JPH10325957A - 液晶配向膜とその製造方法、その製造のための透光性基板とその製造方法、および液晶表示装置 - Google Patents
液晶配向膜とその製造方法、その製造のための透光性基板とその製造方法、および液晶表示装置Info
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- JPH10325957A JPH10325957A JP13541497A JP13541497A JPH10325957A JP H10325957 A JPH10325957 A JP H10325957A JP 13541497 A JP13541497 A JP 13541497A JP 13541497 A JP13541497 A JP 13541497A JP H10325957 A JPH10325957 A JP H10325957A
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- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ラビングを伴う表示欠陥や配向性の悪化がな
く、表面段差部や１４インチディスプレイ程度の大面積
ディスプレイにおいても良好な配向性を保持する液晶配
向膜とその製造方法および液晶表示装置を提供する。 【解決手段】 基板の表面に、感光性ポリイミド樹脂か
らなる被膜を形成し、この被膜を、表面に深さおよび幅
が０．０１〜０．５μｍである凸凹を有する透光性基板
を介して露光して、この凸凹パターンを被膜に転写し
た。
く、表面段差部や１４インチディスプレイ程度の大面積
ディスプレイにおいても良好な配向性を保持する液晶配
向膜とその製造方法および液晶表示装置を提供する。 【解決手段】 基板の表面に、感光性ポリイミド樹脂か
らなる被膜を形成し、この被膜を、表面に深さおよび幅
が０．０１〜０．５μｍである凸凹を有する透光性基板
を介して露光して、この凸凹パターンを被膜に転写し
た。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶配向膜とその
製造方法、その製造のための透光性基板、および液晶表
示装置に関するものである。さらに詳しくは、テレビジ
ョン（ＴＶ）画像やコンピュータ画像などを表示する液
晶を用いた平面表示パネルに使用される液晶配向膜と、
その製造方法と、その製造のための透光性基板、および
その配向膜を用いた液晶表示装置に関するものである。
製造方法、その製造のための透光性基板、および液晶表
示装置に関するものである。さらに詳しくは、テレビジ
ョン（ＴＶ）画像やコンピュータ画像などを表示する液
晶を用いた平面表示パネルに使用される液晶配向膜と、
その製造方法と、その製造のための透光性基板、および
その配向膜を用いた液晶表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から、カラー液晶表示パネルとして
は、マトリックス状に配置された対向電極を形成した２
つの基板の間にポリビニルアルコールやポリイミド溶液
をスピナーなどで回転塗布して形成した液晶配向膜を介
して液晶を封入したものが一般的に用いられている。
は、マトリックス状に配置された対向電極を形成した２
つの基板の間にポリビニルアルコールやポリイミド溶液
をスピナーなどで回転塗布して形成した液晶配向膜を介
して液晶を封入したものが一般的に用いられている。
【０００３】例えば、ガラス基板上に画素電極を有する
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）アレイを形成した第１の基
板と、ガラス基板上に複数個の赤青緑のカラーフィルタ
ーを形成し、さらにその上に共通透明電極を形成した第
２の基板の、それぞれの電極面にポリビニルアルコール
やポリイミド溶液をスピナーなどを用いて塗布して被膜
を形成し、この被膜をラビングして液晶配向膜とし、こ
の液晶配向膜が対向するように２枚の基板をスペーサー
を介して配置した後に、これら基板の間に液晶（ツイス
トネマチック（ＴＮ）液晶など）を注入し、さらにこの
パネルの裏表に偏光板を設置し、裏面よりバックライト
を照射しながら、ＴＦＴを動作させカラー画像を表示す
るデバイスが知られている。
薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）アレイを形成した第１の基
板と、ガラス基板上に複数個の赤青緑のカラーフィルタ
ーを形成し、さらにその上に共通透明電極を形成した第
２の基板の、それぞれの電極面にポリビニルアルコール
やポリイミド溶液をスピナーなどを用いて塗布して被膜
を形成し、この被膜をラビングして液晶配向膜とし、こ
の液晶配向膜が対向するように２枚の基板をスペーサー
を介して配置した後に、これら基板の間に液晶（ツイス
トネマチック（ＴＮ）液晶など）を注入し、さらにこの
パネルの裏表に偏光板を設置し、裏面よりバックライト
を照射しながら、ＴＦＴを動作させカラー画像を表示す
るデバイスが知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
液晶配向膜は、ポリビニルアルコールやポリイミドを有
機溶媒に溶解させ回転塗布法などを用いて塗布形成した
後、フェルト布などを用いてラビングを行なう方法によ
り成膜されるため、表面段差部や１４インチディスプレ
イ程度の大面積パネルでは配向膜の均一性を十分に保つ
ことができないという課題があった。また、ラビングす
ることによりＴＦＴに欠陥を生じたり、ラビングにより
発生するゴミが表示欠陥を生じさせるという課題もあっ
た。
液晶配向膜は、ポリビニルアルコールやポリイミドを有
機溶媒に溶解させ回転塗布法などを用いて塗布形成した
後、フェルト布などを用いてラビングを行なう方法によ
り成膜されるため、表面段差部や１４インチディスプレ
イ程度の大面積パネルでは配向膜の均一性を十分に保つ
ことができないという課題があった。また、ラビングす
ることによりＴＦＴに欠陥を生じたり、ラビングにより
発生するゴミが表示欠陥を生じさせるという課題もあっ
た。
【０００５】本発明は、かかる事情に鑑み、液晶表示パ
ネルに好適に使用される液晶配向膜であって、表面段差
部や大面積のパネルにおいても配向の均一性を良好に保
ち得る液晶配向膜、ラビングを伴わずに効率よくこの液
晶配向膜を製造する方法、この製造に好適に用い得る透
光性基板、およびこの液晶配向膜を用いた液晶表示装置
を提供することを目的とする。
ネルに好適に使用される液晶配向膜であって、表面段差
部や大面積のパネルにおいても配向の均一性を良好に保
ち得る液晶配向膜、ラビングを伴わずに効率よくこの液
晶配向膜を製造する方法、この製造に好適に用い得る透
光性基板、およびこの液晶配向膜を用いた液晶表示装置
を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の液晶配向膜は、基板の表面に形成された被
膜であって、露光を含む工程により形成された略同一方
向に伸長する複数の凸凹を有することを特徴とする。
め、本発明の液晶配向膜は、基板の表面に形成された被
膜であって、露光を含む工程により形成された略同一方
向に伸長する複数の凸凹を有することを特徴とする。
【０００７】このような液晶配向膜によれば、表面の所
定の凸凹のパターンが、ラビングではなく露光を含む工
程により重合したポリマーにより形成されているため、
表面段差部や大面積のパネルにおいても液晶配向の均一
性の悪化を抑制することができる。
定の凸凹のパターンが、ラビングではなく露光を含む工
程により重合したポリマーにより形成されているため、
表面段差部や大面積のパネルにおいても液晶配向の均一
性の悪化を抑制することができる。
【０００８】前記液晶配向膜においては、凸凹の凹部の
幅が０．０１〜０．５μｍであることが好ましい。液晶
に対する配向規制力が向上するからである。
幅が０．０１〜０．５μｍであることが好ましい。液晶
に対する配向規制力が向上するからである。
【０００９】前記液晶配向膜においては、被膜が化学吸
着ポリマー膜であることが好ましい。この好ましい例に
よれば、耐剥離性など被膜耐久性を向上させることがで
きる。
着ポリマー膜であることが好ましい。この好ましい例に
よれば、耐剥離性など被膜耐久性を向上させることがで
きる。
【００１０】前記液晶配向膜においては、化学吸着ポリ
マー膜が基板の表面とシロキサン結合を介して結合して
いることが好ましい。液晶配向膜の耐剥離性などがさら
に向上するからである。
マー膜が基板の表面とシロキサン結合を介して結合して
いることが好ましい。液晶配向膜の耐剥離性などがさら
に向上するからである。
【００１１】また、本発明の液晶配向膜の製造方法は、
基板の表面に感光性ポリマーを含む被膜を形成する工程
と、露光部分が非露光部分を介して互いに略平行な複数
の線条を形成するように前記被膜を露光する工程と、前
記被膜を構成する分子の分子構造の露光により生じた相
違を利用してこの被膜の一部を除去することにより略同
一方向に伸長する複数の凸凹を被膜表面に形成する工程
とを含むことを特徴とする。
基板の表面に感光性ポリマーを含む被膜を形成する工程
と、露光部分が非露光部分を介して互いに略平行な複数
の線条を形成するように前記被膜を露光する工程と、前
記被膜を構成する分子の分子構造の露光により生じた相
違を利用してこの被膜の一部を除去することにより略同
一方向に伸長する複数の凸凹を被膜表面に形成する工程
とを含むことを特徴とする。
【００１２】この液晶配向膜の製造方法によれば、表面
の凸凹のパターンがラビングではなく露光を含む工程に
より形成されるため、表面段差部や大面積のパネルにお
いても液晶配向の均一性の悪化が抑制された液晶配向膜
を効率よく製造することができる。また、パネルが大面
積化しても生産の効率は基本的に低下しない。
の凸凹のパターンがラビングではなく露光を含む工程に
より形成されるため、表面段差部や大面積のパネルにお
いても液晶配向の均一性の悪化が抑制された液晶配向膜
を効率よく製造することができる。また、パネルが大面
積化しても生産の効率は基本的に低下しない。
【００１３】前記液晶配向膜の製造方法においては、前
記被膜を構成する分子の分子構造の露光により生じた相
違が前記被膜を構成する分子の重合度の相違であること
が好ましい。
記被膜を構成する分子の分子構造の露光により生じた相
違が前記被膜を構成する分子の重合度の相違であること
が好ましい。
【００１４】また、前記液晶配向膜の製造方法において
は、表面に複数の凸凹が略同一方向に伸長する透光性基
板を介して露光することが好ましい。簡便かつ効率的に
製造できるからである。
は、表面に複数の凸凹が略同一方向に伸長する透光性基
板を介して露光することが好ましい。簡便かつ効率的に
製造できるからである。
【００１５】また、前記液晶配向膜の製造方法において
は、前記被膜を露光する工程が、露光部分が前記透光性
基板の表面の凸凹が伸長する方向と同一方向に伸長する
線条を形成するように前記被膜を露光する工程であるこ
とが好ましい。また、透光性基板の表面の凸凹のパター
ンを前記被膜の露光部分と未露光部分のパターンとして
転写することが好ましい。これらの好ましい例によれ
ば、一定の方向に高い配向規制力を付与する液晶配向膜
を効率的に製造することができる。
は、前記被膜を露光する工程が、露光部分が前記透光性
基板の表面の凸凹が伸長する方向と同一方向に伸長する
線条を形成するように前記被膜を露光する工程であるこ
とが好ましい。また、透光性基板の表面の凸凹のパター
ンを前記被膜の露光部分と未露光部分のパターンとして
転写することが好ましい。これらの好ましい例によれ
ば、一定の方向に高い配向規制力を付与する液晶配向膜
を効率的に製造することができる。
【００１６】また、前記液晶配向膜の製造方法において
は、透光性基板の表面の凸凹の凹部の幅および深さが
０．０１〜０．５μｍであることが好ましい。液晶に対
する配向規制力が向上するからである。
は、透光性基板の表面の凸凹の凹部の幅および深さが
０．０１〜０．５μｍであることが好ましい。液晶に対
する配向規制力が向上するからである。
【００１７】また、前記液晶配向膜の製造方法において
は、感光性の界面活性剤分子を含む溶液を基板の表面に
接触させ、この界面活性剤分子を基板に化学吸着させる
ことにより、感光性ポリマーを含む被膜を形成すること
が好ましい。この好ましい例によれば、耐剥離性など被
膜耐久性に優れた化学吸着膜を形成することができる。
は、感光性の界面活性剤分子を含む溶液を基板の表面に
接触させ、この界面活性剤分子を基板に化学吸着させる
ことにより、感光性ポリマーを含む被膜を形成すること
が好ましい。この好ましい例によれば、耐剥離性など被
膜耐久性に優れた化学吸着膜を形成することができる。
【００１８】また、前記液晶配向膜の製造方法において
は、界面活性剤分子が、分子末端に、クロロシラン基、
アルコキシシラン基およびイソシアナートシラン基から
選ばれる含ケイ素基を含むことが好ましい。耐剥離効果
が高い化学吸着膜を効率良く製造することができるから
である。
は、界面活性剤分子が、分子末端に、クロロシラン基、
アルコキシシラン基およびイソシアナートシラン基から
選ばれる含ケイ素基を含むことが好ましい。耐剥離効果
が高い化学吸着膜を効率良く製造することができるから
である。
【００１９】また、本発明の液晶配向膜露光用透光性基
板は、表面に複数の凸凹が略同一方向に伸長しているこ
とを特徴とする。この凸凹の凹部の幅および深さは、
０．０１〜０．５μｍであることが好ましい。これらの
露光用透光性基板は、本発明の液晶配向膜の製造方法に
好適に適用することができるものであって、液晶配向膜
に優れた配向規制力を付与し得るものである。
板は、表面に複数の凸凹が略同一方向に伸長しているこ
とを特徴とする。この凸凹の凹部の幅および深さは、
０．０１〜０．５μｍであることが好ましい。これらの
露光用透光性基板は、本発明の液晶配向膜の製造方法に
好適に適用することができるものであって、液晶配向膜
に優れた配向規制力を付与し得るものである。
【００２０】また、本発明の液晶配向膜露光用透光性基
板の製造方法は、表面に複数の凸凹が略同一方向に伸長
している液晶配向膜露光用透光性基板の製造方法であっ
て、透明基板を洗浄する工程と、この透明基板よりも硬
度が高い部材により前記透明基板の表面を略同一方向に
擦る工程とを含むことを特徴とする。
板の製造方法は、表面に複数の凸凹が略同一方向に伸長
している液晶配向膜露光用透光性基板の製造方法であっ
て、透明基板を洗浄する工程と、この透明基板よりも硬
度が高い部材により前記透明基板の表面を略同一方向に
擦る工程とを含むことを特徴とする。
【００２１】前記液晶配向膜露光用透光性基板の製造方
法においては、透明基板がポリカーボネート樹脂または
アクリル樹脂であることが好ましい。この好ましい例の
ように透光性基板が樹脂類の場合には、前記部材（基板
を擦る部材）としては、ブラッシ、たわしなどを用いる
こともできるが、従来から液晶配向膜作製用に用いられ
てきたラビング布を用いることが好ましい。
法においては、透明基板がポリカーボネート樹脂または
アクリル樹脂であることが好ましい。この好ましい例の
ように透光性基板が樹脂類の場合には、前記部材（基板
を擦る部材）としては、ブラッシ、たわしなどを用いる
こともできるが、従来から液晶配向膜作製用に用いられ
てきたラビング布を用いることが好ましい。
【００２２】また、本発明の液晶配向膜露光用透光性基
板の製造方法の別の構成は、表面に複数の凸凹が略同一
方向に伸長している液晶配向膜露光用透光性基板の製造
方法であって、透明基板を洗浄する工程と、この透明基
板の表面に感光性レジストを塗布する工程と、露光部分
が未露光部分を介して互いに略平行な複数の線条を形成
するように前記感光性レジストを露光する工程と、前記
感光性レジストを現像する工程とを含むことを特徴とす
る。この製造方法によれば、高精度の露光用透光性基板
を製造することができ、光に対して回折作用を有する透
光性基板とすることも可能である。
板の製造方法の別の構成は、表面に複数の凸凹が略同一
方向に伸長している液晶配向膜露光用透光性基板の製造
方法であって、透明基板を洗浄する工程と、この透明基
板の表面に感光性レジストを塗布する工程と、露光部分
が未露光部分を介して互いに略平行な複数の線条を形成
するように前記感光性レジストを露光する工程と、前記
感光性レジストを現像する工程とを含むことを特徴とす
る。この製造方法によれば、高精度の露光用透光性基板
を製造することができ、光に対して回折作用を有する透
光性基板とすることも可能である。
【００２３】前記液晶配向膜露光用透光性基板の製造方
法においては、感光性レジストを紫外線、遠紫外線およ
び電子ビームから選ばれる少なくとも一つを用いて露光
することが好ましい。
法においては、感光性レジストを紫外線、遠紫外線およ
び電子ビームから選ばれる少なくとも一つを用いて露光
することが好ましい。
【００２４】また、前記液晶配向膜露光用透光性基板の
製造方法においては、感光性レジストを現像する工程の
後に、さらに化学エッチング、プラズマエッチングおよ
びスパッタエッチングから選ばれる少なくとも一つの方
法により前記表面をエッチングすることが好ましい。こ
の好ましい例によれば、透光性基板の凸凹のアスペクト
比を大きくすることができる。
製造方法においては、感光性レジストを現像する工程の
後に、さらに化学エッチング、プラズマエッチングおよ
びスパッタエッチングから選ばれる少なくとも一つの方
法により前記表面をエッチングすることが好ましい。こ
の好ましい例によれば、透光性基板の凸凹のアスペクト
比を大きくすることができる。
【００２５】また、本発明の液晶表示装置は、所定の間
隔を保つように配置され、対向する表面の少なくとも一
方に液晶配向膜を形成した２枚の基板と、これら２枚の
基板に挟持され前記液晶配向膜により配向が規制されて
いる液晶とを含む液晶表示装置において、前記液晶配向
膜は、液晶と接する表面に、露光を含む工程により形成
された略同一方向に伸長する複数の凸凹を有することを
特徴とする。このような液晶表示装置は、大面積化した
パネルや基板表面の段差部においても液晶の配向性が良
好に保持されたものとなる。
隔を保つように配置され、対向する表面の少なくとも一
方に液晶配向膜を形成した２枚の基板と、これら２枚の
基板に挟持され前記液晶配向膜により配向が規制されて
いる液晶とを含む液晶表示装置において、前記液晶配向
膜は、液晶と接する表面に、露光を含む工程により形成
された略同一方向に伸長する複数の凸凹を有することを
特徴とする。このような液晶表示装置は、大面積化した
パネルや基板表面の段差部においても液晶の配向性が良
好に保持されたものとなる。
【００２６】前記液晶表示装置は、基板の表面の一部
に、電極、カラーフィルタおよび薄膜トランジスタから
選ばれる少なくとも一つの薄膜部材が形成されることに
より前記表面に段差が形成され、この段差を含む領域に
液晶配向膜が形成されていても、ラビングにより液晶配
向膜を製造した場合のような段差部における液晶配向の
均一性の悪化が抑制されるという特徴を有する。
に、電極、カラーフィルタおよび薄膜トランジスタから
選ばれる少なくとも一つの薄膜部材が形成されることに
より前記表面に段差が形成され、この段差を含む領域に
液晶配向膜が形成されていても、ラビングにより液晶配
向膜を製造した場合のような段差部における液晶配向の
均一性の悪化が抑制されるという特徴を有する。
【００２７】また、前記液晶表示装置においては、液晶
配向膜が配向方向の異なる複数の領域を含むことが好ま
しい。視野角が広い表示装置とすることができるからで
ある。
配向膜が配向方向の異なる複数の領域を含むことが好ま
しい。視野角が広い表示装置とすることができるからで
ある。
【００２８】
【発明の実施の態様】本発明の液晶配向膜の原料として
は、感光性樹脂を好適に用いることができる。感光性樹
脂としては、露光により、光架橋、光変性、光重合、光
分解など何らかの分子構造の変化が生じるものを用い得
るが、ホトレジストとして用いられるものが好ましく、
具体的には感光性ポリイミドを含む樹脂が好ましい。
は、感光性樹脂を好適に用いることができる。感光性樹
脂としては、露光により、光架橋、光変性、光重合、光
分解など何らかの分子構造の変化が生じるものを用い得
るが、ホトレジストとして用いられるものが好ましく、
具体的には感光性ポリイミドを含む樹脂が好ましい。
【００２９】また、本発明の液晶配向膜の原料として
は、感光性の界面活性剤分子を用いることができる。こ
のような界面活性剤分子としては、直鎖状炭素鎖の末端
または一部に、３フッ化炭素基（−ＣＦ3 ）、メチル基
（−ＣＨ3 ）、ビニル基（−ＣＨ＝ＣＨ2 ）、アリル基
（−ＣＨ＝ＣＨ−）、アセチレン基（炭素−炭素の３重
結合）、フェニル基（−Ｃ6Ｈ6）、アリール基（−Ｃ6
Ｈ4−）、ハロゲン基、アルコキシ基（−ＯＲ；Ｒはア
ルキル基を表す、特に炭素数１〜３の範囲のアルキル基
が好ましい。）、シアノ基（−ＣＮ）、アミノ基（−Ｎ
Ｈ2 ）、水酸基（−ＯＨ）、カルボニル基（＝ＣＯ）、
オキシカルボニル基（−ＣＯＯ−）、カルボキシル基
（−ＣＯＯＨ）およびイソシアナート基（−ＮＣＯ）か
ら選ばれる少なくとも一つの置換基を含む界面活性剤分
子を挙げることができる。界面活性剤分子としては、ク
ロロシラン基、アルコキシシラン基およびイソシアナー
トシラン基から選ばれる置換基を分子末端に有する界面
活性剤分子が好ましい。
は、感光性の界面活性剤分子を用いることができる。こ
のような界面活性剤分子としては、直鎖状炭素鎖の末端
または一部に、３フッ化炭素基（−ＣＦ3 ）、メチル基
（−ＣＨ3 ）、ビニル基（−ＣＨ＝ＣＨ2 ）、アリル基
（−ＣＨ＝ＣＨ−）、アセチレン基（炭素−炭素の３重
結合）、フェニル基（−Ｃ6Ｈ6）、アリール基（−Ｃ6
Ｈ4−）、ハロゲン基、アルコキシ基（−ＯＲ；Ｒはア
ルキル基を表す、特に炭素数１〜３の範囲のアルキル基
が好ましい。）、シアノ基（−ＣＮ）、アミノ基（−Ｎ
Ｈ2 ）、水酸基（−ＯＨ）、カルボニル基（＝ＣＯ）、
オキシカルボニル基（−ＣＯＯ−）、カルボキシル基
（−ＣＯＯＨ）およびイソシアナート基（−ＮＣＯ）か
ら選ばれる少なくとも一つの置換基を含む界面活性剤分
子を挙げることができる。界面活性剤分子としては、ク
ロロシラン基、アルコキシシラン基およびイソシアナー
トシラン基から選ばれる置換基を分子末端に有する界面
活性剤分子が好ましい。
【００３０】また、感光性の界面活性剤分子としては、
光重合性官能基を有するものが好ましく、具体的には、
ジアセチレン基やアセチレン基を有するものを好適に用
いることができる。このような界面活性剤分子として
は、具体的には、下記式(1)〜(6)に示す界面活性剤分子
が好ましい。
光重合性官能基を有するものが好ましく、具体的には、
ジアセチレン基やアセチレン基を有するものを好適に用
いることができる。このような界面活性剤分子として
は、具体的には、下記式(1)〜(6)に示す界面活性剤分子
が好ましい。
【００３１】
【化１】
【００３２】ただし、ｐ、ｑは、０以上の整数であって
好ましくは０〜１０の整数である。また、ｒは、０以上
の整数であって好ましくは２〜２４の整数である。
好ましくは０〜１０の整数である。また、ｒは、０以上
の整数であって好ましくは２〜２４の整数である。
【００３３】上記式(1)〜(6)に示したような好適に使用
し得る界面活性剤分子は、その他の種類の界面活性剤と
混合して用いることができる。この場合のその他の界面
活性剤分子としては、下記式(7)〜(20) に示す界面活性
剤分子を挙げることができる。 (7) CH3(CH2)nSiCl3 (8) CH3(CH2)pSi(CH3)2(CH2)qSiCl3 (9) CH3COO(CH2)mSiCl3 (10) C6H6(CH2)nSiCl3 (11) CN(CH2)nSiCl3 (12) Cl3Si(CH2)sSiCl3 (13) Cl3Si(CH2)2(CF2)t(CH2)2SiCl3 (14) Ha(CH2)uSi(OCH3)3 (15) CH3(CH2)nSi(NCO)3 (16) CH3(CH2)pSi(CH3)2(CH2)qSi(OCH3)3 (17) HOOC(CH2)mSi(OCH3)3 (18) H2N(CH2)mSi(OCH3)3 (19) C6H6(CH2)nSi(NCO)3 (20) CN(CH2)nSi(OC2H5)3 ただし、Ｈａは塩素、臭素、ヨウ素、ふっ素等のハロゲ
ン原子を表し、ｍは０以上の整数であって好ましくは７
〜２４の整数であり、ｎは０以上の整数であって好まし
くは０〜２４の整数であり、ｓは０以上の整数であって
好ましくは３〜２４の整数であり、ｔは０以上の整数で
あって好ましくは１〜１０の整数である。ｕは０以上の
整数であって好ましくは１〜２４の整数である。
し得る界面活性剤分子は、その他の種類の界面活性剤と
混合して用いることができる。この場合のその他の界面
活性剤分子としては、下記式(7)〜(20) に示す界面活性
剤分子を挙げることができる。 (7) CH3(CH2)nSiCl3 (8) CH3(CH2)pSi(CH3)2(CH2)qSiCl3 (9) CH3COO(CH2)mSiCl3 (10) C6H6(CH2)nSiCl3 (11) CN(CH2)nSiCl3 (12) Cl3Si(CH2)sSiCl3 (13) Cl3Si(CH2)2(CF2)t(CH2)2SiCl3 (14) Ha(CH2)uSi(OCH3)3 (15) CH3(CH2)nSi(NCO)3 (16) CH3(CH2)pSi(CH3)2(CH2)qSi(OCH3)3 (17) HOOC(CH2)mSi(OCH3)3 (18) H2N(CH2)mSi(OCH3)3 (19) C6H6(CH2)nSi(NCO)3 (20) CN(CH2)nSi(OC2H5)3 ただし、Ｈａは塩素、臭素、ヨウ素、ふっ素等のハロゲ
ン原子を表し、ｍは０以上の整数であって好ましくは７
〜２４の整数であり、ｎは０以上の整数であって好まし
くは０〜２４の整数であり、ｓは０以上の整数であって
好ましくは３〜２４の整数であり、ｔは０以上の整数で
あって好ましくは１〜１０の整数である。ｕは０以上の
整数であって好ましくは１〜２４の整数である。
【００３４】さらに具体的には、下記式(21)〜(44)に示
す界面活性剤分子を挙げることができる。 (21) Br(CH2)8SiCl3 (22) CH2=CH(CH2)17SiCl3 (23) CH3(CH2)8-CO-(CH2)10SiCl3 (24) CH3(CH2)5-COO-(CH2)10SiCl3 (25) CH3(CH2)8-Si(CH3)2-(CH2)10SiCl3 (26) CH3(CH2)17SiCl3 (27) CH3(CH2)5Si(CH3)2(CH2)8SiCl3 (28) CH3COO(CH2)14SiCl3 (29) C6H6(CH2)8SiCl3 (30) CN(CH2)14SiCl3 (31) Cl3Si(CH2)8SiCl3 (32) Cl3Si(CH2)2(CF2)4(CH2)2SiCl3 (33) Cl3Si(CH2)2(CF2)6(CH2)2SiCl3 (34) CF3CF2(CF2)7(CH2)2SiCl3 (35) (CF3)2CHO(CH2)15Si(CH3)2Cl (36) CF3CF2(CH2)2Si(CH3)2(CH2)15SiCl3 (37) CF3(CF2)4(CH2)2Si(CH3)2(CH2)9SiCl3 (38) CF3(CF2)7(CH2)2Si(CH3)2(CH2)9SiCl3 (39) CF3COO(CH2)15SiCH3Cl2 (40) CF3(CF2)5(CH2)2SiCl3 (41) CH3CH2CHC*H3CH2OCO(CH2)10SiCl3 (42) CH3CH2CHC*H3CH2OCOC6H6OCO6H6O(CH2)5SiCl3 (43) ClSi(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2Cl (44) Cl3SiOSi(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2OSiC
l3 ただし、Ｃ* は光学活性の不整炭素を示す。
す界面活性剤分子を挙げることができる。 (21) Br(CH2)8SiCl3 (22) CH2=CH(CH2)17SiCl3 (23) CH3(CH2)8-CO-(CH2)10SiCl3 (24) CH3(CH2)5-COO-(CH2)10SiCl3 (25) CH3(CH2)8-Si(CH3)2-(CH2)10SiCl3 (26) CH3(CH2)17SiCl3 (27) CH3(CH2)5Si(CH3)2(CH2)8SiCl3 (28) CH3COO(CH2)14SiCl3 (29) C6H6(CH2)8SiCl3 (30) CN(CH2)14SiCl3 (31) Cl3Si(CH2)8SiCl3 (32) Cl3Si(CH2)2(CF2)4(CH2)2SiCl3 (33) Cl3Si(CH2)2(CF2)6(CH2)2SiCl3 (34) CF3CF2(CF2)7(CH2)2SiCl3 (35) (CF3)2CHO(CH2)15Si(CH3)2Cl (36) CF3CF2(CH2)2Si(CH3)2(CH2)15SiCl3 (37) CF3(CF2)4(CH2)2Si(CH3)2(CH2)9SiCl3 (38) CF3(CF2)7(CH2)2Si(CH3)2(CH2)9SiCl3 (39) CF3COO(CH2)15SiCH3Cl2 (40) CF3(CF2)5(CH2)2SiCl3 (41) CH3CH2CHC*H3CH2OCO(CH2)10SiCl3 (42) CH3CH2CHC*H3CH2OCOC6H6OCO6H6O(CH2)5SiCl3 (43) ClSi(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2Cl (44) Cl3SiOSi(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2OSiC
l3 ただし、Ｃ* は光学活性の不整炭素を示す。
【００３５】界面活性剤分子は、有機溶媒、好ましくは
非水系の有機溶媒中に加えられて化学吸着液とされる。
有機溶媒としては、アルキル基、フッ化炭素基、塩化炭
素基、シロキサン基などを含む溶媒を使用することがで
きるが、さらに具体的には、アルキル基を含むヘキサデ
カン、フッ化炭素基および／または塩化炭素基を含むフ
ロン、シロキサン基を含むヘキサメチルジシロキサンな
どを非水系溶媒として用いることが好ましい。
非水系の有機溶媒中に加えられて化学吸着液とされる。
有機溶媒としては、アルキル基、フッ化炭素基、塩化炭
素基、シロキサン基などを含む溶媒を使用することがで
きるが、さらに具体的には、アルキル基を含むヘキサデ
カン、フッ化炭素基および／または塩化炭素基を含むフ
ロン、シロキサン基を含むヘキサメチルジシロキサンな
どを非水系溶媒として用いることが好ましい。
【００３６】化学吸着液を接触させる基板としては、透
明のガラス基板、樹脂基板を用いることができ、さらに
具体的には、ソーダライムシリケート、ボロシリケー
ト、アルミノシリケートなど各種ガラス基板、ポリエス
テルフィルムなど各種樹脂基板を用いることができる。
明のガラス基板、樹脂基板を用いることができ、さらに
具体的には、ソーダライムシリケート、ボロシリケー
ト、アルミノシリケートなど各種ガラス基板、ポリエス
テルフィルムなど各種樹脂基板を用いることができる。
【００３７】これら基板の表面に存在する水酸基などの
親水性基と、界面活性剤分子の分子末端の含ケイ素基な
どとが反応を起こして化学吸着膜が形成される。例え
ば、親水性基とクロロシラン基などの含ケイ素基とが反
応した場合には、シロキサン結合を介して界面活性剤分
子が基板に固定される。
親水性基と、界面活性剤分子の分子末端の含ケイ素基な
どとが反応を起こして化学吸着膜が形成される。例え
ば、親水性基とクロロシラン基などの含ケイ素基とが反
応した場合には、シロキサン結合を介して界面活性剤分
子が基板に固定される。
【００３８】被膜を露光するために使用される透光性基
板は、０．０１〜０．５μｍの幅および深さを有する複
数の溝が互いに平行に形成されたものが好ましい。この
ような凸凹を有する透光性基板は、その凸凹パターン自
体が液晶に配向性を付与し得るものであるため、この透
光性基板を介しての露光により前記凸凹パターンを被膜
に転写することにより、液晶に対する配向規制力をさら
に向上させることができる。
板は、０．０１〜０．５μｍの幅および深さを有する複
数の溝が互いに平行に形成されたものが好ましい。この
ような凸凹を有する透光性基板は、その凸凹パターン自
体が液晶に配向性を付与し得るものであるため、この透
光性基板を介しての露光により前記凸凹パターンを被膜
に転写することにより、液晶に対する配向規制力をさら
に向上させることができる。
【００３９】この透光性基板の材料としては、各種のガ
ラス、樹脂、具体的にはソーダライムシリケートガラ
ス、ボロシリケートガラス、石英ガラス、ポリカーボネ
ート樹脂、アクリル樹脂などを用いることができる。透
光性基板の表面の凸凹は、例えば、ポリカーボネート樹
脂、アクリル樹脂などの樹脂系の基板を用いた場合に
は、従来から液晶配向膜作成用として用いられてきたラ
ビング布などで擦ることにより形成できる。また、ガラ
ス系の基板を採用した場合には、ガラス板表面にレジス
ト被膜を形成し、所定のパターンに露光し、現像するこ
となどにより形成できる。なお、凸凹の形成後に、さら
に、化学エッチング、プラズマエッチング、スパッタエ
ツチングなどにより基板をエッチングすると、凸凹の溝
のアスペクト比を大きくしてコントラストを高くするこ
とができて好ましい。
ラス、樹脂、具体的にはソーダライムシリケートガラ
ス、ボロシリケートガラス、石英ガラス、ポリカーボネ
ート樹脂、アクリル樹脂などを用いることができる。透
光性基板の表面の凸凹は、例えば、ポリカーボネート樹
脂、アクリル樹脂などの樹脂系の基板を用いた場合に
は、従来から液晶配向膜作成用として用いられてきたラ
ビング布などで擦ることにより形成できる。また、ガラ
ス系の基板を採用した場合には、ガラス板表面にレジス
ト被膜を形成し、所定のパターンに露光し、現像するこ
となどにより形成できる。なお、凸凹の形成後に、さら
に、化学エッチング、プラズマエッチング、スパッタエ
ツチングなどにより基板をエッチングすると、凸凹の溝
のアスペクト比を大きくしてコントラストを高くするこ
とができて好ましい。
【００４０】図７は、本発明の液晶表示装置の一実施形
態を示したものである。この液晶表示装置は、マトリッ
クス状に載置された第１の電極群２１とこの電極を駆動
するトランジスター群２２とを表面に形成した第１の基
板２３と、第２の電極２５とカラーフィルター群２４と
を有する第２の基板２６とを、第１の電極群２１などと
カラーフィルター群２４とが対向するように配置し、ス
ペーサー２８および接着剤２９で固定したものである。
これら第１の基板２３および第２の基板２６の対向する
表面における電極、薄膜トランジスタ、カラーフィルタ
などが形成された領域を含む表面には、本発明による液
晶配向膜２７が形成されている。この液晶配向膜２７
は、前記電極などを覆うように形成され、液晶３０を挟
み込み、液晶３０に配向性を付与している。また、基板
２３、２６により構成されるパネルの両側には、このパ
ネルを挟み込むように偏光板３１、３２が配置されてい
る。このように構成されたデバイスの第１の基板側から
バックライト３３が全面に照射されながら、ビデオ信号
を用いて各々のトランジスタを駆動することで矢印Ａの
方向に映像が表示される。
態を示したものである。この液晶表示装置は、マトリッ
クス状に載置された第１の電極群２１とこの電極を駆動
するトランジスター群２２とを表面に形成した第１の基
板２３と、第２の電極２５とカラーフィルター群２４と
を有する第２の基板２６とを、第１の電極群２１などと
カラーフィルター群２４とが対向するように配置し、ス
ペーサー２８および接着剤２９で固定したものである。
これら第１の基板２３および第２の基板２６の対向する
表面における電極、薄膜トランジスタ、カラーフィルタ
などが形成された領域を含む表面には、本発明による液
晶配向膜２７が形成されている。この液晶配向膜２７
は、前記電極などを覆うように形成され、液晶３０を挟
み込み、液晶３０に配向性を付与している。また、基板
２３、２６により構成されるパネルの両側には、このパ
ネルを挟み込むように偏光板３１、３２が配置されてい
る。このように構成されたデバイスの第１の基板側から
バックライト３３が全面に照射されながら、ビデオ信号
を用いて各々のトランジスタを駆動することで矢印Ａの
方向に映像が表示される。
【００４１】液晶配向膜２７の凸凹は、ラビングのよう
な機械的接触手段により形成されるのではなく、前述の
ように露光を含む手段により形成されるものである点に
特色を有する。したがって、表面段差部の存在や大面積
化による局地的な液晶配向の不均一化が抑制された液晶
表示装置とすることができる。
な機械的接触手段により形成されるのではなく、前述の
ように露光を含む手段により形成されるものである点に
特色を有する。したがって、表面段差部の存在や大面積
化による局地的な液晶配向の不均一化が抑制された液晶
表示装置とすることができる。
【００４２】
（実施例１）まず、以下の実施例により露光用マスクと
して適した透光性基板を作製することとした。
して適した透光性基板を作製することとした。
【００４３】図１に示すように、洗剤を用いて超音波洗
浄したアクリル透明基板１１の表面１２をこのアクリル
板よりも硬度が高いナイロン布１３（繊維径１６〜２０
μｍ、毛の長さ３ｍｍ）により、押し込み０．４ｍｍ、
スピード５００ｍ／分で基板表面を同一方向に擦ってラ
ビング処理を施した。この基板表面を走査型電子顕微鏡
により観察すると、略同一方向に向いた凸凹が多数形成
されており、この凹部（溝部分）の幅および深さは、概
ね０．０１〜０．５μｍの範囲であった。このようにし
て作製した透明な露光用マスクの表面にネマチック液晶
（メルク社製；ＺＬＩ４７９２）を塗りつけたところ、
ラビング方向にきれいに液晶が配向し、この凸凹面が液
晶配向作用を有することが確認できた。
浄したアクリル透明基板１１の表面１２をこのアクリル
板よりも硬度が高いナイロン布１３（繊維径１６〜２０
μｍ、毛の長さ３ｍｍ）により、押し込み０．４ｍｍ、
スピード５００ｍ／分で基板表面を同一方向に擦ってラ
ビング処理を施した。この基板表面を走査型電子顕微鏡
により観察すると、略同一方向に向いた凸凹が多数形成
されており、この凹部（溝部分）の幅および深さは、概
ね０．０１〜０．５μｍの範囲であった。このようにし
て作製した透明な露光用マスクの表面にネマチック液晶
（メルク社製；ＺＬＩ４７９２）を塗りつけたところ、
ラビング方向にきれいに液晶が配向し、この凸凹面が液
晶配向作用を有することが確認できた。
【００４４】また、基板としてアクリル板に代えてポリ
カーボネート板を用い、液晶配向膜作成用のラビング布
で前記と同様に擦ることでも、液晶配向作用を有する
０．０１〜０．５μｍの多数の略同一方向に向いた凸凹
形状を表面に有する露光用マスクを作成できた。
カーボネート板を用い、液晶配向膜作成用のラビング布
で前記と同様に擦ることでも、液晶配向作用を有する
０．０１〜０．５μｍの多数の略同一方向に向いた凸凹
形状を表面に有する露光用マスクを作成できた。
【００４５】比較のために、ナイロン布に代えてスコッ
チスポンジ（住友スリーエム社製）を用いた他は前記と
同様にして露光用マスクを作製したところ、表面に多数
の略同一方向に向いた凸凹を形成することはできたが、
光透過度が劣化した。表面に形成された溝部の幅および
深さは概ね１〜１０μｍの範囲にあった。この基板表面
に前記ネマチック液晶を塗りつけたところ、液晶は、溝
が部分的に折り重なって形成された０．５μｍよりも小
さな溝部において部分的に配向したものの、その他の表
面においてはほとんど配向しなかった。
チスポンジ（住友スリーエム社製）を用いた他は前記と
同様にして露光用マスクを作製したところ、表面に多数
の略同一方向に向いた凸凹を形成することはできたが、
光透過度が劣化した。表面に形成された溝部の幅および
深さは概ね１〜１０μｍの範囲にあった。この基板表面
に前記ネマチック液晶を塗りつけたところ、液晶は、溝
が部分的に折り重なって形成された０．５μｍよりも小
さな溝部において部分的に配向したものの、その他の表
面においてはほとんど配向しなかった。
【００４６】さらに、比較のために、ナイロン布を用い
た前記実施例において、押し込み量を０．０５ｍｍにし
た他は同様にして凸凹を作製したところ、アクリル板は
全く失透せず、表面に少数の略同一方向に向いた溝がま
ばらに形成された。この溝の幅および深さは概ね０．０
０１〜０．０１μｍ（１〜１０ｎｍ）であった。この基
板表面に前記ネマチック液晶を塗りつけてみたが液晶は
ラビング方向にまばらに配向するのみであった。
た前記実施例において、押し込み量を０．０５ｍｍにし
た他は同様にして凸凹を作製したところ、アクリル板は
全く失透せず、表面に少数の略同一方向に向いた溝がま
ばらに形成された。この溝の幅および深さは概ね０．０
０１〜０．０１μｍ（１〜１０ｎｍ）であった。この基
板表面に前記ネマチック液晶を塗りつけてみたが液晶は
ラビング方向にまばらに配向するのみであった。
【００４７】（実施例２）さらに、以下の実施例により
露光用マスクとして適した透光性基板を作製した。
露光用マスクとして適した透光性基板を作製した。
【００４８】洗剤を用いて超音波洗浄したＡ４サイズの
白板ガラス基板の表面に、レジストとしてＰＤＵＲ−Ｐ
−１４（東京応化工業社製）を０．５μｍ厚に塗布して
レジスト被膜を形成した。図２に示すように、このレジ
スト被膜１６の全面を、０．４μｍ幅の白黒パターンを
有する５ｃｍ角のクロムマスク１８を用い、ＫｒＦエキ
シマーレーザ露光装置によりステップ・アンド・リピー
ト露光（１００ｍＪ／ｃｍ2 ）を繰り返して露光した。
この際の露光は、継ぎ目が数ｍｍ重なり合うようにマス
クの位置合わせを行った。その後、現像液ＮＭＤ３（東
京応化工業社製）により現像し、純水によりリンスした
ところ、図３に示したような、光に対して回折作用のあ
る凸凹であって０．４μｍ幅の溝（すなわち、１２５０
本／ｍｍの回折格子）を有するレジスト薄膜１７がガラ
ス板１５表面に形成された露光用マスクが得られた。こ
の基板表面にネマチック液晶（メルク社製；ＺＬＩ４７
９２）を塗りつけるとパターンの筋に沿ってきれいに液
晶が配向することが確認できた。継ぎ目においても液晶
は同様に配向した。
白板ガラス基板の表面に、レジストとしてＰＤＵＲ−Ｐ
−１４（東京応化工業社製）を０．５μｍ厚に塗布して
レジスト被膜を形成した。図２に示すように、このレジ
スト被膜１６の全面を、０．４μｍ幅の白黒パターンを
有する５ｃｍ角のクロムマスク１８を用い、ＫｒＦエキ
シマーレーザ露光装置によりステップ・アンド・リピー
ト露光（１００ｍＪ／ｃｍ2 ）を繰り返して露光した。
この際の露光は、継ぎ目が数ｍｍ重なり合うようにマス
クの位置合わせを行った。その後、現像液ＮＭＤ３（東
京応化工業社製）により現像し、純水によりリンスした
ところ、図３に示したような、光に対して回折作用のあ
る凸凹であって０．４μｍ幅の溝（すなわち、１２５０
本／ｍｍの回折格子）を有するレジスト薄膜１７がガラ
ス板１５表面に形成された露光用マスクが得られた。こ
の基板表面にネマチック液晶（メルク社製；ＺＬＩ４７
９２）を塗りつけるとパターンの筋に沿ってきれいに液
晶が配向することが確認できた。継ぎ目においても液晶
は同様に配向した。
【００４９】レジスト被膜に転写するクロムマスクのパ
ターンピッチを代えた他は、同様の実験を繰り返し、図
４に示した結果を得た。図４から明らかなように、幅お
よび深さが０．５μｍ以下の溝を同一方向に形成する
と、液晶に対する配向規制力が優れた表面形状が得られ
ることが確認された。また、０．０１μｍ以下の溝をラ
ビング法で作成した場合、液晶が配向することは確認で
きたものの、この溝を基板全面に亘って均一に形成する
ことは困難であり実用性に欠けるものであった。なお、
図４におけるＴは配向膜評価時のサンプル温度を示すも
のである。
ターンピッチを代えた他は、同様の実験を繰り返し、図
４に示した結果を得た。図４から明らかなように、幅お
よび深さが０．５μｍ以下の溝を同一方向に形成する
と、液晶に対する配向規制力が優れた表面形状が得られ
ることが確認された。また、０．０１μｍ以下の溝をラ
ビング法で作成した場合、液晶が配向することは確認で
きたものの、この溝を基板全面に亘って均一に形成する
ことは困難であり実用性に欠けるものであった。なお、
図４におけるＴは配向膜評価時のサンプル温度を示すも
のである。
【００５０】各種の基板材料を用いて同様の実験を実施
したところ、基板としては、ソーダライムシリケートガ
ラス、ボロシリケートガラス、石英ガラス、ポリカーボ
ネート樹脂、アクリル樹脂などを利用できることが確認
された。また、０．５μｍパターン以下の回折格子パタ
ーンを形成するための露光用光源として、ＫｒＦエキシ
マーレーザ光に代えて紫外線、遠紫外線を利用できるこ
とが確認された。また、微細な凸凹が形成できればよい
ので、レジストは、ポジ型でもネガ型でも構わない。
したところ、基板としては、ソーダライムシリケートガ
ラス、ボロシリケートガラス、石英ガラス、ポリカーボ
ネート樹脂、アクリル樹脂などを利用できることが確認
された。また、０．５μｍパターン以下の回折格子パタ
ーンを形成するための露光用光源として、ＫｒＦエキシ
マーレーザ光に代えて紫外線、遠紫外線を利用できるこ
とが確認された。また、微細な凸凹が形成できればよい
ので、レジストは、ポジ型でもネガ型でも構わない。
【００５１】また、現像後、さらに基板をＡｒガスを用
いてスパッタエッチングしたり、あるいはＣＦ4 ガスを
用いてプラズマエッチングして溝の深さを深くすると、
溝のアスペクト比を大きくすることができ、配向規制力
を向上させることができた。なお、基材にガラス板や石
英板を用いた場合には、フッ酸系の液を用いて化学エッ
チングすることでも同様の結果を得た。
いてスパッタエッチングしたり、あるいはＣＦ4 ガスを
用いてプラズマエッチングして溝の深さを深くすると、
溝のアスペクト比を大きくすることができ、配向規制力
を向上させることができた。なお、基材にガラス板や石
英板を用いた場合には、フッ酸系の液を用いて化学エッ
チングすることでも同様の結果を得た。
【００５２】（実施例３）次に、前記実施例で作製した
露光用マスクを利用して基板表面に液晶配向膜を形成し
た。
露光用マスクを利用して基板表面に液晶配向膜を形成し
た。
【００５３】表面に透明電極を形成したホウケイ酸ガラ
ス基板を準備し、あらかじめよく洗浄脱脂した。次に、
感光性のポリイミド樹脂（東レ社製ホトニース）を塗布
して０．１μｍの厚さの被膜を形成した。その後、図５
に示したように、実施例２で作成した露光用マスク１５
を介し、３６５ｎｍの紫外線５により、ガラス基板１上
の被膜２を約５００ｍＪ／ｃｍ2 で密着露光した。さら
に、専用の現像液、リンス液を用いて現像、リンスを行
い、露光用マスク５のマスクパターンをポリイミド樹脂
膜に転写した。図６に示したように、このようにして作
成されたポリイミド樹脂膜３の表面には、筋状の互いに
平行な凸凹が多数形成されていた。この凸凹のピッチ
（サイクル）は約０．８μｍ（各凸部凹部の幅としては
約０．４μｍ）であり、深さは約０．０５μｍであっ
た。
ス基板を準備し、あらかじめよく洗浄脱脂した。次に、
感光性のポリイミド樹脂（東レ社製ホトニース）を塗布
して０．１μｍの厚さの被膜を形成した。その後、図５
に示したように、実施例２で作成した露光用マスク１５
を介し、３６５ｎｍの紫外線５により、ガラス基板１上
の被膜２を約５００ｍＪ／ｃｍ2 で密着露光した。さら
に、専用の現像液、リンス液を用いて現像、リンスを行
い、露光用マスク５のマスクパターンをポリイミド樹脂
膜に転写した。図６に示したように、このようにして作
成されたポリイミド樹脂膜３の表面には、筋状の互いに
平行な凸凹が多数形成されていた。この凸凹のピッチ
（サイクル）は約０．８μｍ（各凸部凹部の幅としては
約０．４μｍ）であり、深さは約０．０５μｍであっ
た。
【００５４】この基板表面にネマチック液晶を塗布する
と、液晶はパターンに沿って配向することが確かめられ
た。さらに、この状態の基板２枚を用い、配向膜が向か
い合うように組み合わせて、アンチパラレル配向するよ
うに２０μｍギヤップの液晶セルを組み立て、前記ネマ
チック液晶を注入して配向状態を確認すると、注入した
液晶分子が筋状の凸凹に沿って基板に対しておよそプレ
チルト角５゜で配向していた。
と、液晶はパターンに沿って配向することが確かめられ
た。さらに、この状態の基板２枚を用い、配向膜が向か
い合うように組み合わせて、アンチパラレル配向するよ
うに２０μｍギヤップの液晶セルを組み立て、前記ネマ
チック液晶を注入して配向状態を確認すると、注入した
液晶分子が筋状の凸凹に沿って基板に対しておよそプレ
チルト角５゜で配向していた。
【００５５】このように、被膜を構成する物質として感
光性のポリマーを用い、液晶が配向することが確かめら
れている筋状の凸凹パターンを有するマスクを介して露
光現像すると、このパターンが膜表面に転写されて、液
晶配向膜とすることができることが確認された。
光性のポリマーを用い、液晶が配向することが確かめら
れている筋状の凸凹パターンを有するマスクを介して露
光現像すると、このパターンが膜表面に転写されて、液
晶配向膜とすることができることが確認された。
【００５６】なお、感光性を有していない樹脂を用いた
場合にでも、ＫｒＦエキシマーレーザを用い２４８ｎｍ
の遠紫外線で露光時間を１０〜１００倍程度長くする
と、樹脂表面に部分的な分解または重合が生じ、その結
果として同様の微細な凸凹が形成され、同様の配向作用
を示す被膜が形成できることが確認された。
場合にでも、ＫｒＦエキシマーレーザを用い２４８ｎｍ
の遠紫外線で露光時間を１０〜１００倍程度長くする
と、樹脂表面に部分的な分解または重合が生じ、その結
果として同様の微細な凸凹が形成され、同様の配向作用
を示す被膜が形成できることが確認された。
【００５７】（実施例４）さらに、前記実施例で作製し
た露光用マスクを利用して基板表面に別の液晶配向膜を
形成した。
た露光用マスクを利用して基板表面に別の液晶配向膜を
形成した。
【００５８】表面に透明電極を形成したガラス基板（表
面に水酸基を多数含む。）を準備し、よく洗浄脱脂し
た。次に、イエロールーム内において、下記化学式(45)
により示されるシラン系界面活性剤と、ＣＨ3ＳｉＣｌ3
とをモル比で１：２となるように混合し、この混合物が
１重量％程度の濃度となるように非水系の溶媒に溶かし
て化学吸着液とした。このときの非水系の溶媒として
は、よく脱水したヘキサデカンを用いた。
面に水酸基を多数含む。）を準備し、よく洗浄脱脂し
た。次に、イエロールーム内において、下記化学式(45)
により示されるシラン系界面活性剤と、ＣＨ3ＳｉＣｌ3
とをモル比で１：２となるように混合し、この混合物が
１重量％程度の濃度となるように非水系の溶媒に溶かし
て化学吸着液とした。このときの非水系の溶媒として
は、よく脱水したヘキサデカンを用いた。
【００５９】
【化２】
【００６０】乾燥雰囲気中（相対湿度３０％以下）にお
いて、ガラス基板をこの化学吸着液に１時間程度浸漬し
た。ガラス基板を化学吸着液から引き上げ、ガラス基板
表面にジアセチレン基を有する界面活性剤分子を含む化
学吸着ポリマー膜を形成した。次に実施例３と同様にし
て、前記化学吸着ポリマー膜を露光し、現像し、リンス
したところ、実施例３と同様の液晶に対する配向規制力
を有する膜とすることができた。
いて、ガラス基板をこの化学吸着液に１時間程度浸漬し
た。ガラス基板を化学吸着液から引き上げ、ガラス基板
表面にジアセチレン基を有する界面活性剤分子を含む化
学吸着ポリマー膜を形成した。次に実施例３と同様にし
て、前記化学吸着ポリマー膜を露光し、現像し、リンス
したところ、実施例３と同様の液晶に対する配向規制力
を有する膜とすることができた。
【００６１】（実施例５）次に、前記実施例で作製した
液晶配向膜を用いて液晶表示デバイスを製造した。
液晶配向膜を用いて液晶表示デバイスを製造した。
【００６２】まず、図７に示したと同様に、マトリック
ス状に載置された第１の電極群とこの電極を駆動するト
ランジスター群を有する第１の基板上、および第１の電
極群と対向するように載置したカラーフィルター群と第
２の電極を有する第２の基板上に、実施例３と同様の方
法より、液晶配向膜を製造した。
ス状に載置された第１の電極群とこの電極を駆動するト
ランジスター群を有する第１の基板上、および第１の電
極群と対向するように載置したカラーフィルター群と第
２の電極を有する第２の基板上に、実施例３と同様の方
法より、液晶配向膜を製造した。
【００６３】次に、前記第１と第２の基板とを電極が対
向するように位置合わせしてスペーサーと接着剤で約５
μｍのギャップを構成するように固定した。その後、前
記第１と第２の基板に前記ＴＮ液晶（メルク社製；ＺＬ
Ｉ４７９２）を注入した後、偏光板を組み合わせて表示
素子を完成した。
向するように位置合わせしてスペーサーと接着剤で約５
μｍのギャップを構成するように固定した。その後、前
記第１と第２の基板に前記ＴＮ液晶（メルク社製；ＺＬ
Ｉ４７９２）を注入した後、偏光板を組み合わせて表示
素子を完成した。
【００６４】このようなデバイスは、バックライトを全
面に照射しながら、ビデオ信号を用いて各々のトランジ
スタを駆動することで矢印Ａの方向に映像を表示でき
た。
面に照射しながら、ビデオ信号を用いて各々のトランジ
スタを駆動することで矢印Ａの方向に映像を表示でき
た。
【００６５】この実施例のように対向させる２つの電極
の形成された基板表面にそれぞれ前記被膜を配向膜とし
て形成しておくとＴＮ型の液晶表示装置を提供できる。
また、本実施例の方法は、ＴＮ型の液晶表示装置以外の
対向する電極が片方の基板表面に形成されているＩＰＳ
（インプレーンスイッチング）型の液晶表示装置にも適
用可能であった。 （実施例６）実施例３の光照射工程において、前記露光
マスクに各々の画素を市松状に４分割するパターン状の
マスクを重ねて露光する工程を溝状パターンの方向を変
えて２回行うと、同一画素内でパターン状に配向方向の
異なる部分を４箇所設けることができた。そして、この
配向膜を形成した基板を用いると液晶表示装置の視野角
を大幅に改善することができた。
の形成された基板表面にそれぞれ前記被膜を配向膜とし
て形成しておくとＴＮ型の液晶表示装置を提供できる。
また、本実施例の方法は、ＴＮ型の液晶表示装置以外の
対向する電極が片方の基板表面に形成されているＩＰＳ
（インプレーンスイッチング）型の液晶表示装置にも適
用可能であった。 （実施例６）実施例３の光照射工程において、前記露光
マスクに各々の画素を市松状に４分割するパターン状の
マスクを重ねて露光する工程を溝状パターンの方向を変
えて２回行うと、同一画素内でパターン状に配向方向の
異なる部分を４箇所設けることができた。そして、この
配向膜を形成した基板を用いると液晶表示装置の視野角
を大幅に改善することができた。
【００６６】
【発明の効果】以上、説明したとおり、本発明の液晶配
向膜によれば、大面積化したパネルや段差部分を有する
基板表面においても液晶配向の均一性が良好に保持され
る膜を提供することができる。本発明の液晶表示装置に
よれば、このような液晶配向膜を構成要素とすることに
より、大面積化したパネルや基板表面に段差部分におい
ても液晶配向の均一性が悪化が抑制され、表示特性を改
善することができる。
向膜によれば、大面積化したパネルや段差部分を有する
基板表面においても液晶配向の均一性が良好に保持され
る膜を提供することができる。本発明の液晶表示装置に
よれば、このような液晶配向膜を構成要素とすることに
より、大面積化したパネルや基板表面に段差部分におい
ても液晶配向の均一性が悪化が抑制され、表示特性を改
善することができる。
【００６７】また、本発明の液晶配向膜の製造方法によ
れば、大面積化したパネルや基板表面に段差部分におい
ても均一性が良好に保持された液晶配向膜を効率よくか
つ合理的に製造することができる。この製造方法によれ
ば、パネルの大面積化や基板表面の段差が、配向性の均
一性に基本的に影響せず、パネルが大面積化しても生産
の効率が基本的には低下しない。さらに、本発明の露光
用透光性基板によれば、本発明の製造方法を簡便かつ効
率的に実施することが可能となり、本発明の露光用透光
性基板の製造方法によれば、極めて簡便に露光用透光性
基板を製造することができる。
れば、大面積化したパネルや基板表面に段差部分におい
ても均一性が良好に保持された液晶配向膜を効率よくか
つ合理的に製造することができる。この製造方法によれ
ば、パネルの大面積化や基板表面の段差が、配向性の均
一性に基本的に影響せず、パネルが大面積化しても生産
の効率が基本的には低下しない。さらに、本発明の露光
用透光性基板によれば、本発明の製造方法を簡便かつ効
率的に実施することが可能となり、本発明の露光用透光
性基板の製造方法によれば、極めて簡便に露光用透光性
基板を製造することができる。
【図１】 露光用マスクとなる透明基板に凸凹を設ける
一方法を示す断面図である。
一方法を示す断面図である。
【図２】 露光用マスクとなる透明基板に凸凹を設ける
別の方法を示す断面図である。
別の方法を示す断面図である。
【図３】 露光用マスクとなる透明基板の一実施態様を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図４】 露光用マスクの凸凹パターンの大きさと配向
秩序度の関係を示す図である。
秩序度の関係を示す図である。
【図５】 露光用マスクを介して被膜を露光する一方法
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図６】 基板上に形成された本発明の液晶配向膜の一
実施形態の断面図である。
実施形態の断面図である。
【図７】 本発明の液晶表示装置の一実施態様を示す断
面図である。
面図である。
１ 透明基板 ２ 感光性ポリイミド樹脂膜 ３ 凸凹を有するポリイミド樹脂膜 ５ 紫外線 １１ アクリル基板 １２ アクリル基板表面 １３ ナイロン布 １５ 白板ガラス板 １６ レジスト被膜 １７ 凸凹を有するレジスト被膜 １８ クロムマスク ２１ 第１の電極群 ２２ トランジスター群 ２３ 第１の基板 ２４ カラーフィルター群 ２５ 第２の電極 ２６ 第２の基板 ２７ 液晶配向膜 ２８ スペーサー ２９ 接着剤 ３０ 液晶 ３１、３２ 偏光板
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１０年５月２８日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１８】また、前記液晶配向膜の製造方法において
は、界面活性剤分子が、分子末端に、クロロシリル基、
アルコキシシリル基およびイソシアナートシリル基から
選ばれる含ケイ素基を含むことが好ましい。耐剥離効果
が高い化学吸着膜を効率良く製造することができるから
である。
は、界面活性剤分子が、分子末端に、クロロシリル基、
アルコキシシリル基およびイソシアナートシリル基から
選ばれる含ケイ素基を含むことが好ましい。耐剥離効果
が高い化学吸着膜を効率良く製造することができるから
である。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２９
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２９】また、本発明の液晶配向膜の原料として
は、感光性の界面活性剤分子を用いることができる。こ
のような界面活性剤分子としては、直鎖状炭素鎖の末端
または一部に、３フッ化炭素基（−ＣＦ3 ）、メチル基
（−ＣＨ3 ）、ビニル基（−ＣＨ＝ＣＨ2 ）、アリル基
（−ＣＨ＝ＣＨ−）、アセチレン基（炭素−炭素の３重
結合）、フェニル基（−Ｃ6Ｈ 5 ）、フェニレン基（−Ｃ
6Ｈ4−）、ハロゲン基、アルコキシ基（−ＯＲ；Ｒはア
ルキル基を表す、特に炭素数１〜３の範囲のアルキル基
が好ましい。）、シアノ基（−ＣＮ）、アミノ基（−Ｎ
Ｈ2 ）、水酸基（−ＯＨ）、カルボニル基（＝ＣＯ）、
オキシカルボニル基（−ＣＯＯ−）、カルボキシル基
（−ＣＯＯＨ）およびイソシアナート基（−ＮＣＯ）か
ら選ばれる少なくとも一つの置換基を含む界面活性剤分
子を挙げることができる。界面活性剤分子としては、ク
ロロシリル基、アルコキシシリル基およびイソシアナー
トシリル基から選ばれる置換基を分子末端に有する界面
活性剤分子が好ましい。
は、感光性の界面活性剤分子を用いることができる。こ
のような界面活性剤分子としては、直鎖状炭素鎖の末端
または一部に、３フッ化炭素基（−ＣＦ3 ）、メチル基
（−ＣＨ3 ）、ビニル基（−ＣＨ＝ＣＨ2 ）、アリル基
（−ＣＨ＝ＣＨ−）、アセチレン基（炭素−炭素の３重
結合）、フェニル基（−Ｃ6Ｈ 5 ）、フェニレン基（−Ｃ
6Ｈ4−）、ハロゲン基、アルコキシ基（−ＯＲ；Ｒはア
ルキル基を表す、特に炭素数１〜３の範囲のアルキル基
が好ましい。）、シアノ基（−ＣＮ）、アミノ基（−Ｎ
Ｈ2 ）、水酸基（−ＯＨ）、カルボニル基（＝ＣＯ）、
オキシカルボニル基（−ＣＯＯ−）、カルボキシル基
（−ＣＯＯＨ）およびイソシアナート基（−ＮＣＯ）か
ら選ばれる少なくとも一つの置換基を含む界面活性剤分
子を挙げることができる。界面活性剤分子としては、ク
ロロシリル基、アルコキシシリル基およびイソシアナー
トシリル基から選ばれる置換基を分子末端に有する界面
活性剤分子が好ましい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３３
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３３】上記式(1)〜(6)に示したような好適に使用
し得る界面活性剤分子は、その他の種類の界面活性剤と
混合して用いることができる。この場合のその他の界面
活性剤分子としては、下記式(7)〜(20) に示す界面活性
剤分子を挙げることができる。 (7) CH3(CH2)nSiCl3 (8) CH3(CH2)pSi(CH3)2(CH2)qSiCl3 (9) CH3COO(CH2)mSiCl3 (10) C6H 5 (CH2)nSiCl3 (11) CN(CH2)nSiCl3 (12) Cl3Si(CH2)sSiCl3 (13) Cl3Si(CH2)2(CF2)t(CH2)2SiCl3 (14) Ha(CH2)uSi(OCH3)3 (15) CH3(CH2)nSi(NCO)3 (16) CH3(CH2)pSi(CH3)2(CH2)qSi(OCH3)3 (17) HOOC(CH2)mSi(OCH3)3 (18) H2N(CH2)mSi(OCH3)3 (19) C6H 5 (CH2)nSi(NCO)3 (20) CN(CH2)nSi(OC2H5)3 ただし、Ｈａは塩素、臭素、ヨウ素、ふっ素等のハロゲ
ン原子を表し、ｍは０以上の整数であって好ましくは７
〜２４の整数であり、ｎは０以上の整数であって好まし
くは０〜２４の整数であり、ｓは０以上の整数であって
好ましくは３〜２４の整数であり、ｔは０以上の整数で
あって好ましくは１〜１０の整数である。ｕは０以上の
整数であって好ましくは１〜２４の整数である。
し得る界面活性剤分子は、その他の種類の界面活性剤と
混合して用いることができる。この場合のその他の界面
活性剤分子としては、下記式(7)〜(20) に示す界面活性
剤分子を挙げることができる。 (7) CH3(CH2)nSiCl3 (8) CH3(CH2)pSi(CH3)2(CH2)qSiCl3 (9) CH3COO(CH2)mSiCl3 (10) C6H 5 (CH2)nSiCl3 (11) CN(CH2)nSiCl3 (12) Cl3Si(CH2)sSiCl3 (13) Cl3Si(CH2)2(CF2)t(CH2)2SiCl3 (14) Ha(CH2)uSi(OCH3)3 (15) CH3(CH2)nSi(NCO)3 (16) CH3(CH2)pSi(CH3)2(CH2)qSi(OCH3)3 (17) HOOC(CH2)mSi(OCH3)3 (18) H2N(CH2)mSi(OCH3)3 (19) C6H 5 (CH2)nSi(NCO)3 (20) CN(CH2)nSi(OC2H5)3 ただし、Ｈａは塩素、臭素、ヨウ素、ふっ素等のハロゲ
ン原子を表し、ｍは０以上の整数であって好ましくは７
〜２４の整数であり、ｎは０以上の整数であって好まし
くは０〜２４の整数であり、ｓは０以上の整数であって
好ましくは３〜２４の整数であり、ｔは０以上の整数で
あって好ましくは１〜１０の整数である。ｕは０以上の
整数であって好ましくは１〜２４の整数である。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３４】さらに具体的には、下記式(21)〜(44)に示
す界面活性剤分子を挙げることができる。 (21) Br(CH2)8SiCl3 (22) CH2=CH(CH2)17SiCl3 (23) CH3(CH2)8-CO-(CH2)10SiCl3 (24) CH3(CH2)5-COO-(CH2)10SiCl3 (25) CH3(CH2)8-Si(CH3)2-(CH2)10SiCl3 (26) CH3(CH2)17SiCl3 (27) CH3(CH2)5Si(CH3)2(CH2)8SiCl3 (28) CH3COO(CH2)14SiCl3 (29) C6H 5 (CH2)8SiCl3 (30) CN(CH2)14SiCl3 (31) Cl3Si(CH2)8SiCl3 (32) Cl3Si(CH2)2(CF2)4(CH2)2SiCl3 (33) Cl3Si(CH2)2(CF2)6(CH2)2SiCl3 (34) CF3CF2(CF2)7(CH2)2SiCl3 (35) (CF3)2CHO(CH2)15Si(CH3)2Cl (36) CF3CF2(CH2)2Si(CH3)2(CH2)15SiCl3 (37) CF3(CF2)4(CH2)2Si(CH3)2(CH2)9SiCl3 (38) CF3(CF2)7(CH2)2Si(CH3)2(CH2)9SiCl3 (39) CF3COO(CH2)15SiCH3Cl2 (40) CF3(CF2)5(CH2)2SiCl3 (41) CH3CH 2C*HCH3CH2OCO(CH2)10SiCl3 (42) CH3CH 2C*HCH3CH2OCOC6H 4 OCOC6 H 4 O(CH2)5SiCl3 (43) ClSi(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2Cl (44) Cl3SiOSi(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2OSiC
l3 ただし、Ｃ* は光学活性の不斉炭素を示す。
す界面活性剤分子を挙げることができる。 (21) Br(CH2)8SiCl3 (22) CH2=CH(CH2)17SiCl3 (23) CH3(CH2)8-CO-(CH2)10SiCl3 (24) CH3(CH2)5-COO-(CH2)10SiCl3 (25) CH3(CH2)8-Si(CH3)2-(CH2)10SiCl3 (26) CH3(CH2)17SiCl3 (27) CH3(CH2)5Si(CH3)2(CH2)8SiCl3 (28) CH3COO(CH2)14SiCl3 (29) C6H 5 (CH2)8SiCl3 (30) CN(CH2)14SiCl3 (31) Cl3Si(CH2)8SiCl3 (32) Cl3Si(CH2)2(CF2)4(CH2)2SiCl3 (33) Cl3Si(CH2)2(CF2)6(CH2)2SiCl3 (34) CF3CF2(CF2)7(CH2)2SiCl3 (35) (CF3)2CHO(CH2)15Si(CH3)2Cl (36) CF3CF2(CH2)2Si(CH3)2(CH2)15SiCl3 (37) CF3(CF2)4(CH2)2Si(CH3)2(CH2)9SiCl3 (38) CF3(CF2)7(CH2)2Si(CH3)2(CH2)9SiCl3 (39) CF3COO(CH2)15SiCH3Cl2 (40) CF3(CF2)5(CH2)2SiCl3 (41) CH3CH 2C*HCH3CH2OCO(CH2)10SiCl3 (42) CH3CH 2C*HCH3CH2OCOC6H 4 OCOC6 H 4 O(CH2)5SiCl3 (43) ClSi(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2Cl (44) Cl3SiOSi(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2OSiC
l3 ただし、Ｃ* は光学活性の不斉炭素を示す。
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【手続補正０】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図７
【補正方法】変更
【補正内容】
【図７】
Claims (22)
- 【請求項１】 基板の表面に形成された被膜であって、
露光を含む工程により形成された略同一方向に伸長する
複数の凸凹を有することを特徴とする液晶配向膜。 - 【請求項２】 凸凹の凹部の幅が０．０１〜０．５μｍ
である請求項１に記載の液晶配向膜。 - 【請求項３】 被膜が化学吸着ポリマー膜である請求項
１または２に記載の液晶配向膜。 - 【請求項４】 化学吸着ポリマー膜が基板の表面とシロ
キサン結合を介して結合している請求項３に記載の液晶
配向膜。 - 【請求項５】 基板の表面に感光性ポリマーを含む被膜
を形成する工程と、 露光部分が未露光部分を介して互いに略平行な複数の線
条を形成するように前記被膜を露光する工程と、 前記被膜を構成する分子の分子構造の露光により生じた
相違を利用してこの被膜の一部を除去することにより略
同一方向に伸長する複数の凸凹を被膜表面に形成する工
程とを含むことを特徴とする液晶配向膜の製造方法。 - 【請求項６】 前記被膜を構成する分子の分子構造の露
光により生じた相違が前記被膜を構成する分子の重合度
の相違である請求項５に記載の液晶配向膜の製造方法。 - 【請求項７】 表面に複数の凸凹が略同一方向に伸長す
る透光性基板を介して露光する請求項５または６に記載
の液晶配向膜の製造方法。 - 【請求項８】 前記被膜を露光する工程が、露光部分が
前記透光性基板の表面の凸凹が伸長する方向と略同一方
向に伸長する線条を形成するように前記被膜を露光する
工程である請求項７に記載の液晶配向膜の製造方法。 - 【請求項９】 透光性基板の表面の凸凹のパターンを前
記被膜の露光部分と非露光部分のパターンとして転写す
る請求項７に記載の液晶配向膜の製造方法。 - 【請求項１０】 透光性基板の表面の凸凹の凹部の幅お
よび深さが０．０１〜０．５μｍである請求項７〜９の
いずれかに記載の液晶配向膜の製造方法。 - 【請求項１１】 感光性の界面活性剤分子を含む溶液を
基板の表面に接触させ、この界面活性剤分子を基板に化
学吸着させることにより、感光性ポリマーを含む被膜を
形成する請求項５または６に記載の液晶配向膜の製造方
法。 - 【請求項１２】 界面活性剤分子が、分子末端に、クロ
ロシラン基、アルコキシシラン基およびイソシアナート
シラン基から選ばれる含ケイ素基を含む請求項１１に記
載の液晶配向膜の製造方法。 - 【請求項１３】 表面に複数の凸凹が略同一方向に伸長
していることを特徴とする液晶配向膜露光用透光性基
板。 - 【請求項１４】 凸凹の幅および深さが０．０１〜０．
５μｍである請求項１３に記載の液晶配向膜露光用透光
性基板。 - 【請求項１５】 表面に複数の凸凹が略同一方向に伸長
している液晶配向膜露光用透光性基板の製造方法であっ
て、透明基板を洗浄する工程と、この透明基板よりも硬
度が高い部材により前記透明基板の表面を略同一方向に
擦る工程とを含むことを特徴とする液晶配向膜露光用透
光性基板の製造方法。 - 【請求項１６】 透明基板がポリカーボネート樹脂また
はアクリル樹脂である請求項１５に記載の液晶配向膜露
光用透光性基板の製造方法。 - 【請求項１７】 表面に複数の凸凹が略同一方向に伸長
している液晶配向膜露光用透光性基板の製造方法であっ
て、 透明基板を洗浄する工程と、 この透明基板の表面に感光性レジストを塗布する工程
と、 露光部分が未露光部分を介して互いに略平行な複数の線
条を形成するように前記感光性レジストを露光する工程
と、 前記感光性レジストを現像する工程とを含むことを特徴
とする液晶配向膜露光用透光性基板の製造方法。 - 【請求項１８】 感光性レジストを紫外線、遠紫外線お
よび電子ビームから選ばれる少なくとも一つを用いて露
光する請求項１７に記載の液晶配向膜露光用透光性基板
の製造方法。 - 【請求項１９】 感光性レジストを現像する工程の後
に、さらに化学エッチング、プラズマエッチングおよび
スパッタエッチングから選ばれる少なくとも一つの方法
により前記表面をエッチングする請求項１７または１８
に記載の液晶配向膜露光用透光性基板の製造方法。 - 【請求項２０】 所定の間隔を保つように配置され、対
向する表面の少なくとも一方に液晶配向膜を形成した２
枚の基板と、これら２枚の基板に挟持され前記液晶配向
膜により配向が規制されている液晶とを含む液晶表示装
置において、前記液晶配向膜は、液晶と接する表面に、
露光を含む工程により形成された略同一方向に伸長する
複数の凸凹を有することを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項２１】 基板の表面の一部に、電極、カラーフ
ィルタおよび薄膜トランジスタから選ばれる少なくとも
一つの薄膜部材が形成されることにより前記表面に段差
が形成され、この段差を含む領域に液晶配向膜が形成さ
れている請求項２０に記載の液晶表示装置。 - 【請求項２２】 液晶配向膜が配向方向の異なる複数の
領域を含む請求項２０または２１に記載の液晶表示装
置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13541497A JPH10325957A (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 液晶配向膜とその製造方法、その製造のための透光性基板とその製造方法、および液晶表示装置 |
| KR1019997000662A KR20000029598A (ko) | 1997-05-26 | 1998-05-21 | 액정배향막과그제조방법및그배향막을사용한액정표시장치와그제조방법 |
| CN98801052A CN1234877A (zh) | 1997-05-26 | 1998-05-21 | 液晶取向膜及其制法以及用此取向膜的液晶显示装置及其制法 |
| PCT/JP1998/002254 WO1998054617A1 (fr) | 1997-05-26 | 1998-05-21 | Couche a alignement de cristaux liquides et son procede de fabrication; afficheur a cristaux liquides comportant ladite couche et son procede de fabrication |
| TW087107943A TW459157B (en) | 1997-05-26 | 1998-05-22 | Liquid crystal alignment film, method of producing the same, liquid crystal display made by using the film, and method of producing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13541497A JPH10325957A (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 液晶配向膜とその製造方法、その製造のための透光性基板とその製造方法、および液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10325957A true JPH10325957A (ja) | 1998-12-08 |
Family
ID=15151180
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13541497A Pending JPH10325957A (ja) | 1997-05-26 | 1997-05-26 | 液晶配向膜とその製造方法、その製造のための透光性基板とその製造方法、および液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10325957A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6599780B2 (en) * | 2000-02-24 | 2003-07-29 | Seiko Epson Corporation | Film production method and film produced thereby |
| GB2421085A (en) * | 2004-12-09 | 2006-06-14 | Lg Philips Lcd Co Ltd | Liquid crystal display panel using irradiated light in the fabrication process |
| GB2435695A (en) * | 2004-12-09 | 2007-09-05 | Lg Philips Lcd Co Ltd | Method for fabricating liquid crystal display panel |
-
1997
- 1997-05-26 JP JP13541497A patent/JPH10325957A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6599780B2 (en) * | 2000-02-24 | 2003-07-29 | Seiko Epson Corporation | Film production method and film produced thereby |
| GB2421085A (en) * | 2004-12-09 | 2006-06-14 | Lg Philips Lcd Co Ltd | Liquid crystal display panel using irradiated light in the fabrication process |
| GB2435695A (en) * | 2004-12-09 | 2007-09-05 | Lg Philips Lcd Co Ltd | Method for fabricating liquid crystal display panel |
| GB2435695B (en) * | 2004-12-09 | 2009-03-04 | Lg Philips Lcd Co Ltd | Apparatus and method for fabricating liquid crystal display panel |
| GB2421085B (en) * | 2004-12-09 | 2009-03-04 | Lg Philips Lcd Co Ltd | Apparatus and method for fabricating liquid crystal display panel |
| US7573559B2 (en) | 2004-12-09 | 2009-08-11 | Lg Display Co., Ltd. | Apparatus and method for fabricating liquid crystal display panel having a bright spot defect corresponding to a particle in which an alignment film covers the particle |
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