JPH10308022A

JPH10308022A - 磁気記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JPH10308022A
Application number: JP11677997A
Authority: JP
Inventors: Kenichi Kawai; 健一川井
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1997-05-07
Filing date: 1997-05-07
Publication date: 1998-11-17

Abstract

(57)【要約】【課題】高品位の磁性塗料を用いて高品質の磁性記録
媒体を得ること。【解決手段】磁性粉と結合剤等の固形分を混練装置３
で混練する途中で溶剤投入口４〜７から溶剤を添加しつ
つ混練希釈してペースト状の塗料を製造する際に、溶剤
による希釈を断続的に希釈用の溶剤を混練中の固形分に
添加して混練希釈を進めて、溶剤の各添加段階間の希釈
度合が１０重量％以下の間隔で混練固形分の希釈度を高
める。また、溶剤による希釈混練終了時に５０重量％以
下とすることにより比較的得られる磁気記録媒体の特性
が向上している。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体に関
する。

【０００２】

【従来の技術】例えば磁気テープ、磁気ディスクなどの
磁気記録媒体を製造する際、磁性塗料として、磁性粉等
をバインダー溶液中に均一に分散させて使用している。
このような磁性粉の混合分散を行うために、一般的にニ
ーダー、コンティニアスニーダー等で練り込む必要があ
る。また、磁気記録媒体の生産性を考えるとバッチ式よ
りも連続式が有利であり、その製造装置として連続式混
練装置が用いられている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】前記連続式混練装置を
用いた混練処理において、高せん断を加えた場合、ペー
スト温度の上昇による混練状態の悪化が起こり、角形比
が悪くなり、更に塗料化の際にペーストが十分に溶解せ
ず、最終的には分散が十分ではない塗料、例えば磁性粉
のみが一部に凝集した塗料が得られることがあった。こ
のような磁性塗料は媒体上に塗布する工程においては、
凝集物等による磁性層表面の微細な欠陥が生じ、これが
磁気記録媒体の品質上大きな問題となる。

【０００４】そこで、前記特性劣化を無くし、高剪断混
練を行うために磁性塗料の混練希釈が行われている。こ
の混練希釈の際、希釈のスピードおよび程度が最終的な
磁気記録媒体の特性を左右する重要な因子になるという
事は、現在のところ推測の域を脱していない。

【０００５】本発明の課題は、前記のような問題を解決
するためになされたものであり、磁性材料の混練希釈に
より磁性塗料の特性を向上させることと、更に混練希釈
のスピードおよび程度による変化が明らかにし、最適処
理条件を見いだす事を提供することである。本発明の課
題は、高品位の磁性塗料を用いて高品質の磁性記録媒体
を得ることである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は次の
構成によって解決される。磁性粉と結合剤等の固形分を
混練する途中で溶剤を添加しつつ混練希釈してペースト
状の塗料を製造する磁気記録媒体の製造方法において、
溶剤による希釈を断続的に希釈用の溶剤を混練中の固形
分に添加して混練希釈を進めて、溶剤の各添加段階間の
希釈度合が１０重量％以下の間隔で混練固形分の希釈度
を高めることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法であ
る。溶剤による希釈混練終了時に５０重量％以下とする
ことにより比較的得られる磁気記録媒体の特性が向上し
ている。

【０００７】本発明の上記磁気記録媒体の製造方法はバ
ッチ的製造方法に限らず連続的製造方法としても用いる
ことができる。本発明は上記磁気記録媒体の製造方法で
得られる磁気記録媒体も含む。本発明の磁気記録媒体の
製造方法において、段階的に混練固形分の混練希釈を進
め、急激に希釈を行わないようにし、できるだけ穏やか
に希釈していくことを下げることが肝心である。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下この発明の実施の形態につい
て説明するが、この発明はこの実施の形態に限定される
ものでは無いことは言うまでもない。試料は下記組成の
原材料を混練処理し、得られたペーストを、ディスパー
装置（撹拌装置）で２時間、メチルエチルケトン、トル
エン、シクロヘキサノン混合溶媒により固形分を３５％
まで希釈した。

【０００９】酸化鉄磁性粉１００重量部塩ビ系共重合体１４上量部ポリウレタン樹脂６重量部アルミナ１０重量部メチルエチルケトン適量トルエン適量シクロヘキサノン適量得られた希釈分散液をサンドミルで３時間分散し、フィ
ルターに通過させ濾過を行い最終生成物とした。その
後、この分散液をベースフィルムに塗布前にイソシアネ
ート等の硬化剤を４重量部、ミリスチン酸等の滑剤を２
重量部添加した。

【００１０】上記方法における分散液の混練希釈処理は
図１に示す連続式混練希釈装置により行い得られた塗料
は図示しない塗布装置で７μｍ厚のベースフィルムに、
厚さ３．２μｍで塗布を行った。

【００１１】図１に示す連続式混練希釈装置には、処理
物投入口１とスクリュウ供給機２が連続式混練機３の入
口部側に設けられ、連続式混練機３の中央部付近には溶
剤投入口４〜７、該溶剤投入口４〜７にそれぞれ対応さ
せて溶剤入り容器８〜１１が設けられている。この溶剤
投入口４〜７と溶剤入り容器８〜１１の間をつなぐ流路
にはそれぞれポンプ１２〜１５と流量計１６〜１９が設
けられている。

【００１２】混合撹拌した上記組成の処理物を処理物投
入口１から投入し、スクリュウ供給機２により処理物を
連続式混練機３に供給する。溶剤入り容器８〜１１に貯
蔵されている溶剤は、ポンプ１２〜１５と流量計１６〜
１９を通り、溶剤投入口４〜７から連続式混練機３の途
中に滴下され、混練希釈される。連続式混練機３内部に
は図２に示すような混練手段が設けられている。

【００１３】上記方法で下記に示す実施例１〜７と比較
例１の磁性塗料を作製した。実施例１処理物投入口１に投入する処理物の固形分を７７重量％
とし、溶剤投入口４から溶剤シクロヘキサノンを投入
し、７４重量％まで希釈する。次に溶剤投入口５から溶
剤シクロヘキサノンを投入し、７２重量％に希釈し、溶
剤投入口６から溶剤をメチルエチルケトン投入し、７０
重量％に希釈し、溶剤投入口７から溶剤メチルエチルケ
トンを投入し、６８重量％まで処理物を希釈しながら混
練を行い、塗料を作成し、塗布を行った。

【００１４】実施例２投入口１に投入する処理物の固形分を７７重量％とし、
溶剤投入口４から溶剤シクロヘキサノンを投入し、７４
重量％まで希釈する。次に溶剤投入口５から溶剤シクロ
ヘキサノンを投入し、７０重量％に希釈し、溶剤投入口
６から溶剤メチルエチルケトンを投入し、６５重量％に
希釈し、溶剤投入口７から溶剤メチルエチルケトンを投
入し、５９重量％まで処理物を希釈しながら混練を行い
上記方法で塗料を作成し、塗布を行った。

【００１５】実施例３投入口１に投入する処理物の固形分を７７重量％とし、
溶剤投入口４から溶剤シクロヘキサノンを投入し、７２
重量％まで希釈する。次に溶剤投入口５から溶剤シクロ
ヘキサノンを投入し、６３重量％に希釈し、溶剤投入口
６から溶剤メチルエチルケトンを投入し、５５重量％に
希釈し、溶剤投入口７から溶剤メチルエチルケトンを投
入し、５０重量％まで処理物を希釈しながら混練を行い
上記方法で塗料を作成し、塗布を行った。

【００１６】実施例４投入口１に投入する処理物の固形分を７７重量％とし、
溶剤投入口４から溶剤シクロヘキサノンを投入し、６８
重量％まで希釈する。次に溶剤投入口５から溶剤シクロ
ヘキサノンを投入し、５８重量％に希釈し、溶剤投入口
６から溶剤メチルエチルケトンを投入し、４８重量％に
希釈し、溶剤投入口７から溶剤メチルエチルケトンを投
入し、３８重量％まで処理物を希釈しながら混練を行い
上記方法で塗料を作成し、塗布を行った。

【００１７】実施例５投入口１に投入する処理物の固形分を７７重量％とし、
溶剤投入口４から溶剤シクロヘキサノンを投入し、６５
重量％まで希釈する。次に溶剤投入口５から溶剤シクロ
ヘキサノンを投入し、５３重量％に希釈し、溶剤投入口
６から溶剤メチルエチルケトンを投入し、４１重量％に
希釈し、溶剤投入口７から溶剤メチルエチルケトンを投
入し、３５重量％まで処理物を希釈しながら混練を行い
上記方法で塗料を作成し、塗布を行った。

【００１８】実施例６投入口１１に投入する処理物の固形分を８０重量％と
し、溶剤投入口４から溶剤シクロヘキサノンを投入し、
７７重量％まで希釈する。次に溶剤投入口５から溶剤シ
クロヘキサノンを投入し、７４重量％に希釈し、溶剤投
入口６から溶剤メチルエチルケトンを投入し、７１重量
％に希釈し、溶剤投入口７から溶剤メチルエチルケトン
を投入し、６８重量％まで処理物を希釈しながら混練を
行い上記方法で塗料を作成し、塗布を行った。

【００１９】実施例７投入口１１に投入する処理物の固形分を８０重量％と
し、溶剤投入口４から溶剤シクロヘキサノンを投入し、
７４重量％まで希釈する。次に溶剤投入口５から溶剤シ
クロヘキサノンを投入し、６７重量％に希釈し、溶剤投
入口６から溶剤メチルエチルケトンを投入し、５７重量
％に希釈し、溶剤投入口７から溶剤メチルエチルケトン
を投入し、５０重量％まで処理物を希釈しながら混練を
行い上記方法で塗料を作成し、塗布を行った。

【００２０】比較例１投入口１１に投入する処理物の固形分を７７重量％まで
希釈しながら混練を行い上記方法で塗料を作成し、塗布
を行った。

【００２１】実施例１〜７の結果と、比較例１の結果
を、まとめて表１に示す。

【表１】

【００２２】なお、角形比Ｒｓについては試料振動型磁
力計（ＶＳＭ東栄工業社製）を用いて測定した。また光
沢度は磁性層の分散性の指標となるものであり、グロス
計によって入射角４５゜で測定した。

【００２３】この表１に示す結果から、固形分の混練途
中で希釈を行うことにより得られる塗料の角形比Ｒｓ、
表面性を向上させることができるが、急激に固形分を低
下させての混練希釈は、十分なせん断力が処理物に付加
されず、混練希釈の効果が見られなくなる。そのため希
釈するスピードはできるだけ穏やかに、好ましくは一回
の希釈で固形分が１０重量％以下の割合で希釈されるよ
うにそれぞれの希釈の間隔を設定すること、また低固形
分側まで、好ましくは５０重量％以下まで希釈を行うこ
とにより更なる特性の上昇が見られる。

【００２４】本発明の溶媒による混練希釈条件を採用す
ることで、従来の作成方法（比較例１）に比べ同等以上
の品質が得られる（実施例１、２等）が、さらに混練希
釈条件を最適化（実施例３、４等）する事でさらに高品
質となる。また、こうして得られたデータは、原材料、
組成等が違う他品種の塗料の混練希釈を行う場合でも参
考になるデータであり、希釈の程度による特性の変化が
見られ目安とすることができる。

【００２５】

【発明の効果】本発明によれば、求める塗料性能を事前
に予測しながら、混練希釈条件を最適化して高品質の磁
性塗料を設計することができる。また、こうして得られ
た高品質の磁性塗料を用いて、高性能の磁気記録媒体を
製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態の連続式混練希釈装置
の構成図を示す。

【図２】図１の連続式混練希釈装置内部の混練手段の
構成図である。

【符号の説明】

１処理物投入口２スクリュウ供給機３連続式混練機４〜７溶剤投入口８〜１１溶剤入り容器１２〜１５ポンプ１６〜１９流量計

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】磁性粉と結合剤等の固形分を混練する途
中で溶剤を添加しつつ混練希釈してペースト状の塗料を
連続的に製造する磁気記録媒体の製造方法において、断続的に希釈用の溶剤を混練中の固形分に添加して混練
希釈を進めて、溶剤の各添加段階間の希釈度合が１０重
量％以下の間隔で混練固形分の希釈度を高めることを特
徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】溶剤による希釈混練終了時に５０重量％
以下とすることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒
体の製造方法。
【請求項３】請求項１記載の磁気記録媒体の製造方法
で得られる磁気記録媒体。