JPH10334436A - 磁気ディスク装置およびその製造方法 - Google Patents
磁気ディスク装置およびその製造方法Info
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- JPH10334436A JPH10334436A JP14179097A JP14179097A JPH10334436A JP H10334436 A JPH10334436 A JP H10334436A JP 14179097 A JP14179097 A JP 14179097A JP 14179097 A JP14179097 A JP 14179097A JP H10334436 A JPH10334436 A JP H10334436A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】磁気ディスクに塗布された潤滑剤がスライダに
付着蓄積することによって発生する磁気ディスク装置の
起動障害を防止する。 【解決手段】スライダ表面にフルオロアルキルシランの
オリゴマー膜を形成することによって、スライダ表面
の、磁気ディスクに塗布された潤滑剤の接触角を50度以
上にする。
付着蓄積することによって発生する磁気ディスク装置の
起動障害を防止する。 【解決手段】スライダ表面にフルオロアルキルシランの
オリゴマー膜を形成することによって、スライダ表面
の、磁気ディスクに塗布された潤滑剤の接触角を50度以
上にする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
及びその製造方法に係り、特にスライダと磁気ディスク
との粘着による起動障害を防止するためのスライダと磁
気ディスクとを搭載した磁気ディスク装置に関する。
及びその製造方法に係り、特にスライダと磁気ディスク
との粘着による起動障害を防止するためのスライダと磁
気ディスクとを搭載した磁気ディスク装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】粘着による磁気ディスク装置の起動障害
を防止する方法として、スライダの磁気ディスクとの対
向面を低表面エネルギ化してスライダへの潤滑剤やグリ
ースの付着蓄積を抑制することが有効であることが知ら
れている。すなわち、装置の長時間稼働中、スライダに
磁気ディスクの潤滑剤やスピンドル軸受け、キャリッジ
軸受けのグリースが付着蓄積し、装置の停止後、それら
潤滑剤やグリースがスライダと磁気ディスクとの接触隙
間に塗れ広がって隙間を埋め、隙間内の液架橋力によっ
てスライダと磁気ディスクとの間に大きな吸着力が作用
して、スライダと磁気ディスクとが粘着してしまう、と
いう現象がある。このとき、スライダの磁気ディスクと
の対向面を低表面エネルギ化することによりスライダへ
の潤滑剤やグリースの蓄積を防止し、ひいては起動障害
を防止しようとする技術である。
を防止する方法として、スライダの磁気ディスクとの対
向面を低表面エネルギ化してスライダへの潤滑剤やグリ
ースの付着蓄積を抑制することが有効であることが知ら
れている。すなわち、装置の長時間稼働中、スライダに
磁気ディスクの潤滑剤やスピンドル軸受け、キャリッジ
軸受けのグリースが付着蓄積し、装置の停止後、それら
潤滑剤やグリースがスライダと磁気ディスクとの接触隙
間に塗れ広がって隙間を埋め、隙間内の液架橋力によっ
てスライダと磁気ディスクとの間に大きな吸着力が作用
して、スライダと磁気ディスクとが粘着してしまう、と
いう現象がある。このとき、スライダの磁気ディスクと
の対向面を低表面エネルギ化することによりスライダへ
の潤滑剤やグリースの蓄積を防止し、ひいては起動障害
を防止しようとする技術である。
【０００３】スライダの磁気ディスクとの対向面を低表
面エネルギ化する従来技術として、磁気ヘッドが付設さ
れたスライダの磁気ディスクとの対向面における磁気デ
ィスクとの非接触面に、該スライダ本体の構成材料より
低い表面エネルギを有する膜、例えばＰＴＦＥ膜を設け
るものが特開昭６３−６４６８４号広報に開示されてい
る。
面エネルギ化する従来技術として、磁気ヘッドが付設さ
れたスライダの磁気ディスクとの対向面における磁気デ
ィスクとの非接触面に、該スライダ本体の構成材料より
低い表面エネルギを有する膜、例えばＰＴＦＥ膜を設け
るものが特開昭６３−６４６８４号広報に開示されてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記特開昭３−６４６
８４号公報に記載の従来技術では、スライダの磁気ディ
スクとの対向面の低表面エネルギ膜はＰＴＦＥで構成さ
れており、ＰＴＦＥの表面エネルギ１５ｍＮ／ｍでは、
グリースをはじいてスライダへのグリースの付着を防止
する効果はあるが、表面エネルギが２０ｍＮ／ｍ程度と
小さい値である磁気ディスク用潤滑剤に対しては撥油性
能が不十分であり、スライダへの潤滑剤の付着の防止、
ひいては磁気ディスク装置の潤滑剤起因粘着による起動
障害を防止することは困難であるという問題点がある。
８４号公報に記載の従来技術では、スライダの磁気ディ
スクとの対向面の低表面エネルギ膜はＰＴＦＥで構成さ
れており、ＰＴＦＥの表面エネルギ１５ｍＮ／ｍでは、
グリースをはじいてスライダへのグリースの付着を防止
する効果はあるが、表面エネルギが２０ｍＮ／ｍ程度と
小さい値である磁気ディスク用潤滑剤に対しては撥油性
能が不十分であり、スライダへの潤滑剤の付着の防止、
ひいては磁気ディスク装置の潤滑剤起因粘着による起動
障害を防止することは困難であるという問題点がある。
【０００５】上記ＰＴＦＥおよび潤滑剤の表面エネルギ
の値から、ＰＴＦＥ膜が設けられたスライダの磁気ディ
スクとの対向面の、潤滑剤の接触角は４０度程度と推測
されるが、著者らの実験によれば、ある液状物質のスラ
イダへの付着を防止するためには、スライダの磁気ディ
スクとの対向面の、その液状物質の接触角が５０度以上
になるようにスライダの磁気ディスクとの対向面を低表
面エネルギ化する必要がある。
の値から、ＰＴＦＥ膜が設けられたスライダの磁気ディ
スクとの対向面の、潤滑剤の接触角は４０度程度と推測
されるが、著者らの実験によれば、ある液状物質のスラ
イダへの付着を防止するためには、スライダの磁気ディ
スクとの対向面の、その液状物質の接触角が５０度以上
になるようにスライダの磁気ディスクとの対向面を低表
面エネルギ化する必要がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題は、信号を記録
する磁気ディスクと、前記磁気ディスクの回転によって
前記磁気ディスク面上を走査して情報の記録再生を行う
磁気ヘッドを具備し、磁気ディスクに対向して設けられ
たスライダとを有する磁気ディスク装置において、前記
磁気ディスクの表面は潤滑剤が塗布され、前記スライダ
は、該スライダの前記磁気ディスクとの対向面の、前記
磁気ディスクに塗布された潤滑剤の接触角をθとしたと
き、θ≧５０度を満足する磁気ディスク装置とすること
により達成できる。
する磁気ディスクと、前記磁気ディスクの回転によって
前記磁気ディスク面上を走査して情報の記録再生を行う
磁気ヘッドを具備し、磁気ディスクに対向して設けられ
たスライダとを有する磁気ディスク装置において、前記
磁気ディスクの表面は潤滑剤が塗布され、前記スライダ
は、該スライダの前記磁気ディスクとの対向面の、前記
磁気ディスクに塗布された潤滑剤の接触角をθとしたと
き、θ≧５０度を満足する磁気ディスク装置とすること
により達成できる。
【０００７】そしてθが５０度以上となるスライダの磁
気ディスクとの対向面の形成は、スライダの磁気ディス
クとの対向面を炭化水素、フッ化炭素化合物またはフッ
化シラン化合物(例えばフルオロアルキルシラン)のうち
の少なくとも1つから構成し、磁気ディスクの表面に塗
布された潤滑剤をパーフルオロポリエーテル潤滑剤とす
ることにより達成できる。さらに前記フッ素系シラン化
合物をフルオロアルキルシランのオリゴマー（多量体）
とすることにより、より確実に達成できる。
気ディスクとの対向面の形成は、スライダの磁気ディス
クとの対向面を炭化水素、フッ化炭素化合物またはフッ
化シラン化合物(例えばフルオロアルキルシラン)のうち
の少なくとも1つから構成し、磁気ディスクの表面に塗
布された潤滑剤をパーフルオロポリエーテル潤滑剤とす
ることにより達成できる。さらに前記フッ素系シラン化
合物をフルオロアルキルシランのオリゴマー（多量体）
とすることにより、より確実に達成できる。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下図面を用いて本発明の実施例
を説明する。
を説明する。
【０００９】本発明の第１の実施例を図１ないし図７を
用いて説明する。図１は本発明の第１の実施例の磁気デ
ィスク装置の斜視図であり、信号を記録する磁気ディス
ク１がスピンドル３に固定されて回転し、この回転する
磁気ディスク１の面上を、情報の記録再生を行う磁気ヘ
ッドを具備したスライダ２が、サスペンション４を介し
てキャリッジ５によって磁気ディスク１の概略半径方向
に移動する。
用いて説明する。図１は本発明の第１の実施例の磁気デ
ィスク装置の斜視図であり、信号を記録する磁気ディス
ク１がスピンドル３に固定されて回転し、この回転する
磁気ディスク１の面上を、情報の記録再生を行う磁気ヘ
ッドを具備したスライダ２が、サスペンション４を介し
てキャリッジ５によって磁気ディスク１の概略半径方向
に移動する。
【００１０】図２はスライダ２の、磁気ディスク１との
対向面を示す斜視図であり、流入端にテーパ８を備えた
クロスレールと浮上力を発生させるサイドレールとから
なる浮上レール７ａと、磁気ヘッドが付設されたセンタ
ーレール７ｂが設けられ、これらレール面から数μｍ窪
んだブリード面９の表面は、フッ化化合物であるフルオ
ロアルキルシランから成っている。またスライダ２の後
端面１０の表面も、必要に応じてフルオロアルキルシラ
ンで構成することもある。フルオロアルキルシランは
「ＣＦ３（ＣＦ２）ｎ（ＣＨ２）ｍ−Ｓｉｘ３」の構造
をもち、ここでｎは０から１３までの整数、ｍは０から
１０までの整数、ｘはアルコキシル基（特にメトキシ
基）、ハロゲンまたはシアン化合物を表している。ここ
でｘ３は前記ｘの各種材料の別種類の組み合わせでも良
い。図３および図４はフルオロアルキルシランを付着さ
せる前および後のスライダ２のブリード面９の表面を示
す表面構造図であり、フルオロアルキルシランを付着さ
せる前のブリード面９上にはフルオロアルキルシランの
結合点１２となる水酸基１３が散在しており、この水酸
基１３とフルオロアルキルシランのメトキシ基とが吸着
結合して、ブリード面９の面上にフルオロアルキルシラ
ンモノマー膜１４が形成されている。
対向面を示す斜視図であり、流入端にテーパ８を備えた
クロスレールと浮上力を発生させるサイドレールとから
なる浮上レール７ａと、磁気ヘッドが付設されたセンタ
ーレール７ｂが設けられ、これらレール面から数μｍ窪
んだブリード面９の表面は、フッ化化合物であるフルオ
ロアルキルシランから成っている。またスライダ２の後
端面１０の表面も、必要に応じてフルオロアルキルシラ
ンで構成することもある。フルオロアルキルシランは
「ＣＦ３（ＣＦ２）ｎ（ＣＨ２）ｍ−Ｓｉｘ３」の構造
をもち、ここでｎは０から１３までの整数、ｍは０から
１０までの整数、ｘはアルコキシル基（特にメトキシ
基）、ハロゲンまたはシアン化合物を表している。ここ
でｘ３は前記ｘの各種材料の別種類の組み合わせでも良
い。図３および図４はフルオロアルキルシランを付着さ
せる前および後のスライダ２のブリード面９の表面を示
す表面構造図であり、フルオロアルキルシランを付着さ
せる前のブリード面９上にはフルオロアルキルシランの
結合点１２となる水酸基１３が散在しており、この水酸
基１３とフルオロアルキルシランのメトキシ基とが吸着
結合して、ブリード面９の面上にフルオロアルキルシラ
ンモノマー膜１４が形成されている。
【００１１】図５は稼働中のスライダと２と磁気ディス
ク１の側面図であり、スライダ２は空気膜を介して磁気
ディスク１の面上をおおむね非接触に浮上するか、ある
いは図示するようにスライダ２のセンタレール７ｂを磁
気ディスク１に接触させながら走行する。スライダ２と
磁気ディスク１とが接触したときの両者の摩耗や損傷を
防止するために磁気ディスク１の表面にはパーフルオロ
ポリエーテル潤滑剤１１が塗布されている。
ク１の側面図であり、スライダ２は空気膜を介して磁気
ディスク１の面上をおおむね非接触に浮上するか、ある
いは図示するようにスライダ２のセンタレール７ｂを磁
気ディスク１に接触させながら走行する。スライダ２と
磁気ディスク１とが接触したときの両者の摩耗や損傷を
防止するために磁気ディスク１の表面にはパーフルオロ
ポリエーテル潤滑剤１１が塗布されている。
【００１２】次に本発明の第１の実施例の作用を説明す
る。
る。
【００１３】図５より、スライダ２が磁気ディスク１の
面上を浮上あるいは接触走行すると、潤滑剤１１がスラ
イダ２のブリード面９に付着蓄積する。この付着量とス
ライダ２の表面エネルギとの関係を定量化するために、
付着液体としてグリースを用いたときの、１０００時間
連続稼働後のスライダ２へのグリースの付着蓄積量と、
スライダ２の表面のグリースの接触角とを計測した。そ
の付着蓄積量と接触角の関係を図６に、またそのときの
発生粘着力と付着蓄積量の関係を図７に示す。図６に実
線で示したように、スライダ２の表面のグリースの接触
角が５０度以上の場合にはグリースはスライダ２に付着
しないことがわかった。そしてこのとき、すなわちスラ
イダ２へのグリースの付着蓄積量がゼロのとき、図７よ
り、粘着力は初期状態と同じ２ｇｆ前後の小さい値に止
まることがわかった。
面上を浮上あるいは接触走行すると、潤滑剤１１がスラ
イダ２のブリード面９に付着蓄積する。この付着量とス
ライダ２の表面エネルギとの関係を定量化するために、
付着液体としてグリースを用いたときの、１０００時間
連続稼働後のスライダ２へのグリースの付着蓄積量と、
スライダ２の表面のグリースの接触角とを計測した。そ
の付着蓄積量と接触角の関係を図６に、またそのときの
発生粘着力と付着蓄積量の関係を図７に示す。図６に実
線で示したように、スライダ２の表面のグリースの接触
角が５０度以上の場合にはグリースはスライダ２に付着
しないことがわかった。そしてこのとき、すなわちスラ
イダ２へのグリースの付着蓄積量がゼロのとき、図７よ
り、粘着力は初期状態と同じ２ｇｆ前後の小さい値に止
まることがわかった。
【００１４】ここで、図６中の実線に基づき接触角が５
０度以上で付着蓄積量ゼロと考えたが、図６に図示した
データは計測のバラツキを含んでいる。バラツキの最悪
条件においてもグリースの付着蓄積量をゼロにするため
には、スライダ２の表面のグリースの接触角は、図中波
線で示したように、望むらくは５５度以上であるほうが
より確実である。
０度以上で付着蓄積量ゼロと考えたが、図６に図示した
データは計測のバラツキを含んでいる。バラツキの最悪
条件においてもグリースの付着蓄積量をゼロにするため
には、スライダ２の表面のグリースの接触角は、図中波
線で示したように、望むらくは５５度以上であるほうが
より確実である。
【００１５】これらの実測結果より、潤滑剤１１がスラ
イダ２のブリード面９に付着蓄積することを防止するた
めにはブリード面９の潤滑剤１１の接触角を５０度以上
にすれば良いと推測した。このとき、前述のように従来
技術で使用されたＰＴＦＥでは接触角は４０度程度に止
まり、潤滑剤の付着蓄積を防止することはできない。本
実施例によれば、ブリード面９の表面はフルオロアルキ
ルシランモノマー膜１４で覆われており、フルオロアル
キルシランモノマー膜１４の最表面は表面エネルギーが
６ｍＮ／ｍであるＣＦ３で構成されている。これよりフ
ルオロアルキルシランモノマー膜１４で覆われたブリー
ド面９の、表面エネルギー２０ｍＮ／ｍ程度である潤滑
剤１１の接触角は７０度程度となるので、潤滑剤１１は
スライダ２に付着蓄積することがなく、したがって装置
の起動を妨げる大きな粘着力の発生を防止することがで
きる。
イダ２のブリード面９に付着蓄積することを防止するた
めにはブリード面９の潤滑剤１１の接触角を５０度以上
にすれば良いと推測した。このとき、前述のように従来
技術で使用されたＰＴＦＥでは接触角は４０度程度に止
まり、潤滑剤の付着蓄積を防止することはできない。本
実施例によれば、ブリード面９の表面はフルオロアルキ
ルシランモノマー膜１４で覆われており、フルオロアル
キルシランモノマー膜１４の最表面は表面エネルギーが
６ｍＮ／ｍであるＣＦ３で構成されている。これよりフ
ルオロアルキルシランモノマー膜１４で覆われたブリー
ド面９の、表面エネルギー２０ｍＮ／ｍ程度である潤滑
剤１１の接触角は７０度程度となるので、潤滑剤１１は
スライダ２に付着蓄積することがなく、したがって装置
の起動を妨げる大きな粘着力の発生を防止することがで
きる。
【００１６】次に、本発明の第２の実施例を図８を用い
て説明する。図８は本発明のスライダ２のブリード面９
の表面を示す表面構造図であり、ブリード面９の面上の
結合点１２にはフルオロアルキルシランオリゴマー膜１
５が形成されている。
て説明する。図８は本発明のスライダ２のブリード面９
の表面を示す表面構造図であり、ブリード面９の面上の
結合点１２にはフルオロアルキルシランオリゴマー膜１
５が形成されている。
【００１７】本実施例によれば、ブリード面９の面上の
結合点１２の数密度が小さい場合、あるいは結合点１２
に対するフルオロアルキルシランの結合確率が小さい場
合でも、フルオロアルキルシランモノマー膜１４と比較
して多数のフルオロアルキルシラン分子をブリード面９
に結合させることができる。したがってスライダ表面の
結合点１２の数密度が小さい処理前スライダ表面や、結
合点１２への結合確率が小さい処理前スライダ表面にお
いても、フルオロアルキルシランオリゴマー膜１５の形
成により、潤滑剤１１がスライダ２に付着蓄積すること
を防止でき、したがって装置の起動を妨げる大きな粘着
力の発生を防止することができる。
結合点１２の数密度が小さい場合、あるいは結合点１２
に対するフルオロアルキルシランの結合確率が小さい場
合でも、フルオロアルキルシランモノマー膜１４と比較
して多数のフルオロアルキルシラン分子をブリード面９
に結合させることができる。したがってスライダ表面の
結合点１２の数密度が小さい処理前スライダ表面や、結
合点１２への結合確率が小さい処理前スライダ表面にお
いても、フルオロアルキルシランオリゴマー膜１５の形
成により、潤滑剤１１がスライダ２に付着蓄積すること
を防止でき、したがって装置の起動を妨げる大きな粘着
力の発生を防止することができる。
【００１８】スライダの前記磁気ディスクとの対向面に
形成するフルオロアルキルシランのオリゴマーは、次の
方法で製造できる。
形成するフルオロアルキルシランのオリゴマーは、次の
方法で製造できる。
【００１９】第１の方法は、モノマーのフルオロアルキ
ルシランに酸（例えば塩酸）を加えて撹拌した後、この
混合液にフルオロアルキルシランのオリゴマーを溶解す
る溶媒（例えばフッ素系溶媒）を加え、この溶媒と共に
フルオロアルキルシランのオリゴマーを溶媒抽出する、
という方法である。
ルシランに酸（例えば塩酸）を加えて撹拌した後、この
混合液にフルオロアルキルシランのオリゴマーを溶解す
る溶媒（例えばフッ素系溶媒）を加え、この溶媒と共に
フルオロアルキルシランのオリゴマーを溶媒抽出する、
という方法である。
【００２０】この方法によれば、加えた酸を希釈あるい
は中和するために水やアルカリを加えた場合に生じるフ
ルオロアルキルシランの急激な結合による液のゲル化の
発生を防止できる効果がある。
は中和するために水やアルカリを加えた場合に生じるフ
ルオロアルキルシランの急激な結合による液のゲル化の
発生を防止できる効果がある。
【００２１】第２の方法は、モノマーのフルオロアルキ
ルシランに酸（例えば塩酸）を加えて撹拌した後、この
混合液に純水を加えて分離した水相を除去して再び純水
を加えるという行程を繰り返すことによって混合液中の
塩酸を概略除去し、その後分離した有機相としてフルオ
ロアルキルシランのオリゴマーを抽出する、という方法
である。
ルシランに酸（例えば塩酸）を加えて撹拌した後、この
混合液に純水を加えて分離した水相を除去して再び純水
を加えるという行程を繰り返すことによって混合液中の
塩酸を概略除去し、その後分離した有機相としてフルオ
ロアルキルシランのオリゴマーを抽出する、という方法
である。
【００２２】あるいは、モノマーのフルオロアルキルシ
ランに酸（例えば塩酸）を加えて撹拌した後、この混合
液にアルカリ（例えば水酸化ナトリウム）を加えて混合
液を概略中性にし、さらにこの混合液に純水を加えて分
離した水相を除去して再び純水を加えるという行程を繰
り返した後、分離した有機相としてフルオロアルキルシ
ランのオリゴマーを抽出する、という方法である。
ランに酸（例えば塩酸）を加えて撹拌した後、この混合
液にアルカリ（例えば水酸化ナトリウム）を加えて混合
液を概略中性にし、さらにこの混合液に純水を加えて分
離した水相を除去して再び純水を加えるという行程を繰
り返した後、分離した有機相としてフルオロアルキルシ
ランのオリゴマーを抽出する、という方法である。
【００２３】この方法によれば、フルオロアルキルシラ
ンのオリゴマーを概略純度１００％の状態で抽出できる
効果がある。
ンのオリゴマーを概略純度１００％の状態で抽出できる
効果がある。
【００２４】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、スライダ表面の、前記磁気ディスクに塗布さ
れた潤滑剤の接触角が５０度以上であることから、磁気
ディスクに塗布された潤滑剤がスライダへ付着蓄積する
ことがない。したがって磁気ディスク装置の粘着による
起動障害を防止することができ、この起動障害に対する
安全性に優れた信頼性の高い磁気ディスク装置を提供す
ることができる。
によれば、スライダ表面の、前記磁気ディスクに塗布さ
れた潤滑剤の接触角が５０度以上であることから、磁気
ディスクに塗布された潤滑剤がスライダへ付着蓄積する
ことがない。したがって磁気ディスク装置の粘着による
起動障害を防止することができ、この起動障害に対する
安全性に優れた信頼性の高い磁気ディスク装置を提供す
ることができる。
【図１】本発明の第１の実施例の磁気ディスク装置の斜
視図。
視図。
【図２】スライダの、磁気ディスクとの対向面を示す斜
視図。
視図。
【図３】フルオロアルキルシランを付着させる前のスラ
イダのブリード面の表面を示す表面構造図。
イダのブリード面の表面を示す表面構造図。
【図４】フルオロアルキルシランを付着させた後のスラ
イダのブリード面の表面を示す表面構造図。
イダのブリード面の表面を示す表面構造図。
【図５】稼働中のスライダと磁気ディスクの側面図。
【図６】スライダへのグリースの付着蓄積量と、スライ
ダの表面のグリースの接触角との関係を示す図。
ダの表面のグリースの接触角との関係を示す図。
【図７】スライダと磁気ディスクとの間に作用する粘着
力と、スライダへのグリースの付着蓄積量との関係を示
す図。
力と、スライダへのグリースの付着蓄積量との関係を示
す図。
【図８】本発明の第２の実施例のスライダのブリード面
の表面を示す表面構造図。
の表面を示す表面構造図。
１…磁気ディスク、２…スライダ、３…スピンドル、４
…サスペンション、５…キャリッジ、６…磁気ヘッド、
７ａ…浮上レール、７ｂ…センターレール、８…テー
パ、９…ブリード面、１０…後端面、１１…潤滑剤、１
２…結合点、１３…水酸基、１４…フルオロアルキルシ
ランモノマー膜、１５…フルオロアルキルシランオリゴ
マー膜
…サスペンション、５…キャリッジ、６…磁気ヘッド、
７ａ…浮上レール、７ｂ…センターレール、８…テー
パ、９…ブリード面、１０…後端面、１１…潤滑剤、１
２…結合点、１３…水酸基、１４…フルオロアルキルシ
ランモノマー膜、１５…フルオロアルキルシランオリゴ
マー膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 堀口 康幸 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者 遠藤 喜重 茨城県土浦市神立町502番地 株式会社日 立製作所機械研究所内 (72)発明者 吉村 保廣 茨城県土浦市神立町502番地 株式会社日 立製作所機械研究所内 (72)発明者 伊藤 豊 茨城県日立市大みか町七丁目１番１号 株 式会社日立製作所日立研究所内 (72)発明者 成澤 修 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内
Claims (6)
- 【請求項１】信号を記録する磁気ディスクと、前記磁気
ディスクの回転によって前記磁気ディスク面上を走査し
て情報の記録再生を行う磁気ヘッドを具備し、磁気ディ
スクに対向して設けられたスライダとを有する磁気ディ
スク装置において、前記磁気ディスクの表面は潤滑剤が
塗布され、前記スライダは、該スライダの前記磁気ディ
スクとの対向面の、前記磁気ディスクに塗布された潤滑
剤の接触角をθとしたとき、θ≧５０度を満足すること
を特徴とする磁気ディスク装置。 - 【請求項２】信号を記録する磁気ディスクと、前記磁気
ディスクの回転によって前記磁気ディスク面上を走査し
て情報の記録再生を行う磁気ヘッドを具備し、磁気ディ
スクに対向して設けられたスライダとを有する磁気ディ
スク装置において、前記磁気ディスクの表面はパーフル
オロポリエーテル潤滑剤が塗布され、前記スライダは、
該スライダの前記磁気ディスクとの対向面が炭化水素、
フッ化炭素化合物またはフッ化シラン化合物のうちの少
なくとも１つから形成されることを特徴とする磁気ディ
スク装置。 - 【請求項３】前記フッ素系シラン化合物はフルオロアル
キルシランのオリゴマー（多量体）であることを特徴と
する請求項２記載の磁気ディスク装置。 - 【請求項４】信号を記録する磁気ディスクと、前記磁気
ディスクの回転によって前記磁気ディスク面上を走査し
て情報の記録再生を行う磁気ヘッドを具備し、磁気ディ
スクに対向して設けられたスライダとを有する磁気ディ
スク装置の製造方法において、モノマーのフルオロアル
キルシランに酸を加えて撹拌した後、フルオロアルキル
シランのオリゴマーを溶解する溶媒を加え、該溶媒と共
にフルオロアルキルシランのオリゴマーを溶媒抽出し、
該フルオロアルキルシランのオリゴマーを前記スライダ
の前記磁気ディスクとの対向面に形成することを特徴と
する磁気ディスク装置の製造方法。 - 【請求項５】信号を記録する磁気ディスクと、前記磁気
ディスクの回転によって前記磁気ディスク面上を走査し
て情報の記録再生を行う磁気ヘッドを具備し、磁気ディ
スクに対向して設けられたスライダとを有する磁気ディ
スク装置の製造方法において、モノマーのフルオロアル
キルシランに酸を加えて撹拌した後、この混合液に純水
を加えて分離した水相を除去して再び純水を加えるとい
う行程を繰り返すことによって混合液中の塩酸を概略除
去し、その後分離した有機相としてフルオロアルキルシ
ランのオリゴマーを抽出し、該フルオロアルキルシラン
のオリゴマーを前記スライダの前記磁気ディスクとの対
向面に形成することを特徴とする磁気ディスク装置の製
造方法。 - 【請求項６】信号を記録する磁気ディスクと、前記磁気
ディスクの回転によって前記磁気ディスク面上を走査し
て情報の記録再生を行う磁気ヘッドを具備し、磁気ディ
スクに対向して設けられたスライダとを有する磁気ディ
スク装置の製造方法において、モノマーのフルオロアル
キルシランに酸を加えて撹拌した後、この混合液にアル
カリを加えて混合液を概略中性にし、さらにこの混合液
に純水を加えて分離した水相を除去して再び純水を加え
るという行程を繰り返した後、分離した有機相としてフ
ルオロアルキルシランのオリゴマーを抽出し、該フルオ
ロアルキルシランのオリゴマーを前記スライダの前記磁
気ディスクとの対向面に形成することを特徴とする磁気
ディスク装置の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14179097A JPH10334436A (ja) | 1997-05-30 | 1997-05-30 | 磁気ディスク装置およびその製造方法 |
| US09/080,417 US6249403B1 (en) | 1997-05-23 | 1998-05-18 | Magnetic hard disk drive and process for producing the same |
| KR1019980020056A KR100276535B1 (ko) | 1997-05-30 | 1998-05-30 | 자기 하드 디스크 드라이브 및 그 제조 공정 |
| US09/784,218 US6329023B2 (en) | 1997-05-30 | 2001-02-16 | Process for producing a magnetic head slider |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14179097A JPH10334436A (ja) | 1997-05-30 | 1997-05-30 | 磁気ディスク装置およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10334436A true JPH10334436A (ja) | 1998-12-18 |
Family
ID=15300220
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14179097A Pending JPH10334436A (ja) | 1997-05-23 | 1997-05-30 | 磁気ディスク装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10334436A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001015147A1 (fr) * | 1999-08-23 | 2001-03-01 | Sony Corporation | Enregistrement magnetique et dispositif de reproduction |
| US20150179216A1 (en) * | 2013-12-20 | 2015-06-25 | Seagate Technology Llc | Contamination reduction head for media |
| US20160019924A1 (en) * | 2014-06-02 | 2016-01-21 | Seagate Technology Llc | Sliders having at least two regions on the trailing edge surface |
-
1997
- 1997-05-30 JP JP14179097A patent/JPH10334436A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001015147A1 (fr) * | 1999-08-23 | 2001-03-01 | Sony Corporation | Enregistrement magnetique et dispositif de reproduction |
| US20150179216A1 (en) * | 2013-12-20 | 2015-06-25 | Seagate Technology Llc | Contamination reduction head for media |
| US9190108B2 (en) * | 2013-12-20 | 2015-11-17 | Seagate Technology Llc | Contamination reduction head for media |
| US9613658B2 (en) | 2013-12-20 | 2017-04-04 | Seagate Technology Llc | Contamination reduction head for media |
| US20160019924A1 (en) * | 2014-06-02 | 2016-01-21 | Seagate Technology Llc | Sliders having at least two regions on the trailing edge surface |
| US9449630B2 (en) * | 2014-06-02 | 2016-09-20 | Seagate Technology Llc | Sliders having at least two regions on the trailing edge surface |
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