ
   ル。
5. 【請求項５】 請求項１ないし請求項４に記載の基板処
   理装置の処理液供給ノズルにおいて、前記超撥水性材料
   は、接触角が１２０°以上のものであることを特徴とす
   る基板処理装置の処理液供給ノズル。