JPH10340938A - 半導体製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ２つのロードロック室を一体化すると共に、
独立していた２つのカセットエレベータを共用すること
によって、構造の簡素化を図る。 【解決手段】 １つのチャンバ４０を２つに分割して一
体化した投入用ロードロック室４１と払出用ロードロッ
ク室４２を形成する。投入用ロードロック室４１と払出
用ロードロック室４２内にウェーハカセットを載置する
カセット台４６、４７を独立して回転させ、かつ同期し
て昇降させるカセット駆動機構を設ける。駆動機構はロ
−タリアクチュエータ５３、５４、カセットエレベータ
６０からなりハウジング５０内に収納する。ロ−タリア
クチュエータ５３、５４によって２つの駆動軸５１、５
２を独立して回転させることによりカセット台４６、４
７を回転させる。２つの駆動軸４６、４７を共通のカセ
ットエレベータ６０によって昇降させることによりカセ
ット台４６、４７を同時に昇降させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ＬＳＩや液晶ガラ
ス基板などの半導体を製造する半導体製造装置に係り、
特にカセットエレベータを有するロードロック室構造に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図５は従来の半導体製造装置の概略構成
を示した平面図である。六角形をした搬送室１の周囲に
放射状に投入用ロードロック室２、加熱室３、第１処理
室４、第２処理室５、冷却室６、払出用ロードロック室
７が設けられ、搬送室１と投入用ロードロック室２、第
１処理室４、第２処理室５、払出用ロードロック室７間
にはそれぞれゲートバルブ８、９、１０、１１が設けら
れる。また投入用ロードロック室２には外部からウェー
ハカセット１２を投入するためのゲートバルブ１３が設
けられ、払出用ロードロック室７には外部へウェーハカ
セット１２を払い出すためのゲートバルブ１４が設けら
れている。

【０００３】ここで、投入用ロードロック室２と払出用
ロードロック室７の２室を設ける場合、六角形搬送室１
の隣接した２辺にそれぞれ投入用ロードロック室２、払
出用ロードロック室７を１室づつ取り付けている。ま
た、カセットの投入、払出しを装置外部の同じ方向から
行う必要があるため、投入用ロードロック室２及び払出
用ロードロック室７の平面視断面形状は、図に示すよう
に、途中で屈曲させた左右非対称で複雑なものとなって
いる。

【０００４】搬送室１にはウェーハ搬送ロボット１７が
設けられている。このウェーハ搬送ロボット１７は２組
の独立して駆動される搬送アーム１８、１９を具備して
いる。第１処理室４、第２処理室５はそれぞれ、２枚の
ウェーハ２０を載置し得る処理ステージ（図示せず）を
有し、ウェーハ２０を２枚一括して処理可能となってい
る。また、投入用ロードロック室２、払出用ロードロッ
ク室７にはカセットエレベータ（図示せず）がそれぞれ
設けられ、このカセットエレベータの昇降台となるカセ
ット台には前記ウェーハカセット１２が載置されるよう
になっている。

【０００５】投入用ロードロック室２の外側のゲートバ
ルブ１３を介して、装置外部からウェーハカセット１２
が投入用ロードロック室２内に投入され、前記カセット
台に載置される。カセットエレベータによりウェーハカ
セット１２を昇降して、ウェーハカセット１２内のウェ
ーハ２０をウェーハ搬送ロボット１７の搬送アーム１
８、１９に位置合せし、ウェーハ搬送ロボット１７の搬
送アーム１８、１９を内側のゲートバルブ８を介して投
入用ロードロック室２内に挿入し、ウェーハカセット１
２からウェーハ２０を抜き取り、加熱室３に挿入して予
備加熱し、加熱後、ゲートバルブ９を介して第１処理室
４内に搬入し、搬入後、２枚のウェーハ２０を処理ステ
ージに残して搬送アーム１８、１９を抜き取る。

【０００６】第１処理室４内で２枚のウェーハ２０の処
理が完了すると、ウェーハ搬送ロボット１７により搬送
アーム１８、１９をゲートバルブ９を介して第１処理室
４内に挿入し、処理済みのウェーハ２０を保持する。第
１処理室４から２枚のウェーハ２０を搬出後、ゲートバ
ルブ１０を介して第２処理室５内に搬入し、搬入後２枚
のウェーハ２０を処理ステージに残して搬送アーム１
８、１９を抜き取る。

【０００７】２枚のウェーハ２０の処理が完了すると、
ウェーハ搬送ロボット１７により搬送アーム１８、１９
をゲートバルブ１０を介して第２処理室５内に挿入し、
処理済みのウェーハ２０を保持する。第２処理室５から
２枚のウェーハ２０を搬出後、払出用ロードロック室７
に戻す前に、冷却室６で一旦冷却する。

【０００８】冷却後、カセットエレベータにより払出用
ロードロック室７内のウェーハカセット１２を昇降し
て、ウェーハカセット１２内のウェーハ収納部をウェー
ハ搬送ロボット１７の搬送アーム１８、１９に位置合せ
し、処理済みのウェーハ２０を払出用ロードロック室７
のウェーハカセット１２に内側のゲートバルブ１１を介
して戻す。

【０００９】その後、払出用ロードロック室７の外側の
ゲートバルブ１４介して、装置外部へウェーハカセット
１２を払い出す。

【００１０】さて、図６に示すように隣接した投入用ロ
ードロック室２、払出用ロードロック室７の底部にはそ
れぞれハウジング２５が設けられ、それらのハウジング
２５内にカセット台２１を昇降するカセットエレベータ
２２が独立して設けられる。このカセットエレベータ２
２のカセット台２１にはウェーハカセット１２が載置さ
れる。カセットエレベータ２２は、例えば電動ステージ
で構成され、電動ステージを動かして軸体２３を昇降さ
せると、この軸体２３の頂部に取り付けたカセット台２
１が昇降するようになっている。なお、軸体２３は気密
性確保のためにベローズ２４で覆われている。また、カ
セット台２１は昇降するだけで、回転はしない。

【００１１】上述したカセットエレベータ２２を構成す
る軸体２３を覆うベローズ２４の具体的な構成を図７に
示す。ベローズ２４は、その上部にロードロック室２ま
たは７の底部にベローズ２４を取り付けるための上フラ
ンジ２６を有し、下部に電動ステージに連結するための
下フランジ２８を有する。また、中間部にベローズ２４
の座屈を防止するための座屈防止用中間部材２７を浮い
た状態で有する。この座屈防止用中間部材２７の外周に
複数個の挿通孔３０を開け、これらの挿通孔３０に上フ
ランジ２６に垂設したガイドシャフト２９を挿通する。
ガイドシャフト２９により座屈防止用中間部材２７をガ
イドすることによって、ベローズ２４の収縮時にベロー
ズ２４の中間部が撓まないようにする。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
製造装置では、投入用と払出用のロードロック室の２室
を設ける場合、六角形搬送チャンバの隣接した２辺にそ
れぞれ１室づつロードロック室を取り付けていたが、カ
セット投入、払出しを装置外部の同じ方向から行う必要
があるため、ロードロック室の形状は左右非対称で複雑
なものとなっていた。このためロードロック室を溶接で
製作する場合も、鋳物で製作する場合も製造コストが高
くなるばかりか、ロードロック室製作上、真空リークに
対する信頼性にも問題があった。

【００１３】また、２つのロードロック室で独立したカ
セットエレベータを用いているためにエレベータ構造が
複雑であった。また、２つのベローズの座屈防止用中間
部材のガイド機構も、中間部材を浮かしてガイドシャフ
トによってガイドする構造であったため大層複雑になっ
ていた。その結果、装置全体の構造が複雑であった。

【００１４】本発明の課題は、複数のロードロック室を
一体化することによって、上述した従来技術の問題点を
解消して、ロードロック室の構造を簡単にして信頼性を
向上できる半導体製造装置を提供することにある。ま
た、本発明の課題は、独立していた複数のカセットエレ
ベータを共用することによって、構造が簡単な半導体製
造装置を提供することにある。また、本発明の課題は、
複数の座屈防止用中間部材を共用して構成の簡素化を図
った半導体製造装置を提供することにある。さらに本発
明の課題は、複数の駆動軸及び共通の座屈防止用中間部
材を昇降するガイドを共用化することによって、構成の
簡素化を図った半導体製造装置を提供することにある。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明は、基板搬送ロボ
ットの制約上、同時に複数のロードロック室に基板が搬
送されることはないので、複数本の駆動軸を同期して昇
降させても支障はないという見地からなされたものであ
る。

【００１６】本発明の半導体製造装置は、基板を処理す
る基板処理室と、１つのチャンバを複数に仕切って形成
され基板を収納した基板カセットを投入または払い出す
複数のロードロック室と、上記基板処理室、複数のロー
ドロック室を周上に連結し、該ロードロック室に投入さ
れた基板カセットから基板を抜き取って基板処理室に搬
送する一方、上記基板処理室で処理された処理済みの基
板を基板処理室からロードロック室に搬送して基板カセ
ットに収納する基板搬送ロボットを有する搬送室と、複
数のロードロック室にそれぞれ設けられ、上記基板カセ
ットを載置するカセット台と、各カセット台を支持する
複数の駆動軸と、上記ロードロック室の基板カセットか
ら基板を抜き取るとき、又はロードロック室の基板カセ
ットに処理済みの基板を収納するときに、カセット基板
における基板の収納位置を基板搬送ロボットの搬送可能
な位置に合わせるために、上記複数の駆動軸を軸方向に
同期して昇降させる共用のカセットエレベータとを備え
たものである。ここに複数のロードロック室は、いずれ
を投入用としたり、払出用としたりすることができる。
また、カセット台は昇降に加えて、さらに回転させるよ
うにしてもよい。

【００１７】本発明は、特に複数のロードロック室が投
入用ロードロック室と払出用ロードロック室との２室で
構成される具体的な場合には、次のように構成すること
ができる。

【００１８】基板を処理する基板処理室と、１つのチャ
ンバを２つに仕切って形成されたロードロック室であっ
て、未処理の基板を収納した基板カセットを外部から投
入される投入用ロードロック室、及び処理済みの基板を
収納した基板カセットを外部に払い出す払出用ロードロ
ック室と、基板処理室、投入用ロードロック室、及び払
出用ロードロック室を周上に連結し、投入用ロードロッ
ク室に投入された基板カセットから基板を抜き取って基
板処理室に搬送する一方、上記基板処理室で処理された
処理済みの基板を基板処理室から払出用ロードロック室
に搬送して基板カセットに収納する基板搬送ロボットを
有する搬送室と、投入用ロードロック室及び払出用ロー
ドロック室にそれぞれ設けられ、上記基板カセットを載
置する２つのカセット台と、投入用ロードロック室のカ
セット台に載置される基板カセットから基板を抜き取る
とき、及び払出用ロードロック室のカセット台に載置さ
れる基板カセットに処理済みの基板を収納するとき、２
つのカセット台を回転させて基板カセットの基板出入口
の向きを、基板搬送ロボットの向きに合わせる２本の駆
動軸と、２本の駆動軸をそれぞれ独立して回転させる２
つの回転駆動手段と、上記投入用ロードロック室の基板
カセットから基板を抜き取るとき、及び払出用ロードロ
ック室の基板カセットに処理済みの基板を収納するとき
に、カセット基板における基板の収納位置を基板搬送ロ
ボットの搬送可能な位置に合わせるために、上記２本の
駆動軸を軸方向に同期して昇降させる共用のカセットエ
レベータとを備える。

【００１９】投入用ロードロック室内の基板カセットか
ら所望の基板を基板搬送ロボットによって抜き出すため
に、基板カセットを載置しているカセット台の駆動軸を
独立して回転させて、基板カセットの基板出入口の向き
を、基板搬送ロボットの向きに合わせる。その上で、共
用のカセットエレベータを作動して２本の駆動軸を軸方
向に同期して昇降させることにより、カセット台に載置
された基板カセットを昇降して、所望の基板が基板搬送
ロボットの搬送可能な高さ位置にくるようにする。

【００２０】また、基板処理室から処理済みの基板を払
出用ロードロック室内の基板カセットに収納するため
に、共用のカセットエレベータを作動して２本の駆動軸
を軸方向に同期して昇降させることにより、払出用ロー
ドロック室内の基板カセットを昇降して、基板カセット
の基板収納位置を基板搬送ロボットの搬送可能な高さ位
置に合わせる。その上で基板カセットを載置しているカ
セット台の駆動軸を独立して回転させて、基板カセット
の基板出入口の向きを、基板搬送ロボットの向きに合わ
せる。

【００２１】投入用ロードロック室と払出用ロードロッ
ク室とを、１つのチャンバを２つに仕切ることにより一
体に形成するので、両室を独立して形成する場合に比べ
て、室形状を簡素化できる。

【００２２】また、投入用ロードロック室及び払出用ロ
ードロック室内の各基板カセットを昇降するカセットエ
レベータを１台で共用するようにしたので、駆動部の簡
素化が図れる。また、投入用ロードロック室及び払出用
ロードロック室内のカセット台を独立して回転できるよ
うにしたので、基板カセットに対する基板の出し入れが
容易になる。

【００２３】上記具体的な発明において、２本の駆動軸
の周囲に駆動軸を覆うようにそれぞれ設けられ、駆動軸
の軸方向運動時の気密を確保するための２つのベローズ
と、２つのベローズの長手方向の中間に共通に設けられ
たベローズ座屈防止用中間部材と、上記２本の駆動軸の
回転を許容しつつ２本の駆動軸を連結するとともに、上
記カセットエレベータと連動して昇降するフランジと、
上記フランジ及びベローズ座屈防止用中間部材を上記カ
セットエレベータの昇降に伴って滑動させるガイドとを
備えることが好ましい。

【００２４】カセットエレベータの作動による２つの駆
動軸の昇降により、駆動軸を覆う２つのベローズは伸縮
するが、ベローズの長手方向の中間に共通のベローズ座
屈防止用の中間部材が設けられているので、２つのベロ
ーズの座屈が同時に防止できる。また、カセットエレベ
ータが作動すると、フランジがガイド上を滑動して２本
の駆動軸を同期して昇降させる。このとき座屈防止用中
間部材も同じガイド上を滑動して昇降する。このように
フランジ及び座屈防止用中間部材のガイドを共用化する
ことにより部品点数が低減する。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下に本発明の半導体製造装置の
実施の形態を、基板をウェーハとした場合について説明
する。

【００２６】図４は実施形態の枚葉型の半導体製造装置
の概略構成を示した平面図である。５角形をした搬送室
３１の周囲に放射状に投入用ロードロック室４１、加熱
室３、第１処理室４、第２処理室５、冷却室６、払出用
ロードロック室４２が設けられ、搬送室３１と投入用ロ
ードロック室４１、第１処理室４、第２処理室５、払出
用ロードロック室４２間にはそれぞれゲートバルブ８、
９、１０、１１が設けられる。また投入用ロードロック
室４１には外部からウェーハカセット１２を投入するた
めのゲートバルブ１３が設けられ、払出用ロードロック
室４２には外部へウェーハカセット１２を払い出すため
のゲートバルブ１４が設けられている。各室１、３〜
６、４１、４２は気密構造となっている。

【００２７】ここに図示するように、未処理のウェーハ
２０を収納したウェーハカセット１２を外部から投入す
る投入用ロードロック室４１と、処理済みのウェーハ２
０を収納したウェーハカセット１２を外部に払い出す払
出用ロードロック室４２とは、１つのチャンバ４０の内
部を仕切壁４３で２つに仕切って一体に形成される。１
つのチャンバ４０の形状は直方体をしており、これを中
央部で仕切るようにしているため、投入用ロードロック
室４１及び払出用ロードロック室４２は左右対称で単純
な形状となっている。また、１つのチャンバ４０を５角
形搬送室３１の底辺に取り付けるだけで、投入用ロード
ロック室４１及び払出用ロードロック室４２がまとめて
取り付けられる。

【００２８】チャンバ４０は搬送室３１の底辺に共通に
取り付けられるので、投入用ロードロック室４１及び払
出用ロードロック室４２の向きは平行になるので、装置
外部に対してカセットの投入、払出しは、室を途中から
屈曲させないでも、同じ方向から行えることになる。

【００２９】他の室３〜６と異なり、投入用ロードロッ
ク室４１及び払出用ロードロック室４２の向きは搬送室
３１の中心から出た放射線４４上から幾分ずれることに
なる。このためウェーハ搬送ロボット１７によるウェー
ハカセット１２に対するウェーハ搬送にやや難が生じ
る。そこで、この難を解消するために、ウェーハカセッ
ト１２を載置するカセット台は実線矢印で示すように回
転自在に設ける。ウェーハカセット１２が投入用ロード
ロック室４１に投入されたとき、あるいは払出用ロード
ロック室４２から払い出されるときは、カセット台上の
ウェーハカセット１２はロードロック室４１、４２の向
きと同じで真っ直ぐの向きで載置される。ウェーハカセ
ット１２からウェーハを取り出したり、ウェーハカセッ
ト１２にウェーハ２０を入れるときは、ウェーハ搬送ロ
ボット１７の搬送アーム１８、１９がウェーハ２０を保
持しやすいように、またウェーハ２０をウェーハカセッ
ト１２に収納しやすいように、ウェーハカセット１２の
ウェーハ出入口１２ａがウェーハ保持プレート４５、４
６の延長線を向くように、カセット台を回転させる。

【００３０】搬送室１にはウェーハ搬送ロボット１７が
設けられている。このウェーハ搬送ロボット１７は２組
の独立して駆動される搬送アーム１８、１９を具備して
いる。加熱室３、冷却室６には特に図示しないがウェー
ハ２０が載置される載置台が設けられ、第１処理室４、
第２処理室５はそれぞれ、２枚のウェーハ２０を載置し
得る処理ステージ（図示せず）を有し、ウェーハ２０を
２枚一括して処理可能となっている。また、投入用ロー
ドロック室２、払出用ロードロック室７には共通のカセ
ットエレベータ（図示せず）が設けられ、このカセット
エレベータの昇降台となるカセット台には前記ウェーハ
カセット１２が載置されるようになっている。

【００３１】さて、図１に示すように１つのチャンバ４
０を仕切壁４３で仕切って形成した投入用ロードロック
室４１、払出用ロードロック室４２内には、ウェーハカ
セットを載置するためのカセット台４６、４７がそれぞ
れ設けられる。カセット台４６、４７は、カセット駆動
機構によって回転及び昇降する。すなわち、カセット台
４６、４７は、独立して駆動される駆動軸５１、５２に
一端がそれぞれ取り付けられた２本のアーム４８、４９
の他端にそれぞれ取り付けられ、駆動軸５１、５２を中
心に水平面内で回転するようになっている。また、カセ
ット台４６、４７はカセットエレベータ６０により同期
して昇降できるようになっている。

【００３２】投入用ロードロック室４１、払出用ロード
ロック室４２の底部に共通のハウジング５０が設けら
れ、そのハウジング５０内に投入用ロードロック室４１
及び払出用ロードロック室４２内の２つのウェーハカセ
ットを独立して回転させるための２つのロ−タリアクチ
ュエータ５３、５４と、上記２つのウェーハカセットを
同期して昇降させるためのカセットエレベータ６０が備
えられる。カセットエレベータ６０は、例えば電力によ
りステージが昇降する電動ステージで構成する。

【００３３】ロ−タリアクチュエータ５３、５４は、投
入用ロードロック室４１と払出用ロードロック室４２か
らハウジング５０内に平行に挿入された駆動軸５１、５
２の下端に取り付けられ、駆動軸５１、５２を独立して
回転させるようになっている。駆動軸５１、５２の周囲
には、各駆動軸５１、５２の軸方向運動時の気密を保持
して、両ロードロック室４１、４２内の雰囲気を確保す
るベローズ５７、５８が嵌められている。

【００３４】ベローズ５７、５８の下端には下フランジ
５５が取り付けられ、この下フランジ５５はエレベータ
昇降部５６を介してガイド５９に滑動自在に嵌められ
る。エレベータ昇降部５６はカセットエレベータ６０に
取り付けられ、カセットエレベータ６０の作動によりガ
イド５９に沿って滑動して、２本の駆動軸５１、５２を
同期して上下動させ、投入用ロードロック室４１及び払
出用ロードロック室４２内のカセット台４６、４７を介
してウェーハカセットを同時に昇降できるようになって
いる。上記したエレベータ昇降部５６が電動ステージの
ステージを構成する。

【００３５】なお、下フランジ５５とロ−タリアクチュ
エータ５３、５４との間にショックアブソーバ６１、６
２を介在させて、カセットエレベータ６０の下降時の衝
撃を吸収するようになっている。なお、投入用ロードロ
ック室４１と払出用ロードロック室４２の側面にはウェ
ーハカセットを投入または払い出すためのロードロック
室ドア７１、７２が取り付けられる。

【００３６】上述した駆動軸回りの原理的な構成を図
２、図３に示す。図２において、２本の駆動軸５１、５
２が上下方向に平行にかつ回転自在に設けられる。２本
の駆動軸５１、５２の上部にアーム４８、４９が取り付
けられ、下部に図示しないロ−タリアクチュエータがそ
れぞれ取り付けられて、２本の駆動軸５１、５２を回転
することによりアーム４８、４９を旋回して図示しない
ウェーハカセットを回転するようになっている。２本の
駆動軸５１、５２の周囲にベローズ５７、５８を装着
し、ベローズ５７、５８の上部に設けた共通の上フラン
ジ６３を図示しないチャンバの底部に取り付け、ベロー
ズ５７、５８の下部に設けた２本の駆動軸５１、５２の
軸受となる共通の下フランジ５５を図示しないカセット
エレベータに取り付け、カセットエレベータを動かすこ
とにより、下フランジ５５を介して２本の駆動軸５１、
５２を同期して上下に動かし、ウェーハカセットを昇降
させるようになっている。また、ベローズ４８、４９の
中間部に、ベローズの座屈を防止する共通の中間部材６
４を取り付けてある。

【００３７】図３に示すように、２本の駆動軸に沿って
共通ガイド５９を設け、この共通ガイド５９に下フラン
ジ５５から延出したエレベータ昇降部５６と、中間部材
６４から延出したガイド係合部６５とをそれぞれ係合し
て、共通ガイド５９に沿って下フランジ５５及び中間部
材６４を滑動するようになっている。

【００３８】図３(a) はガイド５９に沿ってエレベータ
昇降部５６、ガイド係合部６５が下降した時のベローズ
５７、５８が伸長した状態を示し、図３(b) はガイド５
９に沿ってエレベータ昇降部５６、ガイド係合部６５が
上昇した時のベローズ５７、５８が収縮した状態を示し
ている。

【００３９】上述したように実施の形態によれば、直方
体のチャンバを２つに仕切って投入用ロードロック室と
払出用ロードロック室とを形成するようにしたので、２
つの複雑な形状をしたロードロック室を独立して形成す
る場合に比べて、形状が簡単な直方体であるため、ロー
ドロック室を溶接で製作する場合も、鋳物で製作する場
合も製作工数は著しく短縮でき、製作コストも低減でき
る。また形状が単純であるため真空リークに対する信頼
性も高い。

【００４０】また、一体化した投入用ロードロック室４
１と払出用ロードロック室４２とを５角形をした搬送室
３１の同一辺に連結したために、投入用ロードロック室
４１と払出用ロードロック室４２とが放射状位置から外
れ、そのままでは、ウェーハカセット１２に対するウェ
ーハ２０の出し入れがしずらくなる。しかし、実施の形
態では、カセット台を回転できるようにして、ウェーハ
２０を出し入れするとき、ウェーハカセット１２を回転
してウェーハカセットのウェーハ出入口１２ａをウェー
ハ保持プレートの延長線上に向けることができるように
したので、両ロードロック室の向きが平行で同じ方向を
向いていても、ウェーハの出し入れが容易になる。

【００４１】また、投入用ロードロック室と払出用ロー
ドロック室のウェーハカセットを昇降させるカセットエ
レベータを共有したので、カセットエレベータ機構を簡
素化できる。

【００４２】さらに、２つのベローズ座屈防止用中間部
材を連結して、ガイドに沿って滑動させるようにしたの
で、中間部材を浮かしてガイドシャフトによってガイド
するものに比べてガイドが安定するため、ベローズの座
屈をより有効に防止できる。

【００４３】また、エレベータ昇降部が滑動するガイド
を中間部材のガイドにも利用したので、構成の簡素化を
図ることができる。

【００４４】

【発明の効果】本発明によれば、投入用ロードロック室
と払出用ロードロック室を一体化したので、真空リーク
に対する信頼性を向上でき、装置も簡素化できる。ま
た、２つのベローズの座屈防止用中間部材を共用化し、
駆動軸と座屈防止用中間部材の昇降を案内するガイドも
共用化した場合には、装置の一層の簡素化が図れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施の形態による半導体製造装置のロードロッ
ク室回りの斜視図である。

【図２】実施の形態によるカセット駆動機構の概略正面
図である。

【図３】実施の形態によるカセット駆動機構の側面図を
示し、(a) はカセットエレベータ下降時のベローズが伸
長した状態図、(b) はカセットエレベータ上昇時のベロ
ーズが収縮した状態図である。

【図４】実施の形態による半導体製造装置の全体を示す
平面図である。

【図５】従来例の半導体製造装置の全体を示す平面図で
ある。

【図６】従来例のカセット駆動機構の概略正面図であ
る。

【図７】従来例のベローズの斜視図である。

【符号の説明】

４０ チャンバ ４１ 投入用ロードロック室 ４２ 払出用ロードロック室 ４３ 仕切壁 ４６、４７ カセット台 ５１、５２ 駆動軸 ５３、５４ ロ−タリアクチュエータ ５５ 下フランジ ５６ エレベータ昇降部 ５７、５８ ベローズ ６０ カセットエレベータ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板を処理する基板処理室と、 １つのチャンバを複数に仕切って形成され、基板を収納
   した基板カセットを投入または払い出す複数のロードロ
   ック室と、 上記基板処理室、複数のロードロック室を周上に連結
   し、該ロードロック室に投入された基板カセットから基
   板を抜き取って基板処理室に搬送する一方、上記基板処
   理室で処理された処理済みの基板を基板処理室からロー
   ドロック室に搬送して基板カセットに収納する基板搬送
   ロボットを有する搬送室と、 複数のロードロック室にそれぞれ設けられ、上記基板カ
   セットを載置するカセット台と、 各カセット台を支持する複数の駆動軸と、 上記ロードロック室の基板カセットから基板を抜き取る
   とき、又はロードロック室の基板カセットに処理済みの
   基板を収納するときに、カセット基板における基板の収
   納位置を基板搬送ロボットの搬送可能な位置に合わせる
   ために、上記複数の駆動軸を軸方向に同期して昇降させ
   る共用のカセットエレベータとを備えたことを特徴とす
   る半導体製造装置。
2. 【請求項２】上記複数の駆動軸の周囲に駆動軸を覆うよ
   うにそれぞれ設けられ、駆動軸の軸方向運動時の気密を
   確保するためのベローズと、 各ベローズの長手方向の中間に共通に設けられたベロー
   ズ座屈防止用中間部材と、 上記複数の駆動軸を連結するとともに、上記カセットエ
   レベータと連動して昇降するフランジと、 上記フランジ及びベローズ座屈防止用中間部材を上記カ
   セットエレベータの昇降に伴って滑動させるガイドとを
   備えた請求項１に記載の半導体製造装置。