JPH10341050A

JPH10341050A - ガスレーザ装置

Info

Publication number: JPH10341050A
Application number: JP9149306A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Komori; 浩小森; Yasuo Itakura; 康夫板倉
Original assignee: Komatsu Ltd
Current assignee: Komatsu Ltd
Priority date: 1997-06-06
Filing date: 1997-06-06
Publication date: 1998-12-22
Anticipated expiration: 2017-06-06
Also published as: JP3779030B2

Abstract

(57)【要約】【課題】レーザガス中のハロゲンガスなどの特定のガス
の濃度または分圧を正確かつ簡便に測定し得るようにす
る。【解決手段】複数の異なる種類のガスの混合ガスとして
構成されるレーザガスをレーザ媒質として用いるガスレ
ーザ装置において、前記複数の異なる種類のガスのうち
の特定のガスの放出光の発光強度を検出する発光強度検
出手段１４、１６、１８と、レーザ発振中における前記
発光強度検出手段の検出信号に基づき前記特定のガスの
ガス濃度またはガス分圧を演算する演算手段８とを備え
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、縮小投影露光用
光源、材料の微細加工、材料の表面改質等に用いられる
エキシマレーザなどのガスレーザ装置に関し、特にレー
ザガス中の特定のガスの濃度または分圧を正確かつ簡便
に測定し得る測定手段を有するガスレーザ装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、フッ素などのハロゲンガスを用い
てエキシマレーザ装置を運転する場合、ハロゲンガスは
極めて反応性が高いために、運転にしたがって電極材料
の蒸発、レーザチャンバ構成材料との化学反応によりハ
ロゲンガスが消費される。

【０００３】エキシマレーザでは、励起によって作られ
るハロゲンガスと希ガスによる一種の化合物がレーザ媒
体となっているために、レーザ管内部におけるハロゲン
ガスと希ガスの比率には最適値が存在し、この比率が変
化すると前記レーザ媒体である化合物の生成過程に影響
を及ぼし、レーザ出力が低下し、最終的にはレーザ発振
が観測されなくなる。

【０００４】したがって、従来においては、レーザ出力
をモニタし、このレーザ出力の低下に応じてハロゲンガ
スを補給することによってレーザ出力を安定化させるよ
うにしていたが、この補給の際にどの程度の補給量が最
適であるかを判断するためには、ハロゲンガス濃度また
は分圧を正確に測定する必要がある。すなわち、補給す
るハロゲンガス量が不足しても過剰であってもレーザ発
振は不安定になる。

【０００５】なお、希ガスは基本的には他の物質とは反
応しないために、レーザチャンバからの漏洩以外には減
少することは少ない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】以下に、エキシマレー
ザにおける従来のハロゲンガス濃度（Ｆ2濃度）の検出
手法を示す。

【０００７】(1)原子吸収光度計を使ってＦ2濃度を測定
するこの方法は、原子特有の原子スペクトルと同じ波長の光
（685.60nm、690.25nmはＦ2の原子スペクトル）を測定
対象に照射した場合、その測定対象空間にその原子があ
った場合に、その波長の光を吸収する現象を利用したも
のであるが、この手法では、高価で大がかりな原子吸収
光度計を必要とする問題がある。

【０００８】(2)Ｆ2濃度と相関があるスペクトル線幅を
測定して間接的にＦ2濃度を測定する手法この手法は、狭帯域化したＫｒＦエキシマレーザのスペ
クトル線幅とＦ2濃度との間には、Ｆ2濃度が高いと線幅
が広く、Ｆ2濃度が低いと線幅が狭くなるという殆ど一
次関数的な相関関係があることに着目し、スペクトル線
幅に基づいてＦ2濃度を判定する手法である。この手法
では、スペクトルデータという他の波長制御などにも利
用しているデータを流用できるために、新たな構成要素
が増えないという利点は有しているが、スペクトル線幅
がＦ2濃度と一次関数的な相関があることが大前提であ
り、そのような都合の良い関係が全てのガスレーザに当
てはまるわけではない。

【０００９】(3)Ｆ2吸収分析管を使って直接Ｆ2濃度を
測定する手法この手法はレーザガスをレーザチャンバからＦ2吸収分
析管に取り出し、Ｆ2吸収分析管を用いて直接Ｆ2濃度を
測定するものであるが、この手法ではＦ2濃度の測定に
際してレーザガスをレーザチャンバからいちいち取り出
す必要があり、レーザチャンバ内の希ガスの量および全
圧が変化するため、レーザ発振中の検出用には使えな
い。また、計算に多くの時間がかかるという問題もあ
る。

【００１０】このように従来ハロゲンガス濃度を測定す
るための各種手法があるが、それぞれ一長一短がある。

【００１１】この発明はこのような実情に鑑みてなされ
たもので、レーザガス中のハロゲンガスなどの特定のガ
スの濃度または分圧を正確かつ簡便に測定し得るガスレ
ーザ装置を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段及び作用効果】そこでこの
発明では、複数の異なる種類のガスの混合ガスとして構
成されるレーザガスをレーザ媒質として用いるガスレー
ザ装置において、前記複数の異なる種類のガスのうちの
特定のガスの放出光の発光強度を検出する発光強度検出
手段と、レーザ発振中における前記発光強度検出手段の
検出信号に基づき前記特定のガスのガス濃度またはガス
分圧を演算する演算手段とを備えるようにしたことを特
徴とする。

【００１３】すなわち、この本発明による手法は、レー
ザガス中に含まれる特定のガスが放電によって励起され
ることにより、或る励起準位から他の励起準位に遷移す
る際に各々のガスに特有のスペクトルを有する光エネル
ギーを放出することに着目してなされたものであり、例
えばＡｒＦエキシマレーザの場合はＦ2，Ａｒ、Ｎｅ，
Ｈｅの４つのガスがレーザガスの基本構成物質であるた
め、レーザガスを励起する度にレーザ光以外にこの４つ
のガスに特有のスペクトルを有する光がそれぞれ放出さ
れる。

【００１４】また、これらの放出光はレーザ発振ではな
いので、全方位に同じ強度で出ているために、放電部分
を観測できる位置であればどこでもこれらの放出光をモ
ニタすることができる。

【００１５】このようにこの発明では、レーザガス中に
含まれる特定のガスの放出光の発光強度を検出し、この
検出出力に基づき該特定のガスのガス濃度またはガス分
圧を演算するようにしたので、レーザ媒質中の特定のガ
スの濃度または分圧を正確かつ簡便に測定し得るように
なる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下この発明の実施例を添付図面
に従って詳細に説明する。

【００１７】図１にこの発明の実施例を示す。

【００１８】図１において、エキシマレーザ１のレーザ
チャンバ２は紙面に垂直な方向に対向された放電電極３
を有している。レーザチャンバ２内にはＦ2などのハロ
ゲンガス、Ｋｒなどの稀ガス、Ｎｅなどのバッファガス
が封入されており、これらレーザガスを放電電極３間の
放電によって励起させてレーザパルス発振を行う。

【００１９】発光したパルス光は共振器を構成するエン
ドミラー４および出力ミラー５によって共振され、出力
ミラー５を介して出力される。

【００２０】出力されたレーザ光Ｌは、ビームスプリッ
タ６によってその一部がサンプリングされてモニタモジ
ュール７に入射される。

【００２１】モニタモジュール７では、サンプリング光
に基づいて出力レーザ光の波長、出力エネルギー等を測
定し、これらの測定値をコントローラ８に入力する。

【００２２】ハロゲンガスボンベ９、希ガスボンベ１
０、バッファガスボンベ１１には、ハロゲンガス（Ｆ2
など）、希ガス（Ｋｒ、Ａｒ、など）、バッファガス
（Ｈｅ、Ｎｅなど）がそれぞれ充填されており、ガス供
給排気装置１２によってこれらのガスボンベ９〜１１か
らレーザチャンバに２にガス交換又は部分ガス交換用の
レーザガスが供給される。また、ガス供給排気装置１２
によってレーザチャンバ２内のレーザガスが排気され
る。

【００２３】レーザ電源回路１３は、レーザコントロー
ラ８から加えられた電圧データに応じて前記放電電極間
に電位差Ｖを与えて放電を行う。なお、レーザ電源回路
１２においては、図示しない充電回路により電荷を一旦
充電した後、たとえばＧＴＯやサイラトロン等のスイッ
チ素子の動作によりパルス放電を行う。

【００２４】ここで、レーザチャンバの側面には、２つ
の観測窓１４、１５が形成され、これら観測窓の近傍に
は受光面にバンドパスフィルタ１６，１７が配された受
光素子１８，１９が設けられている。

【００２５】この場合、一方の受光素子１８によってフ
ッ素ガス（Ｆ2）による放出光の発光強度を測定し、他
方の受光素子で希ガス（Ａｒ）による放出光の発光強度
を測定する。

【００２６】フッ素ガスによる放出光の中で波長が６８
９．６０ｎｍと６９０．２５ｎｍの放出光は、可視光域
にあるので観測し易いスペクトルである。また、これら
の光は前述したように、レーザ光ではなく全方位にほぼ
同じ強度で放出されている為に、レーザチャンバの側方
に設けた観測窓１４からも観測することができる。

【００２７】したがって、この場合は、バンドパスフィ
ルタ１６によって波長が６８９．６０ｎｍの光を分離し
て受光素子１８に入射し、もう一方のバンドパスフィル
タ１７によってＡｒに対応する波長の光を分離して受光
素子１９に入射するようにしており、これら受光素子１
８，１９の受光出力は発光強度検出回路２０に入力され
る。

【００２８】発光強度検出回路２０においては、各受光
素子１８，１９の出力に基づきＦ2ガス放出光の発光強
度ＩFおよびＡｒガス放出光の発光強度を演算し、これ
らの演算値をコントローラ８に入力する。

【００２９】コントローラ８においては、レーザ発振中
において、受光素子１８から入力されたＦ2ガス放出光
の発光強度ＩFに基づいてＦ2ガスの分圧ＰFを測定し、
この測定値ＰFを用いてフッ素ガスの供給制御を実行す
る。

【００３０】以下、図２及び図３のフローチャートに従
ってＦ2ガスの分圧ＰFの測定手順、ハロゲンガスの供給
制御手順について説明する。

【００３１】まず、レーザ発振中、発光強度検出回路２
０によってＦ2ガスの放出光の発光強度ＩFが所定の周期
で測定され、この測定値はコントローラ８に入力されて
いる（図２ステップ１００）。コントローラ８は、レー
ザ発振の励起強度を測定するべくレーザ電源回路１３の
充電回路のコンデンサの充電電圧Ｖ（目標値）を取り込
む（ステップ１１０）。

【００３２】そして、これら値ＩFおよびＶをＦ2ガス分
圧ＰFを演算するための所定の演算式ｆ1（ＩF，Ｖ）に
代入してＦ2ガス分圧ＰFを演算する（ステップ１２
０）。

【００３３】すなわち、充電電圧Ｖが大きくなってレー
ザ発振の励起強度が強くなると、Ｆ2ガスの発光強度ＩF
も大きくなるので、かかる特性を考慮してＦ2ガス分圧
ＰFを演算する。

【００３４】そして、コントローラ８では、前記演算し
たＦ2ガス分圧値ＰFを用いてレーザガス（この場合はＦ
2ガス）の供給制御およびレーザガスの排気制御を実行
する（ステップ１３０）。

【００３５】Ｆ2ガスを供給する際、コントローラ８
は、レーザチャンバ２内のレーザガスの全圧ＰTを測定
する（図３ステップ１４０）。

【００３６】次に、コントローラ８は下式に従って注入
すべきＦ2ガス量ΔＰFを算出する（ステップ１５０）。

【００３７】ΔＰF＝ＰFT−ＰF ＰFT：注入後のＦ2分圧の目標値ＰF：測定されたＦ2分圧値つぎに、コントローラ８は、ガス供給排気装置１２に指
令を与えてＦ2ガスボンベ９を所定時間Δｔだけ開かし
て、Ｆ2ガスをレーザチャンバ２に所定時間Δｔの間だ
け供給する（ステップ１６０）。この供給が終了する
と、コントローラ８は再度レーザチャンバ２内のレーザ
ガスの全圧ＰT´を測定する（ステップ１７０）。

【００３８】そして、レーザガスの全圧の増加分（＝Ｐ
T´−ＰT）を前記注入Ｆ2ガス量の目標値ΔＰFと比較し
（ステップ１８０）、ＰT´−ＰT≧ΔＰFが成立するま
でＦ2ガスをレーザチャンバ２に供給する。

【００３９】図４は、Ｆ2ガス分圧ＰFの他の測定手順を
示すものである。

【００４０】この図４に示す手法においては、下式に示
すように、Ｆ2ガスの発光強度ＩFとレーザガスの全圧Ｐ
Tに基づいてＦ2ガス分圧ＰFを演算する。

【００４１】ＰF＝ｆ2（ＩF，ＰT）すなわち、この図４の手法では、レーザガスの全圧ＰT
が上昇すると、これに伴ってＦ2ガスの発光強度ＩFも大
きくなるので、かかる特性を考慮してＦ2ガス分圧ＰFを
演算するようにしている。

【００４２】図５は、Ｆ2ガス分圧ＰFのさらに他の測定
手順を示すものである。

【００４３】この図５に示す手法においては、下式に示
すように、Ｆ2ガスの発光強度ＩFとレーザガス交換後の
経過時間ｔaに基づいてＦ2ガス分圧ＰFを演算する。

【００４４】ＰF＝ｆ3（ＩF，ｔa）すなわち、この図５の手法では、レーザガス交換後レー
ザ発振が進行すると、不純物の発生によってＦ2ガスの
発光強度ＩFが小さくなるので、かかる特性を考慮して
Ｆ2ガス分圧ＰFを演算するようにしている。

【００４５】なお、図５の手法において、レーザガス交
換後の経過時間ｔaの代わりにレーザガス交換後のレー
ザパルス光のショット数ｎを用いるようにしてもよい。

【００４６】図６は、Ｆ2ガス分圧ＰFのさらに他の測定
手順を示すものである。

【００４７】この図６に示す手法においては、下式に示
すように、Ｆ2ガスの発光強度ＩFとレーザパルス発振の
繰り返し周波数（発振周波数）ｆaに基づいてＦ2ガス分
圧ＰFを演算する。

【００４８】ＰF＝ｆ4（ＩF，ｆa）すなわち、この図６の手法では、レーザパルス発振の繰
り返し周波数ｆaが大きくなると、これに伴ってＦ2ガス
の発光強度ＩFが小さくなるので、かかる特性を考慮し
てＦ2ガス分圧ＰFを演算するようにしている。

【００４９】図７は、Ｆ2ガス分圧ＰFのさらに他の測定
手順を示すものである。

【００５０】この図７に示す手法は、レーザ光を所定回
数連続してパルス発振させる連続パルス発振運転と、所
定時間の間パルス発振を休止させる発振休止とを繰り返
すバーストモードが実行されるエキシマレーザに適用さ
れるものである。

【００５１】すなわち、エキシマレーザを半導体露光装
置用の光源として用いた場合、半導体露光装置では露光
とステージ移動とを交互に繰り返すようになっているの
で、エキシマレーザの運転状態は必然的に上記したバー
ストモードとなる。

【００５２】そして、このバーストモード運転の場合
は、発振休止時間の長短がレーザ発振に大きな影響を与
え、さらに発振休止後の初期のレーザパルス出力が他の
レーザパルス出力に比べて大きくなるというスパイキン
グ現象が重なって、個々のレーザパルスの出力エネルギ
ーが大きくばらつくという性質を持っている。

【００５３】したがって、バーストモード運転の場合
は、レーザ光だけでなく、これに伴って発生されるＦ2
等の放出光の発光強度もばらつくと考えられる。

【００５４】そこで、図７の手法においては、１バース
ト周期の中で特定のパルス番号（発振休止後パルス発振
が開始してから何発目のパルス発振であるかを識別する
番号）のパルス発振を選び、このパルス番号のパルス発
振が行われた際のＦ2ガスの放出光の発光強度ＩFを用い
てＦ2ガス分圧ＰFを演算するようにしている。なお、上
記パルス番号としては、パルス発振初期のスパイキング
現象が発生する領域を避けてパルス発振の中期以降の出
力エネルギーが安定した領域のものを選択するようにし
たほうが望ましい。

【００５５】なお、図２、図３〜図７に示したＦ2分圧
計算用の各パラメータを適宜組み合わせてＦ2分圧を計
算するようにしてもよい。

【００５６】次に、図８〜図１２に、Ｆ2ガスの放出光
を受光するための受光素子の他の配置例を示す。

【００５７】図８においては、エンドミラー４の外側
に、バンドパスフィルタ１６および受光素子１８を設け
るようにしており、エンドミラー４は、レーザ発振に対
応する波長の光にのみ（例えばＫｒＦエキシマレーザで
は２４８ｎｍ，ＡｒＦエキシマレーザでは１９３ｎｍ）
高反射率特性を有し、他の波長の光は透過するような特
性をもたせている。

【００５８】図９においては、出力ミラー５とレーザチ
ャンバ２の間に反射ミラー３０を配設し、この反射ミラ
ー３０で反射させたＦ2ガスの放出光をバンドパスフィ
ルタ１６を介して受光素子１８で受光するようにしてい
る。

【００５９】図１０においては、エタロン、またはグレ
ーティング等の波長選択素子とプリズムビームエキスパ
ンダ等で構成した狭帯域化モジュール４０を設け、レー
ザ光を狭帯域化して出力するようにしている。また、こ
の場合は、図１にも示したモニタモジュール７内にミラ
ー４１、バンドパスフィルタ１６および受光素子１８を
設けてＦ2ガスの放出光を受光するようにしている。

【００６０】すなわち、モニタモジュール７において
は、ミラー４１によってレーザ発振に対応する波長の光
にのみを反射してビームスプリッタ４２に入射し、それ
以外の光はバンドパスフィルタ１６を介して受光素子１
８に入射するようにしている。ビームスプリッタ４２に
入射された一部のレーザ発振光は受光素子４３に入射さ
れてその出力エネルギーがモニタされるとともに、残り
のレーザ光は拡散板４６、モニタエタロン４４を介して
ラインイメージセンサ４５に入射されて干渉縞を形成す
る。この形成された干渉縞に基づいてレーザ発振光の波
長が検出される。

【００６１】図１１においては、図１０にも示した狭帯
域化モジュール４０内でＦ2ガスの放出光を受光するよ
うにしている。

【００６２】この場合、狭帯域化モジュール４０は、分
散プリズム５６および全反射ミラー５１を有し、全反射
ミラー５１は、前述したようにレーザ発振に対応する波
長の光にのみ高反射率特性を有し、他の波長の光は透過
するような特性をもたせている。

【００６３】すなわち、図１１の構成においては、レー
ザチャンバ２から狭帯域化モジュール４０に入射された
光のうちレーザ発振光はプリズム５０およびミラー５１
を経由して再度同じ光路を経由してレーザチャンバ２に
戻るが、Ｆ2放出光はレーザ光とは波長が異なるので、
プリズム５０によってレーザ光とは異なる方向に偏向さ
れてミラー５１に入射される。このＦ2放出光が入射さ
れるミラー５１の位置の後方には、複数のファイバーケ
ーブルが束ねられたバンドルファイバー５２の一方の受
光端５３が配設されており、これら受光端５３で受光し
た光をファイバーケーブル５４を介してバンドパスフィ
ルタ１６、および受光素子１８が配置された位置まで導
光するようにしている。この場合、バンドルファイバー
５２のミラー５１側の受光端５３は、その受光領域を広
く確保できるように各ファイバーの受光端が列状に並べ
られており、他方の端部は受光端５３で受光した光を全
て受光素子１８で受光できるように円形状に集合されて
いる。

【００６４】次に、図１２においては、狭帯域化モジュ
ール４０は、プリズムビームエキスパンダ５０およびグ
レーティング５５を備えている。すなわちこの場合は、
波長に応じて入射光を異なる方向に回折するグレーティ
ング５５の特性を利用し、Ｆ2放出光を受光できる位置
にバンドルファイバー５２の一方の受光端５３を配設す
るようにしており、これら受光端５３で受光した光をフ
ァイバーケーブル５４を介してバンドパスフィルタ１
６、および受光素子１８が配置された位置まで導光する
ようにしている。この場合も、バンドルファイバー５２
の受光端５３は、その受光領域を広く確保できるように
各ファイバーの受光端が列状に並べれれており、他方の
端部は受光端５３で受光した光を全て受光素子１８で受
光できるように円形状に集合されている。

【００６５】なお、上記実施例ではガス分圧を測定する
ようにしたが、ガス濃度を測定するようにしてもよい。

【００６６】また、上記実施例では、レーザガス中のフ
ッ素ガス分圧を測定するようにしたが、他の任意のガス
の分圧を測定するようにしてもよい。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施例を示す図。

【図２】フッ素分圧測定手順を示すフローチャート。

【図３】レーザガス注入排気手順を示すフローチャー
ト。

【図４】他のフッ素分圧測定手順を示すフローチャー
ト。

【図５】他のフッ素分圧測定手順を示すフローチャー
ト。

【図６】他のフッ素分圧測定手順を示すフローチャー
ト。

【図７】他のフッ素分圧測定手順を示すフローチャー
ト。

【図８】放出光測定用の受光素子の他の配置例を示す
図。

【図９】放出光測定用の受光素子の他の配置例を示す
図。

【図１０】放出光測定用の受光素子の他の配置例を示す
図。

【図１１】放出光測定用の受光素子の他の配置例を示す
図。

【図１２】放出光測定用の受光素子の他の配置例を示す
図。

【符号の説明】

１…エキシマレーザ２…レーザチャンバ３…
放電電極４…エンドミラー５…出力ミラー６…
ビームスプリッタ７…モニタモジュール８…コントローラ９，１０，１１…ガスボンベ１２…ガス供給排
気装置１３…レーザ電源回路１４，１５…観測
窓１６，１７…バンドパスフィルタ１８，１９…受光
素子４０…狭帯域化モジュール４６…拡散板５２…バンドルファイバー５５…グレーティ
ング５６…分散プリズム

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数の異なる種類のガスの混合ガスとして
構成されるレーザガスをレーザ媒質として用いるガスレ
ーザ装置において、前記複数の異なる種類のガスのうちの特定のガスの放出
光の発光強度を検出する発光強度検出手段と、レーザ発振中における前記発光強度検出手段の検出信号
に基づき前記特定のガスのガス濃度またはガス分圧を演
算する演算手段と、を備えるようにしたことを特徴とするガスレーザ装置。
【請求項２】前記演算手段は、前記発光強度信号とレー
ザ発振の励起強度とに基づいて前記特定のガスのガス濃
度またはガス分圧を演算することを特徴とする請求項１
記載のガスレーザ装置。
【請求項３】前記演算手段は、前記発光強度信号とレー
ザガスの全圧値とに基づいて前記特定のガスのガス濃度
またはガス分圧を演算することを特徴とする請求項１記
載のガスレーザ装置。
【請求項４】前記演算手段は、前記発光強度信号とレー
ザガス交換後の経過時間とに基づいて前記特定のガスの
ガス濃度またはガス分圧を演算することを特徴とする請
求項１記載のガスレーザ装置。
【請求項５】前記ガスレーザ装置はパルス発振レーザで
あり、前記演算手段は、前記発光強度信号とレーザガス交換後
のレーザ発振パルス数とに基づいて前記特定のガスのガ
ス濃度またはガス分圧を演算することを特徴とする請求
項１記載のガスレーザ装置。
【請求項６】前記ガスレーザ装置はパルス発振レーザで
あり、前記演算手段は、前記発光強度信号とレーザ発振の繰り
返し周波数とに基づいて前記特定のガスのガス濃度また
はガス分圧を演算することを特徴とする請求項１記載の
ガスレーザ装置。
【請求項７】前記ガスレーザ装置は、レーザ光を所定の
周期で所定回数連続してパルス発振させる連続発振運転
と、この連続発振運転後に前記連続パルス発振を所定時
間停止させる停止運転とを交互に繰り返すものであり、前記演算手段は、前記連続発振運転開始時の最初のパル
ス発振から予め設定した所定個数目のパルス発振におけ
る前記発光強度検出手段の検出信号に基づき前記特定の
ガスのガス濃度またはガス分圧を演算することを特徴と
する請求項１記載のガスレーザ装置。
【請求項８】前記演算手段の演算出力に基づいてレーザ
ガスの注入制御および排気制御を実行するガス注入排気
制御手段をさらに具える請求項１〜７に何れかに記載の
ガスレーザ装置。
【請求項９】レーザ光を狭帯域化する狭帯域化モジュー
ルを更に具え、前記発光強度検出手段は、前記狭帯域化モジュール内で
前記特定のガスの放出光を受光する受光手段を具える請
求項１記載のガスレーザ装置。