JPH10312461A - パターン検査方法及びパターン検査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 大容量のメモリを用いることなく被測定パタ
ーンを検査する。 【解決手段】 被測定パターンの設計時のＣＡＤデータ
あるいは被測定パターンの良品の画像データからマスタ
パターンの輪郭を示す直線を抽出する。この直線の始点
座標、終点座標をマスタパターン情報として登録する
（ステップ１０１、１０２）。被測定パターンをカメラ
で撮像して２値化する（ステップ１０３、１０４）。所
定の大きさの分割領域ごとに、マスタパターン情報に基
づいてマスタパターンの輪郭線を描き、対向する輪郭線
間を塗りつぶしてマスタパターンを画像メモリ上に展開
する（ステップ１０５）。このマスタパターンと被測定
パターンを比較する（ステップ１０８、１０９）。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、グリーンシートあ
るいはフィルムキャリア等に形成されたパターンを検査
する検査方法及び検査装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来より、ＩＣ、ＬＳＩの多ピン化要求
に適した実装技術として、ＰＧＡ（Pin Grid Array）が
知られている。ＰＧＡは、チップを付けるパッケージの
ベースとしてセラミック基板を用い、リード線の取り出
し位置まで配線を行っている。このセラミック基板を作
るために、アルミナ粉末を液状のバインダで練り合わせ
てシート状にしたグリーンシートと呼ばれるものが使用
され、このグリーンシート上に高融点の金属を含むペー
ストがスクリーン印刷される。そして、このようなシー
トを焼成することにより、グリーンシートを焼結させる
と共にペーストを金属化させる、いわゆる同時焼成が行
われる。

【０００３】また、その他の実装技術として、ＴＡＢ
（Tape Automated Bonding）が知られている。ＴＡＢ法
は、ポリイミド製のフィルムキャリア（ＴＡＢテープ）
上に形成された銅箔パターンをＩＣチップの電極に接合
して外部リードとする。銅箔パターンは、フィルムに銅
箔を接着剤で貼り付け、これをエッチングすることによ
って形成される。

【０００４】このようなグリーンシートあるいはフィル
ムキャリアでは、パターン形成後に顕微鏡を用いて人間
により目視でパターンの検査が行われる。ところが、微
細なパターンを目視で検査するには、熟練を要すると共
に、目を酷使するという問題点があった。そこで、目視
検査に代わるものとして、フィルムキャリア等に形成さ
れたパターンをＴＶカメラで撮像して自動的に検査する
技術が提案されている（例えば、特開平６−２７３１３
２号公報、特開平７−１１０８６３号公報）。ところ
が、このような検査方法では、被測定パターンの全体に
わたってマスタパターンとの比較による詳細な検査を繰
り返すため、パターン検査に時間がかかってしまうとい
う問題点があった。そこで、パターンの突起、欠損、断
線又は短絡を高速に検査することができる検査方法が提
案されている（特願平８−３０２８０７号）。

【０００５】特願平８−３０２８０７号に開示された検
査方法では、被測定パターンの設計時のＣＡＤデータあ
るいは被測定パターンの良品から作成した第１のマスタ
パターンを収縮処理して第２のマスタパターンを作成す
ると共に、第１のマスタパターンを膨張処理して第３の
マスタパターンを作成する。被測定パターンと第２のマ
スタパターンの論理積をとると、この論理積の結果は、
被測定パターンに欠損や断線があるか否かによって異な
り、被測定パターンと第３のマスタパターンの論理積を
とると、この論理積の結果は、被測定パターンに突起や
短絡があるか否かによって異なるので、被測定パターン
の欠陥候補を検出することができる。被測定パターンと
第２、第３のマスタパターンの論理積処理はハードウェ
アで実現でき、検出した欠陥候補を含む所定の領域だけ
処理時間のかかる被測定パターンと第１のマスタパター
ンの比較によって検査するので、被測定パターンの欠陥
を従来よりも高速に検査することができる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかし、以上のような
マスタパターンと被測定パターンとの論理演算により被
測定パターンの欠陥候補を検出して、欠陥候補を含む所
定の領域について被測定パターンとマスタパターンの誤
差を求めることにより被測定パターンを検査する検査方
法では、パターンエッジとその内側が画素「１」で塗り
つぶされたマスタパターンを用意しなければならず、こ
のようなマスタパターンはデータ量が非常に大きくなる
ので、マスタパターンを記憶するために大容量の画像メ
モリが必要になるという問題点があった。本発明は、上
記課題を解決するためになされたもので、大容量の画像
メモリを必要としない検査方法及び検査装置を提供する
ことを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、請求項１に記
載のように、被測定パターンの設計時のＣＡＤデータあ
るいは被測定パターンの良品の画像データからマスタパ
ターンの輪郭を示す直線を抽出して、抽出した直線の始
点座標、終点座標をマスタパターン情報として登録し、
所定の大きさの分割領域ごとに、マスタパターン情報に
基づいてマスタパターンの輪郭線を描き、対向する輪郭
線間を塗りつぶしてマスタパターンを画像メモリ上に展
開し、このマスタパターンと被測定パターンを比較する
ようにしたものである。このように、マスタパターンの
輪郭を示す直線を抽出して、この直線の始点座標、終点
座標をマスタパターン情報として登録することにより、
マスタパターンのデータ量を圧縮することができる。そ
して、所定の大きさの分割領域ごとに、マスタパターン
情報に基づいてマスタパターンの輪郭線を描き、対向す
る輪郭線間を塗りつぶしてマスタパターンを画像メモリ
上に展開し、このマスタパターンと被測定パターンを比
較すれば、マスタパターンを記憶する画像メモリは分割
領域の分だけの容量で足りることになる。

【０００８】また、請求項２に記載のように、被測定パ
ターンの設計時のＣＡＤデータあるいは被測定パターン
の良品の画像データからマスタパターンの輪郭を示す直
線を抽出して、抽出した直線の始点座標、終点座標をマ
スタパターン情報として登録するマスタパターン作成手
段と、所定の大きさの分割領域ごとに、マスタパターン
情報に基づいてマスタパターンの輪郭線を描き、対向す
る輪郭線間を塗りつぶしてマスタパターンを画像メモリ
上に展開し、このマスタパターンと被測定パターンを比
較する画像処理手段とを有するものである。また、請求
項３に記載のように、画像処理手段は、マスタパターン
を記憶するための画像メモリと、この画像メモリ上に所
定の大きさの分割領域ごとにマスタパターンの輪郭線を
描く描画手段と、このマスタパターンの対向する輪郭線
間を塗りつぶす塗りつぶし手段と、画像メモリに記憶さ
れたマスタパターンとカメラで撮像された被測定パター
ンを比較する検査手段とからなるものである。

【０００９】

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。図１は本発明の実施の形態
となるパターン検査方法を示すフローチャート図、図２
はこの検査方法で用いるパターン検査装置のブロック図
である。図２において、１はグリーンシート、２はグリ
ーンシート１を載せるＸ−Ｙテーブル、３はグリーンシ
ート１を撮像するラインセンサカメラ、４は被測定パタ
ーンの欠陥を検出して、この欠陥の位置を示すアドレス
情報を出力する第１の画像処理装置、５はこのアドレス
情報により欠陥を含む所定の領域について、被測定パタ
ーンとマスタパターンの誤差を求め、被測定パターンを
検査する第２の画像処理装置、６は装置全体を制御する
ホストコンピュータ、７は検査結果を表示するための表
示装置である。

【００１０】最初に、検査の前に予め作成しておくマス
タパターンについて説明する。ホストコンピュータ６
は、ＣＡＤ（Computer Aided Design ）システムによっ
て作成され例えば磁気ディスクに書き込まれたグリーン
シートの設計値データ（以下、ＣＡＤデータとする）を
図示しない磁気ディスク装置によって読み出す（図１ス
テップ１０１）。

【００１１】続いて、ホストコンピュータ６は、読み出
したＣＡＤデータからパターンのエッジデータを抽出す
る。このエッジデータは、パターンエッジを示す直線の
集合である。そして、抽出した直線の始点座標、終点座
標がマスタパターン情報として画像処理装置４に送ら
れ、後述するマスタメモリに格納される。こうして、検
査の基準となる第１のマスタパターンが作成される（ス
テップ１０２）。

【００１２】図３に第１のマスタパターンの輪郭線とそ
れに対応するマスタパターン情報の構造を示す。図３
（ａ）に示すように、マスタパターンＭの輪郭を示す直
線がＬ１〜Ｌ６のとき、これに対応するマスタパターン
情報は、図３（ｂ）に示すように、各直線の始点座標、
終点座標の集合となる。マスタパターン情報のフィール
ド２１には始点あるいは終点のｘ座標が格納され、フィ
ールド２２には始点あるいは終点のｙ座標が格納され
る。

【００１３】例えば、直線Ｌ１の始点の座標ｘ０，ｙ０
がマスタパターン情報の１行目に格納され、同じく終点
の座標ｘ１，ｙ１がマスタパターン情報の２行目に格納
される。直線Ｌ２の始点は直線Ｌ１の終点と同一なの
で、直線Ｌ１と重複して格納する必要がない。したがっ
て、直線Ｌ２の終点の座標ｘ２，ｙ２がマスタパターン
情報の３行目に格納される。同様に、直線Ｌ３の始点は
直線Ｌ２の終点と同一なので、直線Ｌ３の終点の座標ｘ
３，ｙ３が４行目に格納される。以下、同様にして直線
Ｌ４〜Ｌ６の始点座標、終点座標が格納される。

【００１４】なお、マスタパターン情報に座標が格納さ
れる順番は、反時計回りの方向である。また、ここでは
第１のマスタパターンの輪郭のみを抽出しているが、パ
ターン検査に使用される実際の第１のマスタパターン
は、パターンエッジとその内側が画素「１」で塗りつぶ
されたものである。

【００１５】次に、被測定パターンの検査について説明
する。まず、グリーンシート１をカメラ３によって撮像
する。そして、第１の画像処理装置４は、カメラ３から
出力された濃淡画像をディジタル化して、図示しない内
部の画像メモリにいったん記憶する（ステップ１０
３）。カメラ３は、Ｘ方向に画素が配列されたラインセ
ンサなので、Ｘ−Ｙテーブル２あるいはカメラ３をＹ方
向に移動させることにより、２次元の画像データが画像
メモリに記憶される。

【００１６】続いて、画像処理装置４は、画像メモリに
記憶された被測定パターンの濃淡画像を２値化する（ス
テップ１０４）。被測定パターンの濃淡画像データに
は、パターンとそれ以外の背景（グリーンシート等の基
材）とが含まれているが、パターンと背景には濃度差が
あるので、パターンの濃度値と背景の濃度値の間の値を
しきい値として設定すれば、パターンは「１」に変換さ
れ、背景は「０」に変換される。こうして、パターンエ
ッジとその内側が画素「１」で塗りつぶされた被測定パ
ターンを得ることができる。

【００１７】次いで、画像処理装置４は、マスタメモリ
に記憶されたマスタパターン情報に基づいて所定の大き
さの分割領域ごとに第１のマスタパターンを画像メモリ
である解凍メモリ上に展開する（ステップ１０５）。以
下、このようなマスタパターンの生成処理を解凍処理と
呼ぶ。図４はこの解凍処理を示すフローチャート図、図
５は解凍処理を実行する処理部のブロック図、図６は解
凍処理を説明するための図である。なお、図６では、パ
ターンに相当する画素「１」のみを図示し、背景に相当
する画素「０」を不図示としている。

【００１８】解凍処理を実行する処理部は、マスタパタ
ーン情報を記憶しているマスタメモリ１１、マスタパタ
ーン情報から生成された第１のマスタパターンを記憶す
る解凍メモリ１２、解凍メモリ１２のデータをクリアす
るクリア処理部１３、マスタパターン情報に基づいてマ
スタパターンの輪郭線を描く描画処理部１４、マスタパ
ターンの対向する輪郭線間を塗りつぶす塗りつぶし処理
部１５、クリア処理部１３、描画処理部１４、塗りつぶ
し処理部１５のうち何れかを選択して解凍メモリ１２と
接続するセレクタ１６から構成されている。

【００１９】まず、セレクタ１６は、図示しないＣＰＵ
の制御によってクリア処理部１３と解凍メモリ１２を接
続し、クリア処理部１３は、解凍メモリ１２の画像デー
タをクリア（全て「０」）する（ステップ２０１）。

【００２０】続いて、セレクタ１６は、ＣＰＵの制御に
よって描画処理部１４と解凍メモリ１２を接続し、描画
処理部１４は、図６（ａ）に示すように、マスタメモリ
１１に格納されたマスタパターン情報を基にマスタパタ
ーンの輪郭線を描く（ステップ２０２）。このとき、描
画処理部１４は、以下に示すような規則１〜５に従って
輪郭線を描く。

【００２１】１．始点座標と終点座標で表される直線の
ｘ方向の変化量をｄｘ、同じくｙ方向の変化量をｄｙと
し、ｙ方向に座標を１ずつ移動しながらｘ座標を算出し
て、座標（ｘ，ｙ）で指定される解凍メモリ１２上のア
ドレスのデータを「１」とする。ここで、始点ｘ座標を
ｘａ、始点ｙ座標をｙａ、終点ｘ座標をｘｂ、終点ｙ座
標をｙｂとすると、変化量ｄｘ、ｄｙは次式となる。 ｄｘ＝（ｘｂ−ｘａ） ・・・（１） ｄｙ＝（ｙｂ−ｙａ） ・・・（２）

【００２２】そして、ｘ座標は、例えば次式のように算
出することができる。 ｘ＝（ｄｘ／ｄｙ）×（ｙ−ｙａ）＋ｘａ ・・・（３） 式（３）において、ｙを始点のｙ座標ｙａから終点のｙ
座標ｙｂまで１つずつ変化させながら、ｘを算出して、
座標（ｘ，ｙ）で指定される解凍メモリ１２上のアドレ
スのデータを「１」とすればよい。ただし、ｘの小数点
以下は例えば四捨五入することによって整数値に近似す
る。

【００２３】２．輪郭線が下り線の場合、始点は描き、
終点は描かないものとする。例えば図６（ａ）におい
て、座標（ｘｃ，ｙｃ）の始点と座標（ｘｄ，ｙｄ）の
終点で表される輪郭線は下り線である。したがって、座
標（ｘｃ，ｙｃ）のデータは「１」となり、座標（ｘ
ｄ，ｙｄ）のデータは「０」となる（図６（ａ）では破
線で図示）。始点と終点の間の画素は上記の規則１に基
づいて描かれる。なお、次の直線が座標（ｘｄ，ｙｄ）
を始点とする下り線であれば、この直線を描画する時点
で座標（ｘｄ，ｙｄ）のデータが「１」となる。

【００２４】３．輪郭線が上り線の場合、終点は描き、
始点は描かないものとする。例えば図６（ａ）におい
て、座標（ｘｅ，ｙｅ）の始点と座標（ｘｆ，ｙｆ）の
終点で表される輪郭線は上り線である。よって、座標
（ｘｅ，ｙｅ）のデータは「０」となり（図６（ａ）で
は破線で図示）、座標（ｘｆ，ｙｆ）のデータは「１」
となる。始点と終点の間の画素は上記の規則１に基づい
て描かれる。なお、次の直線が座標（ｘｆ，ｙｆ）を始
点とする上り線であっても、始点は描かないので、座標
（ｘｆ，ｙｆ）の値は「１」のままである。

【００２５】４．「１」を描こうとした位置のデータが
既に「１」であった場合は、このデータを「０」にす
る。 ５．真横の線（ｄｙが０の線）は描かない。この規則
４，５の理由については後述する。

【００２６】次に、セレクタ１６は、ＣＰＵの制御によ
って塗りつぶし処理部１５と解凍メモリ１２を接続し、
塗りつぶし処理部１５は、図６（ｂ）に示すように、対
向する輪郭線間を塗りつぶす（ステップ２０３）。この
とき、塗りつぶし処理部１５は、矢印で示すように各水
平ラインを左端から走査し、データ「１」を検出する
と、これより後のアドレスのデータを「０」から「１」
に反転する。そして、次にデータ「１」を検出すると、
このデータを「０」に反転する。このような処理を１水
平ラインごとに繰り返す。

【００２７】例えば、左端から走査を開始して、最初に
座標（ｘｃ，ｙｃ）のデータ「１」を検出すると、これ
より後のアドレスのデータを順次「１」に反転し、座標
（ｘｆ，ｙｆ）のデータ「１」を検出すると、このデー
タを「０」に反転する（図６（ｂ）では破線で図示）。
以後、同様の処理を繰り返せばよい。

【００２８】以上のような輪郭線の描画と塗りつぶし処
理によれば、塗りつぶしの対象となる輪郭線の内側、す
なわちパターンの内側かどうかを確認する必要がない。
このような確認を不要とすることにより、塗りつぶしを
ハードウェアで容易に行うことができ、その結果、高速
な処理が可能となる。

【００２９】次に、規則４，５の理由について説明す
る。例えば図７のように、座標（ｘｇ，ｙｇ）で始まっ
て同座標で終わる菱形状の輪郭線を描いて、これの内部
を塗りつぶすことを考える。座標（ｘｇ，ｙｇ）が
「１」になっていると、上記の塗りつぶし規則により、
これより後のアドレスのデータを「１」にしてしまう。
これは、菱形の外側を塗りつぶすことを意味する。

【００３０】そこで、最初に座標（ｘｇ，ｙｇ）を描い
た後に、再度描くときには、座標（ｘｇ，ｙｇ）のデー
タ「１」を検出して、これを「０」にする。これによ
り、上記のような問題を避けることができる。規則５の
理由も同様である。なお、座標（ｘｈ，ｙｈ）について
も同様の問題が発生するが、これは規則２，３によって
回避することができる。こうして、解凍メモリ１２のメ
モリ領域上に第１のマスタパターンを生成することがで
きる。

【００３１】次に、画像処理装置４は、第１のマスタパ
ターンから欠損、ピンホール又は断線検出用の第２のマ
スタパターン、突起、飛び散り又は短絡検出用の第３の
マスタパターンを以下のように作成する（ステップ１０
６）。図８は第２、第３のマスタパターンの作成方法を
説明するための図であり、第１のマスタパターンの一部
を示している。

【００３２】まず、図８（ａ）に示すように、第１のマ
スタパターンをその中心線と直角の方向に収縮させて、
第２のマスタパターンＭ１を作成する。これは、第１の
マスタパターンの両エッジを示す対向する直線Ａ１とＡ
４（中心線はＬ１）の間隔、及びＡ２とＡ３（中心線は
Ｌ２）の間隔を狭くして第１のマスタパターンを細らせ
ることにより作成することができる。

【００３３】この第２のマスタパターンＭ１による欠陥
検出の精度は、第１のマスタパターンをどれだけ収縮さ
せるかによって決まる。例えば、第１のマスタパターン
の幅の１／５を超える欠損が存在するときに欠陥と認識
したい場合は、第２のマスタパターンＭ１の幅を第１の
マスタパターンの幅の３／５となるように縮小すればよ
い。検出精度は、画素単位や実際の寸法で決めてもよい
ことは言うまでもない。こうして、欠損、ピンホール又
は断線検出用の第２のマスタパターンＭ１が作成され
る。

【００３４】続いて、図８（ｂ）に示すように、第１の
マスタパターンをその中心線と直角の方向に膨張させ
て、第３のマスタパターンＭ２を作成する。これは、第
１のマスタパターンの両エッジを示す対向する直線Ａ５
とＡ８（中心線はＬ３）、Ａ６とＡ７（中心線はＬ
４）、Ａ９とＡ１２（中心線はＬ５）及びＡ１０とＡ１
１（中心線はＬ６）の間隔をそれぞれ広くして第１のマ
スタパターンを太らせることにより作成することができ
る。

【００３５】ただし、実際に第３のマスタパターンＭ２
になるのは、直線Ａ５〜Ａ８からなるマスタパターンＭ
ａと、直線Ａ９〜Ａ１２からなるマスタパターンＭｂを
それぞれ膨張処理して生じた２つのパターンに挟まれた
領域（パターンが存在しない基材の部分）である。つま
り、膨張処理した結果を論理反転したものである。

【００３６】この第３のマスタパターンＭ２による欠陥
検出の精度は、第１のマスタパターンをどれだけ膨張さ
せるかによって決まる。例えば、第１のマスタパターン
の幅の１／５を超える欠損が存在するときに欠陥と認識
したい場合は、第３のマスタパターンＭ２の幅を第１の
マスタパターンの幅の７／５となるように拡大すればよ
い。また、画素単位や実際の寸法で検出精度を決めても
よいことは第２のマスタパターンと同様である。こうし
て、突起、飛び散り又は短絡検出用の第３のマスタパタ
ーンＭ２が作成される。

【００３７】なお、図８では、説明を簡単にするため
に、パターンエッジを意味する直線のみで第１のマスタ
パターンを表し、パターンエッジを意味する直線とその
内側を意味する斜線で第２、第３のマスタパターンを表
しているが、実際の第１〜第３のマスタパターンは、パ
ターンエッジとその内側が画素「１」で塗りつぶされた
ものである。

【００３８】次いで、被測定パターンとマスタパターン
の位置合わせを行う（ステップ１０７）。なお、第１の
マスタパターンから作成した第２のマスタパターンＭ１
と第３のマスタパターンＭ２間の位置関係は分かってい
るので、マスタパターンと被測定パターンの位置合わせ
は１回行えばよい。

【００３９】続いて、画像処理装置４は、第２、第３の
マスタパターンの各々と２値化された被測定パターンを
比較して、被測定パターンを検査する（ステップ１０
８）。これらの検査は、後述するハードウェアによって
同時に実施される。

【００４０】まず、第２のマスタパターンとの比較によ
る検査について説明する。図９はこの検査方法を説明す
るための図である。なお、図９では、第２のマスタパタ
ーンＭ１をパターンエッジを意味する直線とその内側を
意味する斜線で表し、被測定パターンＰをパターンエッ
ジを意味する直線とその内側を意味する梨地で表してい
る。

【００４１】画像処理装置４内の図示しない論理積回路
は、被測定パターンＰと第２のマスタパターンＭ１の論
理積をとる。この論理積の結果は、被測定パターンＰに
欠損や断線等があるか否かによって異なる。被測定パタ
ーンＰに欠損や断線等がない場合は、マスタパターンＭ
１と対応する領域（図９において、パターンＭ１と重な
っている領域）の被測定パターンＰの画素が全て「１」
なので、マスタパターンＭ１と対応する領域における論
理積の結果が全て「１」となる。

【００４２】これに対し、被測定パターンＰに欠損（画
素「０」）が存在する場合は、マスタパターンＭ１と対
応する領域において論理積の結果が「０」となる画素が
存在することになる。これは、マスタパターンＭ１と対
応する領域にピンホールや断線が存在する場合も同様で
ある。こうして、被測定パターンの欠損、ピンホールあ
るいは断線を検出することができる。そして、画像処理
装置４は、論理積の結果が「０」となって欠陥と認識し
た位置（図９では、Ｃの位置）を記憶する。

【００４３】次に、第３のマスタパターンとの比較によ
る検査について説明する。図１０はこの検査方法を説明
するための図である。なお、図１０では、第３のマスタ
パターンＭ２をパターンエッジを意味する直線とその内
側を意味する斜線で表し、被測定パターンＰをパターン
エッジを意味する直線とその内側を意味する梨地で表し
ている。

【００４４】画像処理装置４内の図示しない論理積回路
は、被測定パターンＰと第３のマスタパターンＭ２の論
理積をとる。この論理積の結果は、被測定パターンＰに
突起や短絡等があるか否かによって異なる。被測定パタ
ーンＰに突起や短絡等がない場合は、マスタパターンＭ
２と対応する領域（図１０において、パターンＭ２と重
なっている領域）の被測定パターンＰの画素が全て
「０」なので、マスタパターンＭ２と対応する領域にお
ける論理積の結果が全て「０」となる。

【００４５】これに対し、被測定パターンＰに突起（画
素「１」）が存在する場合は、マスタパターンＭ２と対
応する領域において論理積の結果が「１」となる画素が
存在することになる。同様に２本の被測定パターンＰが
短絡していると、マスタパターンＭ２と対応する領域に
おいて論理積の結果が「１」となる画素が存在する。こ
れは、マスタパターンＭ２と対応する領域に飛び散りが
存在する場合も同様である。

【００４６】こうして、被測定パターンの突起、飛び散
りあるいは短絡を検出することができる。そして、画像
処理装置４は、論理積の結果が「１」となって欠陥と認
識した位置（図１０では、Ｄ，Ｅの位置）を記憶する。

【００４７】以上のような検査を上記分割領域について
行った後、画像処理装置４は記憶した欠陥の位置をアド
レス情報として出力する。第２の画像処理装置５は、第
１の画像処理装置４から送られたアドレス情報に基づ
き、検出された欠陥を中心とする所定の大きさの領域に
ついて、被測定パターンと上記第１のマスタパターンを
ソフトウエア処理で比較して誤差を求め、被測定パター
ンの検査を行う（ステップ１０９）。

【００４８】以上のようなステップ１０５〜１０９の処
理をマスタパターンの全領域を所定の大きさに分割した
分割領域及びこれに対応する被測定パターンの分割領域
ごとに繰り返すことにより、被測定パターン全体を検査
することができる。第２、第３のマスタパターンの各々
と被測定パターンとの比較検査は、ハードウェアで実現
でき、検出した欠陥を含む所定の領域だけ、処理時間の
かかる被測定パターンと第１のマスタパターンの比較に
よって検査するので、被測定パターンの欠陥を高速に検
査することができる。

【００４９】なお、本実施の形態では、ＣＡＤデータか
ら第１のマスタパターンを作成しているが、良品と判定
された被測定パターンを撮像し、このパターンのエッジ
を直線化して、マスタパターン情報を作成するようにし
てもよい。また、画像処理装置４，５の構成を複数設け
て、複数の分割領域の処理を並行して行うようにしても
よい。このようにすれば、検査を更に高速化することが
できる。

【００５０】

【発明の効果】本発明によれば、請求項１に記載のよう
に、マスタパターンの輪郭を示す直線を抽出して、この
直線の始点座標、終点座標をマスタパターン情報として
登録することにより、マスタパターンのデータ量を圧縮
することができる。そして、分割領域ごとに、マスタパ
ターン情報に基づいてマスタパターンの輪郭線を描き、
対向する輪郭線間を塗りつぶして、このマスタパターン
と被測定パターンを比較することにより、マスタパター
ンを記憶する画像メモリは分割領域の分だけの容量で足
りることになる。その結果、大容量のメモリを用いるこ
となく被測定パターンを高速に検査することができる。

【００５１】また、請求項２に記載のように、パターン
検査装置をマスタパターン作成手段及び画像処理手段か
ら構成することにより、大容量のメモリを用いることな
く被測定パターンを高速に検査することができるパター
ン検査装置を容易に実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施の形態となるパターン検査方法
を示すフローチャート図である。

【図２】 パターン検査装置のブロック図である。

【図３】 第１のマスタパターンの輪郭線とマスタパタ
ーン情報の構造を示す図である。

【図４】 解凍処理を示すフローチャート図である。

【図５】 解凍処理を実行する処理部のブロック図であ
る。

【図６】 解凍処理を説明するための図である。

【図７】 解凍処理を説明するための図である。

【図８】 第２、第３のマスタパターンの作成方法を説
明するための図である。

【図９】 第２のマスタパターンとの比較による検査方
法を説明するための図である。

【図１０】 第３のマスタパターンとの比較による検査
方法を説明するための図である。

【符号の説明】

１…グリーンシート、２…Ｘ−Ｙテーブル、３…ライン
センサカメラ、４…第１の画像処理装置、５…第２の画
像処理装置、６…ホストコンピュータ、７…表示装置。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基準となるマスタパターンとカメラで撮
   像した被測定パターンを比較することにより被測定パタ
   ーンを検査するパターン検査方法において、 被測定パターンの設計時のＣＡＤデータあるいは被測定
   パターンの良品の画像データからマスタパターンの輪郭
   を示す直線を抽出して、抽出した直線の始点座標、終点
   座標をマスタパターン情報として登録し、 所定の大きさの分割領域ごとに、前記マスタパターン情
   報に基づいてマスタパターンの輪郭線を描き、対向する
   輪郭線間を塗りつぶしてマスタパターンを画像メモリ上
   に展開し、このマスタパターンと被測定パターンを比較
   することを特徴とするパターン検査方法。
2. 【請求項２】 被測定パターンの設計時のＣＡＤデータ
   あるいは被測定パターンの良品の画像データからマスタ
   パターンの輪郭を示す直線を抽出して、抽出した直線の
   始点座標、終点座標をマスタパターン情報として登録す
   るマスタパターン作成手段と、 所定の大きさの分割領域ごとに、前記マスタパターン情
   報に基づいてマスタパターンの輪郭線を描き、対向する
   輪郭線間を塗りつぶしてマスタパターンを画像メモリ上
   に展開し、このマスタパターンと被測定パターンを比較
   する画像処理手段とを有することを特徴とするパターン
   検査装置。
3. 【請求項３】 前記画像処理手段は、マスタパターンを
   記憶するための画像メモリと、 この画像メモリ上に所定の大きさの分割領域ごとにマス
   タパターンの輪郭線を描く描画手段と、 このマスタパターンの対向する輪郭線間を塗りつぶす塗
   りつぶし手段と、 前記画像メモリに記憶されたマスタパターンとカメラで
   撮像された被測定パターンを比較する検査手段とからな
   るものであることを特徴とするパターン検査装置。