JPH10304180A - 描画処理装置及び描画処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 オーバヘッドを削減し、高速な並列描画処理
を行う描画処理装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 リスト生成手段１１は、描画オブジェク
トを構成する描画要素エレメントのリストを生成する。
描画要素エレメント分類手段１２は、リストを構成する
描画要素エレメントの長さ情報に対し一定の基準値を用
いて、描画要素エレメントを分類する。描画要素エレメ
ント格納手段１３は、分類された描画要素エレメントを
基準値に対応させて格納する。描画処理手段１４ａ〜１
４ｎは、描画要素エレメントの並列描画処理を行う。描
画領域割当て手段１５は、描画領域を分割して描画処理
手段１４ａ〜１４ｎに割り当てる。描画要素エレメント
転送制御手段１６は、描画要素エレメントを描画要素エ
レメント格納手段１３から基準値に対応させて描画処理
手段１４ａ〜１４ｎに転送する。合成出力手段１７は、
描画処理した処理結果を合成して出力する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は描画処理装置及び描
画処理方法に関し、特に文字または図形の描画オブジェ
クトを入力として描画処理を行う描画処理装置及び文字
または図形の描画オブジェクトを入力として描画処理を
行う描画処理方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、ページプリンタでは文書を印刷す
る場合には、Interpress（米国ゼロックス社の登録商
標）やPostScript（米国アドビ・システムズ社の商標）
などのＰＤＬ（ページ記述言語）を入力として印刷イメ
ージを指示している。

【０００３】このようなＰＤＬを入力として印刷を実行
する際には、ＰＤＬ形式のデータからラスタ出力デバイ
スに適した形式のデータに変換するイメージング処理を
行わなければならない。ところが一般にイメージング処
理にかかる時間は非常に長く、このことは特に高速のペ
ージプリンタに出力するシステムなどでは問題となって
いる。

【０００４】例えば、カラーの高速ページプリンタは毎
分４０枚以上の出力能力を持つものがあるにもかかわら
ず、イメージング処理にかかる時間は、十数秒から数分
かかってしまい、高価な高速ページプリンタの能力を十
分に生かせなかった。したがって、イメージング処理を
高速に行うためには、並列描画処理を行う必要がある。

【０００５】並列描画処理の技術としては、特開平４−
１７０６８６号公報では、描画領域を矩形上に分割し、
それぞれの領域内の塗りつぶし領域に対し、並列処理を
行っている。

【０００６】また、特開平６−２８１２６号公報では、
描画領域をバンド上に分割し、複数のコンピュータや複
数のプリンタ装置により並列描画処理を行っている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記で説明し
た従来技術では、分割した各領域について並列に描画す
る前に、前もって各領域毎に描画オブジェクトのデータ
を整理し直す必要があった。つまり、これらの技術では
各描画オブジェクトがそれぞれどの分割された領域に属
するかをチェックし、さらに複数の領域に入る場合には
データのコピーや分割などを施して、各分割された領域
毎に独立に描画処理を行えるように準備するという処理
を描画処理に先だって行う必要があった。

【０００８】特に領域を細かく分割したり、領域毎の負
荷を予測したりして並列処理を行う装置の負荷をバラン
スさせる場合には、上記の前処理の時間が大きくなる。
すなわち、領域を細かく分割した場合には描画オブジェ
クトに対して分割処理を行う確率が増えることにより処
理時間が大きくなる。

【０００９】一方、領域の大きさや形状が均一でなくな
ると個々の描画オブジェクトがどの分割された領域に属
するかを調べる処理が単純な算術演算ではなく、より処
理負荷が重い探索問題になってしまう。

【００１０】このため上記の従来技術では、前処理自体
のオーバヘッドと、前処理の負荷が大きくなりすぎない
ようにするために処理負荷をバランスさせることができ
ないことによる損失と、から十分に並列化の効果を得る
ことができなかった。

【００１１】これに対し、分割された領域毎の描画オブ
ジェクトデータを前もって用意せずに、領域を割り当て
られた描画処理部それぞれがすべての描画オブジェクト
データを読み込んでそれぞれで取捨選択するという方式
も考えられる。

【００１２】この方式ではデータの転送量が多くなるこ
とと、それぞれの描画処理部がすべてのデータについて
データの要不要のチェックを行う必要がある。このため
オーバヘッドが大きくなってしまい、やはり並列処理の
効果を十分に得ることができなかった。

【００１３】本発明はこのような点に鑑みてなされたも
のであり、前もって領域毎のデータを用意する処理をな
くし、かつ複数の描画処理部に対するデータ転送及び不
要なデータに関する処理のオーバヘッドを削減し、高速
な並列描画処理を行う描画処理装置を提供することを目
的とする。

【００１４】また、本発明の他の目的は、前もって領域
毎のデータを用意する処理をなくし、かつ複数の描画処
理部に対するデータ転送及び不要なデータに関する処理
のオーバヘッドを削減し、高速な並列描画処理を行う描
画処理方法を提供することを目的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、少なくとも文字または図形の描画オブジェクトを入
力として描画処理を行う描画処理装置において、前記描
画オブジェクトを構成する描画要素エレメントのリスト
を生成するリスト生成手段と、前記リストを構成する前
記描画要素エレメントの長さ情報に対し一定の基準値を
用いて、前記描画要素エレメントを分類する描画要素エ
レメント分類手段と、分類された前記描画要素エレメン
トを前記基準値に対応させて格納する描画要素エレメン
ト格納手段と、前記描画要素エレメントの並列描画処理
を行う複数の描画処理手段と、描画領域を分割して前記
描画処理手段に割り当てる描画領域割当て手段と、前記
描画領域の描画処理に必要な前記描画要素エレメントを
前記描画要素エレメント格納手段から前記基準値に対応
させて前記描画処理手段に転送する描画要素エレメント
転送制御手段と、前記描画処理手段で描画処理した処理
結果を合成して出力する合成出力手段と、を有すること
を特徴とする描画処理装置が提供される。

【００１６】ここで、リスト生成手段は、描画オブジェ
クトを構成する描画要素エレメントのリストを生成す
る。描画要素エレメント分類手段は、リストを構成する
描画要素エレメントの長さ情報に対し一定の基準値を用
いて、描画要素エレメントを分類する。描画要素エレメ
ント格納手段は、分類された描画要素エレメントを基準
値に対応させて格納する。描画処理手段は、描画要素エ
レメントの並列描画処理を行う。描画領域割当て手段
は、描画領域を分割して描画処理手段に割り当てる。描
画要素エレメント転送制御手段は、描画領域の描画処理
に必要な描画要素エレメントを描画要素エレメント格納
手段から基準値に対応させて描画処理手段に転送する。
合成出力手段は、描画処理手段で描画処理した処理結果
を合成して出力する。

【００１７】また、少なくとも文字または図形の描画オ
ブジェクトを入力として描画処理を行う描画処理方法に
おいて、前記描画オブジェクトを構成する描画要素エレ
メントのリストを生成し、前記リストを構成する前記描
画要素エレメントの長さ情報に対し一定の基準値を用い
て、前記描画要素エレメントを分類し、分類された前記
描画要素エレメントを前記基準値に対応させて格納し、
描画領域を分割し、前記描画領域の描画処理に必要な前
記描画要素エレメントを前記基準値に対応させて転送
し、転送された前記描画要素エレメントの描画処理を行
い、描画処理した処理結果を合成して出力することを特
徴とする描画処理方法が提供される。

【００１８】ここで、長さ情報に対し一定の基準値で分
類、格納された描画要素エレメントは、描画領域単位で
描画処理される。この場合、描画領域内に完全に含まれ
る描画要素エレメントと、描画領域内に一部分が含まれ
かつ基準値と等しい及び基準値以下の長さ情報を持つ描
画要素エレメントと、が描画処理される。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図１は、本発明の描画処理装置の
原理図である。リスト生成手段１１は、描画オブジェク
トを構成する描画要素エレメントのリストを生成する。

【００２０】ここで描画オブジェクトとは、ＰＤＬなど
の描画データを解釈・展開して生成される中間イメージ
データのことである。また、描画要素エレメントとは、
描画オブジェクトを構成するエッジデータやベクタデー
タ及び文字や図形などの塗りつぶし領域などの描画要素
のことである。

【００２１】描画要素エレメント分類手段１２は、リス
トを構成する描画要素エレメントの長さ情報に対し一定
の基準値を用いて、描画要素エレメントを分類する。長
さ情報については後述する。描画要素エレメント格納手
段１３は、分類された描画要素エレメントを基準値に対
応させて格納する。

【００２２】描画処理手段１４ａ〜１４ｎは、描画要素
エレメントの並列描画処理を行う。描画領域割当て手段
１５は、描画領域を分割して描画処理手段１４ａ〜１４
ｎに割り当てる。描画要素エレメント転送制御手段１６
は、描画領域の描画処理に必要な描画要素エレメントを
描画要素エレメント格納手段１３から基準値に対応させ
て描画処理手段１４ａ〜１４ｎに転送する。

【００２３】合成出力手段１７は、描画処理手段１４ａ
〜１４ｎで描画処理した処理結果を合成して出力する。
次に具体的な描画サンプルを用いて本発明の動作を詳し
く説明する。図２は描画サンプル２０を示す図である。
描画サンプル２０は描画オブジェクトである２つの楕円
２１、２２と、１つの台形図形２３と、からなる。以降
の説明においては、図に示した描画サンプル２０が本発
明の描画処理装置１０に対して入力されるものとする。

【００２４】なお、それぞれの楕円２１、２２と台形図
形２３は、それぞれ異なる色やハッチパターンで塗りつ
ぶされることや、重ね塗りの順序も指定されているもの
とするが、これらの処理は本発明と関係が薄いため説明
は省略する。

【００２５】次に描画要素エレメントについて説明す
る。図３は描画要素エレメントの概念図である。リスト
生成手段１１は、楕円２１を描画要素エレメント２１ａ
〜２１ｇとし、楕円２２を描画要素エレメント２２ａ〜
２２ｇとし、台形図形２３を描画要素エレメント２３と
して、リストを生成する。

【００２６】次に長さ情報について説明する。図４は長
さ情報を示す概念図である。ＸＹ座標軸を図に示したよ
うにとり、主走査方向をＸ軸方向とし、副走査方向をＹ
軸方向とする。

【００２７】また、水平方向に描画領域を分割した場合
に、描画領域間の境界線に対しこの境界線と直交する垂
直線の高さを長さ情報とする。例えば、このような座標
系に対し、描画要素エレメント２１ａの長さ情報は、２
番目の走査線から描画領域がはじまり、副走査線方向の
高さは走査線１本分である( 位置２、高さ１）。また、
描画要素データ２１ｃは４番目の走査線から描画領域が
始まり、副走査線方向の高さが２となる（位置４、高さ
２）。このようにして各描画要素エレメントの位置、高
さを長さ情報とする。

【００２８】なお、垂直方向に描画領域を割り当てれ
ば、描画領域間の境界線に対し、境界線と直交する垂直
線の幅が長さ情報となるが、以降、長さ情報は各描画要
素エレメントの位置、高さとして説明する。

【００２９】次に描画領域割当て手段１５について説明
する。図５は描画領域を示す図である。描画領域割当て
手段１５は、Ｘ軸に対し平行に描画領域を複数個分割す
る。そして、走査線３本ずつの分割描画領域を描画処理
手段１４ａ〜１４ｎにそれぞれ割り当てるものとする。
例えば、分割描画領域Ａを描画処理手段１４ａ、分割描
画領域Ｂを描画処理手段１４ｂ、分割描画領域Ｃを描画
処理手段１４ｃ、…というように割り当てる。

【００３０】次に描画要素エレメント分類手段１２につ
いて説明する。図６は描画要素エレメント分類結果１２
−１を示す図である。描画要素エレメント分類手段１２
は、リストを構成する描画要素エレメントの長さ情報に
対し一定の基準値を用いて、描画要素エレメントを分類
する。

【００３１】例えば、描画要素エレメント２１ａは副走
査線方向の位置が２で副走査線方向の高さが１として分
類され、描画要素エレメント２１ｃは副走査線方向の位
置が４で副走査線方向の高さが２として分類される。こ
のように高さ１、高さ２、それ以外の描画要素エレメン
ト、というような基準値で分類を行っている。

【００３２】次に描画要素エレメント格納手段１３につ
いて説明する。図７は分類された描画要素エレメントを
格納した状態の概念図である。高さ１、あるいは高さ２
の分類に入らない描画要素エレメント（以降、標準描画
要素エレメントと呼ぶ。）が標準描画要素エレメント格
納部１３ａに、高さ１の描画要素エレメントが高さ１描
画要素エレメント格納部１３ｂに、高さ２の標準描画要
素エレメントが高さ２標準描画要素エレメント格納部１
３ｃに、それぞれ分類されて格納される。

【００３３】次に描画処理手段の描画領域割当てについ
て説明する。ただし、簡単のため描画処理手段１４ａ〜
１４ｃの３つからなるシステムについて説明する。描画
処理の開始が告げられると、各描画処理手段１４ａ〜１
４ｃは同時、あるいは順序づけられて最初の処理の担当
部分を描画領域割当て手段１５に問い合わせる。

【００３４】描画領域割当て手段１５は処理の単位を割
り当てる操作を排他的に行い、要求の順に割り当てる。
ここでは、描画処理の開始時の最初の処理の割り当てで
あるため、各々の描画処理手段１４ａ〜１４ｃがほぼ同
時に担当処理を要求することになり、図５で説明したよ
うに分割描画領域Ａ、Ｂ、Ｃ…が、それぞれ描画処理手
段１４ａ〜１４ｃに割り当てられるものとする。

【００３５】次に描画処理手段１４ａについて説明す
る。図８は描画処理手段１４ａが分割描画領域Ａを処理
する際の描画要素エレメントの読み込みを示す概念図で
ある。なお、図の斜線部分が分割描画領域Ａである。

【００３６】描画処理手段１４ａは標準描画要素エレメ
ント格納部１３ａから走査線１の標準描画要素エレメン
ト、高さ１描画要素エレメント格納部１３ｂから走査線
１で高さ１の描画要素エレメント、高さ２描画要素エレ
メント格納部１３ｃから走査線１で高さ２の描画要素エ
レメントを読み込む。

【００３７】そして、標準描画要素エレメント格納部１
３ａから走査線２の標準描画要素エレメント、高さ１描
画要素エレメント格納部１３ｂから走査線２で高さ１の
描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格納部
１３ｃから走査線２で高さ２の描画要素エレメントを読
み込む。

【００３８】さらに、標準描画要素エレメント格納部１
３ａから走査線３の標準描画要素エレメント、高さ１描
画要素エレメント格納部１３ｂから走査線３で高さ１の
描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格納部
１３ｃから走査線３で高さ２の描画要素エレメントを読
み込む。

【００３９】このような読み込み結果として、標準描画
要素エレメント２３、描画要素エレメント２１ａ、２１
ｂが描画要素エレメント格納手段１３から読み出されて
描画処理が行われる。

【００４０】次に描画処理手段１４ｂについて説明す
る。図９は描画処理手段１４ｂが分割描画領域Ｂを処理
する際の描画要素エレメントの読み込みを示す概念図で
ある。なお、図の斜線部分が分割描画領域Ｂである。

【００４１】描画処理手段１４ｂは、最初は標準描画要
素エレメント格納部１３ａから描画要素エレメントを読
み込む。まず、走査線の１番目から順にデータを読み込
む。このとき、標準描画要素エレメントが分割描画領域
Ｂに交わるかどうかのチェックを行い、分割描画領域Ｂ
に交わる描画要素エレメントだけを読み込む。

【００４２】すなわち、走査線位置１から分割描画領域
Ｂの走査線位置の一番小さい位置４よりも１小さい位置
である走査線位置３までについて順に上記のチェックを
行いながら標準描画要素エレメントを読み込む。この場
合は、走査線位置２に標準描画要素エレメント２３があ
り、かつ分割描画領域Ｂと交わるので、標準描画要素エ
レメント２３が読み込まれることになる。

【００４３】描画処理手段１４ｂは、次に高さ２描画要
素エレメント格納部１３ｃから描画要素エレメントを読
み込む。この場合、分割描画領域Ｂの走査線位置の一番
小さい位置４よりも１（高さの値２から１単位小さい
値）小さい位置、すなわち、走査線位置３で分類が高さ
２となっている描画要素エレメントを読み込む。図で
は、該当する描画要素エレメントは存在しないので読み
込まない。

【００４４】このような処理を行った後、描画処理手段
１４ｂは標準描画要素エレメント格納部１３ａから走査
線４の標準描画要素エレメント、高さ１描画要素エレメ
ント格納部１３ｂから走査線４で高さ１の描画要素エレ
メント、高さ２描画要素エレメント格納部１３ｃから走
査線４で高さ２の描画要素エレメントを読み込む。

【００４５】そして、標準描画要素エレメント格納部１
３ａから走査線５の標準描画要素エレメント、高さ１描
画要素エレメント格納部１３ｂから走査線５で高さ１の
描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格納部
１３ｃから走査線５で高さ２の描画要素エレメントを読
み込む。

【００４６】さらに、標準描画要素エレメント格納部１
３ａから走査線６の標準描画要素エレメント、高さ１描
画要素エレメント格納部１３ｂから走査線６で高さ１の
描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格納部
１３ｃから走査線６で高さ２の描画要素エレメントを読
み込む。

【００４７】このような読み込み結果として、標準描画
要素エレメント２３、描画要素エレメント２１ｄ、２１
ｃが描画要素エレメント格納手段１３から読み出されて
描画処理が行われる。

【００４８】以上説明したように、描画処理手段１４ｂ
は、分割描画領域Ｂの描画処理に必要な描画要素エレメ
ントはすべて読み込んでおり、それ以外の描画要素エレ
メントの読み込みや、その他のチェック処理などを行う
必要がないため、オーバヘッドを大幅に削減することが
可能になる。

【００４９】次に描画処理手段１４ｃについて説明す
る。図１０は描画処理手段１４ｃが分割描画領域Ｃを処
理する際の描画要素エレメントの読み込みを示す概念図
である。なお、図の斜線部分が分割描画領域Ｃである。
ここでの処理は描画処理手段１４ｂが分割描画領域Ｂの
処理を行った場合と基本的に同等である。

【００５０】描画処理手段１４ｃは、最初は標準描画要
素エレメント格納部１３ａから描画要素エレメントを読
み込む。まず、走査線の１番目から順にデータを読み込
む。このとき、標準描画要素エレメントが分割描画領域
Ｃ内に入るかどうかのチェックを行い、分割描画領域Ｃ
に入る描画要素エレメントだけを読み込む。

【００５１】すなわち、走査線位置１から分割描画領域
Ｃの走査線位置の一番小さい位置７よりも１小さい位置
である走査線位置６までについて順に上記のチェックを
行いながら標準描画要素エレメントを読み込む。この場
合は、走査線位置２に標準描画要素エレメント２３があ
り、かつ分割描画領域Ｃに含まれるので、結局標準描画
要素エレメント２３が読み込まれることになる。

【００５２】描画処理手段１４ｃは、次に高さ２描画要
素エレメント格納部１３ｃから描画要素エレメントを読
み込む。この場合、分割描画領域Ｃの走査線位置の一番
小さい位置７よりも１（高さの値２から１単位小さい
値）小さい位置、すなわち、走査線位置６で高さ２とな
っている描画要素エレメントを読み込む。図の例では、
該当する描画要素エレメントは存在しないので読み込ま
ない。

【００５３】このような処理を行った後、描画処理手段
１４ｃは標準描画要素エレメント格納部１３ａから走査
線７の標準描画要素エレメント、高さ１描画要素エレメ
ント格納部１３ｂから走査線７で高さ１の描画要素エレ
メント、高さ２描画要素エレメント格納部１３ｃから走
査線７で高さ２の描画要素エレメントを読み込む。

【００５４】そして、標準描画要素エレメント格納部１
３ａから走査線８の標準描画要素エレメント、高さ１描
画要素エレメント格納部１３ｂから走査線８で高さ１の
描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格納部
１３ｃから走査線８で高さ２の描画要素エレメントを読
み込む。

【００５５】さらに、標準描画要素エレメント格納部１
３ａから走査線９の標準描画要素エレメント、高さ１描
画要素エレメント格納部１３ｂから走査線９で高さ１の
描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格納部
１３ｃから走査線９で高さ２の描画要素エレメントを読
み込む。

【００５６】このような読み込み結果として、標準描画
要素エレメント２３、描画要素エレメント２２ａ、２１
ｆ、２２ｂ、２１ｅ、２２ｃが描画要素エレメント格納
手段１３から読み出されて描画処理が行われる。

【００５７】以上説明したように、描画処理手段１４ｃ
は、分割描画領域Ｃの描画処理に必要な描画要素エレメ
ントはすべて読み込んでおり、それ以外の描画要素エレ
メントの読み込みや、その他のチェック処理などを行う
必要がないため、オーバヘッドを大幅に削減することが
可能になる。

【００５８】次に描画処理手段１４ａが行っていた分割
描画領域Ａの処理が最初に終了したと仮定して、分割描
画領域Ｄが描画処理手段１４ａに割り当てられた場合の
処理について説明を行う。図１１は描画処理手段１４ａ
が分割描画領域Ｄを処理する際の描画要素エレメントの
読み込みを示す概念図である。なお、図の斜線部分が分
割描画領域Ｄである。

【００５９】描画処理手段１４ａは、処理の終了した分
割描画領域Ａの処理の終了位置、ここでは走査線位置３
の位置情報を保存する。そして、描画領域割当て手段１
５に対して問い合わせを行う。

【００６０】その後、描画領域割当て手段１５は、次に
処理すべき分割描画領域Ｄをその描画領域の両端の走査
線位置情報１０、１２を用いて、描画処理手段１４ａに
対して通知する。

【００６１】分割描画領域Ａの処理の際に読み込まれた
描画要素エレメントの内で、分割描画領域Ｄにある描画
要素エレメントは標準描画要素エレメント２３だけであ
るので、この標準描画要素エレメント２３は保持され
る。そして、他の描画要素エレメント２１ａ、２１ｂは
分割描画領域Ｄにはないので、描画処理が行われる以前
に破棄される。

【００６２】次に、標準描画要素エレメント格納部１３
ａ内で、前回の処理の終了位置である走査線位置３の次
の位置から分割描画領域Ｄの走査線位置の一番小さい位
置１０よりも１小さい位置まで、すなわち走査線位置４
から走査線位置９までに登録されている標準描画要素エ
レメントを読み込むが、ここでは新たな描画要素エレメ
ントは存在しない。

【００６３】次に高さ２描画要素エレメント格納部１３
ｃから描画要素エレメントを読み込む。この場合、分割
描画領域Ｄの走査線位置の一番小さい位置１０よりも１
（高さの値２から１単位小さい値）小さい位置、すなわ
ち、走査線位置９で高さ２の描画要素エレメントを読み
込む。図の例では、該当する描画要素エレメントは存在
しないので読み込まない。

【００６４】そして、標準描画要素エレメント格納部１
３ａから走査線１０の標準描画要素エレメント、高さ１
描画要素エレメント格納部１３ｂから走査線１０で高さ
１の描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格
納部１３ｃから走査線１０で高さ２の描画要素エレメン
トを読み込む。

【００６５】そして、標準描画要素エレメント格納部１
３ａから走査線１１の標準描画要素エレメント、高さ１
描画要素エレメント格納部１３ｂから走査線１１で高さ
１の描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格
納部１３ｃから走査線１１で高さ２の描画要素エレメン
トを読み込む。

【００６６】さらに、標準描画要素エレメント格納部１
３ａから走査線１２の標準描画要素エレメント、高さ１
描画要素エレメント格納部１３ｂから走査線１２で高さ
１の描画要素エレメント、高さ２描画要素エレメント格
納部１３ｃから走査線１２で高さ２の描画要素エレメン
トを読み込む。

【００６７】このような読み込み結果として、描画要素
エレメント２１ｇ、２２ｄ、２２ｃ、２２ｅが描画要素
エレメント格納手段１３から読み出されて描画処理が行
われる。

【００６８】以上説明したように、描画処理手段１４ａ
は、分割描画領域Ｄの描画処理に必要な描画要素エレメ
ントはすべて読み込んでおり、それ以外の描画要素エレ
メントの読み込みや、その他のチェック処理などを行う
必要がないため、オーバヘッドを大幅に削減することが
可能になる。

【００６９】次に合成出力結果について説明する。図１
２は合成出力結果１７ａを示す図である。描画処理手段
１４ａ〜１４ｃにより描画サンプル２０は描画されて図
のように合成されて出力される。

【００７０】次に本発明の描画処理装置１０が適用され
るシステムについて説明する。図１３は描画処理装置１
０が適用されるシステムの一例を示す図である。このシ
ステムは、ネットワーク１００に接続されたネットワー
クインタフェース１１０を介して、描画処理装置１０が
接続される。そして、描画処理装置１０からの処理結果
を出力する出力装置１２０が接続される。

【００７１】システムの動作としては、図示しないクラ
イアント・コンピュータから、ネットワーク１００、あ
るいは専用線や無線装置を介して描画出力用のデータが
送られる。この描画出力用のデータはネットワークイン
タフェース１１０のインタフェース装置を介して、描画
処理装置１０に受信され処理される。

【００７２】そして、処理の終ったデータは出力装置１
２０に転送されて紙やフィルム及びラスタイメージを表
示するために使用されるメモリ装置などの媒体状にイメ
ージが再現される。

【００７３】次に描画処理装置１０のジョブレベルでの
全体処理動作について説明する。図１４は、描画処理装
置１０の全体の処理手順を示すフローチャートである。 〔Ｓ１〕起動時の初期化、例えばメモリ管理等の初期化
を行う。 〔Ｓ２〕ジョブ待ちの状態になる。 〔Ｓ３〕ジョブが受け付けられ、描画データが入力され
ると、ジョブ開始時の初期化を行う。例えば入力描画デ
ータ中に記述してある設定による初期化などを行う。 〔Ｓ４〕１ページ毎に描画処理を行う。 〔Ｓ５〕ジョブの全ページあるいは指定されたページ全
ての描画処理が終るとステップＳ６へ、そうでなければ
ステップＳ４へ戻る。 〔Ｓ６〕ジョブの終了処理を行う。 〔Ｓ７〕全タスクの処理を終了した場合はステップＳ８
へ、そうでなければステップＳ２へ戻る。 〔Ｓ８〕獲得しているメモリ領域の解放などといった終
了処理を行う。

【００７４】次に描画処理装置１０の各手段について詳
しく説明する。図１５はリスト生成手段１１の処理手順
を示すフローチャートである。 〔Ｓ１０〕１ページを構成する処理すべき描画オブジェ
クトが残っている場合はステップＳ１１へ、そうでなけ
れば終了する。 〔Ｓ１１〕描画オブジェクトから描画要素エレメントを
生成し、リストを作成する。 〔Ｓ１２〕描画要素エレメントのリストを描画要素エレ
メント分類手段１２に送信する。例えば、描画要素エレ
メントを１つずつ（リストの中身は１つ）送信したり、
複数ずつ（リストの中身は数十から数百）送信したり、
また描画要素エレメントをすべてまとめて（リストの中
身は１ページ分）送信したりする。

【００７５】次にリスト生成手段１１で生成される描画
要素エレメントのデータ構造について説明する。図１６
は描画要素エレメントのデータ構造を示す図である。図
では走査線方向に平行な２辺を持つ台形表現により描画
領域を表現する描画要素エレメント１１ａと、そのデー
タ構造１１ｂとを示している。

【００７６】そして、描画処理の副走査線方向にＹ座
標、描画処理の走査線方向にＸ座標をとって描画領域上
での位置をＸＹ座標系で表現している。データ構造１１
ｂは描画領域に関する値（ＹＭＩＮ、ＹＭＡＸ、Ｘ１、
Ｘ２、ＤＸ１、ＤＸ２）以外には、色などの塗りつけ値
（ＡＴＴＲ）と、重ね塗りの順番を制御する塗りつぶし
優先順位の値（ＰＲＩＯ）などが格納される。この他、
格納される形態により他のデータのアドレスを指示ポイ
ンタ用領域が付加されることもある。

【００７７】台形データによる塗りつぶし領域の表現は
さまざまなものが挙げられるが、ここではその一例を示
している。図に示したＹ座標値の最大値ＹＭＡＸと最小
値ＹＭＩＮ、左側の辺についてはＹ座標値の最小値の位
置におけるＸ座標値Ｘ１、Ｙ座標値が単位量増加した際
のＸ座標値の増分値ＤＸ１、右側の辺についてはＹ座標
値の最小値の位置におけるＸ座標値Ｘ２、Ｙ座標値が単
位量増加した際のＸ座標値の増分値ＤＸ２、により台形
領域を少なくとも規定できる。

【００７８】なお、本発明では説明の簡単のために描画
要素エレメントとして台形表現による塗りつぶし領域を
表現する描画要素エレメントを用いているが、描画要素
エレメントは主走査方向に平行な２辺を持つ台形表現で
ある必要はない。

【００７９】例えば、点列やベクトル表現による多角形
表現、曲線を含めるあるいは含めない線分列表現、直線
分のみからなるベクトル表現、向かい合う線分列同士を
関連付けた線分列ペアによる表現、描画領域を三角形や
矩形や台形などで分割した表現など、塗りつぶし領域の
境界あるいは塗りつぶし領域の境界等の表現であって、
描画領域の座標系において座標値や大きさを特定できる
表現形式であれば何を用いても、本発明の描画要素エレ
メントの範囲である。

【００８０】次に描画要素エレメント分類手段１２につ
いて説明する。図１７は描画要素エレメント分類手段１
２の処理手順を示すフローチャートである。 〔Ｓ２０〕分類処理が残っている場合はステップＳ２１
へ、そうでなければ終了する。 〔Ｓ２１〕描画要素エレメントを取り込む。 〔Ｓ２２〕描画要素エレメントの副走査線方向の高さを
測定する。すなわち描画領域の分割の方向に垂直な方向
の高さを測定する。 〔Ｓ２３〕測定した高さがあらかじめ指定された基準値
よりも小さい場合にはステップＳ２４へ、そうでなけれ
ばステップＳ２５へ行く。 〔Ｓ２４〕特別に処理するものとして分類する。特別に
処理するものとして分類されたものについては、さらに
細かい分類( これは、最初の分類方法と同じ分類方法で
ある必要はない) 、あるいは同様の分類を階層的に行っ
てもよい。例えば、ある基準値以下の高さを持つ描画要
素エレメントは、その描画要素エレメントが影響を与え
る副走査線の本数ごとに再分類する場合などがある。 〔Ｓ２５〕標準描画要素エレメントとして分類する。 〔Ｓ２６〕分類結果と共に描画要素エレメントを描画要
素エレメント格納手段１３に転送する。

【００８１】次に描画要素エレメント格納手段１３につ
いて説明を行う。図１８は描画要素エレメント格納手段
１３の内部構成の一例を示した概念図である。また、図
１９は描画要素エレメント格納手段１３の階層的格納構
成の一例を示す図である。描画要素エレメントの位置に
よる分類と、高さによる分類と、が階層的に行われる構
成を示している。

【００８２】描画要素エレメント格納手段１３は、描画
要素エレメント管理機構１３−１を含む。描画要素エレ
メント管理機構１３−１は、描画要素エレメントを分類
にしたがって基準値と対応がとれるように管理する。ま
た、描画要素エレメントを格納する際は、連続して格納
してもよいし、不連続に格納してもよい。

【００８３】例えば、描画要素エレメントの分類が副走
査線方向の高さによるものであれば、副走査線方向の高
さごとに異なる場所、あるいは方法で格納されて、この
分類ごとにデータが取り出せるように整理される。

【００８４】さらに、分類ごとに異なる記憶領域に格納
してもよいし、リスト構造を用いて、分類毎にたどれる
ようにリンクをはってもよい。また、ハッシュ関数など
を使用して分類ごとあるいは分類の組み合わせごとにマ
ッピングしてもよい。

【００８５】また、副走査方向の位置と高さの２種類の
分類を行った時に、位置と高さ毎に異なる記憶領域を必
ずしも用意する必要はなく、位置と高さをパラメータと
して入力し、１つの数値（エントリーに対応する) を出
力する関数を一旦通してから記憶領域にアクセスしても
よい。

【００８６】また、このように関数演算を施す場合に
は、位置と高さの組み合わせ毎に異なる値を返す関数を
必ずしも使用する必要はなく、位置と高さが異なれば確
率的に多くの場合に異なる値を返す程度の関数でも使用
することができる。

【００８７】一方、さらに効果的に実現するためには、
格納された描画要素エレメントを副走査線方向の位置座
標などの座標値と、分類の両方をキーとして、要求され
た描画要素エレメントのリストを複雑な探索などを用い
ずに直接取り出せる様に構成することもできる。

【００８８】次に描画要素エレメント格納手段１３の格
納処理手順について説明する。図２０は描画要素エレメ
ント格納手段１３の格納処理手順を示すフローチャート
である。 〔Ｓ３０〕格納処理が終了していない場合はステップＳ
３１へ、そうでなければ終了する。 〔Ｓ３１〕描画要素エレメントが送られてくる際に、そ
の描画要素エレメントの分類結果を読み込む。 〔Ｓ３２〕描画要素エレメントを分類に従って格納す
る。

【００８９】次に描画要素エレメント格納手段１３と描
画要素エレメント転送制御手段１６との互いの処理手順
について説明する。図２１は描画要素エレメント読み出
し時の処理手順を示すフローチャートである。 〔Ｓ４０〕描画要素エレメント格納手段１３は、描画処
理手段１４ａ〜１４ｎからの通信を待つ。 〔Ｓ４１〕１ページの処理の終了の通知であれば終了
し、描画要素エレメントのの要求命令であればステップ
Ｓ４２へ行く。 〔Ｓ４２〕描画要素エレメント転送制御手段１６は、要
求元にデータを転送できるだけの情報、すなわち、要求
元を一意に示すＩＤやアドレス、あるいは要求元の描画
処理手段内の局所記憶装置内のアドレス、あるいは、要
求元の描画処理手段が参照可能な記憶領域のアドレスを
一時保存する。 〔Ｓ４３〕描画要素エレメント転送制御手段１６は、描
画要素エレメントが要求されている分類の指示を読み込
む。 〔Ｓ４４〕描画要素エレメント転送制御手段１６は、描
画要素エレメント格納手段１３から描画要素エレメント
を取り出す。 〔Ｓ４５〕描画要素エレメント転送制御手段１６は、要
求元の描画処理手段に取り出した描画要素エレメントを
送信する。

【００９０】次に描画処理手段１４について説明する。
図２２は描画処理手段１４の詳細構成図である。処理担
当割り当て要求インタフェース部１４−１は、描画領域
割当て手段１５との間のインタフェース処理を行う。そ
して、ＩＤ記憶部１４−８に記憶されている情報を送信
し、割り当てられた分割描画領域に関する情報を受け取
って、担当処理領域記憶部１４−２に記憶させる。

【００９１】描画要素エレメント整理部１４−３は、担
当処理領域記憶部１４−２に記憶された情報を参照し
て、描画要素エレメント保持部１４−６に格納されてい
るデータの部分的な破棄を行ったり、描画要素エレメン
ト入力インタフェース部１４−４を通じて描画要素エレ
メント格納手段１３から描画要素エレメントを読み出し
て描画要素エレメント保持部１４−６に保持させる。

【００９２】描画処理機構部１４−７は、描画要素エレ
メント保持部１４−６に保持されている描画要素エレメ
ントを、描画作業領域部１４−５を使用して描画処理を
行い、処理結果を描画結果出力インタフェース部１４−
９を通じて合成出力手段１７に転送する。

【００９３】ＩＤ記憶部１４−８は、各インタフェース
が描画処理手段１４外部の構成要素と通信する際に、個
々の描画処理手段１４を識別するための情報を伝える必
要に備えて各インタフェース部に接続される。ただし、
インタフェース部を介して接続される他の構成要素が、
個々の描画処理手段１４を直接区別する必要がない場合
には、必ずしも全てのインタフェース部にＩＤ記憶部１
４−８が接続される必要はない。

【００９４】また、描画要素エレメント整理部１４−３
は、描画要素エレメントを描画要素エレメント入力イン
タフェース部１４−４を介して読み込む際に、担当処理
領域記憶部１４−２の情報を参照して、描画要素エレメ
ントの要求を指示するための分類を決定し、その分類を
指し示す基準値の値を決定してから描画要素エレメント
を要求する。

【００９５】次に描画処理手段１４ａ〜１４ｎの処理動
作について説明する。図２３は描画処理手段１４ａ〜１
４ｎの処理手順を示したフローチャートである。 〔Ｓ５０〕初期化を行う。 〔Ｓ５１〕描画領域割当て手段１５に対して、担当する
分割描画領域の要求を行う。 〔Ｓ５２〕割り当てられた分割描画領域の描画処理を１
ページ分の処理の終了が通知されるまで繰り返す。終了
しない場合はステップＳ５３へ行く。 〔Ｓ５３〕割り当てられた分割描画領域の描画処理を行
う。

【００９６】次に描画処理手段１４ａ〜１４ｎの分割描
画領域毎の処理について説明する。図２４は描画処理手
段１４ａ〜１４ｎの分割描画領域ごとの処理手順を示す
フローチャートである。 〔Ｓ６０〕描画要素エレメントの整理を行う。すなわ
ち、描画要素エレメント保持部１４−６に保持されてい
る描画要素エレメントが処理中の担当分割描画領域で描
画処理に関係があるかどうか、例えば、描画要素エレメ
ントが分割描画領域と交わりを持つかどうかなどといっ
たことを行う。 〔Ｓ６１〕要求する描画要素エレメントの分類の算出を
行う。すなわち、どの分類に登録されている描画要素エ
レメントを読み込むかを決定する。例えば、標準の分類
の走査線位置１〜６の描画要素エレメントと、高さ２以
下の分類の走査線位置４〜６の描画要素エレメントなど
といった読み込み指示を算出する。 〔Ｓ６２〕描画要素エレメントの読み込みを行う。 〔Ｓ６３〕描画処理を行う。

【００９７】次に描画領域割当て手段１５について説明
する。図２５は描画領域割当て手段１５の処理手順を示
すフローチャートである。 〔Ｓ７０〕初期化を行う。 〔Ｓ７１〕描画処理手段１４ａ〜１４ｎからの要求を待
つ。 〔Ｓ７２〕他の描画処理手段からの要求などから処理を
保護するために排他的処理の設定を行う。 〔Ｓ７３〕分割描画領域の割り当てを決定する。 〔Ｓ７４〕排他的処理の設定を解除する。 〔Ｓ７５〕すべての分割描画領域の割り当て決定を終了
した場合はステップＳ７７へ、そうでない場合はステッ
プＳ７６へ行く。 〔Ｓ７６〕要求元の描画処理手段に対して、決定した分
割描画領域に関する情報を通知し、ステップＳ７１へ戻
る。 〔Ｓ７７〕全ての描画処理手段からの要求に対して、終
了の通知を行う。 〔Ｓ７８〕通知が終了していない場合はステップＳ７９
へ、そうでない場合は終了する。 〔Ｓ７９〕描画処理手段からの要求待ち状態に戻る。

【００９８】次に本発明の描画処理方法について説明す
る。図２６は本発明の描画処理方法の処理手順を示すフ
ローチャートである。 〔Ｓ８０〕描画オブジェクトを構成する描画要素エレメ
ントのリストを生成する。 〔Ｓ８１〕リストを構成する描画要素エレメントの長さ
情報に対し一定の基準値を用いて、描画要素エレメント
を分類する。 〔Ｓ８２〕分類された描画要素エレメントを基準値に対
応させて格納する。 〔Ｓ８３〕描画領域を分割する。 〔Ｓ８４〕描画領域の描画処理に必要な描画要素エレメ
ントを基準値に対応させて転送する。また、転送の際は
基準値に対応する描画領域内に完全に含まれる描画要素
エレメントと、描画領域内に一部分が含まれかつ基準値
と等しい及び基準値以下の長さ情報を持つ描画要素エレ
メントと、を転送する。 〔Ｓ８５〕転送された描画要素エレメントの描画処理を
行う。

【００９９】次に本発明の描画処理装置１０と、描画領
域を単純に分割して並列描画処理を行う従来装置と、の
互いのオーバヘッドについて説明する。図２７は従来装
置の動作概要を示す図である。描画処理手段２１０、２
２０、２３０、２４０がそれぞれ分割描画領域Ｅ、分割
描画領域Ｆ、分割描画領域Ｇ、分割描画領域Ｈを担当し
て並列に描画処理を行う。

【０１００】従来装置では、これらの描画処理手段が描
画処理を行う前に、入力データから生成される描画要素
エレメントを各描画要素エレメントがどの分割描画領域
に含まれるかを調べてから分配する前処理が行われ、そ
の後で並列に描画処理を行っていた。

【０１０１】このように従来の場合は、並列描画処理が
実際に行われる前に分割描画領域毎に描画要素エレメン
トを整理する前処理のステップがあり、このための処理
時間が大きなオーバヘッドとなり高速化の妨げとなって
いた。

【０１０２】図２８は描画処理装置１０と従来装置との
オーバヘッドの割合を測定した測定結果を示す図であ
る。縦軸にオーバヘッドの割合（％）を取り、描画サン
プルＰ、Ｑ、Ｒを描画処理した際のオーバヘッドを示し
ている。斜線の棒グラフが従来装置のオーバヘッドであ
り、白地の棒グラフが本発明の描画処理装置１０のオー
バヘッドである。

【０１０３】図に示すように従来装置では各描画要素エ
レメントそれぞれ全てに対し、どの分割描画領域に分配
するかを決定する処理やデータの分割複製処理などとい
った処理を行わなければならないのでオーバヘッドが非
常に大きいことがわかる。

【０１０４】本発明の描画処理装置１０では、前もって
描画要素エレメントを各分割描画領域に割り振るための
前処理が必要ない。さらに、描画要素エレメントを分類
した基準値を指定して描画要素エレメントを読み込むた
めに不要な読み込み処理や判定処理も少なくなる。この
ためオーバヘッドが大幅に削減されていることがわか
る。

【０１０５】図２９は描画要素エレメントの高さに関す
る分布を示している。横軸に描画要素エレメントの副走
査方向の高さを走査線の本数に換算した数値、縦軸に描
画要素エレメントの個数をとっている。

【０１０６】図に示すように描画要素エレメントの高さ
が小さいと極端に描画要素エレメントの個数は増加す
る。したがって本発明の描画処理装置１０では、例えば
描画要素エレメントの高さが走査線数１６以下の場合に
ついて特別な分類を行って描画処理を行う。

【０１０７】これにより担当する描画領域に含まれない
描画要素エレメントのほとんどについては、長さ情報に
よる分類を利用するだけで描画処理部に読み込まれるこ
とがなくなる。

【０１０８】そして、残されたオーバヘッドを生じる原
因となっている特別に扱うことができなかった描画要素
エレメントの数は、本発明によりオーバヘッドなく処理
される描画要素エレメントの数に対して非常に少なくな
る。

【０１０９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の描画処理
装置は、分割描画領域を割り当てられた描画処理部それ
ぞれが、描画要素エレメントを分類した基準値を使用し
て選択的に描画要素エレメントを読み込んで並列に処理
を行う構成とした。これにより分割描画領域毎のデータ
を用意するための前処理がなくなり、かつ担当する描画
領域以外に属する不要なデータに関する処理も減らすこ
とができるので、オーバヘッドを大幅に削減して高速描
画処理が可能になる。

【０１１０】また、本発明の描画処理方法は、分割描画
領域を割り当てられた描画処理部それぞれが、描画要素
エレメントを分類した基準値を使用して選択的に描画要
素エレメントを読み込んで並列に処理を行う方法とし
た。これにより分割描画領域毎のデータを用意するため
の前処理がなくなり、かつ担当する描画領域以外に属す
る不要なデータに関する処理も減らすことができるの
で、オーバヘッドを大幅に削減して高速描画処理が可能
になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の描画処理装置の原理図である。

【図２】描画サンプルを示す図である。

【図３】描画要素エレメントの概念図である。

【図４】長さ情報を示す概念図である。

【図５】描画領域を示す図である。

【図６】描画要素エレメント分類結果を示す図である。

【図７】分類された描画要素エレメントを格納した状態
の概念図である。

【図８】描画処理手段が分割描画領域Ａを処理する際の
描画要素エレメントの読み込みを示す概念図である。

【図９】描画処理手段が分割描画領域Ｂを処理する際の
描画要素エレメントの読み込みを示す概念図である。

【図１０】描画処理手段が分割描画領域Ｃを処理する際
の描画要素エレメントの読み込みを示す概念図である。

【図１１】描画処理手段が分割描画領域Ｄを処理する際
の描画要素エレメントの読み込みを示す概念図である。

【図１２】合成出力結果を示す図である。

【図１３】描画処理装置が適用されるシステムの一例を
示す図である。

【図１４】描画処理装置の全体の処理手順を示すフロー
チャートである。

【図１５】リスト生成手段の処理手順を示すフローチャ
ートである。

【図１６】描画要素エレメントのデータ構造を示す図で
ある。

【図１７】描画要素エレメント分類手段の処理手順を示
すフローチャートである。

【図１８】描画要素エレメント格納手段の内部構成の一
例を示す図である。

【図１９】描画要素エレメント格納手段の階層的格納構
成の一例を示す図である。

【図２０】描画要素エレメント格納手段の格納処理手順
を示すフローチャートである。

【図２１】描画要素エレメント読み出し時の処理手順を
示すフローチャートである。

【図２２】描画処理手段の詳細構成図である。

【図２３】描画処理手段の処理手順を示したフローチャ
ートである。

【図２４】描画処理手段の分割描画領域ごとの処理手順
を示すフローチャートである。

【図２５】描画領域割当て手段の処理手順を示すフロー
チャートである。

【図２６】本発明の描画処理方法の処理手順を示すフロ
ーチャートである。

【図２７】従来装置の動作概要を示す図である。

【図２８】描画処理装置と従来装置とのオーバヘッドの
割合を測定した測定結果を示す図である。

【図２９】描画要素エレメントの分布図である。

【符号の説明】

１０ 描画処理装置 １１ リスト生成手段 １２ 描画要素エレメント分類手段 １３ 描画要素エレメント格納手段 １４ａ〜１４ｎ 描画処理手段 １５ 描画領域割当て手段 １６ 描画要素エレメント転送制御手段 １７ 合成出力手段

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも文字または図形の描画オブジ
   ェクトを入力として描画処理を行う描画処理装置におい
   て、 前記描画オブジェクトを構成する描画要素エレメントの
   リストを生成するリスト生成手段と、 前記リストを構成する前記描画要素エレメントの長さ情
   報に対し一定の基準値を用いて、前記描画要素エレメン
   トを分類する描画要素エレメント分類手段と、 分類された前記描画要素エレメントを前記基準値に対応
   させて格納する描画要素エレメント格納手段と、 前記描画要素エレメントの並列描画処理を行う複数の描
   画処理手段と、 描画領域を分割して前記描画処理手段に割り当てる描画
   領域割当て手段と、 前記描画領域の描画処理に必要な前記描画要素エレメン
   トを前記描画要素エレメント格納手段から前記基準値に
   対応させて前記描画処理手段に転送する描画要素エレメ
   ント転送制御手段と、 前記描画処理手段で描画処理した処理結果を合成して出
   力する合成出力手段と、 を有することを特徴とする描画処理装置。
2. 【請求項２】 前記描画領域割当て手段は水平方向に描
   画領域を割り当て、前記描画要素エレメント分類手段は
   描画領域間の境界線に対し、前記境界線と直交する垂直
   線の高さを前記長さ情報とし、前記長さ情報に対し一定
   の基準値を用いて、前記描画要素エレメントを分類する
   ことを特徴とする請求項１記載の描画処理装置。
3. 【請求項３】 前記描画領域割当て手段は垂直方向に描
   画領域を割り当て、前記描画要素エレメント分類手段は
   描画領域間の境界線に対し、前記境界線と直交する垂直
   線の幅を前記長さ情報とし、前記長さ情報に対し一定の
   基準値を用いて、前記描画要素エレメントを分類するこ
   とを特徴とする請求項１記載の描画処理装置。
4. 【請求項４】 前記描画要素エレメント転送制御手段
   は、前記描画領域内に完全に含まれる描画要素エレメン
   トと、前記描画領域内に一部分が含まれかつ前記基準値
   と等しい及び前記基準値以下の前記長さ情報を持つ前記
   描画要素エレメントと、を前記描画処理手段に転送する
   ことを特徴とする請求項１記載の描画処理装置。
5. 【請求項５】 前記描画要素エレメント格納手段は、前
   記描画要素エレメントを格納する際は、連続に格納する
   ことを特徴とする請求項１記載の描画処理装置。
6. 【請求項６】 前記描画要素エレメント格納手段は、前
   記描画要素エレメントを格納する際は、不連続に格納す
   ることを特徴とする請求項１記載の描画処理装置。
7. 【請求項７】 前記描画要素エレメント格納手段は、前
   記描画要素エレメントを格納する際は、前記長さ情報と
   前記基準値とをパラメータとする関数で規定して格納す
   ることを特徴とする請求項１記載の描画処理装置。
8. 【請求項８】 前記描画処理手段は、先に担当して処理
   した前記描画領域に関する位置情報を保持することを特
   徴とする請求項１記載の描画処理装置。
9. 【請求項９】 前記描画処理手段は、割り当てられた前
   記描画領域の範囲をもとに、読み込みを指示する分類の
   前記基準値を算出することを特徴とする請求項１記載の
   描画処理装置。
10. 【請求項１０】 少なくとも文字または図形の描画オブ
    ジェクトを入力として描画処理を行う描画処理方法にお
    いて、 前記描画オブジェクトを構成する描画要素エレメントの
    リストを生成し、 前記リストを構成する前記描画要素エレメントの長さ情
    報に対し一定の基準値を用いて、前記描画要素エレメン
    トを分類し、 分類された前記描画要素エレメントを前記基準値に対応
    させて格納し、 描画領域を分割し、 前記描画領域の描画処理に必要な前記描画要素エレメン
    トを前記基準値に対応させて転送し、 転送された前記描画要素エレメントの描画処理を行い、 描画処理した処理結果を合成して出力することを特徴と
    する描画処理方法。
11. 【請求項１１】 前記描画領域の描画処理に必要な前記
    描画要素エレメントを前記基準値に対応させて転送する
    際には、前記描画領域内に完全に含まれる前記描画要素
    エレメントと、前記描画領域内に一部分が含まれかつ前
    記基準値と等しい及び前記基準値以下の前記長さ情報を
    持つ前記描画要素エレメントと、を転送することを特徴
    とする請求項１０記載の描画処理方法。