JPH10317186A

JPH10317186A - 基材へのめっき方法

Info

Publication number: JPH10317186A
Application number: JP12597697A
Authority: JP
Inventors: Hiromitsu Takeuchi; 宏充竹内; Masahiro Okumiya; 正洋奥宮; Yoshiki Tsunekawa; 好樹恒川; Yutaka Kawai; 豊河合
Original assignee: Aisin Seiki Co Ltd; Toyoda Gosei Co Ltd
Current assignee: Toyoda Gosei Co Ltd; Aisin Corp
Priority date: 1997-05-15
Filing date: 1997-05-15
Publication date: 1998-12-02
Anticipated expiration: 2017-05-15
Also published as: JP3644195B2

Abstract

(57)【要約】【課題】基材表面の所望の部位にのみめっき層を容易に
形成することができ、かつ、膜厚の均一化を図ることの
できる基材へのめっき方法を提供する。【解決手段】めっき液を、ジェットノズル１５から勢い
よく噴射せしめ、アルミニウム製の基材１表面に当て
る。また、めっき液によって電気的に接続された同ノズ
ル１５及び基材１間に電圧をかけることにより、ジェッ
トノズル１５がアノード、基材１がカソードとしての役
割を果たし、基材１の表面に金属めっき液中の金属イオ
ン成分が金属マトリックスとなって析出し、めっき層２
が形成される。ジェットノズル１５の先端部分の断面形
状はドーナツ状となっており、ジェットノズル１５の開
口部のほぼ中央部分、すなわち、心棒３２の部分から
は、めっき液が噴出されない。従って、めっき液が流速
をもって基材１の表面に衝突する際には、その衝突する
面のほぼ全面にわたり衝突時の流速がほぼ均等になる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、金属基材等の導電
性を有する基材へのめっき方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、鉄や、アルミニウム等の基材
にめっきの施された製品が種々製造されている。当該製
品としては、例えば自動車用バンパー、バックミラー、
反射板、電気・電子部品、精密機械用部品、航空機の構
成部品、エンジン用ピストン、ブスバー、電線等が挙げ
られる。

【０００３】一般に、金属基材（例えばアルミニウム基
材）にめっきを施す場合には、以下のような工程を経
る。まず、基材とめっき層との間の密着性を確保するた
め、その表面に形成された酸化膜や汚れを除去するため
の前処理工程が必要である。かかる前処理の手法とし
て、従来では、例えば亜鉛置換法なる技術が採用されて
いる。すなわち、まず脱脂工程において、基材の表面が
脱脂され、次いで、エッチング溶液により、アルミニウ
ム基材の表面がエッチングされ、硝酸、ふっ化水素酸、
硫酸等により酸処理が行われる。上記酸処理を工程を経
た基材は、亜鉛置換（又は亜鉛合金置換）工程へと供さ
れる。この置換工程においては、水酸化ナトリウムと酸
化亜鉛とを基本成分とする亜鉛置換液中で、アルミニウ
ム基材が処理される。すると、アルミニウム表面の薄い
酸化皮膜が除去され、新しく露出した活性な表面に亜鉛
が置換析出する。そして、この亜鉛皮膜を硝酸で剥離
し、もう一度亜鉛置換処理を繰り返すと、一層均一な表
面が得られる。

【０００４】そして、このような複雑な前処理工程を経
た後、基材は、公知の電気めっき工程へと供される。す
なわち、所定のめっき溶液中に基材が浸漬されるととも
に、その状態で、電極間に電圧が印加される。これによ
り、基材の表面に、電気めっき層が形成される。

【０００５】しかし、上記技術では、多くの前処理工程
を必要としていた。そのため、作業性の低下、コストの
増大を招くこととなっていた。また、上記技術では、基
材表面の所望の部位にのみめっき層を形成することが困
難である。すなわち、所望の領域のみをめっきするため
には、被めっき部分以外の部分を、絶縁テープや、絶縁
塗料等を用いてマスキングした上で、電気めっきを行う
必要があった。そのため、作業性のさらなる低下を招い
ていた。

【０００６】このような問題を解消する技術として、例
えば特開平８−１０４９９７号公報に開示されたものが
知られている。この技術では、気相中で、めっき液が、
ノズルの開口部から基材の表面に吹き付けられること
で、該めっき液が流速をもってその表面に衝突する。ま
た、これとともに、めっき液で電気的に接続されたノズ
ル及び基材間に電圧がかけられることにより、基材の任
意の表面にめっき層が形成される。かかる技術によれ
ば、前処理工程の簡略化が図られるとともに、基材表面
の所望の部位にのみめっき層を容易に形成することがで
きる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記公報に
開示された従来技術においては、次に記すような問題が
あった。すなわち、上記技術におけるノズルの先端部分
は、円筒状をなしており、このため、円形の開口部から
めっき液が噴出されるようになっている。このようなノ
ズルから噴出されためっき液が基材表面に衝突する際の
流速は、衝突した面の中央部分（開口部の中央部に対応
した部分）が最も速く、外周側ほど遅くなる。従って、
形成されるめっき層の膜厚は、衝突した面の中央部分が
最も厚く、外周側ほど薄いものとなってしまい、均一な
膜厚が得られにくいという問題があった。

【０００８】本発明は上記問題点を解決するためになさ
れたものであって、その目的は、基材表面の所望の部位
にのみめっき層を容易に形成することができ、かつ、膜
厚の均一化を図ることのできる基材へのめっき方法を提
供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に記載の発明においては、めっき液を、ノ
ズルの開口部から導電性を有する基材の表面に吹き付け
ることで、該めっき液を流速をもたせて衝突させ、前記
めっき液で電気的に接続された前記ノズル及び基材間に
電圧をかけることにより前記基材の任意の表面にめっき
層を形成する基材へのめっき方法であって、少なくとも
前記ノズルの先端部分には、前記めっき液が流速をもっ
て衝突する際に、その衝突する面のほぼ全面にわたり衝
突時の流速がほぼ均等になるような流速均等化手段を設
けたことをその要旨としている。

【００１０】また、請求項２に記載の発明では、請求項
１に記載の基材へのめっき方法において、前記流速均等
化手段は、前記ノズルの開口部のほぼ中央部分から前記
めっき液が噴出されないよう、少なくとも前記ノズルの
先端部分の断面形状が、略ドーナツ形状をなしているも
のであることをその要旨としている。

【００１１】さらに、請求項３に記載の発明では、請求
項１又は２に記載の基材へのめっき方法において、前記
流速均等化手段は、前記ノズルの開口部の周縁部分から
噴出されるめっき液がより加速されるよう、前記ノズル
の開口部の外周部分からほぼ噴出方向に向けて気流を発
生させる手段を有していることをその要旨としている。

【００１２】併せて、請求項４に記載の発明では、請求
項１から３のいずれかに記載の基材へのめっき方法にお
いて、前記めっき液中に不溶性粒子を分散させることに
より、前記めっき液の吹き付けに際し、少なくとも前記
基材の表面に前記不溶性粒子からの応力を与えるように
したことをその要旨としている。

【００１３】ここで、上記めっき液としては、各種金属
イオンを含有するめっき液であればいかなるものでもよ
く、例えばニッケルめっき液、銅めっき液、亜鉛めっき
液、錫めっき液及びこれらの組合せ等が挙げられる。

【００１４】さらに、めっき液中に分散されうる不溶性
粒子としては、例えばアルミナ、ジルコニア、シリカ、
チタニア、セリア等の酸化物及びこれらの２種以上の組
合せからなる複合酸化物、炭化珪素、炭化チタン等の炭
化物、窒化珪素、窒化硼素等の窒化物、フッ素樹脂粉
末、ポリアミド粉末、ポリエチレン粉末等の有機高分子
粉末等が挙げられる。しかし、不溶性粒子を構成する素
材としては、これらのものに限定されるものではなく、
めっき液に不溶であり、分散されうるものであり、か
つ、所定の硬度を有するものあればいかなるものも採用
しうる。

【００１５】併せて、不溶性粒子の粒径の範囲について
も何ら限定されるものではないが、０．１μｍ〜１００
０μｍ程度のものが好適に使用されうる。加えて、めっ
き液中に不溶性粒子が分散された場合、その濃度（分散
量）も適宜選定されうるが、１ｇ／Ｌ〜１０００ｇ／Ｌ
程度が好ましく、より好ましくは１０〜５００ｇ／Ｌで
ある。

【００１６】また、本発明においては、めっき液を、流
速をもたせて基材表面に衝突せしめる必要がある。この
ときのめっき液の流速は、１ｍ／ｓ以上であるのが望ま
しくかつ、基材が変形しない程度のものである必要があ
る。なお、前記流速は、４ｍ／ｓ以上であることがより
望ましく、さらに望ましくは１０ｍ／ｓ以上であり、一
層望ましくは１２ｍ／ｓ以上である。このように、めっ
き液を、流速をもたせて衝突させることにより、ノズル
から吹き付けられているめっき液によってノズル及び基
材間が電気的に接続されることとなる。そして、両者間
に電圧がかけられることにより、基材の表面にめっき液
中の金属イオン成分が金属となって析出し、めっき層が
形成される。

【００１７】このため、めっき液を流速をもたせて基材
表面に接触せしめるという工程のみで、基材の任意の表
面に対し強固なめっき層を形成することが可能となる。
特に、請求項１に記載の発明では、少なくとも前記ノズ
ルの先端部分には流速均等化手段が設けられており、こ
の手段により、めっき液が流速をもって衝突する際に、
その衝突する面のほぼ全面にわたり衝突時の流速がほぼ
均等になる。このため、めっき液が流速をもって衝突す
ることにより形成される膜の厚さは、ほぼ均等となる。

【００１８】また、請求項２に記載の発明によれば、請
求項１に記載の発明の作用に加えて、前記流速均等化手
段は、少なくとも前記ノズルの先端部分の断面形状が、
略ドーナツ形状をなしているものである。このため、ノ
ズルの開口部のほぼ中央部分からは、めっき液が噴出さ
れず、めっき液が流速をもって衝突する際には、中央部
分にもめっき液は存在し、結果的に、その衝突する面の
ほぼ全面にわたり衝突時の流速の均等化が図られる。

【００１９】さらに、請求項３に記載の発明では、請求
項１又は２に記載の発明の作用に加えて、前記流速均等
化手段は、ノズルの開口部の外周部分からほぼ噴出方向
に向けて気流を発生させる手段を有している。このた
め、ノズルの開口部の周縁部分から噴出されるめっき液
が気流によって、より加速される。このため、衝突する
面の中央部分と周縁部分とでの流速の差が小さいものと
なる。

【００２０】また、本発明によれば、前記気流が基材に
衝突することにより、めっき液が衝突する面とそれ以外
の面とが気流で遮断されることとなり、ノズル直下以外
の領域にはめっき層は形成されにくいものとなる。その
ため、めっき部分と非めっき部分との境界部分がはっき
りとし、見切り外観が良好なものとなる。

【００２１】また、請求項４に記載の発明によれば、請
求項１〜３に記載の発明の作用に加えて、めっき液中に
不溶性粒子が分散させられている。このため、基材の表
面に存在する酸化皮膜が不溶性粒子によって削られるた
め、酸化皮膜を除去するという前処理工程を場合によっ
ては省略することが可能となる。また、めっき層中に不
溶性粒子を分散させることも可能となる。

【００２２】

【発明の実施の形態】（第１の実施の形態）以下、本発明を具体化した第１の実施の形態を図１〜図
５に基づいて説明する。図３は本実施の形態において基
材１及びその表面に形成されためっき層２並びにジェッ
トノズル１５の一部を示す模式的な断面図である。同図
に示すように、アルミニウム製の金属基材（以下、単に
「基材」という）１の表面にはめっき層２が形成されて
いる。当該めっき層２は、ニッケルにより構成されてい
る。

【００２３】次に、上記のようにアルミニウム製の基材
１上にめっき層２を形成するためのめっき装置について
説明する。図２に示すように、本実施の形態のめっき装
置は、内部に攪拌機１１及びヒータ１２を有してなるタ
ンク１３を備えている。そして、このタンク１３内に
は、後述する組成よりなるめっき溶液が貯留されてい
る。また、このタンク１３の上方には、基材１を載置す
るための載置台１４が配設されている。さらに、載置台
１４の上方には、ジェットノズル１５が配設されてい
る。また、ジェットノズル１５には電源１６の陽極が接
続され、載置台１４には電源１６の陰極が接続されてい
る。

【００２４】さらに、本実施の形態では、前記タンク１
３とジェットノズル１５とを連結する連通路１７が設け
られており、この連通路１７の途中にはポンプ１８が設
けられている。そして、このポンプ１８が駆動されるこ
とにより、タンク１３内にて加温され、均一に攪拌され
ためっき液が、連通路１７を通ってジェットノズル１５
の方へと導かれる。さらに、そのジェットノズル１５か
らは、噴流（シャワー）状のめっき液が、載置台１４に
載置された基材１表面に当たるようになっている。な
お、前記載置台１４及びジェットノズル１５は、箱状の
ジェットセル１９内に収容されており、噴出されためっ
き液が外部に飛散しないようになっている。

【００２５】併せて、前記ポンプ１８下流における連通
路１７の途中には、メインバルブ２１が設けられてお
り、このバルブ２１の開度を調整することにより、ジェ
ットノズル１５からのめっき液の噴出量を調整すること
ができるようになっている。また、ポンプ１８の上流側
及び下流側を連通するバイパス通路２２が設けられてお
り、その途中にはサブバルブ２３が設けられている。こ
のバルブ２３の開度を調整することにより、ポンプ１８
の上流側から還流されるバイパス量が調整され、上記同
様ジェットノズル１５からのめっき液の噴出量を調整す
ることができるようになっている。

【００２６】ここで、本実施の形態の特徴的部分につい
て説明する。図１に示すように、本実施の形態のジェッ
トノズル１５の少なくとも先端部分には、外筒部３１が
設けられているとともに、その中心部分には心棒３２が
設けられており、ノズル１５の先端部分の断面形状はド
ーナツ状となっている。本実施の形態において、例え
ば、外筒部３１の内径は１４．５ｍｍであり、心棒３２
の直径は５．０ｍｍである。かかる構成により、ジェッ
トノズル１５の開口部のほぼ中央部分、すなわち心棒３
２の部分からは、めっき液が噴出されないように構成さ
れている。

【００２７】なお、本実施の形態における上記めっき液
は、スルファミン酸ニッケル［Ni(NH₂SO₄)・4H₂O］（４
３０kg／m³）、塩化ニッケル［NiCl₂・6H₂O ］（１５kg
／m³）、ホウ酸［Ｈ₃ＢＯ₃］（４５kg／m³）、サッカ
リン［Ｃ₇Ｈ₅ＮＯ₃Ｓ］（５kg／m³）よりなってい
る。さらに、めっきの条件として、めっき液の温度はヒ
ータ１２により３２８Ｋに、ｐＨは２．０に、電流密度
は２×１０²Ａ／ｍ²に、めっき液の流速は、１．０ｍ
／ｓにそれぞれ設定されている。但し、これらの数値は
あくまでも例示である。

【００２８】次に、上記のようにして構成されてなるめ
っき装置を用いて、前記めっき層２を形成する際のめっ
き方法について説明する。まず、載置台１４上に基材１
を載置する。そして、電源１６をオン状態としてポンプ
１８を作動させる。但し、この際、サブバルブ２３及び
メインバルブ２１の開状態を適宜調整する。すると、め
っき液は、ポンプ１８から連通路１７を通ってジェット
ノズル１５から勢いよく噴射され、基材１表面に当た
る。このように、めっき液を比較的速い流速をもたせて
基材１の表面に接触させる。

【００２９】また、これとともに、ジェットノズル１５
から吹き付けられている金属めっき液（めっき液）によ
って、同ノズル１５及び基材１間が電気的に接続される
こととなる。このとき、ジェットノズル１５に電圧をか
けることによって、ジェットノズル１５がアノードとし
ての役割を果たし、基材１がカソードとしての役割を果
たす。このように両者１，１５間に電圧がかけられるこ
とにより基材１の表面に金属めっき液中の金属イオン成
分（ニッケル）が金属マトリックスとなって析出し、め
っき層２が形成される。

【００３０】ここで、上述したように（図３参照）、ジ
ェットノズル１５の開口部のほぼ中央部分、すなわち心
棒３２の部分からは、めっき液が噴出されないため、め
っき液が流速をもって基材１の表面に衝突する際には、
その衝突する面のほぼ全面にわたり衝突時の流速がほぼ
均等になる。このため、形成されるめっき層２の厚さ
は、ほぼ均等となる。

【００３１】次に、本実施の形態の作用及び効果につい
て説明する。（イ）本実施の形態によれば、金属めっき液を流速をも
たせて基材１の表面に接触せしめるという工程のみで、
基材１に強固なめっき層２を形成することが可能とな
る。すなわち、基材を浸漬させることによりめっきを施
していた従来の方法とは異なり、本実施の形態では噴射
されているめっき液に基材を接触せしめるという工程を
経ることでめっきを施すことができる。このため、設備
の簡素化及びコストの低減を図ることができる。

【００３２】（ロ）また、本実施の形態では、絶縁テー
プや、絶縁塗料等によるマスキングを施す必要もなく、
基材１及びジェットノズル１５の少なくとも一方の位置
を適宜調整することで、基材１の表面の任意の位置に対
しめっき層２を形成することができる。このため、基材
１表面の所望の部位にのみめっき層２を容易に形成する
ことができ、作業性の飛躍的な向上を図ることができ
る。

【００３３】（ハ）さらに、本実施の形態では、ノズル
１５の先端部分の断面形状はドーナツ状となっており、
ジェットノズル１５の開口部のほぼ中央部分、すなわ
ち、心棒３２の部分からは、めっき液が噴出されない。
このため、心棒の存在しない通常のノズルを用いた場合
には中央部分の流速が最も速くなるのであるが、本実施
の形態では、該中央部分の流速が上記構成により弱めら
れることとなる。従って、めっき液が流速をもって基材
１の表面に衝突する際には、その衝突する面のほぼ全面
にわたり衝突時の流速がほぼ均等になる。そのため、形
成されるめっき層２の厚さを、ほぼ均等なものとするこ
とができる。

【００３４】（確認実験）ここで、上記（ハ）の効果を
確認するべく、以下の２つの実験を行った。確認実験１：プラチナ製の基材（カソード）及び上記組
成を有するめっき液を用いるとともに、上記ジェットノ
ズル１５を有するめっき装置を用いて、基材における電
流密度ｉの分布を測定した。その結果を図４に示す。

【００３５】同図に示すように、心棒の存在しない通常
のノズルを用いた場合には、ノズルの中心部分ほど電流
密度ｉは非常に高いものとなる。これに対し、本実施の
形態においては、ジェットノズル１５の直下における電
流密度ｉはほぼ均一なものとなった。このことから、本
実施の形態の構成を採用した場合には、通常のノズルを
用いた場合に対し、中央部分の流速が弱められることが
わかる。従って、めっき液が流速をもって基材１の表面
に衝突する際には、その衝突する面のほぼ全面にわたり
衝突時の流速の均等化が図られるといえる。

【００３６】確認実験２：電気めっきにおける電子の移
動は、電解液中の金属イオンの移動によって支配され
る。そこで、本実験においては、ノズル直下における物
質移動速度Ｋ_Lについて検討した。各位置における物質
移動速度Ｋ_Lは、次式（１）で表され、限界電流密度ｉ
_Lの測定値から物質移動速度Ｋ_L分布を算出できる。

【００３７】Ｋ_L＝ｉ_L／ｚ・Ｆ・Ｃ₀ ……（１）ここで、ｚは価数、Ｆはファラデー定数、Ｃ₀は電解液
中のイオン濃度である。すなわち、限界電流密度ｉ_Lが
大きいほど、物質移動速度Ｋ_Lは大きいものとなり、カ
ソードへの供給イオン数が多くなる。そこで、各位置に
おける限界電流密度ｉ_Lの分布を測定することとした。
図５は、上記確認実験１と同様、２種類のノズル（通常
のノズルと、本実施の形態のノズル）を用いて測定した
限界電流密度ｉ_Lの分布を示す。

【００３８】同図に示すように、通常のノズルを用いた
場合には、中心部分の方が限界電流密度ｉ_Lが非常に高
い分布曲線となるのに対し、本実施の形態の場合には、
限界電流密度ｉ_Lの分布は、ジェットノズル１５の投影
面内でほぼ均等なものとなることがわかる。すなわち、
本実施の形態によれば、イオンの移動速度が、ジェット
ノズル１５の投影面内、つまり、めっき液が衝突する面
のほぼ全面にわたり、均等であるといえることがわか
る。

【００３９】（第２の実施の形態）次に、本発明を具体
化した第２の実施の形態について説明する。但し、本実
施の形態の構成等においては上述した第１の実施の形態
と同等である部分が多いため、同一の部材等については
同一の符号を付してその説明を省略する。そして、以下
には、第１の実施の形態との相違点を中心として説明す
ることとする。

【００４０】図６に示すように、本実施の形態において
は、ジェットノズル４１の構成において、第１の実施の
形態とは異なっている。すなわち、ジェットノズル４１
は、その少なくとも先端部分において、外筒部４２及び
内筒部４３が設けられているとともに、その中心部分に
は心棒４４が設けられている。前記めっき液は、内筒部
４３の内側から噴出されるようになっているとともに、
外筒部４２及び内筒部４３によって形成される空間は、
エアー通路４５となっている。本実施の形態におけるめ
っき装置は、別途ジェットエアーを吹きつけるための図
示しないエアーポンプを有しており、該ポンプは前記エ
アー通路４５に連通されている。なお、本実施の形態に
おいて、例えば、内筒部４３の内径は１４．５ｍｍであ
り、心棒４４の直径は５．０ｍｍであり、さらに外筒部
４２の内径は１７．５ｍｍである。

【００４１】本実施の形態によれば、上記第１の実施の
形態に記した作用効果に加えて、ジェットノズル４１の
内筒部４３の内側から噴出されるめっき液が、エアー通
路４５から吹きつけられるジェットエアーによって、よ
り加速されることとなる。このため、めっき液が衝突す
る基材１表面の中央部分と周縁部分とでの流速の差をよ
り小さいものとすることができる。従って、該ジェット
エアーの流速等を調整することで、めっき液の流速のさ
らなる均等化を図ることができ、ひいてはめっき層２の
膜厚のより一層の均等化を図ることができる。

【００４２】また、図６に示すように、本実施の形態に
よれば、前記ジェットエアーが基材１に衝突することに
より、めっき液が衝突する面とそれ以外の面とがジェッ
トエアーで遮断されることとなり、ジェットノズル４１
の内筒部４３直下以外の領域にはめっき層２は形成され
にくいものとなる。そのため、めっき部分と非めっき分
との境界部分がはっきりとし、見切り外観が良好なもの
となる。

【００４３】尚、本発明は前記実施の形態に限定される
ものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲で構成の一
部を適宜に変更して次のように実施することもできる。（１）上記実施の形態では特に言及しなかったが、めっ
き液中に不溶性粒子を分散させることにより、めっき液
の吹き付けに際し、少なくとも基材１の表面に前記不溶
性粒子からの応力を与えるようにしてもよい。ここで、
基材１が酸化され易い金属により構成されている場合に
は、その表面には酸化皮膜が形成されやすいのである
が、このような構成とすることにより、酸化皮膜が不溶
性粒子によって削られる。そのため、酸化皮膜を除去す
るという前処理工程を省略することが可能となる。

【００４４】また、めっき液中に不溶性粒子を配合させ
たような場合には、流速を比較的遅くすることにより、
めっき層２中に不溶性粒子を共析させることもできる。
かかる場合には、不溶性粒子の共析により、めっき層２
の硬度を高めることができる等、付随的な効果をも期待
することができる。

【００４５】（２）前記各実施の形態では、断面円形状
の外筒部３１（第１の実施の形態）、内筒部４３（第２
の実施の形態）を有するジェットノズル１５，４１を用
いる構成としたが、例えば非円形状の開口部を有するノ
ズルを用いてもよい。

【００４６】（３）前記各実施の形態では、めっき層２
を形成する金属として、ニッケル系の金属を採用した
が、その他の金属を採用してもよい。（４）前記各実施の形態では、基材を構成する素材とし
てアルミニウムを採用したが、導電性を有する基材であ
れば、鉄等いかなるものにも適用しうる。

【００４７】（５）前記第２の実施の形態では、外筒部
４２及び内筒部４３の間のエアー通路４５から環状のジ
ェットエアーを吹きつける構成としたが、必ずしも環状
でなくてもよい。また、この場合、心棒４４を省略する
こともできる。

【００４８】さらに、エアーの代わりに他の気体（例え
ば窒素、アルゴン等）を用いてもよい。（６）前記各実施の形態では、説明の便宜上１つのジェ
ットノズル１５，４１のみを用いてめっきする場合につ
いて具体化したが、勿論、複数のノズルを用いてもよ
い。

【００４９】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の基材への
めっき方法によれば、基材表面の所望の部位にのみめっ
き層を容易に形成することができ、かつ、膜厚の均一化
を図ることができるという優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１の実施の形態のジェットノズルの先端部分
等を示す模式的な断面図である。

【図２】めっき装置を示す概略システム図である。

【図３】基材及びその表面に形成されためっき層並びに
ジェットノズルの一部を示す模式的な断面図である。

【図４】中心部分からの距離に対する電流密度の分布の
関係を示すグラフである。

【図５】中心部分からの距離に対する限界電流密度の分
布の関係を示すグラフである。

【図６】第２の実施の形態における基材及びその表面に
形成されためっき層並びにジェットノズルの一部を示す
模式的な断面図である。

【符号の説明】

１…基材、２…めっき層、１５，４１…ジェットノズ
ル、４５…エアー通路。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者奥宮正洋愛知県名古屋市天白区天白町島田黒石3785 −3391 シティーコーポ島田Ａ−302 (72)発明者恒川好樹愛知県岡崎市竜美南２丁目５−８ (72)発明者河合豊愛知県刈谷市朝日町２丁目１番地アイシン精機株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】めっき液を、ノズルの開口部から導電性
を有する基材の表面に吹き付けることで、該めっき液を
流速をもたせて衝突させ、前記めっき液で電気的に接続
された前記ノズル及び基材間に電圧をかけることにより
前記基材の任意の表面にめっき層を形成する基材へのめ
っき方法であって、少なくとも前記ノズルの先端部分には、前記めっき液が
流速をもって衝突する際に、その衝突する面のほぼ全面
にわたり衝突時の流速がほぼ均等になるような流速均等
化手段を設けたことを特徴とする基材へのめっき方法。
【請求項２】前記流速均等化手段は、前記ノズルの開
口部のほぼ中央部分から前記めっき液が噴出されないよ
う、少なくとも前記ノズルの先端部分の断面形状が、略
ドーナツ形状をなしているものであることを特徴とする
請求項１に記載の基材へのめっき方法。
【請求項３】前記流速均等化手段は、前記ノズルの開
口部の周縁部分から噴出されるめっき液がより加速され
るよう、前記ノズルの開口部の外周部分からほぼ噴出方
向に向けて気流を発生させる手段を有していることを特
徴とする請求項１又は２に記載の基材へのめっき方法。
【請求項４】前記めっき液中に不溶性粒子を分散させ
ることにより、前記めっき液の吹き付けに際し、少なく
とも前記基材の表面に前記不溶性粒子からの応力を与え
るようにしたことを特徴とする請求項１から３のいずれ
かに記載の基材へのめっき方法。