JPH10311788A - 劣化度診断装置 - Google Patents

劣化度診断装置

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JPH10311788A
JPH10311788A JP12253597A JP12253597A JPH10311788A JP H10311788 A JPH10311788 A JP H10311788A JP 12253597 A JP12253597 A JP 12253597A JP 12253597 A JP12253597 A JP 12253597A JP H10311788 A JPH10311788 A JP H10311788A
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JP
Japan
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light
deterioration degree
optical fiber
light source
deterioration
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Application number
JP12253597A
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English (en)
Inventor
Akira Segawa
昌 瀬川
Masateru Nakano
政輝 中野
Minokichi Miura
巳之吉 三浦
Yoshitaka Takezawa
由▲高▼ 竹澤
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Hitachi Ltd
Hitachi Building Systems Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Building Systems Co Ltd
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  • Testing Resistance To Weather, Investigating Materials By Mechanical Methods (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 運転を停止させることなく既存の機器に対し
ても劣化度を診断することができるようにした劣化度診
断装置を提供する。 【解決手段】 各光源装置2,3から照射用光ファイバ
9を介して副白板4および被測定物11に照射光を与え
て求めた基準反射光量I1,I2および反射光量I
1′,I2′とを用いて各波長における反射吸収光度差
ΔAλを演算し、これら演算値と予め被測定物の劣化度
との関係から比較演算する劣化度演算部を設け、照射用
光ファイバ9と光源装置2,3間だけで光ファイバの接
続を切り替えるようにし、しかも、その切り替えの度に
基準反射光量I1,I2を測定して各波長における反射
吸収光度差ΔAλを演算するようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は劣化度診断装置に係
わり、特に、絶縁材料等の被測定物の劣化度を非破壊で
測定する劣化度診断装置に関する。
【0002】
【従来の技術】回転電動機等の絶縁材料や構造材料の劣
化度を評価する劣化度診断装置は、特開昭64−841
62号公報に記載されているように、白色の標準光源か
ら照射用光ファイバで導いた照射光を絶縁材料と同じ材
料で構成されているセンサ部で反射させ、この反射光を
受光用光ファイバを通して検出し、Lab表色系に基づ
いた色度あるいは色度差によって表色演算を行なうよう
に構成されている。ここで、Lは明度指数で明るさを表
し、aおよびbはクロマティック指数と呼ばれ、色度つ
まり色相と彩度を表わしている。また、特開平3−22
6651号公報に記載されているように、白色の標準光
源から照射用光ファイバで導いた照射光を絶縁材料と同
じ材料で構成されているセンサ部を透過させ、この透過
光を受光用光ファイバを通して検出し、Lab表色系に
基づいた色度あるいは色度差によって表色演算を行なう
透過光方式の劣化度診断装置も提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
従来の反射光方式および透過光方式の劣化度診断装置で
は、回転機等の機器製造時に機器内の絶縁層中に昭明用
光ファイバ、受光用光ファイバおよびセンサ部をそれぞ
れ埋設しておく必要があり、これらを埋設していない既
存の回転機等では劣化度の診断ができない。
【0004】本発明の目的とするところは、運転を停止
させることなく既存の機器に対しても劣化度を診断する
ことができるようにした劣化度診断装置を提供すること
にある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、少なくとも二つの異なる波長の光源装置
と、これら各光源装置からの照射光を副白板および被測
定物に与える照射用光ファイバと、上記各光源装置から
上記照射用光ファイバを介して上記副白板および上記被
測定物に照射光を与えて求めた基準反射光量および反射
光量を用いて各波長における反射吸収光度差、反射吸光
度比および反射損出差の少なくとも一つを演算すると共
に、この演算値と予め被測定物の劣化度との関係から比
較演算する劣化度演算部とを設けたことを特徴とする。
【0006】本発明による劣化度診断装置は、上述の如
く各光源装置から照射用光ファイバを介して副白板に照
射光を与えて求めた基準反射光量と、この照射用光ファ
イバを介して被測定物に照射光を与えて求めた反射光量
とを用いて各波長における反射吸収光度差などを演算
し、これら演算値と予め被測定物の劣化度との関係から
比較演算する劣化度演算部を設けているため、運転を停
止させることなく既存の機器に対しても劣化度を診断す
ることができるようになり、光ファイバの接続を切り替
えるのは、照射用光ファイバと光源装置間だけで少なく
なり、複数の光結合器を用いないで構成して全体を簡潔
にすることができ、しかも、光ファイバの切り替えの度
に基準反射光量を測定して各波長における反射吸収光度
差もしくは反射吸光度比あるいは反射損出差を演算する
ことが可能になり、正確でばらつきのない劣化度の診断
を行なうことができる。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
によって説明する。図1は、本発明の一実施の形態によ
る劣化度診断装置のブロック図を示している。波長の異
なる複数の光源装置2,3には、それぞれ本体側コネク
タ2A,3Aが設けられ、照射用光ファイバ9の光源装
置側に設けたファイバ側コネクタ9Aが選択的に接続可
能になっている。照射用光ファイバ9の他端には反射光
測定部10が取り付けられ、この光量測定部8には反射
用光ファイバ13を介して光量測定部8および劣化度演
算部1が接続されている。反射光測定部10は、拡大斜
視図である図2に示すように被測定物11あるいは副白
板4の表面から光ファイバ9,13が所定の距離を保持
して配置されると共に、外部からの迷光を遮断する包囲
体状になされ、被測定物11あるいは副白板4の表面に
照射用光ファイバ9からの照射光5を与え、被測定物1
1あるいは副白板4の表面からの反射光12を反射用光
ファイバ13に導くようにしている。
【0008】次に、図7に示すフローチャートを用いて
上述した劣化度診断装置による劣化度の測定手順を説明
する。まず、ステップS1で図1に示したように各機器
を組み上げて光量測定部8のゼロセットを行なった後、
ステップS2に示す副白板による校正作業、つまり、光
源装置3からの照射光に対する基準反射光量を測定す
る。今、図1の実線で示すように照射用光ファイバ9の
ファイバ側コネクタ9Aが光源装置3の本体側コネクタ
3Aに接続されているので、このままの状態で図2に示
すように反射光測定部10を副白板4の表面に配置す
る。ここで、光源装置3からピーク波長λ1の単色光、
例えば660nmのLED光を供給すると、照射用光フ
ァイバ9を介して反射光測定部10に送られた照射光5
は、副白板4の表面で反射し反射光12として反射用光
ファイバ13を介して光量測定部8に到達する。光量測
定部8では、光源装置3からのピーク波長λ1の単色光
の基準反射光量I1として計測して劣化度演算部1に出
力し、この劣化度演算部1では光源装置3の基準反射光
量I1を記憶する。
【0009】次に、ステップS3として被測定物11で
ある絶縁物表面の劣化判定のために反射光量の測定を行
なう。このとき、上述の基準光量I1を測定するために
照射用光ファイバ9のファイバ側コネクタ9Aと光源装
置3の本体側コネクタ3Aとが接続されているので、こ
のままの状態で、反射光測定部10を今度は被測定物1
1である絶縁物表面に図2のように配置する。この状態
を保持しながら、光源装置3からのピ−ク波長λ1の単
色光を照射すると、この照射光5は、照射用光ファイバ
9を伝送して反射光測定部10内で被測定物11の表面
で反射光12として反射される。この反射光12は受光
用光ファイバ13から光量測定部8に送られて反射光量
I1′が測定され、劣化度演算部1に出力される。この
とき劣化度演算部1では、ピーク波長λ1における被測
定物11の反射率をRλ1とするとき、Rλ1=(I
1′/I1)×100(%)が計算され、また次の数式
(1)によってピ−ク波長λ1における反射吸光度Aλ
1が算出されて記憶される。 Aλ1=−1og(Rλ1/100) (1) 次のステップS4では、反射光測定部10を被測定物1
1である絶縁物表面に図2のように配置した状態を保持
したまま、図1に点線で示すように照射用光ファイバ9
のファイバ側コネクタ9Aを光源装置3の本体側コネク
タ3Aから外して、光源装置2の本体側コネクタ2Aに
接続する。その後、ステップS5で光源装置2からピー
ク波長λ2の単色光を照射すると、光量測定部8に送ら
れて反射光量I2′が測定され劣化度演算部1に出力さ
れる。
【0010】次いで、ステップS6として、反射光測定
部10を被測定物11である絶縁物表面から離して、先
の基準反射光量I1の測定の場合と同様に、図2に示す
ように反射光測定部10を副白板4の表面に配置して基
準反射光量I2を測定する。このとき、光源装置2から
ピーク波長λ2の単色光、例えば780nmのLED光
を供給すると、照射用光ファイバ9を介して反射光測定
部10に送られた照射光5は、副白板4の表面で反射し
反射光12として反射用光ファイバ13を介して光量測
定部8に到達する。光量測定部8では、光源装置2から
のピーク波長λ2の単色光の基準反射光量I2を計測し
て劣化度演算部1に出力し、この劣化度演算部1では光
源装置2の基準反射光量I2を記憶する。このように光
源装置2からの照射においては、光源装置3の場合とは
逆に、先ず反射光量I2′の測定を行ない、次いで基準
反射光量I2の測定を行なうようにしたため、反射光測
定部10を被測定物11である絶縁物表面に図2のよう
に配置した状態を保持させることができ、条件を余り変
えることなきばらつきない反射光量I1′および反射光
量I2′の測定を行なうことができる。
【0011】上述した基準反射光量I1,I2および反
射光量I1′,I2′の測定は、測定精度を高めるため
に被測定物11の複数箇所で繰り返し行なう。そこで、
次のステップS7では被測定物11の測定位置を変え
る。その後は、先の測定位置での最後の測定で用いた光
源装置2と照射用光ファイバ9との接続状態を保持しな
がら、次の測定位置ではステップS8に示すように最初
にこの光源装置2を照射しての校正作業行なう。つま
り、ステップS8の副白板による校正作業は、ステップ
S6で反射光測定部10を副白板4の表面に配置した状
態を保持して、光源装置2からピーク波長λ2の単色光
を照射し、光源測定部8で測定された基準反射光量I2
を劣化度演算部1に出力し記憶させるので、条件を変え
ずにばらつきのない測定を行なうことができる。
【0012】次いで、ステップS9として反射光測定部
10を副白板4の表面から離し、図2に示すように反射
光測定部10を被測定物11の新たな位置の表面に配置
して反射光量I2を測定する。光量測定部8では、これ
を劣化度演算部1に出力して光源装置2による反射光量
I2′として記憶させる。次のステップS10では、反
射光測定部10を被測定物11である絶縁物表面に図2
のように配置した状態を保持したまま、図1に実線で示
すように照射用光ファイバ9のファイバ側コネクタ9A
を光源装置2の本体側コネクタ2Aから外して光源装置
3の本体側コネクタ3Aに接続する。その後、ステップ
S11で光源装置3からピーク波長λ1の単色光を照射
すると、光量測定部8に送られて反射光量I1′が測定
され劣化度演算部1に出力される。
【0013】次いで、ステップS12では、被測定物1
1である絶縁物表面における所定回数の測定が終了した
か否かを判断し、測定が所定回数に達していたなら、ス
テップS14に示すように、反射光測定部10を被測定
物11である絶縁物表面の所定位置から離して、副白板
4の表面に配置して基準反射光量I1を測定する。この
ようにして所定回数の測定が完了したなら、劣化度演算
部1はステップS15の劣化度判定を行なう。
【0014】劣化度演算部1では、上述の場合と同様に
してピーク波長λ2における被測定物11の反射率をR
λ2とするとき、Rλ2=(I2′/I2)×100
(%)が計算され、また劣化度演算部1で次の数式
(2)によってピーク波長λにおける反射吸光度Aλ2
が算出されて記憶される。 Aλ2=−1og(Rλ2/100) (2) また劣化度演算部1は、このようにして得られた各測定
位置でのピーク波長λ1,λ2における反射吸光度率A
λ1,Aλ2から、各ピーク波長λ1,λ2の波長間の
反射吸光度差ΔAλを次の数式(3)により得る。 ΔAλ=Aλ1−Aλ2 (3) また、劣化度演算部1には、図5の特性図に示すような
絶縁物の劣化度に対応した反射吸光度差ΔAλのマスタ
ーカーブが予め記憶されており、劣化度演算部1では、
上述の実測した反射吸光度差ΔAλと、このマスターカ
ーブから劣化度θを判定し、図示を省略した適当な出力
手段で外部に出力する。
【0015】一般に、有機材料の熱劣化に伴う反射吸光
度スペクトルの変化は、図3に示した特性曲線で代表さ
れ、劣化に伴って可視領域の短波長側で反射吸光度は著
しい増加を示し、光量測定部8の測定レンジ上の制約か
ら660nm未満の波長領域では機器の寿命点まで使用
されている材料の反射吸光度を測定し続けることが実質
的に困難である。この短波長側での反射吸光度の増加
は、主に材料の熱酸化劣化反応による電子遷移吸収損失
の増大に起因する。また劣化度の増大に伴って反射吸光
度Aλは短波長側ほど増加するため、任意の二波長間の
反射吸光度差ΔAλも同様に増加する。ここで、λ1<
λ2とすると、図3においてピーク波長λ1(nm)と
ピーク波長λ2(nm)間の反射吸光度差は劣化度の大
きい材料から順にα1>α2>α3という関係が成り立
つ。
【0016】図4は、表面汚損のない絶縁物表面上で測
定した場合の反射吸光度スペクトルと、同じ劣化度で表
面汚損のある絶縁物表面上で測定した場合の反射吸光度
スペクトルを示している。ピーク波長λ1,λ2間にお
ける反射吸光度差ΔAλを表面汚損がないときΔαと
し、また表面汚損があるときΔα′とすると、絶縁材料
が同じ劣化度であれば汚損の有無に関係なくΔα≒Δ
α′となる。表面の汚損は反射光の絶対強度を劣化させ
るが、一般に波長依存性が小さく、特に後述する波長領
域では波長に依らず一定であると考えて良い。同様のこ
とは、凹凸を有する絶縁物の表面における測定に対して
も当てはまる。このようにして、任意の二波長間の反射
吸光度差ΔAλを用いれば被測定物11の表面の汚損並
びに形状の影響を殆ど受けずに劣化度を測定することが
できる。
【0017】また特開平3−326651号公報に記載
のように、劣化度は換算時間θで表わすのが一般的であ
る。この換算時間θで表わすことにより、様々な熱履歴
を有する絶縁材料であっても換算時間θが等しければ同
じ劣化度を表すことになり、換算時間θ(Hr)は図6
に示した数式14で定義される。この数式14で、ΔE
は熱劣化のみかけの活性化エネルギー(J/mo1),
Rは気体定数(J/K/mo1),Tは熱劣化の絶対温
度(K),tは劣化時間(Hr)である。絶縁物を形成
する樹脂やオイル等のΔEは数種の劣化温度に対する反
射吸光度差ΔAλの変化をアレニウスプロットすること
によって容易に換算することができる。さらに、予め求
めておいた樹脂やオイル等を用いた機器の寿命点におけ
る換算時間をθ0とすれば、実測から求めた換算時間θ
との差Δθが余寿命に相当する換算時間となり、劣化度
判定の尺度となる。すなわち、余寿命Δθ(Hr)は、
図6に示す数式15で表され、この数式15により、時
間t以降の機器の使用温度条件が定まれば余寿命の時間
Δt(=t0−t)を求めることができる。
【0018】上述したように、被測定物11における劣
化度の測定個所を変える度に光源装置2,3の接続を変
えないで、前回の位置での最後の測定に用いた光源装置
を次回の測定位置での最初の測定に用いるようにしてい
るので、照射用光ファイバ9の接続替えの回数は減少し
て測定作業を簡素化するとともに、条件を合わせてばら
つきを防止することができる。また、接続替えによって
測定値にばらつきが生じる可能性があるが、接続替えの
度に、基準反射光量I1,I2を測定して校正している
ため、正確でばらつきのない劣化度の診断を行なうこと
ができる。さらに、図1に示した劣化度診断装置は、各
光源装置2,3から照射用光ファイバ9を介して副白板
4に照射光を与えて求めた基準反射光量I1,I2と、
この照射用光ファイバ9を介して被測定物11に照射光
を与えて求めた反射光量I1′,I2′とを用いて各波
長における反射吸収光度差ΔAλを演算し、これら演算
値と予め被測定物の劣化度との関係から比較演算する劣
化度演算部1を設けているため、運転を停止させること
なく既存の機器に対しても劣化度を診断することができ
るようになり、光ファイバの接続を切り替えるのは、照
射用光ファイバ9と光源装置2,3間だけで少なくな
り、複数の光結合器を用いないで構成して全体を簡潔に
することができる。
【0019】本発明の他の実施の形態による劣化度診断
装置として、先の実施の形態では光源装置3から発生し
たピーク波長λ1の単色光として660nmのLED
光、また光源装置2から発生したピーク波長λ2の単色
光として780nmのLED光を用いているが、ピーク
波長λ3の単色光として、例えば850nmのLED光
を用いても良い。このとき、ピーク波長λ1,λ2,λ
3の単色光の光源装置を用いた場合、劣化度演算部1で
は、ピーク波長λ1〜λ3における反射率Rλ1〜Rλ
3を算出して記憶すると共に、反射率Rλ1〜Rλ3か
ら各波長間のデータのうち任意の二波長間の反射吸光度
差ΔAλを求めて同様に行なうことができる。また、光
源装置2,3としては、ハロゲンランプ等の白色光を用
い、光量測定部8には干渉フィルタからなる分光器を組
み込んで、500〜900nmの各波長の光量を瞬時に
測定するようにし、劣化度演算部1では、波長500〜
900nmにおける反射率R500〜R900を連続的
に算出して記憶し、波長500〜900nmの反射率R
500〜R900から任意の二波長間の反射吸光度差Δ
Aλを求め、予め記憶された図3に示すような反射吸光
度差のマスターカーブによる関数値と、実測の反射吸光
度差ΔAλから劣化度を判定し、外部に判定結果を出力
するようにしても良い。
【0020】また、上述した各実施の形態では、反射吸
光度差ΔAλから劣化度を判定するようにしたが、(A
λ1/Aλ2)で表される反射吸光度比Aλ′から劣化
度を判定するようにしたり、あるいは被測定物11の厚
さがt(mm)のとき、各波長における反射率Rλから
−(10/t)log(Rλ/100)で表される反射
損失Lλを求め、この反射損失Lλから(Lλ1−Lλ
2)で表される反射損出差ΔLλを求めて劣化度を判定
するようにしても良い。
【0021】
【発明の効果】以上説明したように本発明による劣化度
診断装置は、少なくとも二つの異なる波長の光源装置を
設け、これら各光源装置から照射用光ファイバを介して
副白板および被測定物に照射光を与えて求めた基準反射
光量および反射光量を用いて各波長における反射吸収光
度差もしくは反射吸光度比あるいは反射損出差を演算
し、これら演算値と予め被測定物の劣化度との関係から
比較演算する劣化度演算部を設けたため、光ファイバの
接続部を少なくして構成を簡単にすることができ、ま
た、実働中の機器の運転を停止することなく、また表面
に凹凸を有する被測定物の場合でも、測定個所による差
のない平均的な劣化度を非破壊で測定することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態による劣化度診断装置の
ブロック図である。
【図2】図1に示した劣化度診断装置の反射光測定部を
拡大して示す斜視図である。
【図3】絶縁物の反射吸光度のマスターカーブを示す特
性図である。
【図4】表面状態と絶縁物の反射吸光度の関係を示す特
性図である。
【図5】絶縁物の反射吸光度差を示す特性図である。
【図6】図1に示した劣化度診断装置の劣化度演算部を
示すブロック図である。
【図7】図1に示した劣化度診断装置の動作を示すフロ
ーチャートである。
【符号の説明】
1 劣化度演算部 2,3 光源装置 2A,2B 本体側コネクタ 4 副白板 8 光量測定部 9 照射用光ファイバ 9A ファイバ側コネクタ 10 光量測定部 11 被測定物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三浦 巳之吉 東京都千代田区神田錦町1丁目6番地 株 式会社日立ビルシステム内 (72)発明者 竹澤 由▲高▼ 茨城県日立市大みか町七丁目1番1号 株 式会社日立製作所日立研究所内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも二つの異なる波長の光源装置
    と、これら各光源装置からの照射光を副白板および被測
    定物に与える照射用光ファイバと、上記各光源装置から
    上記照射用光ファイバを介して上記副白板および上記被
    測定物に照射光を与えて求めた基準反射光量および反射
    光量を用いて各波長における反射吸収光度差、反射吸光
    度比および反射損出差の少なくとも一つを演算すると共
    に、この演算値と予め被測定物の劣化度との関係から比
    較演算する劣化度演算部とを設けたことを特徴とする劣
    化度診断装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のものにおいて、上記各光
    源装置の上記照射用光ファイバ側には、上記照射用光フ
    ァイバの一端と接続可能な本体側コネクタをそれぞれ設
    け、上記照射用光ファイバの上記各光源装置側には、上
    記各本体側コネクタと交互に接続可能なファイバ側コネ
    クタを設けたことを特徴とする劣化度診断装置。
JP12253597A 1997-05-13 1997-05-13 劣化度診断装置 Pending JPH10311788A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103575663A (zh) * 2012-08-07 2014-02-12 中国科学院大连化学物理研究所 一种金属及半导体薄膜材料光学常数的标定方法

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CN103575663B (zh) * 2012-08-07 2016-06-29 中国科学院大连化学物理研究所 一种金属及半导体薄膜材料光学常数的标定方法

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